JPH0527046U - Cylindrical vapor deposition equipment - Google Patents
Cylindrical vapor deposition equipmentInfo
- Publication number
- JPH0527046U JPH0527046U JP6713191U JP6713191U JPH0527046U JP H0527046 U JPH0527046 U JP H0527046U JP 6713191 U JP6713191 U JP 6713191U JP 6713191 U JP6713191 U JP 6713191U JP H0527046 U JPH0527046 U JP H0527046U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vapor deposition
- cylindrical
- vacuum container
- vacuum
- cylindrical object
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 長尺円筒物の端部に対して真空蒸着による被
膜形成を行う円筒物蒸着装置において、装置製作費を低
減させ、蒸着時における信頼性および作業性を向上させ
る。
【構成】 円筒状をなす内部可動ハウジング11に円筒
物2を同軸に挿通し、円筒物2の一端を真空容器22内
に突出させた状態で外部可動ハウジング16を前記軸線
沿いに真空容器22内に挿入した後、円筒物回転装置1
0を用いて円筒物2をその軸線を中心に回転させ、電圧
印加装置41を用いて円筒物2に電圧を印加するととも
に、真空容器22内を排気し、更に蒸着物発生装置26
およびヒーター25を作動させて真空蒸着を行う。
(57) [Abstract] [Purpose] To reduce the manufacturing cost of a cylindrical vapor deposition apparatus that forms a film by vacuum vapor deposition on the end of a long cylindrical object, and improve reliability and workability during vapor deposition. .. A cylindrical body 2 is coaxially inserted through a cylindrical inner movable housing 11, and one end of the cylindrical body 2 is projected into the vacuum container 22, and the outer movable housing 16 is housed in the vacuum container 22 along the axis. After inserting into the
0 is used to rotate the cylinder 2 about its axis, a voltage is applied to the cylinder 2 using the voltage application device 41, the inside of the vacuum container 22 is evacuated, and the vapor deposition device 26 is also used.
And the heater 25 is operated to perform vacuum deposition.
Description
【0001】[0001]
本考案は、石油採掘用パイプのネジ部分を始めとする各種長尺円筒物の端部に 対し、イオンプレーティングもしくはプラズマCVD等の方法を用いて真空蒸着 による被膜形成を行う円筒物蒸着装置に関する。 The present invention relates to a cylindrical object vapor deposition apparatus for forming a film by vacuum evaporation using a method such as ion plating or plasma CVD on the end of various long cylindrical objects such as a screw part of a petroleum drilling pipe. ..
【0002】[0002]
石油採掘用パイプのネジ部分を始めとする各種長尺円筒物の端部に対しては、 真空蒸着による被膜形成を行う場合がある。この場合、前記端部のみに真空蒸着 を行う装置として、従来より例えば下記のようなものが考案されている。 A film may be formed by vacuum vapor deposition on the end of various long cylindrical objects such as the threaded portion of the oil mining pipe. In this case, as an apparatus for performing vacuum deposition only on the end portion, for example, the following apparatus has been conventionally devised.
【0003】 図4は、この装置の一例を模式的に示す図である。真空容器1内において、長 尺円筒状をなす円筒物2は環状の回転軸受3により外周側から支持され、モータ ー4を駆動源として軸線を中心に回転可能となっている。更に、円筒物2には電 圧印加装置(図示せず)が接続されている。一方、真空容器1内にはヒーター( 図示せず)が設けられているとともに、円筒物2一端の直下には、被膜形成用の 蒸着物を発生させるとともにイオン化させる蒸着物発生装置5が設置されている 。ここで、この蒸着物発生装置5は前記軸線に沿って円筒物2他端の直下(図中 A)まで移動可能とされている。被膜形成の方法として、本図ではイオンプレー ティングの場合を示すが、プラズマCVDでも可能である。更に、真空容器1内 の空気は、排気口6から排気設備(図示せず)により排気される。FIG. 4 is a diagram schematically showing an example of this device. In the vacuum container 1, a cylindrical object 2 having a long cylindrical shape is supported from the outer peripheral side by an annular rotary bearing 3, and is rotatable about an axis with a motor 4 as a drive source. Further, a voltage applying device (not shown) is connected to the cylindrical body 2. On the other hand, a heater (not shown) is provided in the vacuum vessel 1, and a vapor deposition material generator 5 for generating a vapor deposition for forming a film and ionizing the vapor deposition is formed immediately below one end of the cylindrical body 2. ing . Here, the vapor deposition generation device 5 is movable along the axis to just below the other end of the cylinder 2 (A in the figure). As a method for forming a film, ion plating is shown in this figure, but plasma CVD is also possible. Further, the air in the vacuum container 1 is exhausted from the exhaust port 6 by an exhaust facility (not shown).
【0004】 図4の装置においては、回転軸受3内に円筒物を設置し、真空容器1内を排気 した後、モーター4を回転させると、モーター4の回転が減速装置7を経て円筒 物2に伝達され、円筒物2が軸線を中心に回転する。そして、この状態で前記電 圧印加装置により円筒物2に電圧を印加し、前記ヒーターにより円筒物2を加熱 しつつ蒸着物発生装置5を作動させると、イオン化した蒸着材料が円筒物2の端 部に引き寄せられ、この端部上に前記蒸着材料の被膜が形成される。更に、円筒 物2一端の蒸着作業終了後、蒸着物発生装置5を前記軸線に沿って円筒物2他端 の直下まで移動させて再度上記蒸着作業を行うことにより、円筒物1の両端部が 蒸着される。また、蒸着物発生装置5を移動させつつ蒸着作業を行うことにより 、前記端部における蒸着範囲を任意に拡大可能である。In the apparatus shown in FIG. 4, when a cylindrical object is installed in the rotary bearing 3 and the vacuum container 1 is evacuated and then the motor 4 is rotated, the rotation of the motor 4 passes through the speed reducer 7 and the cylindrical object 2 is rotated. Is transmitted to the cylinder 2 and the cylinder 2 rotates about the axis. Then, in this state, a voltage is applied to the cylindrical body 2 by the voltage application device, and the vapor deposition material generating device 5 is operated while the cylindrical body 2 is being heated by the heater. And a coating of the vapor deposition material is formed on this end. Further, after the vapor deposition work on one end of the cylinder 2 is completed, the vapor deposition product generator 5 is moved to directly below the other end of the cylinder 2 along the axis, and the vapor deposition work is performed again. It is vapor-deposited. Further, by performing the vapor deposition operation while moving the vapor deposit generation device 5, the vapor deposition range at the end can be arbitrarily expanded.
