JPH05283021A - X線管 - Google Patents

X線管

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JPH05283021A
JPH05283021A JP5010113A JP1011393A JPH05283021A JP H05283021 A JPH05283021 A JP H05283021A JP 5010113 A JP5010113 A JP 5010113A JP 1011393 A JP1011393 A JP 1011393A JP H05283021 A JPH05283021 A JP H05283021A
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JP
Japan
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ray tube
layer
anode
anode target
window
Prior art date
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Pending
Application number
JP5010113A
Other languages
English (en)
Inventor
Hubert H A Smit
ヘルマン アントン スミット フベルト
Theodorus J J M Jenneskens
ヤン ジャネット マリア イェネスケンス テオドルス
Jan C Gijsbers
コルネリス ヘイスベルス ヤン
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Koninklijke Philips NV
Original Assignee
Philips Gloeilampenfabrieken NV
Koninklijke Philips Electronics NV
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Publication date
Application filed by Philips Gloeilampenfabrieken NV, Koninklijke Philips Electronics NV filed Critical Philips Gloeilampenfabrieken NV
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J35/00X-ray tubes
    • H01J35/02Details
    • H01J35/16Vessels; Containers; Shields associated therewith
    • H01J35/18Windows
    • H01J35/186Windows used as targets or X-ray converters
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J35/00X-ray tubes
    • H01J35/02Details
    • H01J35/04Electrodes ; Mutual position thereof; Constructional adaptations therefor
    • H01J35/08Anodes; Anti cathodes
    • H01J35/112Non-rotating anodes
    • H01J35/116Transmissive anodes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2235/00X-ray tubes
    • H01J2235/12Cooling
    • H01J2235/1225Cooling characterised by method
    • H01J2235/1291Thermal conductivity
    • H01J2235/1295Contact between conducting bodies

