JPH05287513A - Ion plating device - Google Patents

Ion plating device

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Publication number
JPH05287513A
JPH05287513A JP4082534A JP8253492A JPH05287513A JP H05287513 A JPH05287513 A JP H05287513A JP 4082534 A JP4082534 A JP 4082534A JP 8253492 A JP8253492 A JP 8253492A JP H05287513 A JPH05287513 A JP H05287513A
Authority
JP
Japan
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evaporation material
evaporation
evaporated
bell jar
materials
Prior art date
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Pending
Application number
JP4082534A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hideo Shinomiya
秀夫 篠宮
Mitsugi Enomoto
貢 榎本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Citizen Watch Co Ltd
Original Assignee
Citizen Watch Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Citizen Watch Co Ltd filed Critical Citizen Watch Co Ltd
Priority to JP4082534A priority Critical patent/JPH05287513A/en
Priority to KR1019930005224A priority patent/KR930021813A/en
Priority to CN93104012A priority patent/CN1044011C/en
Publication of JPH05287513A publication Critical patent/JPH05287513A/en
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/32Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/54Controlling or regulating the coating process
    • C23C14/542Controlling the film thickness or evaporation rate

Abstract

PURPOSE:To enable the sure supply of materials to be evaporated by as much as assigned amts. to the prescribed positions in a bell-jar without opening a door and to prevent evaporated materials from being shielded by devices supplying these materials to be evaporated. CONSTITUTION:Parts feeders 30, 31 which can supply the materials 15 to be evaporated by as much as the assigned amts. to the prescribed positions are provided into the bell-jar 11 which is a vacuum vessel and at least slider parts 32, 33 of these parts feeders 30, 31 are constituted retreatably to the outside of an evaporation route for the evaporated materials so that the materials 15 to be evaporated can be surely supplied by as much as the assigned amts. to the prescribed positions in the bell-jar 11 without opening the door 18. The slider parts 32, 33 of the parts feeders are retreated to the outside of the evaporation route for the evaporated materials, by which the shielding of the evaporated materials is prevented and the thin films having a uniform film thickness and color tones are formed on the work.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、真空容器であるベル
ジャ内で蒸発材を蒸発させ、その蒸発物質をイオン化し
てその蒸発物質又はその蒸発物質と雰囲気ガスとの反応
による化合物を被処理物に付着させて薄膜を形成するイ
オンプレーティング装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention evaporates an evaporating material in a bell jar which is a vacuum container, ionizes the evaporating material and ionizes the evaporating material or a compound produced by a reaction between the evaporating material and an atmospheric gas. The present invention relates to an ion plating device that adheres to a substrate to form a thin film.

【0002】[0002]

【従来の技術】イオンプレーティング装置は、ベルジャ
内でルツボ等の所定の位置に置かれた蒸発材を加熱ある
いはそこに電子ビームを照射して蒸発させ、その蒸発物
質をイオン化してその蒸発物質又はその蒸発物質と雰囲
気ガスとの反応による化合物を被処理物に付着させて薄
膜を形成する。この薄膜を被処理物の表面に形成する処
理を行うに当たっては、通常の場合において予め被処理
物の表面を清掃するイオンボンバードを行うが、その際
にはベルジャ内に例えばアルゴンガスを導入してその容
器内を所定の圧力に保つ必要がある。
2. Description of the Related Art An ion plating apparatus heats an evaporating material placed in a predetermined position such as a crucible in a bell jar or irradiates it with an electron beam to evaporate it, ionize the evaporating material, and evaporate the evaporating material. Alternatively, a compound formed by a reaction between the vaporized substance and an atmospheric gas is attached to an object to be processed to form a thin film. In performing the treatment for forming this thin film on the surface of the object to be treated, in the usual case, an ion bombardment is performed to clean the surface of the object to be treated in advance, in which case, for example, argon gas is introduced into the bell jar. It is necessary to maintain a predetermined pressure inside the container.

【0003】また、イオンボンバードの後で薄膜を被処
理物の表面に形成する処理を行う場合においても、ベル
ジャ内にさらに反応ガスとして例えば窒素ガスを導入し
て、その窒素ガスと既に導入されているアルゴンガスと
で混合ガスとし、容器内を所定の圧力に保つ必要があ
る。
Also, in the case of performing a treatment for forming a thin film on the surface of an object to be treated after ion bombardment, nitrogen gas, for example, is further introduced into the bell jar as a reaction gas, and the nitrogen gas has already been introduced. It is necessary to form a mixed gas with the argon gas that is present and to keep the inside of the container at a predetermined pressure.

【0004】ところが、そのベルジャ内で蒸発させる蒸
発材が1バッチ(1ロット)の薄膜形成処理を終える前
にルツボ上に無くなってしまった場合には、そのルツボ
上に蒸発材を必要量だけ補充しなければならないのでベ
ルジャに設けられている扉を開放することになって、せ
っかく反応ガス等を導入して所定の圧力に保っていたベ
ルジャ内の状態が崩れてしまい、それを蒸発材の補充後
に再び元の状態にまで立ち上げるのに時間を要してしま
うことになる。
However, when the evaporation material to be evaporated in the bell jar is exhausted on the crucible before the thin film forming process for one batch (one lot) is completed, the necessary amount of the evaporation material is replenished on the crucible. Since the door in the bell jar has to be opened, the state inside the bell jar, which had been kept at a predetermined pressure by introducing reaction gas etc., collapses and it is necessary to replenish the evaporation material. It will take time to start up again afterwards.

【0005】そして、この立ち上げに要する時間は10
〜15分程度であり、1バッチの被膜処理に要する時間
を例えば2時間とし、24時間操業で1日当たり12回
の処理を行っている場合に毎回扉を開けて蒸発材を補充
したとすると、120〜180分もの無駄な時間を要し
てしまうことになる。
The time required for this startup is 10
Approximately 15 minutes, the time required for one batch of coating treatment is, for example, 2 hours, and when the treatment is performed 24 times a day for 12 times, the door is opened every time and the evaporating material is replenished. This will require 120 to 180 minutes of wasted time.