【0005】 図5は、この装置の他の例を示す図である。真空容器1は蒸着を行う円筒物2 の少なくとも2倍以上の全長を有し、その上部には、その長手方向に沿ってレー ル8が設置され、レール8上には、モーター(図示せず)その他を駆動源として レール8上を走行する移動車9が配置されている。また、移動車9からは環状の 回転軸受3が釣り下げられ、回転軸受3内には円筒物2が挿通され、その軸線が レール8の軸線に平行となった状態で回転軸受3により外周側から支持されてい る。その結果、円筒物2は移動車9から釣り下げられた状態で、レール8沿いに 移動可能となっている。更に、円筒物2は、モーター4を駆動源とし、円筒物2 の移動と同調してレール8沿いに移動する円筒物回転装置10により、移動中も 自らの軸線を中心に回転可能である。また、円筒物2には電圧印加装置(図示せ ず)が接続されている。FIG. 5 is a diagram showing another example of this apparatus. The vacuum container 1 has a total length that is at least twice as long as that of the cylinder 2 for vapor deposition, a rail 8 is installed on the upper part of the vacuum container 1 along the longitudinal direction thereof, and a motor (not shown) is installed on the rail 8. ) A moving vehicle 9 traveling on the rail 8 is arranged with other sources as driving sources. Further, an annular rotary bearing 3 is hung from the moving vehicle 9, a cylindrical object 2 is inserted into the rotary bearing 3, and its outer peripheral side is rotated by the rotary bearing 3 with its axis parallel to the axis of the rail 8. It is supported by. As a result, the cylinder 2 can be moved along the rail 8 while being suspended from the moving vehicle 9. Further, the cylindrical body 2 can be rotated about its own axis during the movement by the cylindrical body rotating device 10 which uses the motor 4 as a drive source and moves along the rail 8 in synchronization with the movement of the cylindrical body 2. A voltage applying device (not shown) is connected to the cylinder 2.
【0006】 一方、真空容器1内にはヒーター(図示せず)が設けられているとともに、真 空容器1の長手方向中央下部には、図4の場合と同様の蒸着物発生装置5が固定 されている。なお、真空容器1内の空気は、排気口6から排気設備(図示せず) により排気される。On the other hand, a heater (not shown) is provided in the vacuum container 1, and a vapor deposition device 5 similar to that in the case of FIG. Has been done. The air in the vacuum container 1 is exhausted from the exhaust port 6 by an exhaust facility (not shown).
【0007】 図5の装置においては、円筒物2の一端が蒸着物発生装置5上に位置するよう 真空容器1内に円筒物2を設置後、真空容器1内を排気し、モーター4を回転さ せると、モーター4の回転が円筒物回転装置10を経て円筒物2に伝達され、円 筒物2が軸線を中心に回転する。そして、この状態で前記電圧印加装置により円 筒物2に電圧を印加し、前記ヒーターにより円筒物2を加熱しつつ蒸着物発生装 置5を作動させると、イオン化した蒸着材料が円筒物2の一端に引き寄せられ、 円筒物2の一端上に前記蒸着材料の被膜が形成される。また、円筒物2の一端に 対する蒸着作業終了後、円筒物2の他端が蒸着物発生装置5上に位置するまで円 筒物2をレール8沿いに移動させて再度上記蒸着作業を行うことにより、円筒物 2の両端部が蒸着される。なお、円筒物2を移動させつつ蒸着作業を行うことに より、各端部における蒸着範囲を任意に拡大可能である。In the apparatus shown in FIG. 5, the cylindrical object 2 is placed in the vacuum container 1 so that one end of the cylindrical object 2 is located on the vapor deposition material generator 5, and then the vacuum container 1 is evacuated and the motor 4 is rotated. Then, the rotation of the motor 4 is transmitted to the cylindrical body 2 via the cylindrical body rotating device 10, and the cylindrical body 2 rotates about the axis. Then, in this state, a voltage is applied to the cylindrical body 2 by the voltage applying device, and the vapor deposition material generating device 5 is operated while heating the cylindrical body 2 by the heater. It is attracted to one end, and a film of the vapor deposition material is formed on one end of the cylindrical body 2. Further, after the vapor deposition work on one end of the cylindrical body 2 is completed, the cylindrical body 2 is moved along the rail 8 until the other end of the cylindrical body 2 is located on the vapor deposition material generator 5, and the vapor deposition work is performed again. Thereby, both ends of the cylinder 2 are vapor-deposited. By performing the vapor deposition work while moving the cylindrical object 2, the vapor deposition range at each end can be arbitrarily expanded.
【0008】[0008]
しかしながら、上記従来の円筒物蒸着装置においては、円筒物2全体を真空容 器1内に収納する必要があった。そのため、真空容器1および前記排気装置が大 型化し、設備費増大の原因となる他、前記蒸着装置に対する円筒物2の着脱も大 がかりとならざるを得なかった。更に、蒸着物発生装置5または円筒物2の移動 機構や円筒物回転装置10あるいは回転軸受3等が真空容器1内に位置するため 、蒸着装置の構造が複雑化する他、故障の発生率が上昇するという問題もあった 。 However, in the above-described conventional cylindrical object vapor deposition apparatus, it is necessary to store the entire cylindrical object 2 in the vacuum container 1. Therefore, the vacuum container 1 and the exhaust device become large in size, which causes an increase in equipment cost, and also the attachment / detachment of the cylinder 2 to the vapor deposition device is inevitably large. Furthermore, since the vapor deposition material generating device 5 or the moving mechanism of the cylindrical material 2, the cylindrical material rotating device 10, the rotary bearing 3 and the like are located in the vacuum container 1, the structure of the vapor deposition device becomes complicated and the failure rate is high. There was also the problem of rising.
【0009】 また、蒸着作業中、回転軸受3や円筒物回転装置10は前記ヒーターにより加 熱されるが、この場合、軸受等の熱変形や熱膨張に伴い円筒物2の保持に支障が 生じたり、潤滑油が使用できないことに伴い可動部の焼き付きや動作不良が生じ たりする他、高温下において、これら設備を構成する部材から発生するガスが前 記被膜へと混入する可能性があるため、これら装置については、耐熱に対する特 別の配慮が必要であった。Further, during the vapor deposition work, the rotary bearing 3 and the cylindrical object rotating device 10 are heated by the heater, but in this case, there is a problem in holding the cylindrical object 2 due to thermal deformation or thermal expansion of the bearing or the like. In addition, seizure of moving parts and malfunctions may occur due to the inability to use lubricating oil, and at high temperatures, the gas generated from the members that compose these equipment may mix into the above-mentioned coating. These devices required special consideration for heat resistance.
