JPH0527223A - Liquid crystal display device and manufacture of the same - Google Patents
Liquid crystal display device and manufacture of the sameInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、２枚の透明絶縁基板の
間に液晶層を設けて構成される液晶表示装置および液晶
表示装置の製造方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display device having a liquid crystal layer provided between two transparent insulating substrates and a method for manufacturing the liquid crystal display device.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来の液晶表示装置としては、例えば図
８に示すようなものがある。2. Description of the Related Art As a conventional liquid crystal display device, for example, there is one shown in FIG.
【０００３】すなわち、従来の液晶表示装置１は、次の
ようにして製造される。まず、２枚のガラス基板２の両
面にアルカリ溶出防止バリヤ膜３を塗布し、カラーフィ
ルタ４等を形成する。その上に透明導電膜５をスパッタ
リングによる真空薄膜プロセスで形成して画素のオン／
オフを行なえるようにし、その上を配向膜６で覆って、
２枚の基板を形成する。That is, the conventional liquid crystal display device 1 is manufactured as follows. First, the alkali elution preventing barrier film 3 is applied to both surfaces of the two glass substrates 2 to form the color filters 4 and the like. A transparent conductive film 5 is formed thereon by a vacuum thin film process by sputtering to turn on / off pixels.
So that it can be turned off, and cover it with an alignment film 6,
Two substrates are formed.
【０００４】その一方の基板の上に、液晶層７が均一の
寸法を保てるよう、数μｍ〜数十μｍのビーズ状プラス
チックまたは円筒状グラスファイバー等から成るスペー
サ８をランダムに配する。その上に、配向膜６が向き合
うようにして他方の基板を貼り合わせ、スペーサ８によ
り保たれた間隙に液晶を注入する。このようにしてでき
た１枚の液晶セルの両面に偏光膜９を形成して、液晶表
示装置１が構成されている。On one of the substrates, spacers 8 made of bead-shaped plastic or cylindrical glass fiber having a size of several μm to several tens of μm are randomly arranged so that the liquid crystal layer 7 can maintain a uniform size. Then, the other substrate is attached so that the alignment films 6 face each other, and liquid crystal is injected into the gap maintained by the spacer 8. The liquid crystal display device 1 is configured by forming the polarizing films 9 on both surfaces of one liquid crystal cell thus formed.
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来の技術では、以下の３つの問題点があった。However, such a conventional technique has the following three problems.
【０００６】すなわち、１．スペーサ８の大きさにバラ
ツキがあるため、スペーサ８の大きさに従って液晶層７
の厚さもパラツキ、液晶層７の厚さの均一化を図るうえ
で限界があった。２．スペーサ８は、最小でも１０〜１
５μｍの径を有するため、液晶層７をより薄くし、応答
性を良好にするうえで限界があった。３．スペーサ８は
配向膜６の上にランダムに投入されて配されるため、ス
ペーサ８により保たれた間隙内の液晶層７の配置もラン
ダムとなり、液晶層７の精度を改善する上で限界があっ
た。That is, 1. Since there is variation in the size of the spacers 8, the liquid crystal layer 7 can be formed according to the size of the spacers 8.
The thickness of the liquid crystal layer also varied, and there was a limit in achieving uniform thickness of the liquid crystal layer 7. 2. Spacer 8 is at least 10-1
Since it has a diameter of 5 μm, there is a limit in making the liquid crystal layer 7 thinner and improving the response. 3. Since the spacers 8 are randomly placed on the alignment film 6 and arranged, the arrangement of the liquid crystal layer 7 in the gap held by the spacers 8 is also random, and there is a limit in improving the accuracy of the liquid crystal layer 7. It was
【０００７】本発明は、このような従来の技術が有する
問題点に着目してなされたもので、液晶層の厚さの均一
化を図り、また、液晶層をより薄くして応答性を良好に
し、さらに、液晶層の配置を正確にして液晶層の精度を
改善することができるようにした液晶表示装置および液
晶表示装置の製造方法を提供することを目的としてい
る。The present invention has been made by paying attention to the problems of the prior art as described above. The thickness of the liquid crystal layer is made uniform, and the liquid crystal layer is made thinner to improve the responsiveness. Further, it is an object of the present invention to provide a liquid crystal display device and a method for manufacturing the liquid crystal display device, which are capable of improving the accuracy of the liquid crystal layer by accurately arranging the liquid crystal layer.