【0006】そこで、このような立ち上げのための無駄
な時間を無くすため、例えば実開昭63−24258号
公報に記載されている図9及び図10に示すような手動
式の蒸発材供給装置を使用して、蒸発材が無くなったと
きでもベルジャの扉を開けることなしに蒸発材を補充で
きるようにしたものがある。
Therefore, in order to eliminate such a wasteful time for startup, for example, a manual type evaporator supply device as shown in FIGS. 9 and 10 described in Japanese Utility Model Laid-Open No. 63-24258. There is one that can replenish the evaporation material without opening the door of the bell jar even when the evaporation material is exhausted.

【0007】この蒸発材供給装置は、ベルジャ1内の蒸
発材2をセットするルツボ9の上方に板状の蒸発材2を
積層状態で収納すると共に、下端部に排出口3aを形成
した収納ガイド3を設け、その排出口3aに回転ラチェ
ット4をブラケット6,軸受7によってベルジャ1に回
転自在に支持される軸8の一端に固定することにより設
け、その軸8の他端側に一体に固定したハンドル5を回
転させたときに、回転ラチェット4が図10の矢示A方
向に回転してその外周部に形成している爪部4aによっ
て蒸発材2の端面を係止した状態で収納ガイド3から引
き出してスライダ10上に落下させ、それをスライダ1
0によりルツボ9上に案内する。
This evaporative material supplying apparatus accommodates the plate-shaped evaporative material 2 in a stacked state above the crucible 9 for setting the evaporative material 2 in the bell jar 1, and also has a discharge guide 3a formed at the lower end thereof. 3, a rotary ratchet 4 is fixed to one end of a shaft 8 rotatably supported by the bell jar 1 by a bracket 6 and a bearing 7 at the outlet 3a, and is integrally fixed to the other end of the shaft 8. When the handle 5 is rotated, the rotation ratchet 4 rotates in the direction of arrow A in FIG. 10 and the end face of the evaporation material 2 is locked by the claw portion 4a formed on the outer periphery of the storage guide. 3 and drop it on the slider 10,
0 to guide on crucible 9.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな蒸発材供給装置は、それ自体がベルジャに固定され
ている構造であるため、ルツボ上から蒸発源によって蒸
発される蒸発物質の蒸発経路上にその蒸発材供給装置の
一部であるスライダの部分が位置して、それが蒸発物質
の一部を遮蔽してしまうため、その遮蔽領域にセットさ
れた被処理物に形成される薄膜の膜厚が薄くなったり、
色調が他の遮蔽されない部分に比べて異なりやすかっ
た。
However, since such an evaporation material supply device has a structure in which it is fixed to the bell jar, such an evaporation material supply device is provided on the evaporation path of the evaporation material evaporated from the evaporation source from above the crucible. Since the slider part which is a part of the evaporation material supply device is located and shields a part of the evaporation material, the film thickness of the thin film formed on the object to be processed set in the shielding area. Becomes thin,
The color tone was likely to be different compared to other unshielded areas.

【0009】そこで、図9のスライダ10の先端側を短
くしてルツボ9から離すことも考えられるが、このよう
にすると蒸発材をルツボ9上に確実に案内することがで
きなくなるため問題が生じる。また、蒸発材のルツボ上
への供給は作業者が手動でハンドルを回転させることに
よって行わなければならず、しかもその蒸発材の供給先
はベルジャ内のルツボ上であって見えにくいため、その
供給量を誤って少なく供給してしまった場合には1バッ
チの処理の途中でルツボ上に蒸発材が無くなってしまう
恐れもあった。
Therefore, it is conceivable to shorten the tip end side of the slider 10 in FIG. 9 to separate it from the crucible 9, but this causes a problem because the evaporation material cannot be reliably guided onto the crucible 9. .. Further, the supply of the evaporation material to the crucible must be performed by the operator manually rotating the handle, and the supply destination of the evaporation material is on the crucible in the bell jar, which is difficult to see. If the amount is mistakenly supplied in a small amount, there is a possibility that the evaporation material may be exhausted on the crucible during the processing of one batch.

【0010】この発明は上記の問題点に鑑みてなされた
ものであり、蒸発材を真空容器であるベルジャ内の所定
の位置に扉を開けることなしに外部から指定した量だけ
確実に供給することができ、その蒸発材を供給する装置
が蒸発物質を遮蔽するようなことがないようにして、被
処理物に膜厚と色調が均一な薄膜を形成できるようにす
ることを目的とする。また、1バッチの被膜処理が終了
した後で、被処理物を取り出して次のバッチの処理を行
う際にベルジャ内の状態を、薄膜を形成する処理が可能
な状態にまで立ち上げるのをできるだけ短時間でできる
ようにすることも目的とする。
The present invention has been made in view of the above problems, and reliably supplies an evaporating material from a specified amount from the outside without opening a door to a predetermined position in a bell jar which is a vacuum container. It is possible to form a thin film having a uniform film thickness and color tone on the object to be processed by preventing the device for supplying the evaporation material from blocking the evaporation material. In addition, it is possible to raise the state inside the bell jar to a state in which a thin film can be formed when the object to be processed is taken out and the next batch is processed after one batch of coating process is completed. It also aims to be able to do it in a short time.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】この発明は、上記の目的
を達成するため、上述したようなイオンプレーティング
装置において、真空容器内に、その容器内の所定の位置
に蒸発材を指定した量だけ供給可能なパーツフィーダを
設けると共に、そのパーツフィーダの少なくとも蒸発材
を上記所定の位置に導くスライダ部を蒸発物質の蒸発経
路外に退避可能に構成したものである。また、上記イオ
ンプレーティング装置において、真空容器に被処理物を
出し入れするための小窓を設ければ効果的である。
In order to achieve the above object, the present invention provides an ion plating apparatus as described above, wherein an amount of evaporation material is designated in a vacuum container at a predetermined position in the container. In addition to providing a parts feeder that can supply only the parts feeder, the slider part that guides at least the evaporation material of the parts feeder to the predetermined position can be retracted out of the evaporation path of the evaporation material. Further, in the above ion plating apparatus, it is effective to provide a small window for loading and unloading the object to be processed in the vacuum container.

