JPH05271936A - Continuous arc ion plating device for sphere - Google Patents

Continuous arc ion plating device for sphere

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JPH05271936A
JPH05271936A JP10046592A JP10046592A JPH05271936A JP H05271936 A JPH05271936 A JP H05271936A JP 10046592 A JP10046592 A JP 10046592A JP 10046592 A JP10046592 A JP 10046592A JP H05271936 A JPH05271936 A JP H05271936A
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JP
Japan
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sphere
spheres
chamber
moving
ion plating
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Pending
Application number
JP10046592A
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Japanese (ja)
Inventor
Yasuo Ando
康男 安藤
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Kobe Steel Ltd
Original Assignee
Kobe Steel Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To coat a large amt. of spheres at a time by successively sending the spheres in a coating chamber and moving them under rotation with a moving device connected to a bias power source. CONSTITUTION:A first locked chamber 1, a coating chamber 2 and a second locked chamber 3 are evacuated to a prescribed pressure, process gas is introduced into the coating chamber 2 through a valve 11 and voltage is impressed between an evaporating source 15 and an anode 19 to carry out sputtering. Spheres housed in a takeout box 16 from the first locked chamber 1 are successively sent to a support member 34 connected to a bias power source through a sending mechanism 25 and the spheres are moved under rotation with a moving device 18. During this moving, the spheres are coated and then sent in a receiving box 17. A large amt. of spheres can be coated at a time.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、真空アーク放電を利用
して球体表面にコーティング膜を形成する球体用の連続
式アークイオンプレーティング装置に係わり、特に、多
量の球体を一度にコーティングすることができるものに
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a continuous arc ion plating apparatus for a sphere which forms a coating film on the surface of the sphere by utilizing a vacuum arc discharge, and particularly to coat a large number of spheres at once. About what you can do.

【0002】[0002]

【従来の技術】出願人は先に特願平3−91369にお
いて、図7に示される球体用のアークイオンプレーティ
ング装置を提案した。この球体用のアークイオンプレー
ティング装置を図7により説明する。
2. Description of the Related Art The applicant has previously proposed, in Japanese Patent Application No. 3-91369, an arc ion plating device for a sphere shown in FIG. The arc ion plating device for this sphere will be described with reference to FIG.

【0003】図7において、このアークイオンプレーテ
ィング装置のコーティング室51内には蒸発源52とテ
ーブル53が設けられている。蒸発源52はTi、Zr
等の金属ターゲットであり、アーク電源54に接続され
ている。テーブル53はローラ56上に移動自在に載置
された上側部材55とローラ58上に移動自在に載置さ
れた下側部材57とから構成されており、図示しない駆
動装置によって、上側部材55は紙面厚み方向に往復動
し、下側部材57はこれと直角方向に往復動するように
なっている。この上側部材55と下側部材57はdの間
隔で平行に配置されており、下側部材57はバイアス電
源59に接続されている。図8に示すように上側部材5
5には複数の収納孔55aが形成されており、球体Sを
この収納孔55aに装入すると、球体Sは収納孔55a
内から下方に突出して下側部材57と接触し、球体Sは
上側部材55の収納孔55aと下側部材57とで保持さ
れるようになっている。
In FIG. 7, an evaporation source 52 and a table 53 are provided in a coating chamber 51 of this arc ion plating apparatus. The evaporation source 52 is Ti, Zr
And the like, which are connected to the arc power supply 54. The table 53 is composed of an upper member 55 movably mounted on a roller 56 and a lower member 57 movably mounted on a roller 58. The upper member 55 is moved by a driving device (not shown). The lower member 57 reciprocates in the thickness direction of the plane of the drawing, and the lower member 57 reciprocates in the direction perpendicular thereto. The upper member 55 and the lower member 57 are arranged in parallel at an interval of d, and the lower member 57 is connected to the bias power source 59. As shown in FIG. 8, the upper member 5
5 has a plurality of storage holes 55a formed therein. When the sphere S is loaded into the storage hole 55a, the sphere S is stored in the storage hole 55a.
It projects downward from the inside and contacts the lower member 57, and the sphere S is held by the storage hole 55a of the upper member 55 and the lower member 57.

