JPH0525646A - Microwave plasma device - Google Patents

Microwave plasma device

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Publication number
JPH0525646A
JPH0525646A JP3077688A JP7768891A JPH0525646A JP H0525646 A JPH0525646 A JP H0525646A JP 3077688 A JP3077688 A JP 3077688A JP 7768891 A JP7768891 A JP 7768891A JP H0525646 A JPH0525646 A JP H0525646A
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JP
Japan
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coils
refrigerant
coil
microwave
plasma
Prior art date
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Pending
Application number
JP3077688A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Taku Inoue
卓 井上
Tadashi Miyamura
忠志 宮村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Steel Corp
Original Assignee
Sumitomo Metal Industries Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Metal Industries Ltd filed Critical Sumitomo Metal Industries Ltd
Priority to JP3077688A priority Critical patent/JPH0525646A/en
Publication of JPH0525646A publication Critical patent/JPH0525646A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To simplify the administration of a refrigerant and to eliminate the need for an insulation refrigerant between excitation coils as well as to reduce the size of the coils by forming water paths within the frame body part of the coils and cooling the coils without bringing the refrigerant into direct contact with the coils. CONSTITUTION:The microwave plasma device is constituted by providing a microwave guide tube 15, a plasma forming chamber 11, a reaction chamber 17, etc., and disposing the excitation coils 30 around the plasma forming chamber 11. The excitation coils 30 are constituted of the frame body parts 33 formed internally with the water paths 36, plural pieces of winding frame bodies 34 extended at prescribed intervals in the direction approximately orthogonal with the axial direction from the frame body parts 33, and the coils 35 interposed between the winding frame bodies 34. The coils 35 are efficiently cooled in this way without bringing the refrigerant into direct contact therewith. The small-sized excitation coils 30 having the reliable cooling function are thus easily produced, by which the performance of the microwave plasma device is improved.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はマイクロ波プラズマ装置
に関し、より詳しくは主として半導体製造プロセスにお
いてCVD(Chemical Vapour Deposition)装置、エッチ
ング装置等として用いられるマイクロ波プラズマ装置に
関する。
The present invention relates to relates to a microwave plasma apparatus, mainly and more particularly a semiconductor CVD in the manufacturing process (Ch emical Va pour De position) apparatus, a microwave plasma apparatus used as an etching apparatus or the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】図4は従来のマイクロ波プラズマ装置の
一例を模式的に示した断面図であり、図中11はプラズ
マ生成室を示している。プラズマ生成室11は、内部に
冷却水路11aが形成された円筒形状をなす周壁11b
と、上部壁11cと、下部壁11dとにより仕切られて
構成されており、上部壁11cの略中央にはマイクロ波
導入口12が形成されている。マイクロ波導入口12
は、その上部に配設された石英ガラス14によって封止
されており、マイクロ波導入口12には、この石英ガラ
ス14を介してマイクロ波導波管15の一端が接続され
ている。マイクロ波導波管15の他端は、図示しないマ
イクロ波発振器に接続されており、マイクロ波発振器で
発生したマイクロ波は、マイクロ波導波管15及び石英
ガラス14を介してプラズマ生成室11内へ導入される
ようになっている。さらに、上部壁11cにはガス供給
系16が接続されており、プラズマ生成室11及びマイ
クロ波導波管15の一端側にわたってその周りには、こ
れらと同心円状に励磁コイル18が配設されている。励
磁コイル18は図示しない直流電源に接続されており、
直流電力を供給すると、マイクロ波の導入によってプラ
ズマが発生するようにプラズマ生成室11内に磁界を形
成する。またこれと共に励磁コイル18は、後述する反
応室17側へ向けて磁束密度が低くなる発散磁界を形成
し、発散磁界によってプラズマ生成室11内で生成され
たプラズマは反応室17内に導入されるようになってい
る。
2. Description of the Related Art FIG. 4 is a sectional view schematically showing an example of a conventional microwave plasma apparatus, and 11 in the figure shows a plasma generation chamber. The plasma generating chamber 11 has a cylindrical peripheral wall 11b in which a cooling water passage 11a is formed.
The upper wall 11c and the lower wall 11d are partitioned from each other, and the microwave introduction port 12 is formed in the approximate center of the upper wall 11c. Microwave inlet 12
Is sealed by a quartz glass 14 disposed above it, and one end of a microwave waveguide 15 is connected to the microwave introduction port 12 via the quartz glass 14. The other end of the microwave waveguide 15 is connected to a microwave oscillator (not shown), and the microwave generated by the microwave oscillator is introduced into the plasma generation chamber 11 via the microwave waveguide 15 and the quartz glass 14. It is supposed to be done. Further, a gas supply system 16 is connected to the upper wall 11c, and an exciting coil 18 is concentrically arranged around the plasma generating chamber 11 and the microwave waveguide 15 around one end thereof. .. The exciting coil 18 is connected to a DC power source (not shown),
When DC power is supplied, a magnetic field is formed in the plasma generation chamber 11 so that plasma is generated by the introduction of microwaves. Along with this, the exciting coil 18 forms a divergent magnetic field whose magnetic flux density decreases toward the reaction chamber 17 described later, and the plasma generated in the plasma generation chamber 11 by the divergent magnetic field is introduced into the reaction chamber 17. It is like this.