【0012】[0012]

【作用】このように構成したイオンプレーティング装置
によれば、真空容器内の所定の位置にパーツフィーダに
よって蒸発材を指定した量だけ自動的に供給することが
できるので、手動式のように蒸発材の供給個数を間違え
たり、真空容器内の蒸発材を見ながら供給したりせずに
指定した供給量を確実に供給することができる。
According to the ion plating device configured as described above, the amount of the evaporating material can be automatically supplied to the predetermined position in the vacuum container by the parts feeder. It is possible to reliably supply the specified supply amount without making a mistake in the supply number of the material or supplying the material while watching the evaporation material in the vacuum container.

【0013】また、そのパーツフィーダは、少なくとも
スライダ部が蒸発物質の蒸発経路外に退避可能に構成さ
れているので、それが蒸発物質を遮蔽するようなことが
ないため、被処理物に膜厚と色調が均一な薄膜を形成す
ることができる。さらに、真空容器に被処理物を出し入
れするための小窓を設ければ、1バッチの被膜処理が終
了した後で、次のバッチの処理を行う際にその小窓のみ
を開放して被処理物を出し入れすることができるので、
ベルジャ内のガス及び圧力等を所定の状態に短時間で立
ち上げることができるため効率的な処理ができる。
Further, in the parts feeder, at least the slider portion is constructed so as to be able to retreat to the outside of the evaporation path of the evaporation material, so that it does not block the evaporation material, so that the film thickness on the object to be processed is reduced. It is possible to form a thin film having a uniform color tone. Furthermore, if a small window for loading and unloading the object to be processed is provided in the vacuum container, only one small window will be opened when processing the next batch after the completion of one batch of coating process. You can put things in and out, so
Since the gas and pressure in the bell jar can be raised to a predetermined state in a short time, efficient processing can be performed.

【0014】[0014]

【実施例】以下、この発明の実施例を図面に基づいて具
体的に説明する。図1はこの発明の一実施例を示すイオ
ンプレーティング装置のベルジャ内の要部を示す平面
図、図2は同じくそのイオンプレーティング装置の全体
を示す構成図、図3は図1のイオンプレーティング装置
の要部をベルジャの一部を破断して示す斜視図である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENT An embodiment of the present invention will be specifically described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a plan view showing a main part in a bell jar of an ion plating apparatus showing an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a configuration diagram showing the same ion plating apparatus as a whole, and FIG. 3 is an ion plating apparatus shown in FIG. FIG. 3 is a perspective view showing a main part of the pointing device with a part of a bell jar broken away.

【0015】このイオンプレーティング装置は、図2に
示す真空容器であるベルジャ11内の所定の位置、すな
わちルツボ13Aあるいはルツボ13B(図1参照)上
にセットした蒸発材15を蒸発源20によって蒸発させ
ると共にその蒸発物質15′をイオン化し、その蒸発物
質15′又はその蒸発物質15′と雰囲気ガスとの反応
による化合物を被処理物16に付着させて薄膜を形成す
る。
In this ion plating apparatus, an evaporation source 20 evaporates an evaporation material 15 set on a predetermined position in a bell jar 11 which is a vacuum container shown in FIG. 2, that is, on a crucible 13A or a crucible 13B (see FIG. 1). At the same time, the vaporized substance 15 'is ionized, and the vaporized substance 15' or a compound formed by the reaction between the vaporized substance 15 'and the atmospheric gas is attached to the object to be treated 16 to form a thin film.

【0016】ベルジャ11は、図2で上下の面が共に塞
がれた略円筒形状をしており、その一部に図1に示すよ
うに扉18が矢示B方向に開閉可能に取り付けられてい
て、さらにその扉18に被処理物16を出し入れするた
めの小窓25を設け、そこに開閉可能な小ドア26(図
3に明示)を取り付けている。ベルジャ11内の下方に
設けられている蒸発源20は、電子銃14Aとルツボ1
3A及び電子銃14Bとルツボ13Bとを備えており、
その上方にはプラズマ状態を生成するプローブ12を配
設し、その上方に薄膜を形成する被処理物16をセット
するようになっている。
The bell jar 11 has a substantially cylindrical shape whose upper and lower surfaces are closed together in FIG. 2, and a door 18 is attached to a part of the bell jar 11 so as to be openable and closable in the arrow B direction as shown in FIG. Further, the door 18 is provided with a small window 25 for taking in and out the object 16 to be processed, and a small door 26 (shown in FIG. 3) which can be opened and closed is attached thereto. The evaporation source 20 provided below the bell jar 11 includes the electron gun 14A and the crucible 1.
3A and electron gun 14B and crucible 13B,
A probe 12 for generating a plasma state is arranged above it, and an object 16 to be processed which forms a thin film is set above it.

【0017】プローブ12は、リング部12aが蒸発源
20から例えば70〜200mm上方にあって、その位置
を蒸発源20によって蒸発された蒸発物質15′の通過
を遮蔽しない位置に配置して、その外側にフィラメント
17を配設している。
The probe 12 is arranged such that the ring portion 12a is above the evaporation source 20 by, for example, 70 to 200 mm, and the position thereof is not shielded from the passage of the evaporation material 15 'evaporated by the evaporation source 20. The filament 17 is arranged outside.

【0018】蒸発源20は、ベルジャ11内の下方にあ
って、2個のルツボ13A,13B上にセットした蒸発
材15に電子銃14A,14Bから電子ビームをそれぞ
れ照射して蒸発物質15′を蒸発させる。なお、図2で
21は蒸発用電源、22はプローブ用直流電源、23は
被処理物用直流電源、24はフィラメント用交流電源で
ある。
The evaporation source 20 is located below the bell jar 11 and irradiates the evaporation material 15 set on the two crucibles 13A and 13B with electron beams from the electron guns 14A and 14B, respectively, to generate evaporation material 15 '. Evaporate. In FIG. 2, 21 is an evaporation power supply, 22 is a probe DC power supply, 23 is a workpiece DC power supply, and 24 is a filament AC power supply.