【0010】 一方、蒸着が行われる円筒物2には通常市販品を用いているが、この場合、円 筒物2の製造および流通の過程でその表面が汚れていると、この汚れが真空蒸着 作業中不純ガスとなって前記被膜に混入し、硬度や密着力を始めとする前記被膜 の物性を大幅に低下させる場合がある。そこで、真空蒸着を行う前に、予め円筒 物2を洗浄しておく必要があるが、上記従来の円筒物蒸着装置においては、円筒 物2全体が真空容器1内に収納されるため、円筒物2の洗浄に際しては、円筒物 2全体を洗浄しなければならず、作業効率が低下するという問題があった。On the other hand, a commercially available product is usually used for the cylinder 2 on which vapor deposition is performed. In this case, if the surface of the cylinder 2 is contaminated during the production and distribution of the cylinder 2, this contamination is vacuum-deposited. During the operation, it may become an impure gas and mix with the coating film, and the physical properties of the coating film such as hardness and adhesion may be significantly reduced. Therefore, it is necessary to wash the cylindrical object 2 in advance before performing vacuum evaporation. However, in the conventional cylindrical object evaporation apparatus described above, the entire cylindrical object 2 is stored in the vacuum container 1, so When cleaning No. 2, the entire cylindrical body 2 had to be cleaned, and there was a problem that working efficiency was reduced.
【0011】[0011]
本考案は、上記事情に鑑みてなされたもので、 真空容器内で円筒物に電圧を印加して、この円筒物の端部に真空蒸着による被 膜形成を行う円筒物蒸着装置において、 The present invention has been made in view of the above circumstances, and in a cylindrical object vapor deposition apparatus that applies a voltage to a cylindrical object in a vacuum container to form a film by vacuum evaporation at the end of the cylindrical object,
【0012】 円筒状をなす第一の部材と、前記第一の部材を、前記第一の部材の外周側から その軸線を中心に回転可能に支持する第二の部材と、A cylindrical first member, and a second member that supports the first member rotatably from the outer peripheral side of the first member about its axis.
【0013】 前記第二の部材の一端側に隣接し、前記第二の部材の一端が前記軸線方向から 挿入され、しかも、その挿入量が相対的に可変とされる真空容器と、前記真空容 器内に設置される蒸着物発生装置と、A vacuum container that is adjacent to one end side of the second member, has one end of the second member inserted from the axial direction, and has a relatively variable insertion amount, and the vacuum container. A deposition material generator installed in the chamber,
【0014】 前記円筒物をその軸線を中心に回転させる回転装置および前記円筒物に電圧を 印加する電圧印加装置とを具備し、A rotating device for rotating the cylindrical body about its axis and a voltage applying device for applying a voltage to the cylindrical body,
【0015】 前記円筒物が前記第一の部材に同軸に挿通され、前記真空容器内に突出した状 態で前記第一の部材に固定され、しかも、前記円筒物、前記第一の部材、前記第 二の部材および前記真空容器間がそれぞれ密封されているとともに、前記真空容 器と前記円筒物が電気的に絶縁されていることを特徴とする円筒物蒸着装置であ る。The cylinder is coaxially inserted into the first member and fixed to the first member in a state of protruding into the vacuum container, and the cylinder, the first member, and The cylindrical object vapor deposition apparatus is characterized in that the second member and the vacuum container are sealed together, and the vacuum container and the cylindrical object are electrically insulated.
【0016】[0016]
本考案の円筒物蒸着装置においては、円筒物の端部のみを真空容器に挿入すれ ばよいため、真空容器および排気装置の小型化が可能となり、設備費が低減する 。また、蒸着作業中、軸受、シール部、および回転装置等がヒーターから隔離さ れているため、これらの故障が減少する他、被膜に対する不純ガスの混入も起こ りにくく、作業時における信頼性が向上する。しかも、各部品を特殊な設計とす る必要がないので、一般標準品の使用が可能となり、製作費が低減する。 In the cylindrical object vapor deposition apparatus of the present invention, since only the end of the cylindrical object needs to be inserted into the vacuum container, the vacuum container and the exhaust device can be downsized, and the equipment cost can be reduced. In addition, since the bearings, seals, rotating device, etc. are isolated from the heater during vapor deposition work, these failures are reduced, and impure gas is less likely to mix into the coating, resulting in reliability during work. improves. Moreover, since it is not necessary to design each part specially, it is possible to use general standard products, which reduces the manufacturing cost.
【0017】 一方、蒸着作業前に円筒物の洗浄を行う場合には、前記真空容器に挿入された 部分(円筒物がパイプ状をなす場合にはその内周も含む)のみを洗浄すればよい ため、洗浄作業における作業効率が大幅に向上する。On the other hand, when cleaning the cylindrical object before the vapor deposition operation, it is sufficient to clean only the portion inserted in the vacuum container (including the inner circumference when the cylindrical object has a pipe shape). Therefore, the work efficiency in the cleaning work is significantly improved.
【0018】 更に、蒸着装置に対する円筒物の着脱を前記真空容器外で行うことが可能であ るため、着脱作業が容易となる。Further, since the cylindrical object can be attached to and detached from the vapor deposition apparatus outside the vacuum container, the attaching and detaching work becomes easy.
【0019】[0019]
以下、図面に基づき、本考案の実施例について更に詳しく説明する。 本考案の円筒物蒸着装置およびこの装置に対する円筒物の装着状況を図1に示 す。図1において、符号11は円筒状をなす内部可動ハウジング(第一の部材) で、その中心孔11aの内周面にはその周方向に沿って凹部11bが形成され、 凹部11b内には真空シール12がはめ込まれている。本実施例の場合、真空シ ール12としてはO−リングが使用されている。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in more detail with reference to the drawings. FIG. 1 shows the cylindrical object vapor deposition apparatus of the present invention and the mounting status of the cylindrical object on this apparatus. In FIG. 1, reference numeral 11 is a cylindrical inner movable housing (first member), and a concave portion 11b is formed on the inner peripheral surface of the central hole 11a along the circumferential direction thereof, and a vacuum is formed in the concave portion 11b. The seal 12 is fitted. In this embodiment, an O-ring is used as the vacuum seal 12.
