JPH05298687A - 磁気ディスク基板の製造方法 - Google Patents
磁気ディスク基板の製造方法Info
- Publication number
- JPH05298687A JPH05298687A JP10083692A JP10083692A JPH05298687A JP H05298687 A JPH05298687 A JP H05298687A JP 10083692 A JP10083692 A JP 10083692A JP 10083692 A JP10083692 A JP 10083692A JP H05298687 A JPH05298687 A JP H05298687A
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- Japan
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- substrate
- glass
- magnetic disk
- ceramic substrate
- glass layer
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は磁気ディスク基板が小径薄板化され
機械的強度が低下するのに対し、高強度で、特に高記録
密度対応のできる平滑な表面をもつ磁気ディスク基板を
容易な方法で作製する製造方法を提供することを目的と
する。 【構成】 本発明の製造方法は、セラミック基板の表面
に厚膜のガラス層を設けること、ガラス層の表面を平滑
な平板金型で加熱加圧して平滑にすることよりなる。
機械的強度が低下するのに対し、高強度で、特に高記録
密度対応のできる平滑な表面をもつ磁気ディスク基板を
容易な方法で作製する製造方法を提供することを目的と
する。 【構成】 本発明の製造方法は、セラミック基板の表面
に厚膜のガラス層を設けること、ガラス層の表面を平滑
な平板金型で加熱加圧して平滑にすることよりなる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ワ−クステ−ション，
ディスクトップ型，ラップトップ型，ノ−ト型，などの
パソコン或いは一般に機器システムの記憶装置に使用す
る固定磁気ディスク装置に用いる磁気ディスク用基板に
関するもので、特に小型薄板化する磁気ディスク基板の
強度を向上し、しかも表面をより平滑にした磁気ディス
ク基板の製造方法を提供するものである。
ディスクトップ型，ラップトップ型，ノ−ト型，などの
パソコン或いは一般に機器システムの記憶装置に使用す
る固定磁気ディスク装置に用いる磁気ディスク用基板に
関するもので、特に小型薄板化する磁気ディスク基板の
強度を向上し、しかも表面をより平滑にした磁気ディス
ク基板の製造方法を提供するものである。
【０００２】
【従来の技術】固定磁気ディスクは情報の大容量化にと
もないより高密度化が求められている。またシステムの
小型化にともないこれらディスクを組み込む磁気ディス
ク装置の小型化も大容量化を要求されたまま急激に進ん
でおり，当然ディスクは小径で薄板化の一途をたどって
いる。現在固定磁気ディスク基板として、アルミ基板が
主に使用され、最近になってガラス基板が実用化の段階
になってきているのが現状である。
もないより高密度化が求められている。またシステムの
小型化にともないこれらディスクを組み込む磁気ディス
ク装置の小型化も大容量化を要求されたまま急激に進ん
でおり，当然ディスクは小径で薄板化の一途をたどって
いる。現在固定磁気ディスク基板として、アルミ基板が
主に使用され、最近になってガラス基板が実用化の段階
になってきているのが現状である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ディスク基板が小径化
されれば、その厚みも当然薄板化が要求される。アルミ
基板においてはディスク基板に求められる表面の平滑性
を保ち０．５ミリメ−トル前後の厚みに加工するのが現
在技術的な壁とされており、より薄板化することは大き
な困難がある。またガラス基板の場合は、薄板化すると
その機械的強度が低化し、特にディスク作製工程におけ
る取扱いが問題となる。これを解決するため、たとえば
特開昭６３−９８８３６号では表面を加圧して平坦化し
たセラミック基板表面にスパッタ法，蒸着法，イオンプ
レ−ティング法でガラスコ−ティング膜を形成しさらに
その表面をメカノケミカルな研磨加工を施しガラスコ−
ティング膜の表面を平滑化している。この場合、セラミ
ック基板の平滑化並びにコ−ティングしたガラスの表面
を研磨処理をして平滑化処理を施すという二工程でディ
スク基板の平滑化を行っている。また上記製膜方法では
ガラスの如き酸化物の析出速度は遅く厚膜を得るには長
時間を必要とする。
されれば、その厚みも当然薄板化が要求される。アルミ
基板においてはディスク基板に求められる表面の平滑性
を保ち０．５ミリメ−トル前後の厚みに加工するのが現
在技術的な壁とされており、より薄板化することは大き
な困難がある。またガラス基板の場合は、薄板化すると
その機械的強度が低化し、特にディスク作製工程におけ
る取扱いが問題となる。これを解決するため、たとえば