【0003】一方、下部壁11dのマイクロ波導入口1
2と対向する箇所には、プラズマ引き出し窓13が形成
されており、プラズマ引き出し窓13に臨ませて試料室
である反応室17が配設されている。反応室17内のプ
ラズマ引き出し窓13と対向する箇所には、試料Sを載
置するための試料台19が配設されており、試料台19
内には試料Sを静電吸着し、またバイアス印加するため
の電極22が埋設されている。そしてこの電極22に
は、接合器23を介して高周波電源であるRF(ラジオ
高周波)電源24が接続されている。さらに反応室17
の下部壁には、図示しない排気装置に接続される排気口
20が開口されており、反応室17の一側壁には、反応
室17内に所要の反応ガスを供給するためのガス供給系
21が接続されている。
On the other hand, the microwave inlet 1 of the lower wall 11d
A plasma extraction window 13 is formed at a position facing 2 and a reaction chamber 17 which is a sample chamber is provided so as to face the plasma extraction window 13. A sample table 19 for mounting the sample S is arranged at a position facing the plasma extraction window 13 in the reaction chamber 17.
An electrode 22 for electrostatically adsorbing the sample S and applying a bias is embedded therein. An RF (radio high frequency) power source 24, which is a high frequency power source, is connected to the electrode 22 via a bonder 23. Further reaction chamber 17
An exhaust port 20 connected to an exhaust device (not shown) is opened in a lower wall of the reaction chamber 17, and a gas supply system 21 for supplying a required reaction gas into the reaction chamber 17 is provided on one side wall of the reaction chamber 17. Are connected.