【0004】つぎに、上述したアークイオンプレーティ
ング装置の作動を説明する。上側部材55の収納孔55
aと下側部材57とで球体Sを保持したテーブル53を
コーティング室51内に搬入し、コーティング室51内
を真空引きする。高真空状態としたコーティング室51
内で、蒸発源52を陰極としてアーク放電を起こすと、
アークはターゲット表面上にアークスポットを形成す
る。そして、このアークスポットに集中するアーク電流
のエネルギにより、ターゲット材は瞬間的に溶融蒸発す
ると同時に金属イオンとなり、コーティング室51内に
飛び出す。一方、テーブル53に保持された球体Sは下
側部材57と接触しているため、球体Sにはバイアス電
圧が印加されている。そして、上側部材55を紙面厚み
方向に往復動させ、下側部材57をこれと直角方向に往
復動させると、球体Sは転動し、上側部材55の収納孔
55a内から上方に突出する球体Sの球面部分は順次交
替する。これにより、コーティング室51内に飛び出し
た金属イオンは、球体Sの表面にくまなく密着し、球体
Sの表面には均一なコーティング膜が形成される。
Next, the operation of the above-mentioned arc ion plating device will be described. Storage hole 55 of the upper member 55
The table 53 holding the sphere S by a and the lower member 57 is carried into the coating chamber 51, and the inside of the coating chamber 51 is evacuated. Coating chamber 51 in high vacuum
When an arc discharge is generated with the evaporation source 52 as a cathode,
The arc forms an arc spot on the target surface. Then, due to the energy of the arc current concentrated on this arc spot, the target material is instantaneously melted and vaporized, and at the same time, metal ions are formed and jump out into the coating chamber 51. On the other hand, since the sphere S held on the table 53 is in contact with the lower member 57, a bias voltage is applied to the sphere S. Then, when the upper member 55 is reciprocated in the thickness direction of the paper and the lower member 57 is reciprocated in the direction perpendicular thereto, the sphere S rolls and projects upward from the storage hole 55a of the upper member 55. The spherical portion of S alternates sequentially. As a result, the metal ions that have jumped out into the coating chamber 51 adhere closely to the surface of the sphere S, forming a uniform coating film on the surface of the sphere S.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】出願人が先に提案した
球体用のアークイオンプレーティング装置では、球体S
を上側部材55の収納孔55a内から下方に突出させる
ことによって、球体Sと下側部材57とを接触させ、球
体Sをバイアス電圧が印加された状態で転動させるもの
であるため、コーティングする球体Sの径が小さい場合
には、上側部材55と下側部材57の間隔dを微小なも
のとしなければならない。例えば、球体の径が10mm
である場合には、間隔dを1.5〜2mm程度とする必
要がある。このため、径の小さい球体Sを一度に多量に
(例えば、3000個)コーティングする場合には、上
側部材55と下側部材57は縦横に長いもの(例えば、
500mm×1000mm)となるが、そのときに全て
の球体Sを下側部材57と接触させ、球体Sをバイアス
電圧が印加された状態で転動させるためには、上側部材
55と下側部材57の平行度をかなり高精度のものとし
なければならない。従って、多量の球体Sを一度にコー
ティングすることには適していないという問題点を有し
ている。
SUMMARY OF THE INVENTION In the arc ion plating device for a sphere previously proposed by the applicant, the sphere S
Is projected downward from the storage hole 55a of the upper member 55 to bring the spherical member S and the lower member 57 into contact with each other and roll the spherical member S under a bias voltage. If the diameter of the sphere S is small, the distance d between the upper member 55 and the lower member 57 must be small. For example, the diameter of the sphere is 10 mm
In this case, it is necessary to set the distance d to about 1.5 to 2 mm. Therefore, when a large amount (for example, 3000 pieces) of spheres S each having a small diameter are coated at one time, the upper member 55 and the lower member 57 are long and horizontal (for example,
500 mm × 1000 mm), in order to bring all the spheres S into contact with the lower member 57 and roll the sphere S with the bias voltage applied, the upper member 55 and the lower member 57 The parallelism of must be fairly accurate. Therefore, there is a problem that it is not suitable for coating a large amount of spheres S at one time.