【０００８】[0008]
【課題を解決するための手段】かかる目的を達成するた
めの本発明の要旨とするところは、
１ ２枚の対面する透明絶縁基板と、各透明絶縁基板の
間に挟まれた２枚の透明導電膜と、各透明導電膜の間に
挟まれ、分散して形成された酸化膜スペーサと、各透明
導電膜の間に挟まれて、各酸化膜スペーサの間隙に形成
された液晶層とを有することを、特徴とする液晶表示装
置。The gist of the present invention for achieving the above object is to provide 12 transparent insulating substrates facing each other and two transparent insulating substrates sandwiched between the transparent insulating substrates. The conductive film, the oxide film spacers formed by being dispersed between the transparent conductive films, and the liquid crystal layer formed between the transparent conductive films and formed in the gaps between the oxide film spacers are formed. A liquid crystal display device having.
【０００９】２ 各透明絶縁基板は、可撓性の透明プラ
スチックから構成されることを特徴とする１項記載の液
晶表示装置。2. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein each transparent insulating substrate is made of flexible transparent plastic.
【００１０】３ 透明絶縁基板の一方の面上に透明導電
膜を形成する工程と、前記透明絶縁基板をスペーサ用酸
化膜で絶縁被覆する工程と、前記スペーサ用酸化膜の所
定部分にマスクを形成する工程と、前記スペーサ用酸化
膜の非マスク部分をエッチング処理により除去し、酸化
膜スペーサを形成する工程と、前記マスクを除去する工
程と、前記酸化膜スペーサの間隙に液晶層を注入する工
程と、他の透明絶縁基板を、前記透明導電膜を内側にし
て前記酸化膜スペーサおよび前記液晶層の上に配置する
工程とを有することを、特徴とする液晶表示装置の製造
方法。3. Forming a transparent conductive film on one surface of the transparent insulating substrate, insulatingly covering the transparent insulating substrate with a spacer oxide film, and forming a mask on a predetermined portion of the spacer oxide film. And a step of removing an unmasked portion of the spacer oxide film by etching to form an oxide film spacer, a step of removing the mask, and a step of injecting a liquid crystal layer into a gap between the oxide film spacers. And a step of disposing another transparent insulating substrate on the oxide film spacer and the liquid crystal layer with the transparent conductive film inside, and a method of manufacturing a liquid crystal display device.
【００１１】４ 透明絶縁基板の一方の面上に透明導電
膜を形成する工程と、前記透明導電膜の所定部分にマス
クを形成する工程と、前記透明導電膜の非マスク部分
に、酸化膜スペーサを成長させる工程と、前記マスクを
除去する工程と、前記酸化膜スペーサの間隙に液晶層を
注入する工程と、他の透明絶縁基板を、前記透明導電膜
を内側にして前記酸化膜スペーサおよび前記液晶層の上
に配置する工程とを有することを、特徴とする液晶表示
装置の製造方法に存する。4. A step of forming a transparent conductive film on one surface of the transparent insulating substrate, a step of forming a mask on a predetermined portion of the transparent conductive film, and an oxide film spacer on a non-masked portion of the transparent conductive film. , A step of removing the mask, a step of injecting a liquid crystal layer into the gap between the oxide film spacers, and another transparent insulating substrate with the transparent conductive film inside the And a step of disposing the liquid crystal layer on the liquid crystal layer.
【００１２】[0012]
【作用】酸化膜スペーサは、２枚の透明絶縁基板の間の
透明導電膜の間に挟まれ、液晶層のための間隙を形成す
る。酸化膜スペーサは、酸化膜で形成されるため、膜の
厚さの調整が容易である。酸化膜スペーサの厚さを均一
に調整することによって、液晶層の厚さの均一化を図る
ことができる。また、酸化膜スペーサは、酸化膜で形成
されるため、６μｍ程度まで薄いものを製造することが
できる。これに従って、液晶層をより薄いものとし、応
答性を良好にすることができる。The oxide film spacer is sandwiched between the transparent conductive films between the two transparent insulating substrates to form a gap for the liquid crystal layer. Since the oxide film spacer is formed of an oxide film, it is easy to adjust the film thickness. By uniformly adjusting the thickness of the oxide film spacer, the thickness of the liquid crystal layer can be made uniform. Further, since the oxide film spacer is formed of an oxide film, it is possible to manufacture a thin film spacer of about 6 μm. Accordingly, the liquid crystal layer can be made thinner and the response can be improved.