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  • X-Ray Techniques (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 局部的に温度が高くなるのを防止した寿命が
長いX線管を提供する。 【構成】 電子ビームを発生する陰極4と、この電子ビ
ームが衝突することによってX線を発生する薄い陽極タ
ーゲット層を有する陽極12と、このX線が通過放出す
る射出窓10とを具える。例えば射出窓10の窓支持部
31を流通ダクト20に隣接させ、エンベロープ24と
シールド28とに確実に熱的に接触させることによっ
て、これ等の部分により熱放散増大手段を構成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は電子ビームを発生する陰
極と、電子ビームの衝突に応動してX線を発生するため
の比較的薄い陽極ターゲット層を有する陽極と、X線射
出窓とを具えるX線管に関するものである。
【0002】
【従来の技術】この種のX線管は米国特許第49691
73号によりターゲット透過管として知られている。そ
の明細書に記載されたX線管は例えばベリリウムで造っ
た放射線射出窓と、その内側に設けた薄い金属層とを具
え、この金属層を陽極ターゲット層として作用させてい
る。この陽極ターゲット層にX線を発生させ、この場
合、このX線を射出窓から直接放出させる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】この種の薄い陽極ター
ゲット層はX線管内に取り付けた適切な熱伝導性材料の
陽極支持体上に設けることができる。このような薄い陽
極ターゲット層を使用した場合、入射する電子ビームに
よって発生する熱の放散の程度がX線管の寿命に決定的
な影響を及ぼす。この問題はターゲット透過管について
特に重要な問題である。これは薄い陽極ターゲット自身
及び比較的薄いベリリウム製の射出窓の熱伝導性が比較
的小さいからである。更に、金属陽極支持体上に陽極タ
ーゲット層を設けた場合、局部的に温度が著しく高くな
る問題が発生する。これは陽極ターゲット層と陽極支持
体との間の遷移部が熱を遮断する壁を構成するからであ
る。
【0004】
【課題を解決するための手段】上記の従来の技術の欠点
を解消しようとする本発明の目的を達成するため、本発
明X線管は熱の放散を強める熱放散増大手段を陽極ター
ゲット層が具えることを特徴とする。
【0005】本発明X線管の陽極ターゲット層自身が熱
放散増大手段を具えるから、この層の温度は全体として
低くなり、特に電子ターゲットスポットの区域の温度が
低くなる。従って、この層は容易に損傷せず、X線管の
寿命が長くなる利点がある。
【0006】本発明の好適な実施例では、熱放散増大手
段を構成する金属構造を陽極ターゲット板内に、又はこ
の板に当てて設け、X線管の壁の部分、又は適切な熱伝
導性を有する陽極支持体にこの陽極ターゲット板を熱伝
導するよう連結する。この場合の金属構造を特に金属製
の網にし、X線の放出を乱さないようにすると共に、熱
を十分に放散できるようにする。陽極ターゲット層を窓
板に設けた時、上述のような網構造によって実質的に窓
が補強されるようにし、これにより窓の損傷がなくな
る。窓を一層薄く構成することができる結果、X線に対
する透過性が増大する。
【0007】本発明の好適な実施例では、電子ターゲッ
ト面に近く設けた金属層によって、熱放散増大手段の一
部を形成する。特に、この金属層をほぼ環状の電子ター
ゲットスポット内に設け、このスポットから両方の半径
方向側部に適切に熱を放散させ、窓の中心部と窓の照射
部とが著しく高温にならないようにすることができる。
【0008】本発明の一層好適な実施例では、陽極ター
ゲット層と、このターゲット層を支持する層との間に非
拡散層を設ける。このような非拡散層を使用することに
よって、例えば電子化合物の発生に起因する2個の層間
の熱伝導の減少を防止することができる。このような非
拡散層を使用することによって、2層間の不利な相互作
用をも減らすことができる。例えば窓の真空密の低下を
防止することができる。この種の非拡散層は特にベリリ
ウム製の窓板と、その上に設けた陽極ターゲット板との
間に設ける。この陽極ターゲット板は例えばロジウム、
スカンジウム、又はその他の既知の陽極ターゲット板材
料で造られる。本発明の好適な実施例を図面につき説明
する。
【0009】
【実施例】図1に示すX線管は円錐セラミックベース2
を有するエンベロープ1と、フィラメント6の形状の電
子放出素子を有する陰極4と、円筒壁8と、射出窓10
とを具える。この射出窓10の内側に陽極ターゲット層
の形状に陽極12を設ける。陽極は、例えばクロム、ロ
ジウム、スカンジウム、又はその他の陽極材料から成
る。この陽極の層の厚さは、希望する放射線、材料の放
射線吸収性、特に材料の電子吸収性、及びX線管にとっ
て希望する高電圧に適合するように定められ、例えば数
μmまでである。
【0010】エンベロープ1内に冷却ダクト14を設け
る。この冷却ダクト14は導入口16と、送出口18
と、流通ダクト20とを有し、この流通ダクト20によ
って射出窓10を包囲する。高電圧コネクタをベース2
内に挿入することができる。この種の高電圧コネクタを
高電圧ケ−ブルに接続し、更に上記フィラメントのため
の供給リード線と、陽極陰極空間22内に配置する他の
電極への供給リード線とにこの高電圧コネクタを接続す
る。エンベロープ1の周りに取付けスリーブ24を設け
る。この取付けスリーブ24は取付けフランジ26と、
付加的放射シールド28とを有する。またこの放射シー
ルド28は流通ダクト20を区画している。このX線管
の周りに薄い壁の取付けスリーブ30を配置し、この中
に冷却ダクトを収容し、取付けスリーブ30に温度均一
化作用を行わせる。
【0011】図2には窓と陽極との構造を拡大して示
す。エンベロープの窓支持部31から内側の取付け端縁
33の区域を例えば局部的に拡散性にすることによって
射出窓10を設けている。窓支持部31が流通ダクト2
0に隣接してエンベロープ24とシールド28とに確実
に適切に熱的に接触している時、射出窓10の端縁から
熱を確実に分散させることができる。素子24、28を
比較的厚い構造にすれば熱の放散と、散乱放射線の吸収
とに対し有利である。
【0012】射出窓10の内側に、例えば蒸着した薄い
陽極ターゲット層の形状の陽極12を設ける。蒸着法の
他に、スパッタリング法、又は電気めっき法も陽極層の
形成に適する技術である。陽極は通常のように実質的に
大地電位で作動するので、比較的薄いベリリウム製窓1
0の電気的絶縁に関して何等問題がない。
【0013】この実施例では、電子放出素子6を陽極1
2から比較的僅かな距離だけ離して陽極陰極空間22内
に配置する。このエミッタ、即ち電子放出素子をループ
状フィラメント40として形成し、入力リード線と出力
リード線42とを設ける。このフィラメントを自由状態
に懸垂するのがよい。このフィラメントの周りにスリー
ブ状電極46を配置し、フィラメント40内に電極スリ
ーブ48を配置する。フィラメントのループの直径から
更に広くなっている形成すべき環状焦点56の横方向の
寸法は電極スリーブの電位を変えるか、又はスリーブ4
6又は48の少なくとも一方の高さを変化させることに
よって変えることができる。これ等スリーブの位置決め
と、これ等スリ−ブの電位を最適にすることによって一
層大きく、又は一層小さく陽極層上に環状焦点56を焦
点合わせすることができる。
【0014】ベリリウム製射出窓10と陽極タ−ゲット
層12との間に網構造58を設ける。銀、又は金から成
るこのような金属製網のピッチと、ワイヤの太さとは、
引き続いて使用される放射光学システムが目的とするX
線の焦点に悪影響を及ぼさないよう決定する。このよう
な網構造を射出窓の外側に設けてもよく、熱伝導性が適
切で、比較的強度が高い炭化珪素の例えばハニカム構造
に構成してもよい。
【0015】図3は射出窓ターゲット透過管の射出窓の
好適な実施例を示す。この射出窓は環状電子ターゲット
スポット56内に配置した金属板62の形状の金属熱放
散構造62と、この金属板62と管壁部33との間の結
合部を構成している半径方向放散導体64とを具える。
この透過管内では環状焦点は固定直径を有するから、環
状焦点に隣接するように金属層62を設けることができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】ターゲット陽極と環状電子ターゲットスポット
とを有する本発明X線管を示す断面図である。
【図2】図1のX線管内での熱の放散を増大させるため
の金属構造と陽極ターゲット層との実施例を示す拡大断
面図である。
【図3】熱分散増大手段として作用する局部蒸着金属層
を有する本発明X線管の陽極窓を示す図である。
【符号の説明】
1 エンベロープ 2 円錐セラミックベース 4 陰極 6 フィラメント、電子放出素子 8 円筒壁 10 射出窓 12 陽極 14 冷却ダクト 16 導入口 18 送出口 20 流通ダクト 22 陽極陰極空間 24 取付けスリーブ 26 取付けフランジ 28 付加的放射シールド 30 取付けスリーブ 31 窓支持部 33 取付け端縁 40 ループ状フィラメント 42 入力リード線、出力リード線 46 スリーブ状電極 48 電極スリーブ 56 環状焦点、環状スポット 58 網構造 62 金属板、金属熱放散構造、金属層 64 半径方向放散導体
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 テオドルス ヤン ジャネット マリア イェネスケンス オランダ国 5621 ベーアー アインドー フェン フルーネヴァウツウェッハ1 (72)発明者 ヤン コルネリス ヘイスベルス オランダ国 5621 ベーアー アインドー フェン フルーネヴァウツウェッハ1