【0019】図4はイオンプレーティング装置の一方の
側のルツボ13Aと電子銃14Aを示す概略図、図5は
そのルツボ13Aの形状を示す斜視図である。電子銃1
4Aは、図4に示すように銅製のハース27に設けられ
ており、そのハース27の上面には凹部27aが形成さ
れていて、そこにルツボ13Aを載置する。また、他方
の図1に示す電子銃14Bも同様に銅製のハースに設け
られており、その上面の凹部にルツボ13Bを載置す
る。
FIG. 4 is a schematic view showing the crucible 13A and the electron gun 14A on one side of the ion plating apparatus, and FIG. 5 is a perspective view showing the shape of the crucible 13A. Electron gun 1
4A is provided on a copper hearth 27 as shown in FIG. 4, and a concave portion 27a is formed on the upper surface of the hearth 27, and the crucible 13A is placed there. Similarly, the other electron gun 14B shown in FIG. 1 is also provided in the hearth made of copper, and the crucible 13B is placed in the concave portion of the upper surface thereof.

【0020】ルツボ13A及び13Bは、共に保温効果
を高めるために、例えばグラファイトカーボン等の熱伝
導性の悪い材料で形成し、その形状を図5に示すように
円柱形の底部13aの上側に上方へ向けて径が大きくな
るテーパ部13bを形成し、その上側に同一径の帯部1
3cを形成すると共に、その帯部13cの一部に切欠き
13dを形成し、その切欠き13dを通してルツボ13
A及び13Bの内部を、ベルジャ11の外部から透明な
覗き窓(図示せず)を通して見ることができるようにし
ている。
Both the crucibles 13A and 13B are made of a material having a poor thermal conductivity, such as graphite carbon, in order to enhance the heat retention effect, and the shape of the crucibles 13A and 13B is formed above the cylindrical bottom portion 13a as shown in FIG. A taper portion 13b having a larger diameter is formed toward the upper side, and the strip portion 1 having the same diameter is formed above the taper portion 13b.
3c, a notch 13d is formed in a part of the band 13c, and the crucible 13 is passed through the notch 13d.
The insides of A and 13B are made visible from the outside of the bell jar 11 through a transparent viewing window (not shown).

【0021】このように、このイオンプレーティング装
置のルツボ13A,13Bは形成されているので、これ
らのルツボ内に蒸発材15をセットして電子銃14A,
14Bによってそれらを溶融して蒸発させたときに、蒸
発材15が粒状の飛散(スプラッシュ)を生じても、そ
の飛散した粒はルツボの帯部13cに当たってテーパ部
13bによって底部13a上に回収される。
Since the crucibles 13A and 13B of this ion plating apparatus are formed in this manner, the evaporation material 15 is set in these crucibles and the electron guns 14A and
Even if the evaporation material 15 causes a granular splash (splash) when they are melted and vaporized by 14B, the scattered grains hit the strip portion 13c of the crucible and are collected on the bottom portion 13a by the taper portion 13b. ..

【0022】したがって、蒸発材15に金のように高価
な材料を使用しているときにルツボに帯部13cがなか
ったときには、スプラッシュによって金の回収率が低下
してしまうため薄膜形成処理に係るコストが上昇してし
まうが、この実施例によればそのようなことがなくなっ
て蒸発材15の回収率が向上する。また、スプラッシュ
が防止されるため、被処理物16に形成される薄膜が平
滑な膜となる。
Therefore, when an expensive material such as gold is used as the evaporation material 15 and the band portion 13c is not present in the crucible, the gold recovery rate is lowered due to the splash, and therefore the thin film forming process is involved. Although the cost will increase, this embodiment is eliminated and the recovery rate of the evaporation material 15 is improved. Further, since the splash is prevented, the thin film formed on the object to be processed 16 becomes a smooth film.

【0023】さらに、その帯部13cは周方向の一部を
切り欠いて切欠き13dを形成しているので、その切欠
き13dを通してルツボ内を見ることができるため、蒸
発材15の減少状態を常にベルジャ11の扉18を開放
せずに外部から監視することができる。したがって、そ
の蒸発材15の減少量を確認するためにベルジャ11の
扉18を開放したときには、ベルジャ11内をせっかく
所定の状態に保っていたガス及び圧力の状態を崩してし
まうが、そのようなことがないので、それを再び元の状
態にまで立ち上げるために無駄な時間を費してしまうよ
うなことがない。
Further, since the band portion 13c has a notch 13d formed by notching a part in the circumferential direction, the inside of the crucible can be seen through the notch 13d, so that the evaporation material 15 is reduced. The door 18 of the bell jar 11 can always be monitored from the outside without opening. Therefore, when the door 18 of the bell jar 11 is opened in order to confirm the amount of decrease of the evaporation material 15, the state of gas and pressure that keeps the inside of the bell jar 11 at a predetermined state is destroyed. It never happens, so you don't have to waste time trying to bring it back up again.

【0024】ところで、このイオンプレーティング装置
では、そのルツボ13A及び13B上に蒸発材15を自
動的に供給できるようになっている。すなわち、図1及
び図3に示すようにベルジャ11内の扉18側に、ルツ
ボ13A及び13B上の所定の位置に蒸発材15を指定
した量だけ供給可能なパーツフィーダ30及び31を設
けると共に、そのパーツフィーダ30,31の蒸発材1
5を上記所定の位置に導くスライダ部32,33を、蒸
発物質15′(図2)の蒸発経路外となる図1に仮想線
でそれぞれ示す退避位置に退避可能に構成している。
By the way, in this ion plating apparatus, the evaporation material 15 can be automatically supplied onto the crucibles 13A and 13B. That is, as shown in FIGS. 1 and 3, on the side of the door 18 in the bell jar 11, parts feeders 30 and 31 capable of supplying a specified amount of the evaporation material 15 are provided at predetermined positions on the crucibles 13A and 13B. Evaporative material 1 of the parts feeders 30 and 31
The slider portions 32 and 33 for guiding the element 5 to the predetermined position can be retracted to the retracted positions shown by phantom lines in FIG. 1 outside the evaporation path of the evaporated substance 15 '(FIG. 2).

【0025】そのパーツフィーダ30及び31は、共に
公知の振動を利用して供給部材を供給口30a,31a
から排出するものであり、振動を停止させたときにその
供給を停止する。
The parts feeders 30 and 31 both supply the supply member using the known vibrations to the supply ports 30a and 31a.
When the vibration is stopped, the supply is stopped.