【0006】本発明は、従来の技術の有するこのような
問題点に鑑みてなされたものであり、その目的とすると
ころは、多量の球体を一度にコーティングすることがで
きる球体用の連続式アークイオンプレーティング装置を
提供しようとするものである。
The present invention has been made in view of the above problems of the prior art, and an object of the present invention is to provide a continuous arc for a sphere capable of coating a large number of spheres at once. It is intended to provide an ion plating device.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記目的を解決するため
に、本発明の球体用の連続式アークイオンプレーティン
グ装置は、球体を順次送り出す送出機構と、送出機構か
ら送り出された球体を転動させながら移動させるバイア
ス電源に接続された球体移動装置とを真空室内に備えた
ものである。
In order to solve the above-mentioned problems, a continuous arc ion plating apparatus for a sphere according to the present invention has a delivery mechanism for sequentially delivering spheres, and a sphere delivered by the delivery mechanism. And a sphere moving device connected to a bias power source for moving while moving in a vacuum chamber.

【0008】また、前記球体移動装置に球体の回転軸を
ずらせる変換部材を設けることもできる。
Further, the sphere moving device may be provided with a conversion member for shifting the rotation axis of the sphere.

【0009】[0009]

【作用】送出機構によって順次送り出される球体は、球
体移動装置によってバイアス電圧が印加された状態で転
動しながら移動し、この移動の間に球体に対してコーテ
ィングが行われる。
The spheres sequentially delivered by the delivery mechanism move while rolling while the bias voltage is applied by the sphere moving device, and the spheres are coated during this movement.

【0010】また、球体移動装置に球体の回転軸をずら
せる変換部材を設けると、コーティング可能領域に現れ
る球体の球面部分は順次交替し、金属イオンは球体の表
面にくまなく密着する。
Further, when the sphere moving device is provided with a conversion member for displacing the rotation axis of the sphere, the spherical portions of the sphere appearing in the coatable region are sequentially replaced, and the metal ions are intimately adhered to the surface of the sphere.

【0011】[0011]

【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照しつつ説
明する。図1は本発明の球体用の連続式アークイオンプ
レーティング装置の模式図、図2はコーティング室の断
面図、図3は送出機構の断面図、図4は球体移動装置を
示す図、図5は図4のA−A断面図、図6は図4のB−
B断面図である。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic diagram of a continuous arc ion plating device for spheres of the present invention, FIG. 2 is a sectional view of a coating chamber, FIG. 3 is a sectional view of a delivery mechanism, FIG. 4 is a diagram showing a sphere moving device, and FIG. 4 is a sectional view taken along the line AA in FIG. 4, and FIG.
It is a B sectional view.

【0012】図1において、この球体用の連続式アーク
イオンプレーティング装置は第1ロック室1、コーティ
ング室2及び第2ロック室3を開閉自在なゲートバルブ
4、5を介して連結したものであり、第1ロック室1の
搬入側と第2ロック室3の搬出側にも開閉自在なゲート
バルブ6、7が設けられている。各室1、2、3には排
気ポンプ8、9、10が接続されており、各室1、2、
3内を所定圧まで真空引きすることができるようになっ
ている。また、コーティング室2にはガス導入バルブ1
1が接続されており、コーティング室2内にN2 、CH
4 等のプロセスガスを供給することができるようになっ
ている。
In FIG. 1, the continuous arc ion plating device for a sphere is formed by connecting a first lock chamber 1, a coating chamber 2 and a second lock chamber 3 through openable and closable gate valves 4 and 5. Also, gate valves 6 and 7 that can be opened and closed are provided on the carry-in side of the first lock chamber 1 and the carry-out side of the second lock chamber 3 as well. Exhaust pumps 8, 9 and 10 are connected to the chambers 1, 2 and 3, respectively.
The inside of 3 can be evacuated to a predetermined pressure. In addition, a gas introduction valve 1 is provided in the coating chamber 2.
1 is connected to the inside of the coating chamber 2 for N 2 and CH.
Process gas such as 4 can be supplied.