【0004】このように構成されたマイクロ波プラズマ
装置を用いて、例えば試料台19に載置された試料S表
面をエッチングする場合は、まず所要の真空度に設定し
たプラズマ生成室11及び反応室17内に、ガス供給系
16、21から反応ガスを供給する。次いで、励磁コイ
ル18に電圧を印加してプラズマ生成室11内に発散磁
界を形成すると共に、マイクロ波導入口12よりプラズ
マ生成室11内にマイクロ波を導入し、高周波電界を印
加する。するとプラズマ生成室11内でプラズマが発生
し、発生したプラズマは上記した発散磁界によりプラズ
マ生成室11からプラズマ引き出し窓13を経て反応室
17内の試料S周辺に導かれる。そして試料S表面で、
プラズマ流中のイオン、ラジカル粒子による表面反応が
生起され、このことによって試料S表面がエッチングさ
れる。
When the surface of the sample S placed on the sample table 19 is etched by using the microwave plasma device thus constructed, first, the plasma generation chamber 11 and the reaction chamber are set to a required degree of vacuum. A reaction gas is supplied from the gas supply systems 16 and 21 into the space 17. Next, a voltage is applied to the exciting coil 18 to form a divergent magnetic field in the plasma generation chamber 11, and a microwave is introduced into the plasma generation chamber 11 from the microwave introduction port 12 to apply a high frequency electric field. Then, plasma is generated in the plasma generation chamber 11, and the generated plasma is guided from the plasma generation chamber 11 to the periphery of the sample S in the reaction chamber 17 through the plasma extraction window 13 by the divergent magnetic field. And on the surface of the sample S,
A surface reaction occurs due to the ions and radical particles in the plasma flow, which causes the surface of the sample S to be etched.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】ところでプラズマ生成
室11内に磁界を形成する際においては、電圧の印加に
伴って励磁コイル18はかなり発熱する。そこで従来で
は、電圧の印加に伴い発熱する励磁コイル18を冷却す
るために例えば以下に述べる2つの方法がとられてい
た。一つは励磁コイル18のコイル線材を冷媒が封入さ
れた密閉容器中の冷媒に浸漬し、密閉容器内の冷媒を循
環させる方法であり、もう一つは冷媒通路を有する丸パ
イプ、角パイプ等の線材で励磁コイル18を構成する方
法である。
By the way, when a magnetic field is formed in the plasma generation chamber 11, the exciting coil 18 heats up considerably as a voltage is applied. Therefore, conventionally, for example, the following two methods have been adopted to cool the exciting coil 18 which generates heat when a voltage is applied. One is a method in which the coil wire of the exciting coil 18 is immersed in a refrigerant in a hermetically sealed container in which the refrigerant is sealed, and the refrigerant in the hermetically sealed container is circulated, and the other is a round pipe or a square pipe having a refrigerant passage. This is a method of forming the exciting coil 18 with the wire.

【0006】しかしながら前者の方法にあっては、冷媒
とコイルとが直接接触しているためにフレオン等の絶縁
性冷媒を用いる必要があり、しかもこの場合は絶縁性冷
媒を循環させるための専用のポンプが必要であった。ま
たフレオン等の絶縁性冷媒は蒸発しやすいため、循環圧
力を維持するのに手間がかかる等、冷媒管理上の面で種
々の難点があった。さらに前者の方法ではコイルを容器
内に配設して密閉するという煩雑な作業が必要であり、
この際に完全な密閉が行なわれていないと冷媒が漏洩し
てしまうおそれがあった。またコイル全体を密閉容器で
囲んだものを励磁コイル18として用いるので、励磁コ
イル18全体が大掛かりな装置になってしまうという課
題があった。
However, in the former method, since the refrigerant and the coil are in direct contact with each other, it is necessary to use an insulating refrigerant such as Freon, and in this case, a dedicated refrigerant for circulating the insulating refrigerant is used. A pump was needed. Further, since an insulating refrigerant such as Freon easily evaporates, it takes a lot of time to maintain the circulation pressure, which causes various problems in terms of refrigerant management. Furthermore, the former method requires a complicated work of arranging the coil in the container and sealing it.
At this time, the refrigerant may leak if the airtight seal is not completely performed. Further, since the whole coil surrounded by the closed container is used as the exciting coil 18, there is a problem that the entire exciting coil 18 becomes a large-scale device.