【0026】すなわち、一方のパーツフィーダ30は、
図6に示すように有底の円柱状の収納部34内に螺旋状
に巻いたループ部35を設けると共に、そのループ部3
5の縦断面形状を図7に示すように上面側を開放したコ
字状とし、その内側の壁面35aを外側の壁面35bよ
りも低い高さにして、図6の収納部34内に小片状に形
成した供給部材となる蒸発材15を入れて上面の蓋36
を閉じて振動させることによって、蒸発材15が螺旋状
のループ部35内に入り込んで順次上昇していき、最先
端に位置する蒸発材15から順次供給口30aからスラ
イダ部32上に落下するようになっている。
That is, one parts feeder 30 is
As shown in FIG. 6, a spirally wound loop portion 35 is provided in a bottomed cylindrical storage portion 34, and the loop portion 3 is provided.
As shown in FIG. 7, the vertical cross-section of No. 5 has a U-shape with the upper surface side open, and the inner wall surface 35a is lower than the outer wall surface 35b, so that a small piece is stored in the storage section 34 of FIG. A lid 36 on the upper surface containing the evaporating material 15 serving as a supply member formed into a shape
By closing and oscillating, the evaporation material 15 enters the spiral loop portion 35 and sequentially rises, so that the evaporation material 15 at the leading edge is sequentially dropped from the supply port 30a onto the slider portion 32. It has become.

【0027】そして、そのスライダ部32は図3に示す
ように傾斜させてあるので、そこに供給された小片状の
蒸発材15はその上を滑ってルツボ13A内の所定の位
置に落下していく。そして、その蒸発材15を収納する
収納部34はベルジャ11の扉18に固定されており、
スライダ部32はその一端が回転軸37に固定されてい
て、その回転軸37の下方が図8に示すように軸受38
によって回転自在に支持されてベルジャ11の外部に突
出すると共に、その回転軸37が3個のリング状のシー
ル部材39a,39b及び39cによってシールされ、
ベルジャ11内の気密が保たれるようになっている。
Since the slider portion 32 is inclined as shown in FIG. 3, the small-piece-shaped evaporation material 15 supplied thereto slides on it and falls to a predetermined position in the crucible 13A. To go. The storage portion 34 for storing the evaporation material 15 is fixed to the door 18 of the bell jar 11,
One end of the slider portion 32 is fixed to a rotary shaft 37, and a lower portion of the rotary shaft 37 is a bearing 38 as shown in FIG.
Is rotatably supported by and protrudes to the outside of the bell jar 11, and its rotation shaft 37 is sealed by three ring-shaped seal members 39a, 39b and 39c.
The inside of the bell jar 11 is kept airtight.

【0028】その回転軸37には係合部材41を固定す
ると共に、それに対応させてベルジャ11側にその係合
部材41の球状部41aを係合させる係合孔43a,4
3bをそれぞれ形成し、回転軸37を回転させて球状部
41aを係合孔43aに係合させたときに、図1に示す
パーツフィーダ30のスライダ部32が蒸発材15をル
ツボ13A上に導く実線で示す位置になり、また球状部
41aを係合孔43bに係合させたときにそのスライダ
部32が蒸発物質の蒸発経路外に退避する仮想線で示す
位置になるようにしてある。
The engaging member 41 is fixed to the rotary shaft 37, and correspondingly the engaging holes 43a, 4a for engaging the spherical portion 41a of the engaging member 41 on the bell jar 11 side.
When the rotating shaft 37 is rotated to engage the spherical portion 41a with the engaging hole 43a, the slider portion 32 of the parts feeder 30 shown in FIG. 1 guides the evaporation material 15 onto the crucible 13A. The position is indicated by the solid line, and when the spherical portion 41a is engaged with the engagement hole 43b, the slider portion 32 is moved to the position indicated by the imaginary line that retreats out of the evaporation path of the evaporated substance.

【0029】そして、この回転軸37の回転は、モータ
等を使用した回転機構(図示せず)によりそれを回転さ
せたり、その回転軸37の下端に図8に仮想線で示すよ
うに回転アーム44を軸に対して直角に固定し(回転軸
を直接曲げて形成してもよい)、それを手動で回転させ
るようにしてもよい。
The rotating shaft 37 is rotated by a rotating mechanism (not shown) using a motor or the like, or at the lower end of the rotating shaft 37, as shown by phantom lines in FIG. 44 may be fixed at a right angle to the axis (the rotation axis may be formed by directly bending the axis), and it may be manually rotated.

【0030】また、このパーツフィーダ30によって蒸
発材15をルツボ13A上に供給するには、図3に示す
ようにベルジャ11の外側に設けてある操作釦45を押
す。そして、この実施例では、その釦を押すと小片状の
蒸発材15の供給個数を設定する操作部46によって予
め指定した個数の蒸発材15が、パーツフィーダ30に
より供給され、その指定個数の供給が完了すると自動的
に停止する。
To supply the evaporation material 15 onto the crucible 13A by the parts feeder 30, the operation button 45 provided on the outside of the bell jar 11 is pushed as shown in FIG. Then, in this embodiment, when the button is pressed, the number of the evaporation materials 15 designated in advance by the operation unit 46 for setting the number of supply of the small-sized evaporation materials 15 is supplied by the parts feeder 30 and the specified number of the evaporation materials 15 is supplied. When the supply is completed, it will stop automatically.

【0031】なお、このパーツフィーダ30による蒸発
材15の供給は、操作部46を設けずに操作釦45を押
している間だけ供給を続けるようにしてもよい。また、
パーツフィーダ30による蒸発材15の供給を、パーツ
フィーダ30の振動とその停止により行ったが、パーツ
フィーダ30を常に振動させておき、パーツフィーダ3
0の供給口30aの先端に自動的に開閉するドアを設
け、そのドアの開閉により蒸発材15の供給を行っても
よい。
The supply of the evaporation material 15 by the parts feeder 30 may be continued only while the operation button 45 is pressed without providing the operation portion 46. Also,
The supply of the evaporation material 15 by the parts feeder 30 was performed by vibrating the parts feeder 30 and stopping it. However, the parts feeder 30 is always vibrated and the parts feeder 3
It is also possible to provide a door that automatically opens and closes at the tip of the supply port 30a of 0 and supply the evaporation material 15 by opening and closing the door.