【0013】図1乃至図3に示すように、コーティング
室2内には蒸発源15と、取出ボックス16と、受入ボ
ックス17と、球体移動装置18とが設けられている。
蒸発源15はTi、Zr等の金属ターゲットであり、蒸
発源(陰極)15の相手となる陽極19と共にアーク電
源20に接続されている。取出ボックス16はゲートバ
ルブ4を開くことによって第1ロック室1から搬入され
る球体Sを収納するようになっており、下部に送出機構
25を備えている。この送出機構25は、保持孔26a
を有する搬出回転盤26を箱体27内に回転可能に具設
したものであり、図示しない駆動装置によりこの搬出回
転盤26を回転させると、取出ボックス16内の球体S
は搬出回転盤26によって順次取り出され、球体移動装
置18に送り出されるようになっている。受入ボックス
17は球体移動装置18によって順次運び込まれる球体
Sを収納するようになっており、この受入ボックス17
内に収納された球体Sは、ゲートバルブ6を開くことに
よって第2ロック室に搬出することができるようになっ
ている。
As shown in FIGS. 1 to 3, an evaporation source 15, an extraction box 16, a receiving box 17, and a sphere moving device 18 are provided in the coating chamber 2.
The evaporation source 15 is a metal target such as Ti or Zr, and is connected to an arc power source 20 together with an anode 19 which is a partner of the evaporation source (cathode) 15. The take-out box 16 is adapted to accommodate the sphere S carried in from the first lock chamber 1 by opening the gate valve 4, and has a delivery mechanism 25 at its lower part. This delivery mechanism 25 has a holding hole 26a.
Is a rotatably mounted unloading rotary disk 26 in a box 27. When the unloading rotary disk 26 is rotated by a drive device (not shown), the sphere S in the unloading box 16 is rotated.
Are sequentially taken out by the carry-out rotary disk 26 and sent to the sphere moving device 18. The receiving box 17 is adapted to house the spheres S sequentially carried by the sphere moving device 18.
The sphere S stored inside can be carried out to the second lock chamber by opening the gate valve 6.

