JPH05295655A - ポリエステルの処理方法 - Google Patents
ポリエステルの処理方法Info
- Publication number
- JPH05295655A JPH05295655A JP9284992A JP9284992A JPH05295655A JP H05295655 A JPH05295655 A JP H05295655A JP 9284992 A JP9284992 A JP 9284992A JP 9284992 A JP9284992 A JP 9284992A JP H05295655 A JPH05295655 A JP H05295655A
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- JP
- Japan
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- polyester
- irradiation
- pulse
- fluence
- ultraviolet ray
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- Pending
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- Processes Of Treating Macromolecular Substances (AREA)
- Chemical Or Physical Treatment Of Fibers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明の目的は、ポリエステル材料に紫外線
パルスレーザー光を照射することによって紫外線吸収能
に優れた表面を有するポリエステル材料とすることにあ
る。 【構成】 ポリエステルに２４８ｎｍの波長を有する紫
外線パルスレーザー光をパルスエネルギー（フルエンス
３０〜８０ｍＪ／ｃｍ2 ／パルス）の条件下で１０〜５
０パルス照射することを特徴とするポリエステルの処理
方法。
パルスレーザー光を照射することによって紫外線吸収能
に優れた表面を有するポリエステル材料とすることにあ
る。 【構成】 ポリエステルに２４８ｎｍの波長を有する紫
外線パルスレーザー光をパルスエネルギー（フルエンス
３０〜８０ｍＪ／ｃｍ2 ／パルス）の条件下で１０〜５
０パルス照射することを特徴とするポリエステルの処理
方法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ポリエステル紫外線パ
ルスレーザー光を照射し、表面特性を変化させ耐光性を
向上させたポリエステルに関する。一般衣料用あるいは
産業資材用途に利用可能である。
ルスレーザー光を照射し、表面特性を変化させ耐光性を
向上させたポリエステルに関する。一般衣料用あるいは
産業資材用途に利用可能である。
【０００２】
【従来の技術】ポリエステルは今や汎用繊維、汎用プラ
スチックスとして広範囲に使用されている。しかしなが
ら、そのままの状態で太陽光線下で長期にわたり使用す
ると紫外線により物性の劣化を起こすのが現状である。
スチックスとして広範囲に使用されている。しかしなが
ら、そのままの状態で太陽光線下で長期にわたり使用す
ると紫外線により物性の劣化を起こすのが現状である。
【０００３】無機微粒子をブレンドする方法、例えば重
合時にポリエステルへ二酸化チタンをブレンドしてポリ
エステルを製糸する方法などが提案され実用化されてい
るが、この無機物のブレンドは異物をブレンドすること
になり物性低下の問題が残るため、さらにそれらの物性
を向上させる技術が求められている。
合時にポリエステルへ二酸化チタンをブレンドしてポリ
エステルを製糸する方法などが提案され実用化されてい
るが、この無機物のブレンドは異物をブレンドすること
になり物性低下の問題が残るため、さらにそれらの物性
を向上させる技術が求められている。
【０００４】一方、ポリエステル繊維表面に紫外線遮蔽
性を有する物質をコーティングする方法もあるが、基質
であるポリエステルとの密着性の問題もありなかなか実