【0032】また、図1に示すもう一方のルツボ13B
上に蒸発材15を供給するパーツフィーダ31は、パー
ツフィーダ30に対して収納部47が直線状の収納部で
ある点のみが異なり、他の基本的な構成及び振動により
蒸発材15を供給する点については同一であり、供給口
31aから排出させた蒸発材15をスライダ部33によ
ってルツボ13B内の所定の位置に導く。
The other crucible 13B shown in FIG.
The parts feeder 31 that supplies the evaporation material 15 to the top differs from the parts feeder 30 only in that the storage part 47 is a linear storage part, and supplies the evaporation material 15 according to another basic configuration and vibration. The points are the same, and the evaporation material 15 discharged from the supply port 31a is guided to a predetermined position in the crucible 13B by the slider portion 33.

【0033】そして、そのスライダ部33の一端に回転
自在にベルジャ11の底部に支持した回転軸48を固定
すると共に、その下端側をベルジャ11との間をシール
した状態で外部に突出させて、パーツフィーダ30の場
合と同様にスライダ部33が蒸発材15をルツボ13B
上に導く図1に実線で示す位置と、そのスライダ部33
が蒸発物質の蒸発経路外に退避する仮想線で示す位置と
に移動して、その位置が係合部材(図8の係合部材41
と同様なもの)によって保たれるようにしてある。
Then, a rotary shaft 48 rotatably supported on the bottom of the bell jar 11 is fixed to one end of the slider portion 33, and the lower end side of the rotary shaft 48 is projected to the outside in a sealed state with the bell jar 11. As in the case of the parts feeder 30, the slider portion 33 moves the evaporation material 15 into the crucible 13B.
The position shown by the solid line in FIG.
Moves to a position indicated by an imaginary line that retreats out of the evaporation path of the evaporated substance, and that position moves to the engaging member (the engaging member 41 in FIG.
And the like).

【0034】そして、このパーツフィーダ31の場合に
は、収納部47内に小片状の蒸発材15を収納した後
は、その収納部47内の蒸発材15を勝手に取り出せな
いようになっている。したがって、このパーツフィーダ
31側には、高価な金等の蒸発材を収納するようにすれ
ば盗難防止にもなる。
In the case of the parts feeder 31, after the small-piece-shaped evaporation material 15 is stored in the storage portion 47, the evaporation material 15 in the storage portion 47 cannot be taken out without permission. There is. Therefore, if an expensive evaporation material such as gold is stored on the parts feeder 31 side, it is also possible to prevent theft.

【0035】このイオンプレーティング装置を使用し
て、例えばステンレス製の時計バンドの表面に金色被膜
を形成するには、まず最初にその時計バンドである被処
理物を洗浄した後それを図2に示すベルジャ11内の所
定の位置に1バッチ分の個数をセットする。
In order to form a golden coating on the surface of, for example, a stainless steel watch band using this ion plating apparatus, first, the object to be processed, which is the watch band, is washed and then it is shown in FIG. The number for one batch is set at a predetermined position in the bell jar 11 shown.

【0036】次に、扉18(図3参照)を十分開放する
ことによってベルジャ11内を排気した後閉めて、その
中にアルゴンガスを導入して室内の圧力を0.0001
Paにし、蒸発用電源21をオフにしたままで、フィラ
メント用交流電源24によってフィラメント17を加熱
して電子を放出させ、プローブ用直流電源22によって
プローブ12に所定の正電圧を印加し、フィラメント1
7から放出された電子を加速してベルジャ11内のアル
ゴンガス分子に衝突させてイオン化する。
Next, the door 18 (see FIG. 3) is sufficiently opened to evacuate the bell jar 11 and then closed, and argon gas is introduced into the bell jar 11 to bring the pressure in the chamber to 0.0001.
While keeping the pressure at Pa and keeping the evaporation power supply 21 off, the filament AC power supply 24 heats the filament 17 to emit electrons, and the probe DC power supply 22 applies a predetermined positive voltage to the probe 12,
The electrons emitted from 7 are accelerated and collide with the argon gas molecules in the bell jar 11 to be ionized.

【0037】そして、被処理物16に例えば50Vの負
電位の加速電圧を印加して、アルゴンイオンを被処理物
16に引付けてその表面に衝突させることによって表面
をクリーニング(イオンボンバード)する。その後、反
応ガスとして窒素ガスをさらにベルジャ11内に導入
し、アルゴンガスと窒素ガスの混合ガスとしてベルジャ
11内を0.7Paの圧力に保つ。
Then, an acceleration voltage having a negative potential of, for example, 50 V is applied to the object to be processed 16 to attract argon ions to the object to be processed 16 and collide with the surface thereof to clean (ion bombard) the surface. Then, nitrogen gas is further introduced into the bell jar 11 as a reaction gas, and the pressure inside the bell jar 11 is maintained at 0.7 Pa as a mixed gas of argon gas and nitrogen gas.

【0038】次に、フィラメント用交流電源24をオフ
にして、蒸発用電源21をオンにし、蒸発源20のフィ
ラメントを加熱すると共に負の高電圧によって電子銃1
4A(図1に明示)から電子ビームを放出させる。この
際、蒸発源20のルツボ13A上には、予め小片状に形
成した金属チタンである蒸発材15がパーツフィーダ3
0によって複数個供給されており、そこに電子銃14A
から放出されてマグネットによって偏向された電子ビー
ムが照射されることによってそれが気化する。そして、
そのチタン蒸気と窒素ガスをイオン化して反応させ、窒
化チタン(TiN)被膜を被処理物16の表面に形成す
る。
Next, the filament AC power supply 24 is turned off, the evaporation power supply 21 is turned on, the filament of the evaporation source 20 is heated, and the electron gun 1 is driven by a negative high voltage.
An electron beam is emitted from 4A (shown in FIG. 1). At this time, on the crucible 13A of the evaporation source 20, the evaporation material 15, which is metal titanium formed in advance in the form of small pieces, is placed in the parts feeder 3.
It is supplied by a number of 0 and the electron gun 14A
It is vaporized by being irradiated with the electron beam emitted from the and deflected by the magnet. And
The titanium vapor and nitrogen gas are ionized and reacted to form a titanium nitride (TiN) film on the surface of the object 16.