【0014】図4乃至図6に示すように、球体移動装置
18は、傾斜部30と、案内部31と、固定部32とか
らなる固定ガイド29を多層状に傾斜配置したガイド部
材28と、バイアス電源33に接続された支持部材34
と、移動コンベア35とから構成されており、横移動部
Xと縦移動部Yを有している。支持部材34は下部Dか
ら上部Eに向かってつる巻き状に形成された一体物であ
り(図1参照)、横移動部Xにおいて固定ガイド29の
固定部32の端部に固着されている。移動コンベア35
は平板部40と円筒部41とからなる保持部材39を連
結部材42で無端環状に連結したものであり、保持部材
39の平板部40には球体Sを球体Sの下部が下方に突
出するように保持する保持孔40aが設けられている。
この移動コンベア35の保持部材39は、上部Eにおい
て、送出機構25によって送り出された取出ボックス1
6内の球体Sを受け取ることができるようになってお
り、駆動ローラ43を回転させることによって、この受
け取った球体Sを平板部40の保持孔40aで保持した
状態で、横移動部Xと縦移動部Yを交互に通って下部D
まで移動することができるようになっている。そして、
この保持部材39の下部Dに向かう移動は、平板部40
が支持部材34上を摺動し、円筒部41が固定ガイド2
9の案内部31内を進行することによって行われるよう
になっており(円筒部41の案内部31内の進行は横移
動部Xのみ)、このとき、球体Sは、縦移動部Yでは下
部が支持部材34と接触してG線を中心軸として転動し
ながら移動し、横移動部Xでは側部が固定ガイド29の
傾斜部30とも接触してF線を中心軸として転動しなが
ら移動するようになっている。そして、下部Dに達した
移動コンベア35の保持部材39は、傾斜する等して球
体Sを受入ボックス17内に放出し、図示しないローラ
に案内されて上部Eに循環するようになっている。
As shown in FIGS. 4 to 6, the sphere moving device 18 includes a guide member 28 in which a fixed guide 29 including an inclined portion 30, a guide portion 31, and a fixed portion 32 is arranged in a multilayered manner. Support member 34 connected to bias power supply 33
And a moving conveyor 35, and has a horizontal moving section X and a vertical moving section Y. The support member 34 is an integral member formed in a spiral shape from the lower portion D to the upper portion E (see FIG. 1), and is fixed to the end of the fixed portion 32 of the fixed guide 29 at the lateral movement portion X. Moving conveyor 35
Is a holding member 39 composed of a flat plate portion 40 and a cylindrical portion 41 connected in an endless annular shape by a connecting member 42. The flat portion 40 of the holding member 39 has a spherical body S so that the lower portion of the spherical body S projects downward. Is provided with a holding hole 40a.
The holding member 39 of the moving conveyor 35 is provided on the upper part E by the take-out box 1 sent by the sending mechanism 25.
The sphere S in 6 can be received. By rotating the drive roller 43, the sphere S thus received is held by the holding hole 40a of the flat plate portion 40, and the sphere S and the horizontal moving portion X are vertically moved. Alternately pass through the moving part Y and the lower part D
You can move up to. And
The movement of the holding member 39 toward the lower portion D is performed by the flat plate portion 40.
Slides on the support member 34, and the cylindrical portion 41 moves to the fixed guide 2
9 is carried out by advancing in the guide part 31 (the cylindrical part 41 is advancing in the guide part 31 only in the lateral movement part X), and at this time, the sphere S is lower in the longitudinal movement part Y. Moves in contact with the support member 34 while rolling around the G line, and in the laterally moving portion X, the side part also contacts the inclined portion 30 of the fixed guide 29 while rolling around the F line as a central axis. It is designed to move. Then, the holding member 39 of the moving conveyor 35 that has reached the lower portion D discharges the sphere S into the receiving box 17 by inclining or the like, and is guided by a roller (not shown) to circulate to the upper portion E.

【0015】つぎに、上述した構造の球体用の連続式ア
ークイオンプレーティング装置の作動を説明する。第1
ロック室1に大気を導入して第1ロック室1を大気状態
とし、ゲートバルブ6を開く。そして、第1ロック室1
内に球体Sを搬入し、ゲートバルブ6を閉じる。そし
て、第1ロック室1を排気ポンプ8で所定圧まで真空引
きする。つぎに、ゲートバルブ4を開いて球体Sをコー
ティング室2内の取出ボックス16内に搬入し、ゲート
バルブ4を閉じる。そして、コーティング室2を排気ポ
ンプ9で高真空状態となるまで真空引きする。高真空状
態としたコーティング室2内で蒸発源15を陰極として
アーク放電を起こすと、ターゲット材は瞬間的に溶融蒸
発すると同時に金属イオンとなり、コーティング室2内
に飛び出す。また、ガス導入バルブ11からN2 、CH
4 等のプロセスガスをコーティング室2内に供給する。
Next, the operation of the continuous arc ion plating device for spheres having the above structure will be described. First
Atmosphere is introduced into the lock chamber 1 to bring the first lock chamber 1 into the atmospheric state, and the gate valve 6 is opened. And the first lock chamber 1
The sphere S is loaded into the inside, and the gate valve 6 is closed. Then, the first lock chamber 1 is evacuated to a predetermined pressure by the exhaust pump 8. Next, the gate valve 4 is opened, the sphere S is carried into the extraction box 16 in the coating chamber 2, and the gate valve 4 is closed. Then, the coating chamber 2 is evacuated by the exhaust pump 9 until it becomes a high vacuum state. When an arc discharge is generated in the coating chamber 2 in a high vacuum state with the evaporation source 15 as a cathode, the target material is instantaneously melted and vaporized, and at the same time metal ions are formed, which jumps out into the coating chamber 2. In addition, from the gas introduction valve 11 to N 2 , CH
A process gas such as 4 is supplied into the coating chamber 2.