用化するには、問題が残るためか残念ながら汎用的に実
用化されるまでには至っていない。
性を有する物質をコーティングする方法もあるが、基質
であるポリエステルとの密着性の問題もありなかなか実
用化するには、問題が残るためか残念ながら汎用的に実
用化されるまでには至っていない。
【０００５】
【発明の目的】本発明は以上の事情を背景としてなされ
たものであり、３１０ｎｍ以上の紫外線吸収能に優れた
表面を有するポリエステルを提供することにある。
たものであり、３１０ｎｍ以上の紫外線吸収能に優れた
表面を有するポリエステルを提供することにある。
【０００６】
【発明の構成】ここに本発明は、「ポリエステルに、２
４８ｎｍの波長を有する紫外線パルスレーザー光を、パ
ルスエネルギー（フルエンス３０〜８０ｍＪ／ｃｍ2 ／
パルス）の条件下で１０〜５０パルス照射することを特
徴とするポリエステルの処理方法」に関するものであ
る。
４８ｎｍの波長を有する紫外線パルスレーザー光を、パ
ルスエネルギー（フルエンス３０〜８０ｍＪ／ｃｍ2 ／
パルス）の条件下で１０〜５０パルス照射することを特
徴とするポリエステルの処理方法」に関するものであ
る。
【０００７】本発明でいうポリエステルとは、下記の一
般式
般式
【０００８】
【化１】
【０００９】で表される繰り返し単位を主たる構成成分
とするポリエステルが好ましく用いられ、特にエチレン
グリコール及びテトラメチレングリコールを主たるグリ
コール成分とするポリエステルが好ましい。
とするポリエステルが好ましく用いられ、特にエチレン
グリコール及びテトラメチレングリコールを主たるグリ
コール成分とするポリエステルが好ましい。
【００１０】本発明でいう紫外線レーザー光とは、１５
０〜３８０ｎｍの波長を有するものであり、ＸｅＦ，Ｘ
ｅＣｌ，ＫｒＦ，ＡｒＦなどのレーザーの他、銅蒸気レ
ーザー、ＹＡＧレーザーなどの高調波レーザー光を用い
ることが出来るが、特に望ましいのは２４８ｎｍの波長
を有するＫｒＦレーザーである。レーザー光の照射方法
には特に限定はない。照射は空気中、不活性ガス、加圧
下、又は真空中の何れで実施しても良い。照射に際して
の温度は常温から１００℃の範囲が望ましい。照射条件
として重要なのは、照射フルエンス及び照射ショット数
である。照射フルエンスは通常１ｍＪ／ｃｍ2 ／パルス
〜５００ｍＪ／ｃｍ2 ／パルスの範囲が望ましいが、特
に望ましいのは本発明によるポリエステルの場合３０ｍ
Ｊ／ｃｍ 2 ／パルス以上８０ｍＪ／ｃｍ2 ／パルスが望
ましい。閾値以上でなるべく低フルエンスで照射するの
が、物性の面から見て望ましいが、表層部で一定深さを
改質するには、上記の範囲でレーザー照射を行うのが望
ましい。
０〜３８０ｎｍの波長を有するものであり、ＸｅＦ，Ｘ
ｅＣｌ，ＫｒＦ，ＡｒＦなどのレーザーの他、銅蒸気レ
ーザー、ＹＡＧレーザーなどの高調波レーザー光を用い
ることが出来るが、特に望ましいのは２４８ｎｍの波長
を有するＫｒＦレーザーである。レーザー光の照射方法
には特に限定はない。照射は空気中、不活性ガス、加圧
下、又は真空中の何れで実施しても良い。照射に際して
の温度は常温から１００℃の範囲が望ましい。照射条件
として重要なのは、照射フルエンス及び照射ショット数
である。照射フルエンスは通常１ｍＪ／ｃｍ2 ／パルス
〜５００ｍＪ／ｃｍ2 ／パルスの範囲が望ましいが、特
に望ましいのは本発明によるポリエステルの場合３０ｍ
Ｊ／ｃｍ 2 ／パルス以上８０ｍＪ／ｃｍ2 ／パルスが望
ましい。閾値以上でなるべく低フルエンスで照射するの
が、物性の面から見て望ましいが、表層部で一定深さを
改質するには、上記の範囲でレーザー照射を行うのが望
ましい。
【００１１】
【発明の効果】本発明により得られたポリエステルは、
照射条件にもよるが微細な凹凸形状を有する表面に変化
しており、ＸＰＳによる表面の元素分布（例えば酸素濃
度）の解析結果から明らかなように化学変化も起こし、
且つ表面の微細構造（特に非晶部分の増加）も変化し、
また紫外線吸収スペクトルを見ると、３１０ｎｍ以上で
の吸収が明確に増加しており、明らかに表面が改質され
ていることが判る。
照射条件にもよるが微細な凹凸形状を有する表面に変化
しており、ＸＰＳによる表面の元素分布（例えば酸素濃