【0007】一方、後者の方法にあっては、丸パイプ、
角パイプ等内の冷媒通路に冷媒が詰まるおそれがあり、
また冷媒通路を有する丸パイプ、角パイプ等の線材で励
磁コイル18を構成するので、線材断面積が大きくな
り、必要な電源の電流値が大きくなるという課題があっ
た。同じアンペアターン数の磁場を得るには、コイルの
巻数を多くして必要電流を下げ、かつ電圧を上げた方が
電源の設計上は容易である。
On the other hand, in the latter method, a round pipe,
There is a risk that the refrigerant will be clogged in the refrigerant passage inside the square pipe,
Further, since the exciting coil 18 is configured by a wire material such as a round pipe or a square pipe having a refrigerant passage, there is a problem that the wire material cross-sectional area becomes large and a necessary current value of the power supply becomes large. In order to obtain a magnetic field with the same number of ampere turns, it is easier to design the power supply by increasing the number of coil turns to reduce the required current and increase the voltage.

【0008】本発明は上記した課題に鑑みなされたもの
であり、冷媒管理を簡単にすることができると共にコイ
ル間の絶縁性冷媒を不要とすることができ、しかも小型
化を図ることができる励磁コイルを有するマイクロ波プ
ラズマ装置を提供することを目的としている。
The present invention has been made in view of the above problems, and it is possible to simplify refrigerant management, eliminate the need for an insulating refrigerant between coils, and further reduce the size of the excitation. It is an object to provide a microwave plasma device having a coil.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記した目的を達成する
ために本発明に係るマイクロ波プラズマ装置は、マイク
ロ波導波管、プラズマ生成室及び反応室等を備え、少な
くとも前記プラズマ生成室の周囲に励磁コイルが配設さ
れたマイクロ波プラズマ装置において、前記励磁コイル
の枠本体部内に水路が形成され、前記枠本体部から軸方
向と略直交する方向に複数個の巻き枠体が延設され、こ
れら巻き枠体間にコイルが介装されていることを特徴と
している。
In order to achieve the above-mentioned object, a microwave plasma apparatus according to the present invention comprises a microwave waveguide, a plasma generating chamber, a reaction chamber, etc., and is provided at least around the plasma generating chamber. In a microwave plasma device provided with an exciting coil, a water channel is formed in the frame main body of the exciting coil, and a plurality of winding frame bodies are provided extending from the frame main body in a direction substantially orthogonal to the axial direction, A feature is that a coil is interposed between these winding frames.

【0010】[0010]

【作用】上記した装置によれば、励磁コイルの枠本体部
内に水路が形成され、前記枠本体部から軸方向と略直交
する方向に複数個の巻き枠体が延設され、これら巻き枠
体間にコイルが介装されているので、該コイルより発生
した熱は前記水路内を循環する冷媒によって直接接触す
ることなく冷却される。従って、フレオン等の絶縁性の
液体を冷媒として用いる必要がなく、水等を冷媒として
使用することが可能となることから、冷媒管理が非常に
簡便となる。また励磁コイルは、前記コイルを容器内に
配設して密閉するという煩雑な作業を行なことなく作製
され、しかも前記コイル全体を密閉容器で囲まないの
で、小型化することが可能となる。
According to the above-mentioned device, a water channel is formed in the frame body of the exciting coil, and a plurality of reels are extended from the frame body in a direction substantially orthogonal to the axial direction. Since the coil is interposed between the coils, the heat generated from the coil is cooled by the refrigerant circulating in the water channel without directly contacting it. Therefore, it is not necessary to use an insulating liquid such as Freon as a refrigerant, and water or the like can be used as a refrigerant, so that refrigerant management is very simple. Further, the exciting coil is manufactured without performing the complicated work of arranging the coil in a container and hermetically sealing it, and since the entire coil is not surrounded by the hermetically sealed container, it can be miniaturized.