【0016】一方、送出機構25と移動コンベア35を
作動させると、取出ボックス16内に搬入された球体S
は送出機構25によって順次取り出され、移動コンベア
35に送り出される。移動コンベア35の保持部材39
はこの球体Sを受け取り、球体Sを平板部40の保持孔
40aで保持した状態で、横移動部Xと縦移動部Yを交
互に通って下部Dに向かって移動する。このとき、球体
Sは、下部が支持部材34と接触しながら移動するた
め、球体Sにはバイアス電圧が印加される。また、球体
Sは、縦移動部YではG線を中心軸として転動しながら
移動し、横移動部XではF線を中心軸として転動しなが
ら移動する。このため、球体Sの中心軸はつぎつぎと変
わり、保持部材39の平板部40の保持孔40a内から
上方に突出する球体Sの球面部分は順次交替する。その
結果、コーティング室2内に飛び出した金属イオンは、
プロセスガス粒子とともに球体Sの表面にくまなく密着
し、球体Sの表面には均一なコーティング膜が形成され
る。そして、このようにして表面にコーティング膜が形
成された球体Sは、下部Dで受入ボックス17内に放出
される。
On the other hand, when the delivery mechanism 25 and the moving conveyor 35 are operated, the sphere S carried in the take-out box 16 is loaded.
Are sequentially taken out by the sending mechanism 25 and sent to the moving conveyor 35. Holding member 39 for moving conveyor 35
Receives the sphere S, and in a state where the sphere S is held by the holding hole 40a of the flat plate portion 40, the sphere S moves through the lateral movement portion X and the vertical movement portion Y alternately toward the lower portion D. At this time, since the lower part of the sphere S moves in contact with the support member 34, a bias voltage is applied to the sphere S. Further, the spherical body S moves while rolling around the G line as a central axis in the vertical moving section Y, and moves while rolling around the F line as a central axis in the horizontal moving section X. Therefore, the central axis of the sphere S is changed one after another, and the spherical portion of the sphere S protruding upward from the holding hole 40a of the flat plate portion 40 of the holding member 39 is sequentially replaced. As a result, the metal ions jumping out into the coating chamber 2 are
The process gas particles adhere to the surface of the sphere S thoroughly, and a uniform coating film is formed on the surface of the sphere S. The sphere S having the coating film formed on the surface in this manner is discharged into the receiving box 17 at the lower portion D.