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 電子ビームを発生する陰極と、電子ビー
    ムの衝突に応動してX線を発生するための比較的薄い陽
    極ターゲット層を有する陽極と、X線射出窓とを具える
    X線管において、熱の放散を強める熱放散増大手段を前
    記陽極ターゲット層が具えることを特徴とするX線管。
  2. 【請求項2】 前記陽極ターゲット層によって前記X線
    管の前記X線射出窓の窓板の一部を形成した請求項1に
    記載のX線管。
  3. 【請求項3】 前記陽極ターゲット層内又はその付近に
    設けた金属構造を前記熱放散増大手段が具える請求項1
    又は2に記載のX線管。
  4. 【請求項4】 前記陽極ターゲット層上の電子ターゲッ
    トスポット付近に金属層を設け、この金属層を前記X線
    管の壁に熱伝導するよう連結して前記熱放散増大手段と
    して作用させた請求項1又は2に記載のX線管。
  5. 【請求項5】 前記電子ターゲットスポットをほぼ環状
    にし、熱伝導性の金属層をこの環状の陽極ターゲットス
    ポット内に配置した請求項4に記載のX線管。
  6. 【請求項6】 前記陽極ターゲット層と隣接層との間に
    拡散層を設け、これ等2個の層の材料間の有害な相互作
    用を減少させた前記請求項のいずれか1項に記載のX線
    管。
  7. 【請求項7】 前記陽極ターゲット層と前記X線管のX
    線出口窓の層との間に拡散層を設け、前記陽極ターゲッ
    ト層のための支持部として作用させた請求項6に記載の
    X線管。
JP5010113A 1992-01-27 1993-01-25 X線管 Pending JPH05283021A (ja)

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NL92200207:6 1992-01-27

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