JPH0530159Y2 - - Google Patents

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JPH0530159Y2
JPH0530159Y2 JP13260685U JP13260685U JPH0530159Y2 JP H0530159 Y2 JPH0530159 Y2 JP H0530159Y2 JP 13260685 U JP13260685 U JP 13260685U JP 13260685 U JP13260685 U JP 13260685U JP H0530159 Y2 JPH0530159 Y2 JP H0530159Y2
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    • Y02WCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO WASTEWATER TREATMENT OR WASTE MANAGEMENT
    • Y02W30/00Technologies for solid waste management
    • Y02W30/50Reuse, recycling or recovery technologies

Description

【考案の詳細な説明】 「産業上の利用分」 本考案は、核熱料処理施設等に設けられる密閉
セルの側壁を除染するために開発された除染装置
に関するものである。
[Detailed Description of the Invention] "Industrial Application" The present invention relates to a decontamination device developed for decontaminating the side walls of closed cells installed in nuclear thermal processing facilities and the like.

「従来の技術」 上記密閉セルは、使用済み核燃料等の高放射性
物質の切断処理、溶解処理、輸送用用容器への移
し替え等の処理を安全に行うために設けられた装
置であつて、放射線遮蔽壁によつて囲まれた密閉
室に、該室内に収容された放射性物質等を取り扱
うマニピユレータ、あるいは、物品を運搬するイ
ンセルクレーンを設けるようにした構造となつて
いる。
"Prior Art" The sealed cell is a device provided to safely perform processes such as cutting, dissolving, and transferring highly radioactive materials such as spent nuclear fuel into containers for transportation. The structure is such that a manipulator that handles radioactive materials contained in the room or an in-cell crane that transports items is installed in a sealed room surrounded by a radiation shielding wall.

「考案が解決しようとする問題点」 ところで、上記密閉セル内において放射性物質
等を容器から容器へ移し替える作業などを行う
と、放射性粉塵等が周囲に飛散し、密閉セルの壁
面、あるいは床等に徐々に付着して行く傾向があ
る。そして、放射性粉塵等が長時間に亙つて蓄積
することにより、セル内の線量が非常に高くなる
と、例えば、保守、点検のためにセル内に作業員
が立ち入る必要が生じた場合、前記放射性物等を
除去するためのいわゆる除染作業が必要になる。
``Problem that the invention aims to solve'' By the way, when work such as transferring radioactive materials from one container to another in the above-mentioned closed cell is carried out, radioactive dust, etc. is scattered around, and the walls of the closed cell, the floor, etc. It tends to gradually adhere to the If radioactive dust, etc. accumulates over a long period of time and the dose inside the cell becomes extremely high, for example, if a worker needs to enter the cell for maintenance or inspection, the radioactive material So-called decontamination work will be required to remove such substances.

従来、上記除染を目的として、セルの壁面等に
水を散布して放射性粉塵等を洗い流すようにした
洗浄装置が使用されているが、流体の運動エネル
ギーを利用した物理的な洗浄には限界がある。
Conventionally, for the purpose of decontamination, cleaning equipment has been used that sprays water on the cell walls to wash away radioactive dust, etc., but there are limits to physical cleaning using the kinetic energy of the fluid. There is.

そこで、セル内に設置されているマニピユレー
タにブラシ等の器具を保持させてセル内面をこす
ることが考えられるが、マニピユレータの作動範
囲には限界がある。一例を挙げれば、マニピユレ
ータが取り付けられている壁面に向かい合つた面
の洗浄を行うことはできるが、マニピユレータが
取り付けられている壁面の洗浄を行うことは困難
である。
Therefore, it is conceivable to have a manipulator installed in the cell hold an instrument such as a brush to scrub the inner surface of the cell, but there is a limit to the operating range of the manipulator. For example, although it is possible to clean the surface facing the wall to which the manipulator is attached, it is difficult to clean the wall to which the manipulator is attached.

本考案は上記事情に鑑みて提案されたもので、
放射性物質を取り扱うセルの壁面、特にマニピユ
レータの作動範囲外の壁を洗浄し得る洗浄装置を
提供することを目的とするものである。
This idea was proposed in view of the above circumstances.
It is an object of the present invention to provide a cleaning device capable of cleaning the wall surface of a cell that handles radioactive materials, particularly the wall outside the operating range of a manipulator.