【0017】取出ボックス16内に搬入された全ての球
体Sに対するコーティング作業が終了すると、ゲートバ
ルブ5を開く。そして、受入ボックス17内に収納され
たコーティング済の球体Sを第2ロック室3に搬出し、
ゲートバルブ5を閉じる。第2ロック室3は排気ポンプ
10で所定圧まで真空引きされており、この第2ロック
室3内でコーティング済の球体Sの冷却を行う。この
間、コーティング室2内では、新たに第1ロック室1か
ら取出ボックス16内に搬入された球体Sに対してコー
ティング作業が行われている。第2ロック室3での冷却
が終了すると、第2ロック室3に大気を導入して第2ロ
ック室3を大気状態とする。そして、ゲートバルブ7を
開いてコーティング済の球体Sを機外に搬出し、ゲート
バルブ7を閉じて第2ロック室3を所定圧まで真空引き
して全工程が終了する。このように、取出ボックス16
内に搬入された球体Sを、送出機構25によって順次取
り出し、球体移動装置18によってバイアス電圧が印加
された状態で受入ボックス17に向かって転動させなが
ら移動させ、この移動の間に球体Sに対してコーティン
グを行うものであるため、取出ボックス16内に搬入さ
れた球体Sの量にかかわらず、全ての球体Sを同じ条件
でコーティングすることができるようになる。従って、
取出ボックス16内に多量の球体Sを搬入することが可
能となり、多量の球体Sを一度にコーティングすること
ができるようになる。また、球体Sは、中心軸をつぎつ
ぎに変えながら支持部材34上で転動し、保持部材39
の平板部40の保持孔40a内から上方に突出する球体
Sの球面部分は順次交替するため、球体Sの表面には均
一なコーティング膜が形成される。
When the coating work for all the spheres S carried into the take-out box 16 is completed, the gate valve 5 is opened. Then, the coated sphere S stored in the receiving box 17 is carried out to the second lock chamber 3,
The gate valve 5 is closed. The second lock chamber 3 is evacuated to a predetermined pressure by the exhaust pump 10, and the coated spherical body S is cooled in the second lock chamber 3. During this time, in the coating chamber 2, the coating work is performed on the sphere S that has been newly loaded into the take-out box 16 from the first lock chamber 1. When the cooling in the second lock chamber 3 is completed, the atmosphere is introduced into the second lock chamber 3 to bring the second lock chamber 3 into the atmospheric state. Then, the gate valve 7 is opened to carry out the coated sphere S to the outside of the machine, the gate valve 7 is closed and the second lock chamber 3 is evacuated to a predetermined pressure to complete the whole process. In this way, the take-out box 16
The spheres S carried in are sequentially taken out by the delivery mechanism 25, and are moved while rolling toward the receiving box 17 while the bias voltage is applied by the sphere moving device 18, and the spheres S are moved to the sphere S during this movement. Since the coating is performed on all the spheres S, it is possible to coat all the spheres S under the same conditions regardless of the amount of the spheres S carried into the take-out box 16. Therefore,
A large amount of spheres S can be carried into the take-out box 16, and a large amount of spheres S can be coated at one time. Further, the sphere S rolls on the support member 34 while changing the central axis one after another, and the holding member 39
Since the spherical portion of the sphere S protruding upward from the inside of the holding hole 40a of the flat plate portion 40 is alternately replaced, a uniform coating film is formed on the surface of the sphere S.

【0018】なお、上記実施例で示したアークイオンプ
レーティング装置は、真空引き、コーティング、冷却の
各工程を行う専用のチャンバ(室)を複数連結し、これ
らのチャンバに球体を順次送り込むことによって連続的
に処理を行うインライン式といわれるものであるが、全
工程を1室のみで行うバッチ式といわれるものにも同様
に適用することができ、上記したインライン式のものと
同様の効果を奏する。
In the arc ion plating apparatus shown in the above embodiment, a plurality of dedicated chambers (chambers) for carrying out the steps of vacuuming, coating and cooling are connected, and spheres are sequentially fed into these chambers. Although it is said to be an in-line type that performs continuous processing, it can be similarly applied to what is called a batch type in which all processes are performed in only one chamber, and the same effects as those of the in-line type described above are obtained. ..

【0019】さらに、上記実施例では、インライン式ア
ークイオンプレーティング装置の中でも基本形であると
ころのコーティング室の前後にロック室を配置した3室
形のものについて説明したが、第1ロック室とコーティ
ング室の間に予熱室を配置したり、コーティング室を2
室配置したりした4室形、5室形のもの、また、ロック
室とコーティング室だけの2室形のもの等にも同様に適
用することができ、上記実施例と同様の効果を奏する。
Further, in the above-described embodiment, the three-chamber type in which the lock chambers are arranged before and after the coating chamber, which is the basic type among the in-line type arc ion plating devices, has been described. A preheating chamber is placed between the chambers, or there are two coating chambers.
The present invention can be similarly applied to a four-chamber type, a five-chamber type having a chamber arrangement, a two-chamber type having only a lock chamber and a coating chamber, and the same effects as those of the above-described embodiment can be obtained.