【００１３】さらに、酸化膜スペーサは、酸化膜で形成
されるため、マスクを用いれば、所定の位置に高い精度
で配置することができる。これにより、スペーサにより
保たれた間隙内の液晶層を所定の位置に配置することが
でき、液晶層の精度を改善することができる。Further, since the oxide film spacer is formed of an oxide film, it can be arranged at a predetermined position with high accuracy by using a mask. Thereby, the liquid crystal layer in the gap kept by the spacer can be arranged at a predetermined position, and the accuracy of the liquid crystal layer can be improved.
【００１４】透明絶縁基板が可撓性の透明プラスチック
から構成される場合には、曲げに対し丈夫な液晶表示装
置とすることができる。When the transparent insulating substrate is made of a flexible transparent plastic, the liquid crystal display device is durable against bending.
【００１５】液晶表示装置は、スペーサ用酸化膜の所定
部分にマスクを形成し、非マスク部分をエッチング処理
により除去することによって、酸化膜スペーサが形成さ
れるため、酸化膜スペーサを所定の位置に高い精度で配
置することができる。従って、液晶層を所定の位置に配
置することができ、液晶層の精度を改善することができ
る。In the liquid crystal display device, since the oxide film spacer is formed by forming a mask on a predetermined portion of the spacer oxide film and removing the non-masked portion by etching, the oxide film spacer is placed at a predetermined position. It can be arranged with high accuracy. Therefore, the liquid crystal layer can be arranged at a predetermined position, and the accuracy of the liquid crystal layer can be improved.
【００１６】液晶表示装置は、透明導電膜の所定部分に
マスクを形成し、透明導電膜の非マスク部分に酸化膜ス
ペーサを成長させることによって、酸化膜スペーサを形
成してもよい。In the liquid crystal display device, the oxide film spacer may be formed by forming a mask on a predetermined portion of the transparent conductive film and growing an oxide film spacer on a non-masked portion of the transparent conductive film.
【００１７】[0017]
【実施例】以下、図面に基づき本発明の各種実施例を説
明する。図１〜図６は本発明の第１実施例を示してい
る。図１に示すように、液晶表示装置１０は、２枚のガ
ラス基板１１ａ，１１ｂと、アルカリ溶出防止バリヤ膜
１２と、ブラックマトリクス１３と、カラーフィルタ１
４と、カラーフィルタ１４のオーバーコート１５と、透
明導電膜１６ａ，１６ｂと、配向膜１７と、酸化膜スペ
ーサ１８と、液晶層１９と、偏光膜２０と、薄膜トラン
ジスタ３０を構成するソース・ドレインメタル膜３１、
オーミック・コンタクト膜３２、エッチングストッパー
３３、キャリヤ膜３４、誘電膜３５およびゲート電極膜
３６とを有している。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Various embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. 1 to 6 show a first embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, the liquid crystal display device 10 includes two glass substrates 11 a and 11 b, an alkali elution preventing barrier film 12, a black matrix 13, and a color filter 1.
4, the overcoat 15 of the color filter 14, the transparent conductive films 16a and 16b, the alignment film 17, the oxide film spacer 18, the liquid crystal layer 19, the polarizing film 20, and the source / drain metal forming the thin film transistor 30. Membrane 31,
It has an ohmic contact film 32, an etching stopper 33, a carrier film 34, a dielectric film 35 and a gate electrode film 36.
【００１８】液晶表示装置１０は、以下の工程により製
造される。The liquid crystal display device 10 is manufactured by the following steps.
【００１９】１枚のガラス基板１１ａの両面に、ＳｉＯ
2 から成るアルカリ溶出防止バリヤ膜１２を塗布し焼結
して、透明絶縁基板２１ａを構成する。透明絶縁基板２
１ａの一方の面に、Ｃｒ等から成るブラックマトリクス
１３を蒸着し、その上からカラーフィルタ１４を印刷す
る。さらに、カラーフィルタ１４の上に、アクリルやウ
レタン樹脂のオーバーコート１５を形成する。On both sides of one glass substrate 11a, SiO
The alkali elution preventing barrier film 12 made of 2 is applied and sintered to form the transparent insulating substrate 21a. Transparent insulating substrate 2
A black matrix 13 made of Cr or the like is vapor-deposited on one surface of 1a, and a color filter 14 is printed thereon. Further, an overcoat 15 of acrylic or urethane resin is formed on the color filter 14.
【００２０】透明絶縁基板２１ａのオーバーコート１５
の上に、ＩＴＯから成る透明導電膜１６ａをスパッタリ
ングによる真空薄膜プロセスで形成して画素のオン／オ
フを行なえるようにして、基板を形成する。透明導電膜
１６ａは、一方向の等間隔で平行のパターンとして形成
されて電極を構成し、端部に端子１６ｃを有する。Overcoat 15 on transparent insulating substrate 21a
A transparent conductive film 16a made of ITO is formed thereon by a vacuum thin film process by sputtering so that the pixels can be turned on / off, and a substrate is formed. The transparent conductive film 16a is formed as a parallel pattern at equal intervals in one direction to form an electrode, and has a terminal 16c at the end.