「問題点を解決する手段」 上記目的を達成するため、本考案は、放射性物
質等を取り扱う密閉セル内に設けられてるインセ
ルクレーン等の吊持機構に水平アームを設け、該
水平アームの一端に支持されたフレームに、セル
の壁面に電解液保持層を介して接触せしめられる
電極と、前記電解液保持層から壁面に供給された
電解液を吸収する拭取り具とを突設し、前記水平
アームの他端に、該水平アームに回転モーメント
を付与して前記電極および拭取り具を壁面に向け
て押圧するカウンターウエイトを設け、前記吊持
機構を上下動、あるいは水平移動させながら壁面
の電解研磨を行うようにしたものである。
"Means for Solving Problems" In order to achieve the above object, the present invention provides a horizontal arm in the suspension mechanism of an in-cell crane installed in a sealed cell that handles radioactive materials, etc., and attaches a horizontal arm to one end of the horizontal arm. An electrode that is brought into contact with the wall surface of the cell through an electrolyte holding layer and a wiping tool that absorbs the electrolyte supplied to the wall surface from the electrolyte holding layer are protrudingly provided on the supported frame, and the horizontal A counterweight is provided at the other end of the arm to apply a rotational moment to the horizontal arm and press the electrode and wiping tool toward the wall surface, and the suspension mechanism is moved vertically or horizontally to electrolyze the wall surface. It is designed to perform polishing.

「考案の実施例」 以下、第1図ないし第6図を参照して本考案の
一実施例を説明する。
"Embodiment of the invention" Hereinafter, an embodiment of the invention will be described with reference to FIGS. 1 to 6.

第1図の符号1は吊持機構である。この吊持機
構1は、いわゆるインセルクレーン(あるいはホ
イスト)であつて、セル内に設けられたクレーン
ビーム2に支持されて水平方向(第1図の紙面と
直交する方向および左右方向)に移動することが
できるとともに、フツク3を上下動させて物品を
吊り上げる機能を持つている。
Reference numeral 1 in FIG. 1 is a suspension mechanism. This lifting mechanism 1 is a so-called in-cell crane (or hoist), and is supported by a crane beam 2 provided within the cell and moves in the horizontal direction (in the direction perpendicular to the plane of the paper in Fig. 1 and in the left-right direction). It also has the function of lifting the article by moving the hook 3 up and down.

上記吊持機構1には、水平アーム4が支持され
ており、該水平アーム4の一端には、フレーム5
が垂直下方に向けて設けられている。このフレー
ム5の下端には、研磨機構6が取り付けられてお
り、該研磨機構6は、セルの壁面Wに接触した状
態で前記フレーム5と一体に移動して研磨を行う
ようになつている。
A horizontal arm 4 is supported by the suspension mechanism 1, and a frame 5 is attached to one end of the horizontal arm 4.
is provided vertically downward. A polishing mechanism 6 is attached to the lower end of the frame 5, and the polishing mechanism 6 moves integrally with the frame 5 while in contact with the cell wall surface W to perform polishing.

前記研磨機構6は、電極7、拭取り具8、およ
び案内輪9から構成されている。
The polishing mechanism 6 includes an electrode 7, a wiping tool 8, and a guide ring 9.

前記電極7は、第2図および第3図に示すよう
に、電源装置(図示略)に接続される導電体(例
えばステンレススチール)製の電極板10と、該
電極板10の先端部を覆つて設けられる電解液保
持層11とから構成されている。前記電解液保持
層11は、木綿布、スポンジ等の材料からなる含
水体12と、該含水体12を覆うカバー13とか
ら構成されており、該カバー13は、電解研摩時
の発熱から電解液保持層11を保護しかつ電解液
を通過させることが可能な材料、例えば、グラス
フアイバー布により形成されている。また、電解
液電極板10は前記フレーム6に軸14を介して
垂直回動自在に支持されるとともに、接続ケーブ
ル15を介して電源装置(図示略)に接続されて
なる。なお、電極板10の基端部には、該電極板
10を下方から支えて第1図に示す如く斜上方に
向かせるストツパー(図示略)が設けられてい
る。
As shown in FIGS. 2 and 3, the electrode 7 includes an electrode plate 10 made of a conductor (for example, stainless steel) that is connected to a power supply (not shown), and a distal end of the electrode plate 10 that covers the electrode plate 10. The electrolyte holding layer 11 is provided along with the electrolyte holding layer 11. The electrolyte holding layer 11 is composed of a water-containing body 12 made of a material such as cotton cloth or sponge, and a cover 13 that covers the water-containing body 12. The cover 13 prevents the electrolyte from generating heat during electrolytic polishing. It is made of a material that protects the holding layer 11 and allows the electrolyte to pass therethrough, such as glass fiber cloth. Further, the electrolyte electrode plate 10 is vertically rotatably supported by the frame 6 via a shaft 14, and is connected to a power supply device (not shown) via a connection cable 15. A stopper (not shown) is provided at the base end of the electrode plate 10 to support the electrode plate 10 from below and direct it diagonally upward as shown in FIG.