【0039】次に、同様に蒸発材15として金・ニッケ
ル(Au−Ni)合金が治められているもう一つのパー
ツフィーダ31から、金・ニッケル(Au−Ni)合金
が1個供給されているもう一つのルツボ13B(図1に
明示)に、前述した金属チタンの場合と同様に電子銃1
4Bから電子ビームを照射して、既に表面に窒化チタン
被膜が形成されている被処理物16のその被膜上に、さ
らに金・ニッケル合金被膜を形成する。そして、最後に
小窓25を小ドア26を開けることによって開放し、そ
の金色被膜が形成された被処理物16をベルジャ11内
から取り出す。
Next, one gold-nickel (Au-Ni) alloy is supplied from another parts feeder 31 in which a gold-nickel (Au-Ni) alloy is similarly cured as the evaporation material 15. In the other crucible 13B (shown in FIG. 1), the electron gun 1
By irradiating an electron beam from 4B, a gold / nickel alloy coating is further formed on the titanium nitride coating formed on the surface of the object 16 to be processed. Finally, the small window 25 is opened by opening the small door 26, and the object 16 to be processed having the golden coating is taken out of the bell jar 11.

【0040】なお、このように金色被膜を形成する場合
には、一方のパーツフィーダ31の収納部47に、蒸発
材として「金・ニッケル合金」と「金(純金)」とを
「金・ニッケル合金」−「金」−「金・ニッケル合金」
……のように交互に配列して、「金・ニッケル合金」と
「金」とを交互にルツボ13B上に供給するようにする
とよい。
In the case of forming a gold coating as described above, "gold / nickel alloy" and "gold (pure gold)" are used as evaporation materials in the storage part 47 of one of the parts feeders 31 in "gold / nickel". Alloy "-" Gold "-" Gold / Nickel Alloy "
It is advisable to arrange them alternately as in the case of ... And supply "gold / nickel alloy" and "gold" alternately onto the crucible 13B.

【0041】これは、金・ニッケル合金の場合には、そ
の蒸発過程において金の部分がニッケルよりも早く蒸発
してしまい、そのままの状態では金が不足して被処理物
16に形成される薄膜にバラツキが生じてしまうため、
途中で金(純金)のみを補充して不足分を補うようにし
て、その後で再び金・ニッケル合金を供給する供給サイ
クルにすると、安定した薄膜を形成することができるた
めである。
This is because in the case of a gold-nickel alloy, the gold portion evaporates earlier than nickel in the evaporation process, and in that state, the gold is insufficient and a thin film is formed on the object 16 to be processed. Variation will occur,
This is because a stable thin film can be formed by supplying gold (pure gold) only on the way to make up for the deficiency and then supplying again a gold-nickel alloy.

【0042】このように、この実施例によるイオンプレ
ーティング装置によれば、ベルジャ11内の所定のルツ
ボ上にパーツフィーダ30及び31によってチタンや金
合金等の蒸発材15を指定した量だけ自動的に供給する
ことができるので、手動式の供給装置のように蒸発材の
供給個数を間違えたり、ベルジャ内の蒸発材を見ながら
供給したりするようなことをせずに、指定した供給量を
確実に供給することができる。
As described above, according to the ion plating apparatus of this embodiment, the parts feeders 30 and 31 automatically place the evaporating material 15 such as titanium or gold alloy on the predetermined crucible in the bell jar 11 by the designated amount. Since it can be supplied to the specified amount of supply, you do not have to make a mistake in the number of supply of evaporation material like a manual supply device or supply while watching the evaporation material in the bell jar. It can be reliably supplied.

【0043】また、パーツフィーダ30と31は、共に
スライダ部32,33が蒸発物質の蒸発経路外に退避可
能であってそれが蒸発物質を遮蔽するようなことがない
ので、被処理物に膜厚と色調が均一な薄膜を形成するこ
とができる。なお、上記実施例はルツボが2個ある場合
の例について説明したが、この発明はルツボが3個以
上、あるいは1個のイオンプレーティング装置にも同様
に適用することができる。
Further, in the parts feeders 30 and 31, both the slider parts 32 and 33 can be retracted outside the evaporation path of the evaporation material, and it does not block the evaporation material, so that the film to be processed is formed. It is possible to form a thin film having a uniform thickness and color tone. Although the above embodiment has been described with respect to the case where there are two crucibles, the present invention can be similarly applied to an ion plating apparatus having three or more crucibles or one crucible.

【0044】また、パーツフィーダ30と31は、蒸発
物質の蒸発経路外に退避可能な部位をスライダ部32,
33のみとしているが、その退避可能な部位はそれに限
ることなく、収納部34,47を含めた全体を回動させ
るようにしてもよいし、その移動をスライド移動によっ
て行うようにしてもよい。さらに、パーツフィーダは振
動式に限るものではなく、蒸発材を指定した量だけルツ
ボ上に確実に供給できるものであればそれ以外の供給方
式によるものであってもよい。
Further, the parts feeders 30 and 31 are provided with slider portions 32 and 31 which can be retreated from the evaporation path of the evaporation material.
Although only 33 is provided, the retractable portion is not limited to that, and the whole including the storage portions 34 and 47 may be rotated, or the movement may be performed by sliding movement. Further, the parts feeder is not limited to the vibrating type, and any other supplying system may be used as long as it can reliably supply the specified amount of the evaporation material onto the crucible.