【００２１】基板の上をスペーサ用酸化膜１８ａで絶縁
被覆する。スペーサ用酸化膜１８ａは、６μｍの厚さの
シリコン酸化膜により構成される。図４に示すように、
スペーサ用酸化膜１８ａの上にネガ形フォトレジスト２
２を形成する。図２、図５および図６に示すように、ネ
ガ形フォトレジスト２２の上の所定部分にフォトマスク
２３を形成する。フォトマスク２３の位置は、図６の平
面図に示すように、製造される液晶表示装置１０の各電
極が囲む中心位置であり、フォトマスク２３は、規則的
に配される。The substrate is insulation-coated with a spacer oxide film 18a. The spacer oxide film 18a is formed of a silicon oxide film having a thickness of 6 μm. As shown in FIG.
A negative photoresist 2 is formed on the spacer oxide film 18a.
Form 2. As shown in FIGS. 2, 5 and 6, a photomask 23 is formed on a predetermined portion of the negative photoresist 22. As shown in the plan view of FIG. 6, the position of the photomask 23 is a central position surrounded by each electrode of the manufactured liquid crystal display device 10, and the photomasks 23 are regularly arranged.
【００２２】ネガ形フォトレジスト２２に光照射する。
露光後、現像して、フォトマスク２３で覆われたネガ形
フォトレジスト２２を除去する。露光した所定部分に
は、フォトレジスト２２がマスクとして残る。The negative photoresist 22 is irradiated with light.
After exposure, development is performed to remove the negative photoresist 22 covered with the photomask 23. The photoresist 22 remains as a mask on the exposed predetermined portion.
【００２３】エッチング処理すると、図３に示すよう
に、ネガ形フォトレジスト２２により覆われないスペー
サ用酸化膜１８ａの非マスク部分が除去され、残ったス
ペーサ用酸化膜１８ａは、酸化膜スペーサ１８を形成す
る。酸化膜スペーサ１８は、フォトマスク２３の位置に
従って、等間隔で、一定寸法に形成される。基板を洗浄
して、マスクとしたフォトレジスト２２を除去する。酸
化膜スペーサ１８の間隙に配向膜１７を形成し、その上
から液晶層１９を注入する。As shown in FIG. 3, the etching process removes the non-masked portion of the spacer oxide film 18a which is not covered by the negative photoresist 22, and the remaining spacer oxide film 18a is converted into the oxide film spacer 18. Form. The oxide film spacers 18 are formed at regular intervals according to the position of the photomask 23 and at a constant size. The substrate is washed to remove the photoresist 22 used as a mask. The alignment film 17 is formed in the gap between the oxide film spacers 18, and the liquid crystal layer 19 is injected from above.
【００２４】次に、１枚のガラス基板１１ｂの両面に、
アルカリ溶出防止バリヤ膜１２を塗布し焼結して、他の
透明絶縁基板２１ｂを準備する。透明絶縁基板２１ｂの
一方の面の一部に、ゲート電極膜３６を形成する。ゲー
ト電極膜３６を覆って、アルカリ溶出防止バリヤ膜１２
の上にプラズマＣＶＤ装置を用いて誘電膜３５を形成す
る。Next, on both sides of one glass substrate 11b,
The alkali elution preventing barrier film 12 is applied and sintered to prepare another transparent insulating substrate 21b. The gate electrode film 36 is formed on a part of one surface of the transparent insulating substrate 21b. The barrier film 12 that prevents the alkali elution by covering the gate electrode film 36
A dielectric film 35 is formed on the above using a plasma CVD apparatus.
【００２５】透明絶縁基板２１ａの誘電膜３５の上に、
ＩＴＯから成る透明導電膜１６ｂをスパッタリングによ
り形成する。図６に示すように、透明導電膜１６ｂは、
一方向の等間隔で平行のパターンとして形成されて電極
を構成し、端部に端子１６ｃを有する。電極は、透明絶
縁基板２１ａの電極と直交するように配置される。On the dielectric film 35 of the transparent insulating substrate 21a,
The transparent conductive film 16b made of ITO is formed by sputtering. As shown in FIG. 6, the transparent conductive film 16b is
The electrodes are formed as parallel patterns at equal intervals in one direction, and have terminals 16c at the ends. The electrodes are arranged so as to be orthogonal to the electrodes of the transparent insulating substrate 21a.