前記拭取り具8は、フレーム5の下端部に軸1
6を介して垂直回動自在に支持された支持バー1
7と、該支持バー17の先端部に設けられる吸水
層18とから構成されており、前記支持バー17
は、木材等の電気絶縁性材料により形成され、一
方、前記吸収水層18は、スポンジ等の材料から
なる含水体19を木綿布等のカバー20で覆つて
該カバー20を袋状に縫い合わせた構造となつて
いる。また、前記支持バー17にもストツパー
(図示略)が設けられていて、第1図に示す如く
斜め上方に向けられるようになつている。
The wiping tool 8 has a shaft 1 attached to the lower end of the frame 5.
Support bar 1 supported vertically rotatably via 6
7 and a water absorption layer 18 provided at the tip of the support bar 17.
is formed of an electrically insulating material such as wood, while the water-absorbing layer 18 is formed by covering a water-containing body 19 made of a material such as sponge with a cover 20 such as cotton cloth, and sewing the cover 20 into a bag shape. It has a structure. Further, the support bar 17 is also provided with a stopper (not shown), and is adapted to be directed diagonally upward as shown in FIG.

さらに、上記フレーム5は、その中間部に設け
られた継手21を介して分割可能な構造とされ、
さらに、水平アーム4とフレーム5との間にも継
手22が設けられていて分割し得るようになつて
いる。また、前記両継手21,22には、マニピ
ユレータによる操作性を考慮したハンドル23が
設けられていて、該ハンドル23の操作により脱
着されるようになつている。
Furthermore, the frame 5 has a structure that can be divided via a joint 21 provided in the middle thereof,
Furthermore, a joint 22 is also provided between the horizontal arm 4 and the frame 5 so that they can be separated. Further, both the joints 21 and 22 are provided with handles 23 in consideration of operability by a manipulator, and are adapted to be attached and detached by operating the handles 23.

一方、前記水平アーム4の他端には、カウンタ
ーウエイト24が設けられている。該カウンター
ウエイト24は、支持部25と該支持部25に脱
着可能に取り付けられるウエイト本体26とから
構成されており、該ウエイト本体26を支持部2
5に取り付けることにより、前記フレーム5、電
極7、拭取り具8等から水平アーム4に与えられ
る回転モーメント(第1図において支点0を中心
とする反時計回りの回転モーメント)に抗して水
平アーム4を逆方向に付勢してバランスさせるよ
うになつている。
On the other hand, a counterweight 24 is provided at the other end of the horizontal arm 4. The counterweight 24 is composed of a support part 25 and a weight body 26 that is detachably attached to the support part 25.
5, the horizontal arm resists the rotational moment (counterclockwise rotational moment about the fulcrum 0 in FIG. 1) applied to the horizontal arm 4 from the frame 5, electrode 7, wiping tool 8, etc. The arm 4 is biased in the opposite direction to achieve balance.

以上のように構成された電解研磨装置は次のよ
うにして壁面Wの電解研摩を行う。
The electrolytic polishing apparatus configured as described above performs electrolytic polishing of the wall surface W in the following manner.

(i) 壁面Wから離れた位置で吊持機構1から水平
アーム4を吊り下げるとともに、該水平アーム
4を水平にバランスさせる如くカウンターウエ
イト24を調整する。
(i) The horizontal arm 4 is suspended from the suspension mechanism 1 at a position away from the wall surface W, and the counterweight 24 is adjusted so as to balance the horizontal arm 4 horizontally.