【0045】[0045]

【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、真空容器の扉を開放するようなことをせずにその容
器内の所定の位置にパーツフィーダによって蒸発材を指
定した量だけ自動的に供給することができるため、扉を
開放して蒸発材を補充した時のように容器内のガスや圧
力の状態を再び元の状態までに立ち上げるのに時間を要
するようなことがないので、効率的な薄膜形成ができ
る。また、手動式のように蒸発材の供給個数を間違えた
り、真空容器内の蒸発材を見ながら供給したりせずに指
定した供給量を確実に供給することができるので、信頼
性が向上すると共に操作性も向上する。
As described above, according to the present invention, the amount of evaporation material specified by the parts feeder is automatically set at a predetermined position in the vacuum container without opening the door of the vacuum container. Since it can be supplied automatically, it does not take time to restore the gas and pressure in the container to the original state like when opening the door and replenishing the evaporation material. Therefore, an efficient thin film can be formed. In addition, reliability can be improved because the specified supply amount can be surely supplied without making a mistake in the number of supply of the evaporation material as in the manual method or supplying while watching the evaporation material in the vacuum container. At the same time, operability is improved.

【0046】また、パーツフィーダは、少なくともスラ
イダ部が蒸発物質の蒸発経路外に退避可能に構成されて
いるので、それが蒸発物質を遮蔽するようなことがない
ため、被処理物に膜厚と色調が均一な薄膜を形成するこ
とができる。さらに、真空容器に被処理物を出し入れす
るための小窓を設ければ、1バッチの被膜処理が終了し
た後で、次のバッチの処理を行う際にその小窓のみを開
放して被処理物を出し入れすることができるので、ベル
ジャ内のガス及び圧力等を所定の状態に短時間で立ち上
げることができるため効率的な処理ができる。
In the parts feeder, at least the slider portion is constructed so as to be able to retreat outside the evaporation path of the evaporation material, so that it does not block the evaporation material. A thin film having a uniform color tone can be formed. Furthermore, if a small window for loading and unloading the object to be processed is provided in the vacuum container, only one small window will be opened when processing the next batch after the completion of one batch of coating process. Since objects can be taken in and out, the gas and pressure in the bell jar can be raised to a predetermined state in a short time, and efficient processing can be performed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明の一実施例を示すイオンプレーティン
グ装置のベルジャ内の要部を示す平面図である。
FIG. 1 is a plan view showing a main part inside a bell jar of an ion plating apparatus showing an embodiment of the present invention.

【図2】同じくそのイオンプレーティング装置の全体を
示す構成図である。
FIG. 2 is a block diagram showing the entire ion plating apparatus of the same.

【図3】図1のイオンプレーティング装置の要部をベル
ジャの一部を破断して示す斜視図である。
FIG. 3 is a perspective view showing a main part of the ion plating apparatus of FIG. 1 with a part of a bell jar being cut away.

【図4】同じくそのイオンプレーティング装置に設けら
れている一方のルツボ13Aとその付近を示す概略図で
ある。
FIG. 4 is a schematic view showing one crucible 13A provided in the same ion plating apparatus and its vicinity.

【図5】同じくそのルツボ13Aの詳細形状を示す斜視
図である。
FIG. 5 is a perspective view showing a detailed shape of the crucible 13A.

【図6】図3のイオンプレーティング装置に設けられて
いる一方のパーツフィーダ30の収納部34の内部を示
す概略図である。
6 is a schematic diagram showing the inside of a storage portion 34 of one of the parts feeders 30 provided in the ion plating apparatus of FIG.

【図7】同じくその収納部34内に設けられているルー
プ部35とそこを上昇する蒸発材15を示す平面図であ
る。
FIG. 7 is a plan view showing a loop portion 35 provided in the storage portion 34 and an evaporating material 15 that moves up there.

【図8】図3のパーツフィーダ30の回転支持部の構造
を示す断面図である。
8 is a cross-sectional view showing a structure of a rotation support portion of the parts feeder 30 of FIG.

【図9】従来の蒸発材供給装置の例を示す構成図であ
る。
FIG. 9 is a configuration diagram showing an example of a conventional evaporation material supply device.

【図10】同じくその装置の蒸発材を排出する部分を示
した側面図である。
FIG. 10 is a side view showing the portion of the apparatus for discharging the evaporation material.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 ベルジャ(真空容器) 12 プローブ 13A,13B ルツボ 14A,14B
電子銃 15 蒸発材 15′ 蒸発物
質 16 被処理物 18 扉 20 蒸発源 25 小窓 30,31 パーツフィーダ 32,33 ス
ライダ部 37,48 回転軸
11 bell jar (vacuum container) 12 probe 13A, 13B crucible 14A, 14B
Electron gun 15 Evaporation material 15 'Evaporation material 16 Object to be treated 18 Door 20 Evaporation source 25 Small window 30,31 Parts feeder 32,33 Slider part 37,48 Rotation axis

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 真空容器内の所定の位置にセットした蒸
発材を蒸発源によって蒸発させると共にその蒸発物質を
イオン化し、該蒸発物質又はその蒸発物質と雰囲気ガス
との反応による化合物を被処理物に付着させて薄膜を形
成するイオンプレーティング装置において、 前記真空容器内に、前記所定の位置に蒸発材を指定した
量だけ供給可能なパーツフィーダを設けると共に、該パ
ーツフィーダの少なくとも蒸発材を前記所定の位置に導
くスライダ部を前記蒸発物質の蒸発経路外に退避可能に
構成したことを特徴とするイオンプレーティング装置。
1. An object to be treated, wherein an evaporation material set at a predetermined position in a vacuum container is evaporated by an evaporation source, the evaporation material is ionized, and the evaporation material or a compound by a reaction of the evaporation material and an atmospheric gas is processed. In the ion plating apparatus for forming a thin film by adhering to a substrate, a part feeder capable of supplying a specified amount of an evaporation material to the predetermined position is provided in the vacuum container, and at least the evaporation material of the parts feeder is An ion plating apparatus, characterized in that a slider portion that leads to a predetermined position can be retracted outside the evaporation path of the evaporation material.
【請求項2】 請求項1記載のイオンプレーティング装
置において、前記真空容器に被処理物を出し入れするた
めの小窓を設けたことを特徴とするイオンプレーティン
グ装置。
2. The ion plating apparatus according to claim 1, wherein the vacuum container is provided with a small window for loading and unloading an object to be processed.
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JPH0452273A (en) * 1990-06-18 1992-02-20 Mitsubishi Electric Corp Thin film forming device

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