【００２６】誘電膜３５を介してゲート電極膜３６の上
に、キャリヤ膜３４を形成し、その一部にエッチングス
トッパー３３を形成する。エッチングストッパー３３を
覆って、キャリヤ膜３４の上に、オーミック・コンタク
ト膜３２を形成する。オーミック・コンタクト膜３２の
上に、ソース・ドレインメタル膜３１を形成し、ソース
・ドレインメタル膜３１と透明導電膜１６ｂを覆って配
向膜１７を形成する。A carrier film 34 is formed on the gate electrode film 36 via the dielectric film 35, and an etching stopper 33 is formed on a part thereof. An ohmic contact film 32 is formed on the carrier film 34 so as to cover the etching stopper 33. A source / drain metal film 31 is formed on the ohmic contact film 32, and an alignment film 17 is formed so as to cover the source / drain metal film 31 and the transparent conductive film 16b.
【００２７】ソース・ドレインメタル膜３１と、オーミ
ック・コンタクト膜３２と、エッチングストッパー３３
と、キャリヤ膜３４と、誘電膜３５と、ゲート電極膜３
６とは、薄膜トランジスタ３０を構成している。A source / drain metal film 31, an ohmic contact film 32, and an etching stopper 33.
, Carrier film 34, dielectric film 35, and gate electrode film 3
6 constitutes a thin film transistor 30.
【００２８】この準備した他の透明絶縁基板２１ｂを、
透明絶縁基板２１ａの酸化膜スペーサ１８および液晶層
１９の上に配置し、透明導電膜１６ａ，１６ｂを内側に
して貼り合せる。製造された液晶セルの両面に偏光膜２
０を形成して、液晶表示装置１０が構成される。The other transparent insulating substrate 21b thus prepared is
It is arranged on the oxide film spacer 18 and the liquid crystal layer 19 of the transparent insulating substrate 21a, and the transparent conductive films 16a and 16b are attached inside so as to be bonded. Polarizing films 2 on both sides of the manufactured liquid crystal cell
By forming 0, the liquid crystal display device 10 is configured.
【００２９】こうして製造された液晶表示装置１０で
は、２枚の透明絶縁基板２１ａ，２１ｂが対面して配置
され、２枚の透明導電膜１６ａ，１６ｂが各透明絶縁基
板２１ａ，２１ｂの間に挟まれている。各透明導電膜１
６ａ，１６ｂの間には、酸化膜スペーサ１８が挟まれ分
散して形成され、各透明導電膜１６ａ，１６ｂの間の各
酸化膜スペーサ１８の間隙に、液晶層１９が挟まれて形
成される。In the liquid crystal display device 10 thus manufactured, the two transparent insulating substrates 21a and 21b are arranged facing each other, and the two transparent conductive films 16a and 16b are sandwiched between the transparent insulating substrates 21a and 21b. Has been. Each transparent conductive film 1
Oxide film spacers 18 are sandwiched and formed between 6a and 16b, and a liquid crystal layer 19 is sandwiched and formed between the respective oxide film spacers 18 between the transparent conductive films 16a and 16b. .
【００３０】次に作用を説明する。図１において、酸化
膜スペーサ１８は、２枚の透明絶縁基板２１ａ，２１ｂ
の間の透明導電膜１６ａ，１６ｂの間に挟まれ、液晶層
１９のための間隙を形成する。酸化膜スペーサ１８は、
酸化膜で形成されるため、膜の厚さの調整が容易であ
る。酸化膜スペーサ１８の厚さを均一に調整することに
よって、液晶層１９の厚さの均一化を図ることができ
る。Next, the operation will be described. In FIG. 1, the oxide film spacer 18 includes two transparent insulating substrates 21a and 21b.
It is sandwiched between the transparent conductive films 16a and 16b between the two and forms a gap for the liquid crystal layer 19. The oxide film spacer 18 is
Since it is formed of an oxide film, it is easy to adjust the film thickness. By uniformly adjusting the thickness of the oxide film spacer 18, the thickness of the liquid crystal layer 19 can be made uniform.
【００３１】また、酸化膜スペーサ１８は、酸化膜で形
成されるため、６μｍ程度まで薄いものを製造すること
ができる。これに従って、液晶層１９をより薄いものと
し、応答性を良好にすることができる。Further, since the oxide film spacer 18 is formed of an oxide film, it is possible to manufacture a thin product having a thickness of about 6 μm. Accordingly, the liquid crystal layer 19 can be made thinner, and the response can be improved.