(ii) 吊持機構1を第1図左側に寄せて行き、電極
7および拭取り具8を壁面Wに接触させる。こ
のとき、案内輪9が壁面Wに接触することによ
り、フレーム5と壁面Wとの間隔が維持され、
さらに、電極7および拭取り具8は、それぞれ
に作用する重力によつて壁面Wに押し付けられ
る。なお、壁面Wから電極7および拭取り具8
に働く反作用によりこれらが壁面Wから離れよ
うとする場合には、前記カウンターウエイト2
4のウエイト本体26を追加すればよい。
(ii) Move the suspension mechanism 1 to the left side in FIG. 1, and bring the electrode 7 and the wiping tool 8 into contact with the wall surface W. At this time, the guide ring 9 comes into contact with the wall surface W, so that the distance between the frame 5 and the wall surface W is maintained.
Furthermore, the electrode 7 and the wiping tool 8 are pressed against the wall surface W by the gravity acting on each. In addition, the electrode 7 and the wiping tool 8 are removed from the wall surface W.
If these tend to separate from the wall surface W due to a reaction acting on the counterweight 2,
What is necessary is to add No. 4 weight body 26.

(iii) 壁面Wおよび電極7を電源(図示略)の陽
極、陰極にそれぞれ接続するとともに、吊持機
構1によつてフレーム5を上下動させると、電
極板10と壁面Wとが電解液保持層11を介し
て通電状態になり、壁面Wの表面が電解研摩さ
れるとともに、壁面Wに付着した電解液が拭取
り具8の吸水層18吸収される。さらに、壁面
Wを上下方向に電解研摩した後、吊持機構1を
水平方向(第1図の紙面と直交する方向)に移
動させ、前述の電解研摩を繰り返す。なお、必
要に応じて、電解液を電解液保持層11に補給
する。
(iii) When the wall W and the electrode 7 are connected to the anode and cathode of a power source (not shown), and the frame 5 is moved up and down by the suspension mechanism 1, the electrode plate 10 and the wall W hold the electrolyte. Electricity is applied through the layer 11, and the surface of the wall W is electrolytically polished, and the electrolytic solution adhering to the wall W is absorbed by the water absorption layer 18 of the wiping tool 8. Furthermore, after the wall surface W is electrolytically polished in the vertical direction, the suspension mechanism 1 is moved in the horizontal direction (direction perpendicular to the paper plane of FIG. 1), and the above-mentioned electrolytic polishing is repeated. Note that the electrolytic solution is replenished into the electrolytic solution holding layer 11 as necessary.

(iv) 壁面W全面に亙る電解研摩が終了した後、壁
面Wに散水を行つて、残留した電解液を洗い流
す。
(iv) After the electrolytic polishing over the entire surface of the wall W is completed, water is sprinkled on the wall W to wash away the remaining electrolyte.

そして、上記電解研摩装置にあつては、吊持機
構1から水平方向に突出した位置に研摩機構6が
設けられているから、壁面Wにいわゆるオーバー
ハング部(第1図符号27で示す)が存在してい
る場合であつても壁面Wに電極7および拭取り具
8を接近させることができる。したがつて、セル
の構造(オーバーハングの有無、突出量の大小)
に応じて、適宜、水平アーム4の長さを設定する
ことが必要である。
In the electrolytic polishing apparatus described above, since the polishing mechanism 6 is provided at a position protruding from the suspension mechanism 1 in the horizontal direction, a so-called overhang portion (indicated by reference numeral 27 in FIG. 1) is formed on the wall surface W. Even if the electrode 7 and the wiping tool 8 are present, the electrode 7 and the wiping tool 8 can be brought close to the wall surface W. Therefore, the structure of the cell (presence or absence of overhang, size of protrusion)
It is necessary to set the length of the horizontal arm 4 as appropriate.

なお、電極7および拭取り具8に重りを付加す
ることにより、壁面Wに対するこれらの接触圧を
増加することができる。また、これらに、カウン
ターウエイトを設けることにより、壁面Wに対す
る接触圧を軽減するようにしてもよい。
Note that by adding weight to the electrode 7 and the wiping tool 8, the contact pressure of these against the wall surface W can be increased. Further, the contact pressure against the wall surface W may be reduced by providing a counterweight to these.

さらに、電解研摩装置の分割個所は上記一実施
例に限定されるものではなく、廃棄処分にあたつ
て使用される容器の容積、形状に応じてさらに多
数に分割し得る構造にしてもよい。
Furthermore, the division locations of the electrolytic polishing apparatus are not limited to the one embodiment described above, but may be structured so that it can be divided into a larger number of parts depending on the volume and shape of the container used for disposal.