【0020】 また、円筒物2は内部可動ハウジング11に中心孔11aと同軸に挿通され、 その結果、円筒物2の一端が内部可動ハウジング11の端面から所定の長さだけ 突出する。この場合、真空シール12の内周側に位置する円筒物2の外周面には 、機械加工等の方法により、外周面が平滑とされた真空シール部13が形成され 、その結果、真空シール部13の外周は真空シール12で完全にシーリングされ ている。そして、円筒物2は、このシーリングにより内部可動ハウジング11に 固定される。なお、この真空シール部13は、円筒物2の他端側の同位置にも同 様に形成される。Further, the cylindrical body 2 is inserted into the inner movable housing 11 coaxially with the center hole 11 a, and as a result, one end of the cylindrical body 2 projects from the end surface of the inner movable housing 11 by a predetermined length. In this case, a vacuum seal portion 13 having a smooth outer peripheral surface is formed on the outer peripheral surface of the cylindrical object 2 located on the inner peripheral side of the vacuum seal 12 by a method such as machining, and as a result, the vacuum seal portion is formed. The outer circumference of 13 is completely sealed by a vacuum seal 12. The cylinder 2 is fixed to the inner movable housing 11 by this sealing. The vacuum seal portion 13 is similarly formed at the same position on the other end side of the cylindrical object 2.
【0021】 更に、内部可動ハウジング11の外周には環状をなす回転軸受14の内輪が固 定金具15により固定され、回転軸受14の外輪は固定金具15aにより円筒状 をなす外部可動ハウジング(第二の部材)16に固定されている。その結果、内 部可動ハウジング11は、外部可動ハウジング16に支持された状態で、その軸 線を中心に回転可能となっている。なお、内部可動ハウジング11と外部可動ハ ウジング16間は、回転シール17によりシーリングされている。ここで、回転 シール17としては、磁気シール、オイルシール、もしくはリップシール等が用 いられる。また、内部可動ハウジング11内には流路18が形成され、流路18 内を冷却水19が循環している。Further, the inner ring of the rotary bearing 14 having an annular shape is fixed to the outer periphery of the inner movable housing 11 by a fixing metal fitting 15, and the outer ring of the rotary bearing 14 is fixed to a cylindrical outer movable housing (second metal fitting) by a fixing metal fitting 15a. Member 16). As a result, the inner movable housing 11 is rotatable about its axis while being supported by the outer movable housing 16. A rotary seal 17 seals between the inner movable housing 11 and the outer movable housing 16. Here, as the rotary seal 17, a magnetic seal, an oil seal, a lip seal, or the like is used. A channel 18 is formed in the inner movable housing 11, and cooling water 19 circulates in the channel 18.
【0022】 そして、外部可動ハウジング16の外周は滑り軸受20を介して固定ハウジン グ21に前記軸線方向に移動可能に支持され、固定ハウジング21は真空容器2 2の一端面に開口する挿入用ハウジング23に、前記軸線方向に沿って挿入され ている。その結果、内部可動ハウジング11および外部可動ハウジング16は、 固定ハウジング21に支持された状態で、真空容器22内を前記軸線方向に移動 可能となっている。なお、固定ハウジング21と挿入用ハウジング23との間に は、絶縁部24が形成されている。The outer periphery of the external movable housing 16 is supported by a fixed housing 21 via a slide bearing 20 so as to be movable in the axial direction, and the fixed housing 21 is an insertion housing opened at one end surface of the vacuum container 22. 23 is inserted along the axial direction. As a result, the inner movable housing 11 and the outer movable housing 16 are movable in the vacuum vessel 22 in the axial direction while being supported by the fixed housing 21. An insulating portion 24 is formed between the fixed housing 21 and the insertion housing 23.
【0023】 一方、真空容器22内には、前記軸線を挟んで上下にそれぞれヒーター25と イオンプレーティング用の蒸着物発生装置26が設置されている。この蒸着物発 生装置26は、前記軸線の直下に設置された直流放電プローブ27と、その下部 に設置された坩堝28および坩堝28内の蒸着材料29を加熱する電子銃30と 、真空容器22内に反応ガスを導入するガス導入ノズル31および直流放電プロ ーブ27に給電する直流放電プローブ電源用31とからなっている。なお、直流 放電プローブ27と直流放電プローブ用電源32間を連結する電線33は、絶縁 部24aにより絶縁されている。なお、符号34は真空容器22内を排気するた めの排気口で、更に、排気口34は排気装置(図示せず)に接続されている。On the other hand, inside the vacuum container 22, a heater 25 and a vapor deposition material generator 26 for ion plating are installed above and below the axis, respectively. This vapor deposition generation device 26 includes a direct current discharge probe 27 installed immediately below the axis, a crucible 28 installed below the electron discharge probe 27, an electron gun 30 for heating a vapor deposition material 29 in the crucible 28, and a vacuum container 22. It comprises a gas introduction nozzle 31 for introducing a reaction gas therein and a DC discharge probe power source 31 for supplying power to the DC discharge probe 27. The electric wire 33 connecting between the DC discharge probe 27 and the DC discharge probe power source 32 is insulated by the insulating portion 24a. Reference numeral 34 is an exhaust port for exhausting the inside of the vacuum container 22, and the exhaust port 34 is further connected to an exhaust device (not shown).
【0024】 また、真空容器22内において、外部可動ハウジング16を最も真空容器22 内に挿入した場合の各可動ハウジング11,16先端の到達位置と、蒸着物発生 装置26およびヒーター25との間には、前記軸線に対し垂直な隔壁35が形成 され、しかも、隔壁35と、前記軸線との交点の周囲には、この交点を中心とし て円形状に開口する開口部35aが形成されている。その結果、内部可動ハウジ ング11に円筒物2を装着した場合には、内部可動ハウジング11の端面から突 出した円筒物2の端部のみが開口部35aを介して蒸着物発生装置26およびヒ ーター25との間に突出する。In the vacuum container 22, between the arrival positions of the tips of the movable housings 11 and 16 when the outer movable housing 16 is inserted into the vacuum container 22 most, and between the deposit generating device 26 and the heater 25. A partition wall 35 perpendicular to the axis is formed, and around the intersection of the partition wall 35 and the axis, a circular opening 35a is formed centering on this intersection. As a result, when the cylindrical object 2 is mounted on the internal movable housing 11, only the end of the cylindrical object 2 protruding from the end surface of the internal movable housing 11 passes through the opening 35a and the vapor deposition device 26 and the heater. Is projected between the heater 25.