特開昭６３−９８８３６号では表面を加圧して平坦化し
たセラミック基板表面にスパッタ法，蒸着法，イオンプ
レ−ティング法でガラスコ−ティング膜を形成しさらに
その表面をメカノケミカルな研磨加工を施しガラスコ−
ティング膜の表面を平滑化している。この場合、セラミ
ック基板の平滑化並びにコ−ティングしたガラスの表面
を研磨処理をして平滑化処理を施すという二工程でディ
スク基板の平滑化を行っている。また上記製膜方法では
ガラスの如き酸化物の析出速度は遅く厚膜を得るには長
時間を必要とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、このような問
題点をなくすことのできるものである。すなわちド−ナ
ツ状のセラミック基板の両表面にガラス層を設ける方法
として、あらかじめ離罫紙の表面にガラス層用ガラスぺ
−ストを少なくとも基板と同形状寸法に厚膜印刷し乾燥
させた後、これを溶剤などで濡らし、セラミック基板の
両表面に対しガラスぺ−ストを上記基板表面側にして同
心円状に貼りつけガラスぺ−ストをセラミック基板に転
写しした後離けい紙を取り除き、乾燥し、加熱してガラ
ス層化した後、再度加熱し表面が平滑な二枚の金型で両
面を加圧してガラス層を平滑化する。
題点をなくすことのできるものである。すなわちド−ナ
ツ状のセラミック基板の両表面にガラス層を設ける方法
として、あらかじめ離罫紙の表面にガラス層用ガラスぺ
−ストを少なくとも基板と同形状寸法に厚膜印刷し乾燥
させた後、これを溶剤などで濡らし、セラミック基板の
両表面に対しガラスぺ−ストを上記基板表面側にして同
心円状に貼りつけガラスぺ−ストをセラミック基板に転
写しした後離けい紙を取り除き、乾燥し、加熱してガラ
ス層化した後、再度加熱し表面が平滑な二枚の金型で両
面を加圧してガラス層を平滑化する。
【０００５】
【作用】このように本発明の磁気ディスク基板の製造方
法では、印刷技術で離けい紙の表面に形成したガラス層
が一度に厚く構成できる事から、セラミック基板のうね
り量よりガラス層を厚くし、平滑な平板金型で加熱した
ガラス層を加圧することにより、セラミック基板のうね
りや表面粗さをあらかじめ修正する事なくガラス層の表
面を平滑にする事ができる。
法では、印刷技術で離けい紙の表面に形成したガラス層
が一度に厚く構成できる事から、セラミック基板のうね
り量よりガラス層を厚くし、平滑な平板金型で加熱した
ガラス層を加圧することにより、セラミック基板のうね
りや表面粗さをあらかじめ修正する事なくガラス層の表
面を平滑にする事ができる。
【０００６】
【実施例】以下に本発明の一実施例を図面を用いて詳細
に説明する。
に説明する。
【０００７】図１は離けい紙１の表面に、アルミノ珪酸
ガラスのフリットに有機粘結材を混ぜ混練りし、ぺ−ス
ト状にしたガラスぺ−スト２をド−ナツ状の形状にスク
リ−ン印刷し指触乾燥した図である。ここで、ガラスペ
−スト２はド−ナツ状セラミック基板３と同形状および
同寸法である。セラミック基板３はグリ−ンシ−ト法で
形成したアルミナ基板用シ−トを金型（図示せず）でド
−ナツ状に打ち抜きこれを焼成して作製したものであ
る。
ガラスのフリットに有機粘結材を混ぜ混練りし、ぺ−ス
ト状にしたガラスぺ−スト２をド−ナツ状の形状にスク
リ−ン印刷し指触乾燥した図である。ここで、ガラスペ
−スト２はド−ナツ状セラミック基板３と同形状および
同寸法である。セラミック基板３はグリ−ンシ−ト法で
形成したアルミナ基板用シ−トを金型（図示せず）でド
−ナツ状に打ち抜きこれを焼成して作製したものであ
る。
【０００８】なおド−ナツ状セラミック基板３の寸法は
外径４６ミリメ−トル内径１５ミリメ−トルとした。ま
た、表面粗さは約２ミクロンメ−トル、うねりは１３ミ
クロンメ−トルであった。
外径４６ミリメ−トル内径１５ミリメ−トルとした。ま
た、表面粗さは約２ミクロンメ−トル、うねりは１３ミ
クロンメ−トルであった。
【０００９】ガラスペ−スト２を印刷した離けい紙１を
酢酸ブチルアルコ−ルの溶剤に濡らした後，図２（ａ）
に示した如くガラスぺ−スト２側をド−ナツ状セラミッ
ク基板３の両側に貼りつけ離けい紙１を剥離し、これを
摂氏８００度に加熱して、セラミック基板３の表面にコ
−トしたガラスぺ−スト２を溶融しガラス層４とした
（図２（ｂ））。このときのガラス層４の厚みは４０ミ
クロンメ−トルとした。この様にしてコ−トしたガラス
層４の表面粗さは１０ナノメ−トル，全体のうねりは７
ミクロンメ−トル程度であった。
酢酸ブチルアルコ−ルの溶剤に濡らした後，図２（ａ）
に示した如くガラスぺ−スト２側をド−ナツ状セラミッ
ク基板３の両側に貼りつけ離けい紙１を剥離し、これを
摂氏８００度に加熱して、セラミック基板３の表面にコ
−トしたガラスぺ−スト２を溶融しガラス層４とした
（図２（ｂ））。このときのガラス層４の厚みは４０ミ
クロンメ−トルとした。この様にしてコ−トしたガラス
層４の表面粗さは１０ナノメ−トル，全体のうねりは７
ミクロンメ−トル程度であった。
【００１０】次に図３に示すように表面が平滑（表面粗
さ５ナノメ−トル，うねり１ミクロンメ−トル）な耐熱
耐酸化性材料からなる平板金型５を用い約摂氏６００