【0011】[0011]

【実施例】以下、本発明に係るマイクロ波プラズマ装置
の実施例を図面に基づいて説明する。なお、従来例と同
一機能を有する構成部品には同一の符号を付すこととす
る。図1は本発明に係るマイクロ波プラズマ装置の一実
施例を模式的に示した断面図であり、図4に示した従来
のものと励磁コイル30の構成が相違している。励磁コ
イル30の拡大図を図2に示す。図1及び図2に示した
ように、プラズマ生成室11及びマイクロ波導波管15
の一端側にわたってその周りには、これらと同心円状に
励磁コイル30が配設されており、この励磁コイル30
は略円筒形状を有する第1のコイル31と、第1のコイ
ル31よりも直径が大きくかつ同軸略円筒形状を有する
第2のコイル32とから構成されている。第1のコイル
31及び第2のコイル32はそれぞれ、プラズマ生成室
11と同軸の略円筒形状を有する枠本体部33と、枠本
体部33から軸方向と略直交する方向に所定間隔で延設
された複数個の巻き枠体34と、これら巻き枠体34間
に介装されたコイル35とからなり、枠本体部33内に
は水路36が形成されている。また巻き枠体34とコイ
ル35との間には、熱伝導性を強化したシリコンゴム等
の熱伝達体37が介装されている。
Embodiments of the microwave plasma apparatus according to the present invention will be described below with reference to the drawings. It should be noted that components having the same functions as those of the conventional example are designated by the same reference numerals. FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing an embodiment of the microwave plasma device according to the present invention, and the structure of the exciting coil 30 is different from that of the conventional device shown in FIG. An enlarged view of the exciting coil 30 is shown in FIG. As shown in FIGS. 1 and 2, the plasma generation chamber 11 and the microwave waveguide 15
An exciting coil 30 is concentrically arranged around one end of the exciting coil 30.
Is composed of a first coil 31 having a substantially cylindrical shape and a second coil 32 having a diameter larger than that of the first coil 31 and having a coaxial substantially cylindrical shape. The first coil 31 and the second coil 32 are respectively provided with a frame main body 33 having a substantially cylindrical shape coaxial with the plasma generation chamber 11, and extending from the frame main body 33 at a predetermined interval in a direction substantially orthogonal to the axial direction. A water channel 36 is formed in the frame main body 33, which is composed of a plurality of wound frame members 34 and a coil 35 interposed between the wound frame members 34. Further, a heat transfer body 37 such as silicon rubber having enhanced heat conductivity is interposed between the winding frame 34 and the coil 35.

【0012】上記の如く構成された励磁コイル30にお
いては、水路36内への冷媒の循環によって枠本体部3
3及び巻き枠体34が冷却され、コイル35の発熱がコ
イル35に接触している熱伝達体37を介して効率的に
吸収されることとなり、コイル35が効率的に冷却され
る。すなわち本実施例に係る励磁コイル30では、コイ
ル35を冷媒に直接接触させることなく、冷媒及び熱伝
達体37によって効率良く冷却することができる。従っ
てフレオン等の絶縁性の液体を冷媒として用いる必要が
なく、水等を冷媒として使用することができるので、絶
縁性冷媒の使用に伴う煩雑な冷媒管理をする必要がなく
なり、冷媒管理を簡便なものにすることができる。また
コイル35を容器内に配設して密閉するという煩雑な作
業を行なうことなく作製することができ、冷媒の漏洩の
危険性等も回避することができる。さらにコイル35全
体を従来のように密閉容器で囲まないので、小型化され
た励磁コイル30を得ることができる。
In the exciting coil 30 constructed as described above, the frame main body portion 3 is formed by the circulation of the refrigerant into the water passage 36.
3 and the winding frame 34 are cooled, the heat generated by the coil 35 is efficiently absorbed via the heat transfer body 37 in contact with the coil 35, and the coil 35 is efficiently cooled. That is, in the exciting coil 30 according to the present embodiment, it is possible to efficiently cool the coil 35 with the refrigerant and the heat transfer body 37 without directly contacting the coil 35 with the refrigerant. Therefore, since it is not necessary to use an insulating liquid such as Freon as a refrigerant and water or the like can be used as a refrigerant, there is no need to perform complicated refrigerant management associated with the use of an insulating refrigerant, and refrigerant management is simple. Can be something. Further, the coil 35 can be manufactured without performing the complicated work of disposing the coil 35 in the container and sealing the coil 35, and the risk of refrigerant leakage can be avoided. Furthermore, since the entire coil 35 is not surrounded by a closed container as in the conventional case, a miniaturized exciting coil 30 can be obtained.