【００３２】さらに、液晶表示装置１０は、スペーサ用
酸化膜１８ａの所定部分にフォトレジスト２２のマスク
を形成し、非マスク部分をエッチング処理により除去す
ることによって、酸化膜スペーサ１８が形成されるた
め、酸化膜スペーサ１８を所定の位置に高い精度で配置
することができる。従って、スペーサ１８により保たれ
た間隙内の液晶層１９を所定の位置に配置することがで
き、液晶層１９の精度を改善することができる。これに
より、製造された液晶表示装置１０では、精度の高い表
示を行なうことができる。Further, in the liquid crystal display device 10, the oxide film spacer 18 is formed by forming the mask of the photoresist 22 on a predetermined portion of the spacer oxide film 18a and removing the unmasked portion by etching. The oxide film spacer 18 can be arranged at a predetermined position with high accuracy. Therefore, the liquid crystal layer 19 in the gap held by the spacer 18 can be arranged at a predetermined position, and the accuracy of the liquid crystal layer 19 can be improved. Thus, the manufactured liquid crystal display device 10 can perform highly accurate display.
【００３３】次に、本発明の第２実施例について説明す
る。本実施例では、液晶表示装置１０の他の構成を示す
ものである。第１実施例では、１枚のガラス基板１１
ａ，１１ｂの両面にアルカリ溶出防止バリヤ膜１２を塗
布して透明絶縁基板２１ａ，２１ｂを構成しているが、
本実施例では、透明絶縁基板４１を可撓性の透明プラス
チックから構成するものである。透明プラスチックは、
ポリエステル、ポリイミド等の高分子材である。Next, a second embodiment of the present invention will be described. In this embodiment, another configuration of the liquid crystal display device 10 is shown. In the first embodiment, one glass substrate 11
Although the alkali elution preventing barrier film 12 is applied to both surfaces of a and 11b to form the transparent insulating substrates 21a and 21b,
In this embodiment, the transparent insulating substrate 41 is made of flexible transparent plastic. Transparent plastic
It is a polymer material such as polyester or polyimide.
【００３４】ＩＣカードやカード型電卓、ポケットベル
等のように、かなり乱暴に取扱われる製品では、これら
に用いられる液晶表示装置がガラス基板を使っていたた
め、曲げの力が加わると液晶表示装置が破損しやすかっ
た。In products such as IC cards, card-type calculators, and pagers, which are handled roughly, the liquid crystal display devices used for these use glass substrates. It was easy to break.
【００３５】しかしながら、前記実施例の方法では、酸
化膜スペーサを細かく規則的に配置することができるた
め、透明絶縁基板４１を可撓性の薄く、比較的柔らかい
透明プラスチックにより構成しても、安定した液晶層を
形成することができる。従って、透明絶縁基板４１が可
撓性の透明プラスチックから構成される場合には、より
薄く、曲げに対し丈夫な液晶表示装置とすることができ
る。However, since the oxide film spacers can be finely and regularly arranged in the method of the above-described embodiment, even if the transparent insulating substrate 41 is made of a transparent and thin flexible plastic, it is stable. The liquid crystal layer can be formed. Therefore, when the transparent insulating substrate 41 is made of flexible transparent plastic, the liquid crystal display device can be thinner and more durable against bending.
【００３６】また、透明絶縁基板を可撓性の薄い透明プ
ラスチックから構成することにより、液晶表示装置の面
を平面のほか、凹面または凸面に曲げることが可能であ
り、例えば、図７に示すような透明絶縁基板４１を用い
て、超大型パネル画面に適した液晶表示装置を製造する
ことができる。By forming the transparent insulating substrate from a flexible thin transparent plastic, it is possible to bend the surface of the liquid crystal display device into a concave surface or a convex surface in addition to a flat surface. For example, as shown in FIG. By using such a transparent insulating substrate 41, a liquid crystal display device suitable for a super-large panel screen can be manufactured.
【００３７】次に、本発明の第３実施例について説明す
る。本実施例では、液晶表示装置の他の製造方法を示す
ものである。図１〜図３に示すように、第１実施例と同
様の透明絶縁基板を準備し、透明絶縁基板の一方の面上
に透明導電膜を形成する。次に、透明導電膜の所定部分
にネガ形フォトレジストのマスクを印刷により形成す
る。Next, a third embodiment of the present invention will be described. In this example, another method of manufacturing a liquid crystal display device is shown. As shown in FIGS. 1 to 3, a transparent insulating substrate similar to that of the first embodiment is prepared, and a transparent conductive film is formed on one surface of the transparent insulating substrate. Next, a negative photoresist mask is formed on a predetermined portion of the transparent conductive film by printing.