度，中性雰囲気内にてガラス層４を加圧してその表面を
より平滑化した（図４）。
さ５ナノメ−トル，うねり１ミクロンメ−トル）な耐熱
耐酸化性材料からなる平板金型５を用い約摂氏６００
度，中性雰囲気内にてガラス層４を加圧してその表面を
より平滑化した（図４）。
【００１１】
【発明の効果】本実施例によって得られたガラス層４の
表面粗さは約６ナノメ−トル，全体のうねりは１．５ミ
クロンメ−トルであった。
表面粗さは約６ナノメ−トル，全体のうねりは１．５ミ
クロンメ−トルであった。
【００１２】この様に本発明の製造方法で作製した磁気
ディスク基板は、ディスク基板の芯になるセラミック基
板の表面の粗さ，うねりが大きくてもその表面に設けた
ガラス層の表面を平板金型を用いて加熱加圧することに
より粗さ並びにうねりを非常に小さくできる。さらに加
熱溶融したガラス層の表面にできる微小なくぼみも加熱
したガラス層を金型で加圧することによりつぶれて消滅
し、平滑な表面が得られた。これは今後磁気ディスクの
記録の大容量化を行う一手段であるヘッドの低浮上化に
対し非常に有効である。
ディスク基板は、ディスク基板の芯になるセラミック基
板の表面の粗さ，うねりが大きくてもその表面に設けた
ガラス層の表面を平板金型を用いて加熱加圧することに
より粗さ並びにうねりを非常に小さくできる。さらに加
熱溶融したガラス層の表面にできる微小なくぼみも加熱
したガラス層を金型で加圧することによりつぶれて消滅
し、平滑な表面が得られた。これは今後磁気ディスクの
記録の大容量化を行う一手段であるヘッドの低浮上化に
対し非常に有効である。
【図１】本発明の実施例における磁気ディスク基板の表
面に構成するガラス層の前処理工程例を示す図
面に構成するガラス層の前処理工程例を示す図
【図２】本発明の実施例における磁気ディスク基板の表
面にガラス層を構成する工程例を示す図
面にガラス層を構成する工程例を示す図
【図３】本発明の実施例における磁気ディスク基板の表
面に構成したガラス層の表面を平滑にする工程例を示し
た図
面に構成したガラス層の表面を平滑にする工程例を示し
た図
【図４】本発明の実施例における磁気ディスク基板の完
成図
成図
１ 離けい紙 ２ ガラスぺ−スト ３ セラミック基板 ４ ガラス層 ５ 平板金型
Claims (2)
- 【請求項１】ド−ナツ板状に構成したセラミック基板の
両表面に表面が平滑なガラス層を設けてなる磁気ディス
ク基板において、離けい紙の表面にガラス層用ガラスぺ
−ストを少なくとも基板と同一形状サイズに印刷し乾燥
させた後、酢酸ブチルアルコ−ルなどの溶剤で濡らし、
前記セラミック基板の両表面に対しガラスぺ−ストを前
記基板表面側にして同心円状に貼りつけた後離けい紙を
取り除き、前記ガラスぺ−ストを前記セラミック基板に
転写し乾燥した後加熱してガラス層化することを特徴と
する磁気ディスク基板の製造方法。 - 【請求項２】ド−ナツ状セラミック基板の両表面に構成
したガラス層を加熱し、表面が平滑な二枚の平板金型で
加圧することを特徴とする請求項１記載の磁気ディスク
基板の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10083692A JPH05298687A (ja) | 1992-04-21 | 1992-04-21 | 磁気ディスク基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10083692A JPH05298687A (ja) | 1992-04-21 | 1992-04-21 | 磁気ディスク基板の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05298687A true JPH05298687A (ja) | 1993-11-12 |
Family
ID=14284405
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10083692A Pending JPH05298687A (ja) | 1992-04-21 | 1992-04-21 | 磁気ディスク基板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05298687A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005129918A (ja) * | 2003-09-29 | 2005-05-19 | Ngk Spark Plug Co Ltd | 薄膜電子部品用セラミック基板及びこれを用いた薄膜電子部品 |
-
1992
- 1992-04-21 JP JP10083692A patent/JPH05298687A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005129918A (ja) * | 2003-09-29 | 2005-05-19 | Ngk Spark Plug Co Ltd | 薄膜電子部品用セラミック基板及びこれを用いた薄膜電子部品 |
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