度）の解析結果から明らかなように化学変化も起こし、
且つ表面の微細構造（特に非晶部分の増加）も変化し、
また紫外線吸収スペクトルを見ると、３１０ｎｍ以上で
の吸収が明確に増加しており、明らかに表面が改質され
ていることが判る。
【００１２】更に、このようにポリエステル表層に形成
された、３１０ｎｍ以上の紫外線領域で優れた吸収能を
有する層で、太陽光が吸収されポリエステルの基質自身
の劣化を防止するものと推定される。
された、３１０ｎｍ以上の紫外線領域で優れた吸収能を
有する層で、太陽光が吸収されポリエステルの基質自身
の劣化を防止するものと推定される。
【００１３】従ってこの様にポリエステルの表面の性状
変化、形状変化（表面積の増加）並びに、非晶部の増加
などが起ることにより、ポリエステル表面上に他の化合
物を付与したとき、その化合物との親和性が向上し、合
せてその化合物自身の反応性も向上するので、複合的な
機能性を付与することが可能である。
変化、形状変化（表面積の増加）並びに、非晶部の増加
などが起ることにより、ポリエステル表面上に他の化合
物を付与したとき、その化合物との親和性が向上し、合
せてその化合物自身の反応性も向上するので、複合的な
機能性を付与することが可能である。
【００１４】以下、実施例により本発明を具体的に説明
するが、機能面ではこれに限定されるものではなく、耐
光性向上のみならず、その表面に形成される官能基との
反応が期待出来、機能性の巾は広がるものである。勿
論、被処理物の形態も繊維に限定されるものでなはな
く、面状物、線状物などにも適用可能である。
するが、機能面ではこれに限定されるものではなく、耐
光性向上のみならず、その表面に形成される官能基との
反応が期待出来、機能性の巾は広がるものである。勿
論、被処理物の形態も繊維に限定されるものでなはな
く、面状物、線状物などにも適用可能である。
【００１５】
【実施例１〜５、比較例１〜６】全繊度５００デニール
のポリエチレンテレフタレート繊維（帝人（株）製、
［η］＝０．６５）からなる織物を被照射サンプルとし
た。織物の構成は、縦糸、緯糸とも２５０デニール／７
５フィラメント／２本であり、平織の密度は縦，緯とも
２８本／ｉｎｃｈである。
のポリエチレンテレフタレート繊維（帝人（株）製、
［η］＝０．６５）からなる織物を被照射サンプルとし
た。織物の構成は、縦糸、緯糸とも２５０デニール／７
５フィラメント／２本であり、平織の密度は縦，緯とも
２８本／ｉｎｃｈである。
【００１６】上記のポリエステルサンプルに、ラムダフ
ィジック社製エキシマレーザー発生装置（ＬＰ１２０ｃ
ｃｉ）を使用しＫｒＦ（発振波長２４８ｎｍ）を用い、
繰り返し周波数が１０Ｈｚ，フルエンスは１０ｍＪ／ｃ
ｍ2 ／パルスから１００ｍＪ／ｃｍ2 ／パルスの範囲、
パルス幅は半値全幅で２０ｎｓの条件で試料の両サイド
から両面に均一に直接照射した。ついで照射後のポリエ
ステル織物を、通常光劣化の促進テストに使用される、
アイスーパーＵＶ試験機（ＳＵＶ―Ｗ―１３、岩崎電気
（株）製）ハライドメタルランプを使用し、８９℃の雰
囲気中で２時間照射を行った。一般に、この条件はウェ
ザオメーターでの照射２００時間に相当するとされてい
る。
ィジック社製エキシマレーザー発生装置（ＬＰ１２０ｃ
ｃｉ）を使用しＫｒＦ（発振波長２４８ｎｍ）を用い、
繰り返し周波数が１０Ｈｚ，フルエンスは１０ｍＪ／ｃ
ｍ2 ／パルスから１００ｍＪ／ｃｍ2 ／パルスの範囲、
パルス幅は半値全幅で２０ｎｓの条件で試料の両サイド
から両面に均一に直接照射した。ついで照射後のポリエ
ステル織物を、通常光劣化の促進テストに使用される、
アイスーパーＵＶ試験機（ＳＵＶ―Ｗ―１３、岩崎電気
（株）製）ハライドメタルランプを使用し、８９℃の雰
囲気中で２時間照射を行った。一般に、この条件はウェ
ザオメーターでの照射２００時間に相当するとされてい
る。
【００１７】促進光劣化テストを行ったポリエステル織
物を取り出し、構成する繊維に分解し、引張試験機を用
い、その強度を測定した。サンプル長２５０ｍｍ、引張
速度３００ｍｍ／分で引張試験を行い、そのときの強力
を測定した。
物を取り出し、構成する繊維に分解し、引張試験機を用