「考案の効果」 以上の説明で明らかなように、本考案は、放射
性物質等を取り扱う密閉セル内に設けられるイン
セルクレーン等の吊持機構に水平アームを設け、
該水平アームに、セルの壁面に電解液保持層を介
して接触せしめられる電極と、前記電解液保持層
から壁面に供給された電解液を吸収する拭取り具
とを水平に突設し、前記水平アームの他端に、該
水平アームに回転モーメントを付与して前記電極
および拭取り具を壁面に向けて押圧するカウンタ
ーウエイトを設けるようにしたから、セル内に設
置されたマニピユレータの作動範囲を越える部分
に存在する壁面の除染を行なうことができ、ま
た、セル内に設置されたクレーン等の吊持機構を
利用し、かつこの吊持機構が本来的に有する直線
的な移動機能を利用して移動しながら除染を行う
から、マニピユレータを使用する場合に比して、
迅速かつ能率的に除染作業を行うことができると
いう効果を奏する。
"Effects of the invention" As is clear from the above explanation, the invention provides a horizontal arm to the lifting mechanism of an in-cell crane or the like installed in a closed cell that handles radioactive materials, etc.
An electrode that is brought into contact with the wall surface of the cell through an electrolyte holding layer and a wiping tool that absorbs the electrolyte supplied to the wall surface from the electrolyte holding layer are horizontally protruded on the horizontal arm. Since a counterweight is provided at the other end of the horizontal arm to apply a rotational moment to the horizontal arm and press the electrode and wiping tool toward the wall surface, the operating range of the manipulator installed in the cell can be reduced. It is possible to decontaminate the wall surface that exists in the area that is crossed, and it also uses a suspension mechanism such as a crane installed inside the cell, and utilizes the linear movement function that this suspension mechanism inherently has. Since decontamination is carried out while moving, compared to using a manipulator,
This has the effect that decontamination work can be carried out quickly and efficiently.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

図面は本考案の一実施例を示すもので、第1図
は全体の側面図、第2図は電極板の外観を示す斜
視図、第3図は電極の縦断面図、第4図は支持バ
ーの外観を示す斜視図、第5図は拭取り具の外観
を示す斜視図、第6図は拭取り具の縦断面図であ
る。 1……吊持機構、4……水平アーム、5……フ
レーム、6……研摩機構、7……電極、8……拭
取り具、9……案内輪、10……電極板、11…
…電解液保持層、12……含水体、13……カバ
ー、14……軸、16……軸、17……支持バ
ー、18……吸水層、19……含水体、20……
カバー、24……カウンターウエイト。
The drawings show one embodiment of the present invention; Fig. 1 is an overall side view, Fig. 2 is a perspective view showing the external appearance of the electrode plate, Fig. 3 is a vertical cross-sectional view of the electrode, and Fig. 4 is a support. FIG. 5 is a perspective view showing the appearance of the bar, FIG. 5 is a perspective view showing the appearance of the wiping tool, and FIG. 6 is a longitudinal sectional view of the wiping tool. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Hanging mechanism, 4... Horizontal arm, 5... Frame, 6... Polishing mechanism, 7... Electrode, 8... Wiping tool, 9... Guide ring, 10... Electrode plate, 11...
... Electrolyte holding layer, 12 ... Water-containing body, 13 ... Cover, 14 ... Shaft, 16 ... Shaft, 17 ... Support bar, 18 ... Water-absorbing layer, 19 ... Water-containing body, 20 ...
Cover, 24...Counterweight.

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】[Scope of utility model registration request] 放射性物質等を取り扱う密閉セル内に垂直移動
自在に吊持機構を設け、該吊持機構に水平アーム
を設け、該水平アームの一端に設けられたフレー
ムに、前記セルの壁面に電解液保持層を介して接
触せしめられる電極を突設するとともに、前記電
解液保持層から壁面に供給された電解液を吸収す
る拭取り具を突設し、前記水平アームの他端に、
該水平アームに回転モーメントを付与して前記電
極および拭取り具を壁面に向けて押圧するカウン
ターウエイトを設けたことを特徴とする密閉セル
側壁の除染装置。
A vertically movable suspension mechanism is provided in a closed cell that handles radioactive materials, etc., a horizontal arm is provided on the suspension mechanism, and an electrolyte retaining layer is attached to the wall of the cell on a frame provided at one end of the horizontal arm. A wiping tool is provided protrudingly to absorb the electrolyte supplied from the electrolyte holding layer to the wall surface, and the other end of the horizontal arm is
A decontamination device for a side wall of a closed cell, characterized in that a counterweight is provided that applies a rotational moment to the horizontal arm and presses the electrode and the wiping tool toward the wall surface.
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