【0025】 他方、外部可動ハウジング16の他端には外周方向に向けフランジ部16aが 形成され、フランジ部16aの真空容器22側端面と固定ハウジング21のフラ ンジ部16a側端面との間は伸縮シール36でシーリングされている。この伸縮 シール36は前記軸線方向に伸縮可能なため、真空容器22内における外部可動 ハウジング16の移動にかかわらず、外部可動ハウジング16と固定ハウジング 21とは常時シーリングされる。On the other hand, a flange portion 16a is formed at the other end of the external movable housing 16 toward the outer peripheral direction, and the space between the end surface of the flange portion 16a on the vacuum container 22 side and the end surface of the fixed housing 21 on the flange portion 16a side extends and contracts. It is sealed by a seal 36. Since the expandable seal 36 is expandable and contractable in the axial direction, the external movable housing 16 and the fixed housing 21 are always sealed regardless of the movement of the external movable housing 16 in the vacuum container 22.
【0026】 また、フランジ部16aの後方には、円筒物2の全長に合わせた長さの台車3 7が、その長手方向を前記軸線と一致させた状態で前記軸線に沿って移動可能に 配置され、その先端は絶縁部24bを介して外部可動ハウジング16の後端に固 定されている。Further, behind the flange portion 16a, a carriage 37 having a length matched to the entire length of the cylindrical object 2 is arranged so as to be movable along the axis line with its longitudinal direction aligned with the axis line. The front end is fixed to the rear end of the external movable housing 16 via the insulating portion 24b.
【0027】 そして、台車37の後端部には、蒸着装置に円筒物2を装着した場合、円筒物 2の一端が搭載される支持台38が形成されている。ここで、支持台38の位置 は、円筒物2の他端側に形成された真空シール部13をその外周面から支持する 位置とされ、また、支持台38上には、真空シール部13を支持した場合、円筒 物2が前記軸線と同軸に回転可能となるよう回転軸受39が設けられている。ま た、符号15は回転軸受39のローラーである。なお、回転軸受39の例として は、図2に示すようにローラー39aを3箇所に配置しその中央に真空シール部 13を搭載するものがある。この場合、上部のローラー39aは容易に取り外し 可能とされ、円筒物2の搭載を容易としている。At the rear end of the carriage 37, a support base 38 is formed on which one end of the cylinder 2 is mounted when the cylinder 2 is attached to the vapor deposition apparatus. Here, the position of the support base 38 is a position for supporting the vacuum seal portion 13 formed on the other end side of the cylindrical body 2 from its outer peripheral surface, and the vacuum seal portion 13 is mounted on the support base 38. When supported, a rotary bearing 39 is provided so that the cylinder 2 can rotate coaxially with the axis. Further, reference numeral 15 is a roller of the rotary bearing 39. As an example of the rotary bearing 39, there is one in which rollers 39a are arranged at three positions and a vacuum seal portion 13 is mounted at the center thereof as shown in FIG. In this case, the upper roller 39a can be easily removed to facilitate the mounting of the cylindrical body 2.
【0028】 更に、台車37上には、円筒物回転装置10が形成されている。この円筒物回 転装置10は、台車37上に設置されたモーター4と、前記軸線を中心に回転す る歯車40と、モーター4の回転を減速して歯車40に伝達する減速歯車40a とから構成され、しかも、歯車40は、円筒物2を台車37に搭載した場合、円 筒物2の外周面に対し着脱可能とされている。ここで、支持台38と回転軸受3 9およびモーター4と減速歯車40aとの間には、それぞれ絶縁部24c,24 dが形成されている。Further, the cylindrical object rotating device 10 is formed on the carriage 37. The cylindrical object rotating device 10 includes a motor 4 installed on a carriage 37, a gear 40 that rotates about the axis, and a reduction gear 40a that reduces the rotation of the motor 4 and transmits the rotation to the gear 40. Further, the gear 40 is detachable from the outer peripheral surface of the cylindrical object 2 when the cylindrical object 2 is mounted on the carriage 37. Here, insulating portions 24c and 24d are formed between the support base 38, the rotary bearing 39, the motor 4 and the reduction gear 40a, respectively.
【0029】 すなわち、本実施例の円筒物蒸着装置においては、上記各可動ハウジング11 ,16、ならびに支持台38および円筒物回転装置10の各部材はいずれも台車 37上に設置され、更に、円筒物2は専らこれら各部材により支持されている。 そのため、円筒物回転装置10を作動させつつ、台車37を前記軸線方向に移動 させることにより、円筒物2の前記軸線を中心とした回転運動および前記軸線方 向への移動が可能となっている。That is, in the cylindrical vapor deposition apparatus of the present embodiment, the movable housings 11 and 16, the support 38 and the cylindrical member rotating device 10 are all mounted on the carriage 37. The object 2 is supported exclusively by these members. Therefore, by moving the carriage 37 in the axial direction while operating the cylindrical object rotating device 10, it is possible to perform the rotational movement of the cylindrical object 2 about the axis and the movement in the axial direction. ..
【0030】 なお、符号41は電圧印加装置である。これは、円筒物用電源42と、それに 接続された電圧印加部43とからなり、台車37に円筒物2を搭載した場合、円 筒物2の外周面と電圧印加部43とを接触させ、円筒物用電源42の負電圧を、 円筒物2に印加するものである。この電圧印加装置41においては、電圧印加部 43が円筒物2の回転および軸線方向への運動の有無に拘らずその外周面と接触 可能なため、円筒物2への負電圧の印加が、常時可能となっている。Reference numeral 41 is a voltage applying device. This is composed of a cylindrical power source 42 and a voltage applying section 43 connected to it. When the cylinder 2 is mounted on the carriage 37, the outer peripheral surface of the cylindrical object 2 and the voltage applying section 43 are brought into contact with each other. The negative voltage of the cylinder power source 42 is applied to the cylinder 2. In this voltage applying device 41, since the voltage applying section 43 can contact the outer peripheral surface of the cylindrical body 2 regardless of whether the cylindrical body 2 rotates or moves in the axial direction, the negative voltage is always applied to the cylindrical body 2. It is possible.