【0013】そしてこのような簡便な水冷機能を有する
励磁コイル30を、最内径500mm、最外形700m
m、全長140mmの寸法で作製したところ、2000
0アンペアターンという大きな磁場を実現することがで
きた。
The exciting coil 30 having such a simple water-cooling function has an inner diameter of 500 mm and an outer diameter of 700 m.
m, total length 140 mm
We were able to realize a large magnetic field of 0 ampere-turn.

【0014】なお図1に示したように、反応室17の外
周に上記と同様に構成された励磁コイル30を反応室1
7と略同心状に配設しても良く、この場合には、発散磁
界によって反応室17側に引き出されたプラズマが試料
Sに対してより垂直に入射されるように磁界を形成する
ことができる。また上記実施例においては、励磁コイル
30は第1のコイル31と第2のコイル32との2つの
コイルから構成されているが、別の実施例では第1のコ
イル31一つで構成することもできる。さらに上記実施
例においては、巻き枠体34とコイル35との間に熱伝
達体37を介装した場合について述べたが、熱伝熱体3
7が介装されていなくても良く、脱熱能力に応じて熱伝
達体37を介装することによって、冷却効率をより向上
させることができる。
As shown in FIG. 1, the reaction chamber 1 is provided with an exciting coil 30 having the same structure as the above on the outer periphery of the reaction chamber 17.
7 may be arranged substantially concentrically. In this case, the magnetic field may be formed so that the plasma drawn toward the reaction chamber 17 side by the divergent magnetic field enters the sample S more perpendicularly. it can. In the above embodiment, the exciting coil 30 is composed of two coils, the first coil 31 and the second coil 32, but in another embodiment, it is composed of only the first coil 31. You can also Furthermore, in the above embodiment, the case where the heat transfer body 37 is interposed between the winding frame 34 and the coil 35 has been described, but the heat transfer body 3
7 may not be provided, and the cooling efficiency can be further improved by providing the heat transfer body 37 according to the heat removal capacity.

【0015】複数のコイルで励磁コイルを構成する場合
の別の例を図3に示す。図3に示したように、この励磁
コイル40は図2に示した励磁コイル30とは異なり、
第1のコイル41及び第2のコイル42とも枠本体部4
3が下方へ向けて拡開した形状となっている。その他の
部分は図3に示したものと同様に構成されており、この
場合にも上記と同様にコイル35を冷却することがで
き、また発散磁界の形状を調整することができる。
FIG. 3 shows another example in which the exciting coil is composed of a plurality of coils. As shown in FIG. 3, this exciting coil 40 is different from the exciting coil 30 shown in FIG.
Both the first coil 41 and the second coil 42 are the frame body 4
3 has a shape that expands downward. The other portions are configured similarly to those shown in FIG. 3, and in this case as well, the coil 35 can be cooled and the shape of the divergent magnetic field can be adjusted in the same manner as above.

【0016】以上説明したように、上記実施例に係るマ
イクロ波プラズマ装置にあっては、内部に水路36が形
成された枠本体部33と、枠本体部33から軸方向と略
直交する方向に所定間隔で延設され、かつコイル35に
面する部分に熱伝達体37が配設されている巻き枠体3
4とで挾持されるようにコイル35が配設されているの
で、冷媒に直接接触させることなく、コイル35を冷媒
及び熱伝達体37によって効率良く冷却することができ
る。従って簡便かつ信頼性のある冷却機能を有した小型
の励磁コイル30、40を作製することができ、このよ
うな励磁コイル30、40を用いることによってマイク
ロ波プラズマ装置の性能を向上させることができる。
As described above, in the microwave plasma apparatus according to the above embodiment, the frame main body 33 having the water channel 36 formed therein and the frame main body 33 in the direction substantially orthogonal to the axial direction. A winding frame body 3 extending at a predetermined interval and having a heat transfer body 37 arranged in a portion facing the coil 35.
Since the coil 35 is disposed so as to be sandwiched between the coil 4 and 4, the coil 35 can be efficiently cooled by the refrigerant and the heat transfer body 37 without directly contacting the refrigerant. Therefore, the small exciting coils 30 and 40 having a simple and reliable cooling function can be manufactured, and the performance of the microwave plasma device can be improved by using such exciting coils 30 and 40. ..