【００３８】ネガ形フォトレジストに光照射する。露光
した所定部分には、フォトレジストがマスクとして残
る。フォトレジストにより覆われない透明導電膜の非マ
スク部分に、酸化膜スペーサを成長させる。酸化膜スペ
ーサを形成後、フォトレジストのマスクを除去する。酸
化膜スペーサの間隙に、配向膜を形成し、その上から液
晶層を注入する。The negative photoresist is exposed to light. The photoresist remains as a mask on the exposed predetermined portion. An oxide film spacer is grown on the non-masked portion of the transparent conductive film that is not covered by the photoresist. After forming the oxide film spacers, the photoresist mask is removed. An alignment film is formed in the gap between the oxide film spacers, and a liquid crystal layer is injected from above.
【００３９】次に、第１実施例と同様の他の透明絶縁基
板を、透明導電膜を内側にして酸化膜スペーサおよび液
晶層の上に配置し、透明導電膜を内側にして、貼り合せ
る。製造された液晶セルの両面に偏光膜を形成して、液
晶表示装置が構成される。Next, another transparent insulating substrate similar to that of the first embodiment is placed on the oxide film spacer and the liquid crystal layer with the transparent conductive film inside, and is bonded with the transparent conductive film inside. A polarizing film is formed on both sides of the manufactured liquid crystal cell to form a liquid crystal display device.
【００４０】このように、液晶表示装置は、透明導電膜
の所定部分にマスクを形成し、透明導電膜の非マスク部
分に酸化膜スペーサを成長させることによって、酸化膜
スペーサ１８を形成してもよい。As described above, in the liquid crystal display device, the oxide film spacer 18 is formed by forming the mask on the predetermined portion of the transparent conductive film and growing the oxide film spacer on the non-masked portion of the transparent conductive film. Good.
【００４１】[0041]
【発明の効果】本発明にかかる液晶表示装置および液晶
表示装置の製造方法によれば、酸化膜スペーサが酸化膜
で形成され、膜の厚さの調整が容易なため、酸化膜スペ
ーサの厚さを均一に調整することによって、液晶層の厚
さの均一化を図ることができ、また、薄いものを製造す
ることができるため、液晶層をより薄いものとして応答
性を良好にすることができ、さらに、所定の位置に高い
精度で配置することができるため、スペーサにより保た
れた間隙内の液晶層の配置を正確にして液晶層の精度を
改善することができる。According to the liquid crystal display device and the method of manufacturing the liquid crystal display device of the present invention, since the oxide film spacer is formed of the oxide film and the thickness of the film can be easily adjusted, the thickness of the oxide film spacer can be easily adjusted. By uniformly adjusting the thickness of the liquid crystal layer, the thickness of the liquid crystal layer can be made uniform, and since a thin liquid crystal layer can be manufactured, the liquid crystal layer can be made thinner and good responsiveness can be achieved. Furthermore, since the liquid crystal layer can be arranged at a predetermined position with high accuracy, the liquid crystal layer can be arranged accurately in the gap held by the spacer, and the accuracy of the liquid crystal layer can be improved.
【図１】本発明の第１実施例の液晶表示装置を示す断面
図である。FIG. 1 is a cross-sectional view showing a liquid crystal display device of a first embodiment of the present invention.
【図２】本発明の第１実施例の液晶表示装置の製造工程
を示す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view showing the manufacturing process of the liquid crystal display device of the first embodiment of the present invention.
【図３】本発明の第１実施例の液晶表示装置の製造工程
を示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view showing a manufacturing process of the liquid crystal display device of the first embodiment of the present invention.
【図４】本発明の第１実施例の液晶表示装置の製造工程
を示す斜視図である。FIG. 4 is a perspective view showing a manufacturing process of the liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention.
【図５】本発明の第１実施例の液晶表示装置の製造工程
を示す斜視図である。FIG. 5 is a perspective view showing a manufacturing process of the liquid crystal display device of the first embodiment of the present invention.
【図６】本発明の第１実施例の液晶表示装置の製造工程
を示す平面図である。FIG. 6 is a plan view showing a manufacturing process of the liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention.
【図７】本発明の第２実施例の液晶表示装置で用いられ
る透明絶縁基板を示す斜視図である。FIG. 7 is a perspective view showing a transparent insulating substrate used in the liquid crystal display device according to the second embodiment of the present invention.