い、その強度を測定した。サンプル長２５０ｍｍ、引張
速度３００ｍｍ／分で引張試験を行い、そのときの強力
を測定した。
【００１８】表１にその結果を示す。
【００１９】
【表１】
【００２０】比較例はエキシマレーザー照射しなかった
場合及び照射を行っても極めて低い、フルエンス又は極
めて高いフルエンスで行った場合のデータである。特
に、比較例６では、強力保持率は抜群であるが、アイス
ーパー照射前の強力が既に大幅に低下しており、実用的
ではない。実施例１〜５で示した如く特定条件下でのエ
キシマレーザー照射ではポリエステルの表層部に３１０
ｎｍ以上の紫外線を極めて良く吸収するような表面改質
がなされていることが判る。表１から明らかな様にフル
エンスが３０〜８０ｍＪ／ｃｍ2 ／パルスの範囲でのエ
キシマレーザー照射が望ましい。
場合及び照射を行っても極めて低い、フルエンス又は極
めて高いフルエンスで行った場合のデータである。特
に、比較例６では、強力保持率は抜群であるが、アイス
ーパー照射前の強力が既に大幅に低下しており、実用的
ではない。実施例１〜５で示した如く特定条件下でのエ
キシマレーザー照射ではポリエステルの表層部に３１０
ｎｍ以上の紫外線を極めて良く吸収するような表面改質
がなされていることが判る。表１から明らかな様にフル
エンスが３０〜８０ｍＪ／ｃｍ2 ／パルスの範囲でのエ
キシマレーザー照射が望ましい。
Claims (1)
- 【請求項１】 ポリエステルに、２４８ｎｍの波長を有
する紫外線パルスレーザー光を、パルスエネルギー（フ
ルエンス３０〜８０ｍＪ／ｃｍ2 ／パルス）の条件下で
１０〜５０パルス照射することを特徴とするポリエステ
ルの処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9284992A JPH05295655A (ja) | 1992-04-13 | 1992-04-13 | ポリエステルの処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9284992A JPH05295655A (ja) | 1992-04-13 | 1992-04-13 | ポリエステルの処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05295655A true JPH05295655A (ja) | 1993-11-09 |
Family
ID=14065880
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9284992A Pending JPH05295655A (ja) | 1992-04-13 | 1992-04-13 | ポリエステルの処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05295655A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1884535A1 (en) * | 2006-07-31 | 2008-02-06 | Daikyo Seiko, LTD. | Medical containers and treating method for producing medical containers |
-
1992
- 1992-04-13 JP JP9284992A patent/JPH05295655A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1884535A1 (en) * | 2006-07-31 | 2008-02-06 | Daikyo Seiko, LTD. | Medical containers and treating method for producing medical containers |
| JP2008029763A (ja) * | 2006-07-31 | 2008-02-14 | Daikyo Seiko Ltd | 医療用容器および該医療用容器の処理方法 |
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