【0017】[0017]

【発明の効果】以上の説明により明らかなように、本発
明に係るマイクロ波プラズマ装置にあっては、励磁コイ
ルの枠本体部内に水路が形成され、前記枠本体部から軸
方向と略直交する方向に複数個の巻き枠体が延設され、
これら巻き枠体間にコイルが介装されているので、冷媒
に直接接触させることなく前記コイルを冷却することが
できる。従って、簡便かつ信頼性のある冷却機能を有し
た小型の励磁コイルを作製することができ、この励磁コ
イルが配設されたマイクロ波プラズマ装置の性能を向上
させることができる。
As is apparent from the above description, in the microwave plasma device according to the present invention, the water passage is formed in the frame main body of the exciting coil, and the water flow path is substantially orthogonal to the axial direction from the frame main body. A plurality of reels are extended in the direction,
Since the coil is interposed between these reels, the coil can be cooled without directly contacting the refrigerant. Therefore, a small-sized exciting coil having a simple and reliable cooling function can be manufactured, and the performance of the microwave plasma device provided with this exciting coil can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係るマイクロ波プラズマ装置の一実施
例を模式的に示した断面図である。
FIG. 1 is a sectional view schematically showing an embodiment of a microwave plasma device according to the present invention.

【図2】図1に示した励磁コイル部分の拡大図である。FIG. 2 is an enlarged view of an exciting coil portion shown in FIG.

【図3】励磁コイルの別の実施例を示した拡大図であ
る。
FIG. 3 is an enlarged view showing another embodiment of the exciting coil.

【図4】従来のマイクロ波プラズマ装置の一例を模式的
に示した断面図である。
FIG. 4 is a sectional view schematically showing an example of a conventional microwave plasma device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 プラズマ生成室 15 マイクロ波導波管 17 反応室 30、40 励磁コイル 33、43 枠本体部 34 巻き枠体 35 コイル 36 水路 11 Plasma Generation Chamber 15 Microwave Waveguide 17 Reaction Chamber 30, 40 Excitation Coil 33, 43 Frame Main Body 34 Winding Frame 35 Coil 36 Water Channel

Claims (1)

【特許請求の範囲】 【請求項1】 マイクロ波導波管、プラズマ生成室及び
反応室等を備え、少なくとも前記プラズマ生成室の周囲
に励磁コイルが配設されたマイクロ波プラズマ装置にお
いて、前記励磁コイルの枠本体部内に水路が形成され、
前記枠本体部から軸方向と略直交する方向に複数個の巻
き枠体が延設され、これら巻き枠体間にコイルが介装さ
れていることを特徴とするマイクロ波プラズマ装置。
Claim: What is claimed is: 1. A microwave plasma apparatus comprising a microwave waveguide, a plasma generation chamber, a reaction chamber, and the like, wherein an excitation coil is disposed at least around the plasma generation chamber, A waterway is formed in the frame body of
A microwave plasma apparatus comprising: a plurality of winding frame bodies extending from the frame body in a direction substantially orthogonal to the axial direction, and a coil interposed between the winding frame bodies.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH01180981A (en) * 1988-01-13 1989-07-18 Sanyo Electric Co Ltd Ecr plasma cvd method and device thereof

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