【図８】従来例の液晶表示装置を示す断面図である。FIG. 8 is a cross-sectional view showing a conventional liquid crystal display device.
１０…液晶表示装置 １１ａ，１１ｂ…ガラス基板 １６…透明導電膜 １７…配向膜 １８…酸化膜スペーサ １９…液晶層 ２０…偏光膜 ２１…透明絶縁基板 ３０…薄膜トランジスタ 10 ... Liquid crystal display device 11a, 11b ... Glass substrate 16 ... Transparent conductive film 17 ... Alignment film 18 ... Oxide film spacer 19 ... Liquid crystal layer 20 ... Polarizing film 21. Transparent insulating substrate 30 ... Thin film transistor
Claims (4)
スペーサと、 各透明導電膜の間に挟まれて、各酸化膜スペーサの間隙
に形成された液晶層とを有することを、 特徴とする液晶表示装置。1. A pair of transparent insulating substrates facing each other, two transparent conductive films sandwiched between the transparent insulating substrates, and an oxide formed by being dispersed between the transparent conductive films. A liquid crystal display device comprising a film spacer and a liquid crystal layer sandwiched between the respective transparent conductive films and formed in a gap between the respective oxide film spacers.
ックから構成されることを特徴とする請求項１記載の液
晶表示装置。2. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein each transparent insulating substrate is made of flexible transparent plastic.
形成する工程と、 前記透明絶縁基板をスペーサ用酸化膜で絶縁被覆する工
程と、 前記スペーサ用酸化膜の所定部分にマスクを形成する工
程と、 前記スペーサ用酸化膜の非マスク部分をエッチング処理
により除去し、酸化膜スペーサを形成する工程と、 前記マスクを除去する工程と、 前記酸化膜スペーサの間隙に液晶層を注入する工程と、 他の透明絶縁基板を、前記透明導電膜を内側にして前記
酸化膜スペーサおよび前記液晶層の上に配置する工程と
を有することを、 特徴とする液晶表示装置の製造方法。3. A step of forming a transparent conductive film on one surface of a transparent insulating substrate, a step of insulatingly coating the transparent insulating substrate with a spacer oxide film, and a mask on a predetermined portion of the spacer oxide film. A step of forming, a step of removing an unmasked portion of the spacer oxide film by an etching process to form an oxide film spacer, a step of removing the mask, and a liquid crystal layer being injected into a gap between the oxide film spacers. A method of manufacturing a liquid crystal display device, comprising: a step of arranging another transparent insulating substrate on the oxide film spacer and the liquid crystal layer with the transparent conductive film inside.
形成する工程と、 前記透明導電膜の所定部分にマスクを形成する工程と、 前記透明導電膜の非マスク部分に、酸化膜スペーサを成
長させる工程と、 前記マスクを除去する工程と、 前記酸化膜スペーサの間隙に液晶層を注入する工程と、 他の透明絶縁基板を、前記透明導電膜を内側にして前記
酸化膜スペーサおよび前記液晶層の上に配置する工程と
を有することを、 特徴とする液晶表示装置の製造方法。4. A step of forming a transparent conductive film on one surface of a transparent insulating substrate, a step of forming a mask on a predetermined portion of the transparent conductive film, and an oxide film on a non-masked portion of the transparent conductive film. A step of growing a spacer, a step of removing the mask, a step of injecting a liquid crystal layer into a gap between the oxide film spacers, another transparent insulating substrate with the transparent conductive film inside, and the oxide film spacer and And a step of disposing the liquid crystal layer on the liquid crystal layer.
Priority Applications (3)
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|---|---|---|---|
| JP16307791A JPH0527223A (en) | 1991-07-03 | 1991-07-03 | Liquid crystal display device and manufacture of the same |
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| AU22318/92A AU2231892A (en) | 1991-07-03 | 1992-07-03 | Liquid crystal display and method of manufacturing said display |
Applications Claiming Priority (1)
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Publications (1)
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Cited By (1)
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|---|---|---|---|---|
| US7900741B2 (en) | 2007-09-11 | 2011-03-08 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Torque tube |
Families Citing this family (1)
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Family Cites Families (4)
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| JPH0827457B2 (en) * | 1986-08-18 | 1996-03-21 | 富士通株式会社 | Method for forming spacer for gear of liquid crystal display panel |
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1992
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- 1992-07-03 WO PCT/JP1992/000842 patent/WO1993001517A1/en unknown
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| US7900741B2 (en) | 2007-09-11 | 2011-03-08 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Torque tube |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
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