【0031】 また、図1に示すように、円筒物2が中空部44を有するパイプ状をなしてい る場合には、排気時および蒸着時における中空部44からの空気の流入を防止す るため、蓋状の真空シール部材45を用い、円筒物2の他端を予め被覆した後、 真空蒸着を行う。ここで、円筒物2の端面は、真空シール部材45によるシーリ ングを確実なものとするため、機械加工等の手段を用いて平滑にしておく必要が ある。Further, as shown in FIG. 1, when the cylindrical body 2 has a pipe shape having a hollow portion 44, in order to prevent the inflow of air from the hollow portion 44 at the time of exhausting and vapor deposition. After using the lid-shaped vacuum seal member 45 to cover the other end of the cylindrical body 2 in advance, vacuum deposition is performed. Here, in order to ensure the sealing by the vacuum seal member 45, the end surface of the cylindrical body 2 needs to be made smooth by means such as machining.
【0032】 次に、本実施例における真空蒸着の手順について述べる。 (1) 図1のように、円筒物蒸着装置に円筒物2を装着した状態において、台 車37を前記軸線方向に移動し、真空蒸着による被覆を行う範囲が真空蒸着の際 生じる蒸着流の発生範囲(図1中矢印xで示した範囲)と重なるまで円筒物2の 一端を真空容器22の隔壁35から突出させる。Next, the procedure of vacuum vapor deposition in this embodiment will be described. (1) As shown in FIG. 1, in a state in which the cylinder 2 is attached to the cylinder evaporation apparatus, the carriage 37 is moved in the axial direction, and the range for performing coating by vacuum evaporation is the evaporation flow generated during vacuum evaporation. One end of the cylindrical body 2 is projected from the partition wall 35 of the vacuum container 22 until it overlaps with the generation range (the range indicated by the arrow x in FIG. 1).
【0033】 (2) 円筒物回転装置10を作動させて円筒物2を前記軸線を中心に回転させ 、前記排気装置を作動させて真空容器22内を真空状態とする。(2) The cylinder rotating device 10 is operated to rotate the cylinder 2 about the axis, and the exhaust device is operated to bring the inside of the vacuum container 22 into a vacuum state.
【0034】 (3) 真空容器22内にガス導入ノズル31より反応ガスを導入して真空容器 22内を所定濃度内に保持し、坩堝28内の蒸着材料29を電子銃30により溶 解、イオン化させるとともに、イオン化した蒸着材料29と反応ガスとを直流放 電プローブ用電源32により直流電圧が印加される直流放電プローブ27により 正イオン化する。(3) A reaction gas is introduced from the gas introduction nozzle 31 into the vacuum container 22 to maintain the inside of the vacuum container 22 within a predetermined concentration, and the vapor deposition material 29 in the crucible 28 is dissolved and ionized by the electron gun 30. At the same time, the ionized vapor deposition material 29 and the reaction gas are positively ionized by the DC discharge probe 27 to which a DC voltage is applied by the DC discharge probe power source 32.
【0035】 (4) この正イオンを、ヒーター25により加熱され、しかも円筒物用電源4 2により負電圧が印加された円筒物2に引き寄せることにより、真空蒸着による 被膜が形成される。(4) The positive ions are attracted to the cylinder 2 heated by the heater 25 and to which a negative voltage is applied by the cylinder power supply 42, thereby forming a film by vacuum vapor deposition.
【0036】 なお、本実施例においては、イオンプレーティングによる真空蒸着を行ったが 、真空蒸着法として、イオンプレーティングの代わりにプラズマCVDを用いる こともできる。この場合には、真空容器22内の直流放電プローブ27、坩堝2 8、電子銃30、および直流放電プローブ用電源32は必要ない。In this embodiment, the vacuum vapor deposition is performed by ion plating, but plasma CVD can be used instead of ion plating as the vacuum vapor deposition method. In this case, the DC discharge probe 27, the crucible 28, the electron gun 30, and the DC discharge probe power source 32 in the vacuum container 22 are not necessary.
【0037】 プラズマCVDを用いた真空蒸着の手順について以下に述べる。 (a) 上記(1)の状態で真空容器22を排気した後、ガス導入ノズル31か ら真空容器22内にキャリアガスを含む原料ガス導入して真空容器22内を所定 濃度内に保持する。The procedure of vacuum vapor deposition using plasma CVD will be described below. (A) After evacuating the vacuum container 22 in the state of (1), the raw material gas containing the carrier gas is introduced into the vacuum container 22 from the gas introduction nozzle 31 to keep the inside of the vacuum container 22 within a predetermined concentration.
【0038】 (b) 円筒物用電源42により円筒物2に直流電圧を印加し、真空容器22と の間にグロー放電を起させ、キャリアガスを含む原料ガスをプラズマ化させる。(B) A direct-current voltage is applied to the cylindrical body 2 by the cylindrical power source 42 to cause glow discharge between the cylindrical body 2 and the vacuum vessel 22, and the raw material gas containing the carrier gas is turned into plasma.
【0039】 (c) このプラズマ中の正イオンを、ヒーター25により加熱され、しかも円 筒物用電源42により負電圧が印加された円筒物2に引き寄せることにより、真 空蒸着による被膜を形成させる。(C) The positive ions in the plasma are attracted to the cylinder 2 which is heated by the heater 25 and to which a negative voltage is applied by the cylinder power supply 42 to form a film by vacuum evaporation. ..
【0040】 上記いずれの方法においても、円筒物2の一端の被覆終了後、、円筒物2を真 空容器22から引き抜き、台車37上の円筒物2を逆向きとして、円筒物2他端 の被覆を行うことにより、円筒部2の両端を短時間かつ容易に被覆することがで きる。また、各可動ハウジング11,16および固定ハウジング21と、円筒物 2の先端とは隔壁35により遮断されているので、蒸着中蒸着材料の蒸気が各可 動ハウジング11,16および固定ハウジング21等にかかったり、各可動ハウ ジング11,16および固定ハウジング21がヒーター25により過剰に加熱さ れることはない。In any of the above-mentioned methods, after the coating of one end of the cylindrical body 2 is completed, the cylindrical body 2 is pulled out from the empty container 22, and the cylindrical body 2 on the carriage 37 is turned upside down so that the other end of the cylindrical body 2 is By performing the coating, both ends of the cylindrical portion 2 can be easily coated in a short time. Further, since the movable housings 11 and 16 and the fixed housing 21 are blocked from the tip of the cylindrical body 2 by the partition wall 35, the vapor of the vapor deposition material during vapor deposition is transferred to the movable housings 11 and 16 and the fixed housing 21. The movable housings 11 and 16 and the fixed housing 21 are not overheated by the heater 25.