【0020】[0020]

【発明の効果】本発明は、上述のとおり構成されている
ので以下に記載する効果を奏する。送出機構によって順
次送り出される球体は、球体移動装置によってバイアス
電圧が印加された状態で転動しながら移動し、この移動
の間に球体に対してコーティングが行われる。このた
め、送出機構によって送り出される球体の量にかかわら
ず、全ての球体を同じ条件でコーティングすることが可
能となり、多量の球体を一度にコーティングすることが
できるようになる。
Since the present invention is configured as described above, it has the following effects. The spheres sequentially delivered by the delivery mechanism move while rolling while the bias voltage is applied by the sphere moving device, and the spheres are coated during this movement. Therefore, regardless of the amount of spheres delivered by the delivery mechanism, all spheres can be coated under the same conditions, and a large number of spheres can be coated at once.

【0021】また、球体移動装置に球体の回転軸をずら
せる変換部材を設けると、コーティング可能領域に現れ
る球体の球面部分は順次交替し、金属イオンは球体の表
面にくまなく密着するため、球体の表面には均一なコー
ティング膜が形成される。
Further, when a conversion member for shifting the rotation axis of the sphere is provided in the sphere moving device, the spherical portions of the sphere appearing in the coatable area are sequentially replaced, and the metal ions are closely attached to the surface of the sphere. A uniform coating film is formed on the surface of the.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の球体用の連続式アークイオンプレーテ
ィング装置の模式図である。
FIG. 1 is a schematic view of a continuous arc ion plating device for spheres of the present invention.

【図2】コーティング室の断面図である。FIG. 2 is a sectional view of a coating chamber.

【図3】送出機構の断面図である。FIG. 3 is a sectional view of a delivery mechanism.

【図4】球体移動装置を示した図である。FIG. 4 is a view showing a sphere moving device.

【図5】図4のA−A断面図である。5 is a cross-sectional view taken along the line AA of FIG.

【図6】図4のB−B断面図である。6 is a sectional view taken along line BB of FIG.

【図7】従来のアークイオンプレーティング装置の模式
図である。
FIG. 7 is a schematic diagram of a conventional arc ion plating apparatus.

【図8】従来のアークイオンプレーティング装置のテー
ブルの断面図である。
FIG. 8 is a sectional view of a table of a conventional arc ion plating apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 第1ロック室 2 コーティング室(真空室) 3 第2ロック室 15 蒸発源 16 取出ボックス 17 受入ボックス 18 球体移動装置 20 アーク電源 25 送出機構 28 ガイド部材 30 傾斜部(変換部材) 33 バイアス電源 34 支持部材 35 移動コンベア S 球体 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 1st lock chamber 2 Coating chamber (vacuum chamber) 3 2nd lock chamber 15 Evaporation source 16 Extraction box 17 Receiving box 18 Sphere moving device 20 Arc power supply 25 Sending mechanism 28 Guide member 30 Inclination part (converting member) 33 Bias power supply 34 Support member 35 Moving conveyor S Sphere

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 球体を順次送り出す送出機構と、送出機
構から送り出された球体を転動させながら移動させるバ
イアス電源に接続された球体移動装置とを真空室内に備
えてなることを特徴とする球体用の連続式アークイオン
プレーティング装置。
1. A sphere comprising a delivery mechanism for sequentially delivering spheres, and a sphere moving device connected to a bias power source for moving the sphere delivered from the delivery mechanism while rolling the sphere. Continuous arc ion plating device.
【請求項2】 前記球体移動装置に球体の回転軸をずら
せる変換部材を設けたことを特徴とする請求項1記載の
球体用の連続式アークイオンプレーティング装置。
2. The continuous arc ion plating device for a sphere according to claim 1, wherein the sphere moving device is provided with a conversion member for shifting a rotation axis of the sphere.
JP10046592A 1992-03-25 1992-03-25 Continuous arc ion plating device for sphere Pending JPH05271936A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10340703A1 (en) * 2003-09-04 2005-03-31 Schott Ag Device for vacuum coating substrates used in the production of optoelectronic components comprises a falling and ejecting path for the substrates, and a unit for vacuum coating the substrates during falling and ejecting along the path

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10340703A1 (en) * 2003-09-04 2005-03-31 Schott Ag Device for vacuum coating substrates used in the production of optoelectronic components comprises a falling and ejecting path for the substrates, and a unit for vacuum coating the substrates during falling and ejecting along the path

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