【0041】 なお、上記の通り、本実施例においては、真空容器22内における円筒物2の 位置調整等に際し、円筒物2を搭載した台車37を真空容器22に対して移動さ せる方法が採られているが、必要に応じ、円筒物2を固定し、真空容器22を円 筒物2の軸線方向に移動させる形式としてもよい。As described above, in this embodiment, when adjusting the position of the cylinder 2 in the vacuum container 22, the carriage 37 carrying the cylinder 2 is moved with respect to the vacuum container 22. However, the cylinder 2 may be fixed and the vacuum container 22 may be moved in the axial direction of the cylinder 2 if necessary.
【0042】 また、外部可動ハウジング16と固定ハウジング21間のシーリング方法とし て、図3に示すように、固定ハウジング21を前記挿入方向後方に延長するとと もに、フランジ部16aを廃し、この延長部分の内周と外部可動ハウジング16 の外周との間に、周方向にリップシール46を配置して両者間をシーリングする こともできる。Further, as a sealing method between the external movable housing 16 and the fixed housing 21, as shown in FIG. 3, the fixed housing 21 is extended rearward in the insertion direction, and the flange portion 16a is abolished. It is also possible to arrange a lip seal 46 in the circumferential direction between the inner periphery of the portion and the outer periphery of the outer movable housing 16 to seal the two.
【0043】 更に、円筒物2として市販品を用いた場合、そのままの状態では表面粗さが粗 く、真空シールが不可能となることがある。この場合、機械加工を行う必要があ るが、上記の通り、本考案においては、真空シール部13と、円筒物2の両端の みを加工すればよいので、機械加工範囲が極めて少なくて済むという利点がある 。Furthermore, when a commercially available product is used as the cylindrical body 2, the surface roughness may be rough as it is and vacuum sealing may be impossible. In this case, it is necessary to perform machining, but as described above, in the present invention, only the vacuum seal portion 13 and both ends of the cylindrical body 2 need to be machined, so the machining range is extremely small. There is an advantage.
【0044】[0044]
以上説明した通り、本考案の円筒物蒸着装置においては、円筒物の端部のみを 真空容器に挿入すればよいため、真空容器および排気装置の小型化が可能となり 、設備費が低減した。また、蒸着作業中、軸受、シール部、および回転装置等が ヒーターから隔離されているため、これらの故障が減少する他、被膜に対する不 純ガスの混入も起こりにくく、作業時における信頼性が向上した。しかも、各部 品を特殊な設計とする必要がないので、一般標準品の使用が可能となり、製作費 が低減した。 As described above, in the cylindrical object vapor deposition apparatus of the present invention, since only the end of the cylindrical object needs to be inserted into the vacuum container, the vacuum container and the exhaust device can be downsized, and the equipment cost is reduced. In addition, since the bearings, seals, rotating device, etc. are isolated from the heater during vapor deposition work, these failures are reduced, and impure gas is less likely to enter the coating, improving reliability during work. did. Moreover, since it is not necessary to design each part specially, it is possible to use general standard products, which reduces the manufacturing cost.
【0045】 一方、蒸着作業前に円筒物の洗浄を行う場合には、前記真空容器に挿入された 部分(円筒物がパイプ状をなす場合にはその内周も含む)のみを洗浄すればよい ため、洗浄作業における作業効率が大幅に向上した。On the other hand, when cleaning the cylindrical object before the vapor deposition operation, only the portion inserted in the vacuum container (including the inner circumference when the cylindrical object has a pipe shape) may be cleaned. Therefore, the work efficiency in the cleaning work is significantly improved.
【0046】 更に、円筒物蒸着装置に対する円筒物の着脱を前記真空容器外で行うことが可 能であるため、着脱作業が容易となった。Furthermore, since the cylindrical object can be attached to and detached from the cylindrical object vapor deposition apparatus outside the vacuum container, the attaching and detaching work is facilitated.
【図1】本考案の第一実施例を示す円筒物蒸着装置の断
面図である。FIG. 1 is a sectional view of a cylindrical object vapor deposition apparatus showing a first embodiment of the present invention.
【図2】本考案の支持台におけるローラーの配置の例を
示すII−II線に沿った断面図である。FIG. 2 is a sectional view taken along line II-II showing an example of the arrangement of rollers on the support base of the present invention.
【図3】本考案における外部可動ハウジングと固定ハウ
ジング間のシーリング方法の例を示す断面図である。FIG. 3 is a sectional view showing an example of a sealing method between an external movable housing and a fixed housing in the present invention.
【図4】従来の円筒物蒸着装置の例を示す模式図であ
る。FIG. 4 is a schematic view showing an example of a conventional cylindrical object vapor deposition device.
【図5】従来の円筒物蒸着装置の例を示す模式図であ
る。FIG. 5 is a schematic view showing an example of a conventional cylindrical object vapor deposition device.
1、22 真空容器 2 円筒物 3,14,39 回転軸受 4 モーター 5,26 蒸着物発生装置 6,34 排気口 7 減速装置 8 レール 9 移動車 10 円筒物回転装置 11 内部可動ハウジング(第一の部材) 11a 中心孔 11b 凹部 12 真空シール 13 真空シール部 15,15a 固定金具 16 外部可動ハウジング(第二の部材) 16a フランジ部 17 回転シール 18 流路 19 冷却水 20 滑り軸受 21 固定ハウジング 23 挿入用ハウジング 24,24a,24b,24c,24d 絶縁部 25 ヒーター 27 直流放電プローブ 28 坩堝 29 蒸着材料 30 電子銃 31 ガス導入ノズル 32 直流放電プローブ用電源 33 電線 35 隔壁 35a 開口部 36 伸縮シール 37 台車 38 支持台 39a ローラー 40 歯車 40a 減速歯車 41 電圧印加装置 42 円筒物用電源 43 電圧印加部 44 中空部 45 真空シール部材 46 リップシール A 蒸着物発生装置の移動位置 x イオンプレーティングを用いた真空蒸着における蒸
着流の形成範囲1, 22 Vacuum container 2 Cylindrical object 3,14,39 Rotary bearing 4 Motor 5,26 Evaporation product generator 6,34 Exhaust port 7 Speed reducer 8 Rail 9 Moving vehicle 10 Cylindrical object rotating device 11 Internal movable housing (first Member) 11a Central hole 11b Recess 12 Vacuum seal 13 Vacuum seal part 15, 15a Fixing metal fitting 16 External movable housing (second member) 16a Flange part 17 Rotating seal 18 Flow path 19 Cooling water 20 Sliding bearing 21 Fixed housing 23 For insertion Housing 24, 24a, 24b, 24c, 24d Insulation part 25 Heater 27 DC discharge probe 28 Crucible 29 Vapor deposition material 30 Electron gun 31 Gas introduction nozzle 32 DC discharge probe power supply 33 Electric wire 35 Partition wall 35a Opening 36 Expansion seal 37 Cart 38 Support Stand 39a Roller 40 Gear 40 Formation range of the vapor deposition flow in the vacuum deposition using the movement position x ion plating of the reduction gear 41 voltage applying device 42 cylindrical object for power supply 43 voltage applying unit 44 hollow portion 45 vacuum sealing member 46 a lip seal A deposit generator
Claims (2)
て、この円筒物の端部に真空蒸着による被膜形成を行う
円筒物蒸着装置において、 円筒状をなす第一の部材と、前記第一の部材を、前記第
一の部材の外周側からその軸線を中心に回転可能に支持
する第二の部材と、 前記第二の部材の一端側に形成され、前記第二の部材の
一端が前記軸線方向から挿入され、しかも、その挿入量
が相対的に可変とされる真空容器と、前記真空容器内に
設置された蒸着物発生装置と、 前記円筒物をその軸線を中心に回転させる回転装置およ
び前記円筒物に電圧を印加する電圧印加装置とを具備
し、 前記円筒物が前記第一の部材に同軸に挿通され、前記真
空容器内に突出した状態で前記第一の部材に固定され、
しかも、前記円筒物、前記第一の部材、前記第二の部材
および前記真空容器間がそれぞれ密封されるとともに、
前記真空容器と前記円筒物が電気的に絶縁されているこ
とを特徴とする円筒物蒸着装置。1. A cylindrical object vapor deposition apparatus for applying a voltage to a cylindrical object in a vacuum container to form a film by vacuum evaporation on an end portion of the cylindrical object, comprising: a cylindrical first member; One member, a second member that rotatably supports from the outer peripheral side of the first member around its axis, is formed on one end side of the second member, one end of the second member A vacuum container that is inserted from the axial direction and the amount of insertion of which is relatively variable, a vapor deposition device that is installed in the vacuum container, and a rotation that rotates the cylindrical object about its axis. An apparatus and a voltage applying device for applying a voltage to the cylindrical body, wherein the cylindrical body is coaxially inserted into the first member and fixed to the first member in a state of protruding into the vacuum container. ,
Moreover, while the cylindrical object, the first member, the second member and the vacuum container are respectively sealed,
A cylindrical object vapor deposition apparatus, wherein the vacuum container and the cylindrical object are electrically insulated.
ーティングもしくはプラズマCVDのいずれかを用いる
ことを特徴とする請求項1記載の円筒物蒸着装置。2. The cylindrical vapor deposition apparatus according to claim 1, wherein either ion plating or plasma CVD is used as the vacuum vapor deposition method.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6713191U JP2546078Y2 (en) | 1991-08-23 | 1991-08-23 | Cylindrical deposition equipment |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6713191U JP2546078Y2 (en) | 1991-08-23 | 1991-08-23 | Cylindrical deposition equipment |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0527046U true JPH0527046U (en) | 1993-04-06 |
JP2546078Y2 JP2546078Y2 (en) | 1997-08-27 |
Family
ID=13336042
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6713191U Expired - Lifetime JP2546078Y2 (en) | 1991-08-23 | 1991-08-23 | Cylindrical deposition equipment |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2546078Y2 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013052546A1 (en) * | 2011-10-03 | 2013-04-11 | Exxonmobil Research And Engineering Company | Methods for coating tubular devices used in oil and gas drilling, completions and production operations |
-
1991
- 1991-08-23 JP JP6713191U patent/JP2546078Y2/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013052546A1 (en) * | 2011-10-03 | 2013-04-11 | Exxonmobil Research And Engineering Company | Methods for coating tubular devices used in oil and gas drilling, completions and production operations |
CN103958728A (en) * | 2011-10-03 | 2014-07-30 | 埃克森美孚研究工程公司 | Methods for coating tubular devices used in oil and gas drilling, completions and production operations |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2546078Y2 (en) | 1997-08-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6034830B2 (en) | Planar end block supporting a rotatable sputtering target | |
JP3323495B2 (en) | Rotating magnetron with removable cathode | |
KR0173132B1 (en) | Rotating cylindrical magnetron structure for large area coating | |
JP6691636B2 (en) | Cathode unit for sputtering equipment | |
TWI577814B (en) | Current insulated bearing components and bearings and method of coating a bearing component | |
JPH06508886A (en) | Cantilever mounting for rotating cylindrical magnetron | |
JP5004942B2 (en) | Single right angle end block | |
EP3006595B1 (en) | Deposition device and deposition method using same | |
JP4847136B2 (en) | Vacuum processing equipment | |
KR100608957B1 (en) | Film deposition system and film deposition method using the same | |
US20180037984A1 (en) | Endblock for rotatable target with electrical connection between collector and rotor at pressure less than atmospheric pressure | |
JPH0527046U (en) | Cylindrical vapor deposition equipment | |
CN105793976A (en) | Multi-magnet arrangement | |
CN106463326B (en) | For the masking device of rotatable cathode, rotatable cathode and method for covering the dark space in depositing device | |
JP2004156139A (en) | Film deposition system, and film deposition method | |
JP2006336034A (en) | Vacuum treatment system | |
JP2986305B2 (en) | Plasma spray gun for inner surface | |
KR20030063265A (en) | Coating system of vacuum plating for plastic parts | |
JP5811080B2 (en) | Work holder and film forming apparatus | |
JPH0565634A (en) | Sputtering apparatus | |
CN217809633U (en) | Multi-arc ion coating device | |
CN1884610A (en) | Anode device with on-line cleaning function and its application method | |
TWI831022B (en) | Driving block for rotary cathode unit | |
CN212834005U (en) | SiO2 basement PVD coating film is with rotating anchor clamps | |
KR200410865Y1 (en) | Sealing rotary unit and thin film deposition apparatus |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19970408 |