JPH05253850A - Abrasive tape for texturing surface of hard disk - Google Patents

Abrasive tape for texturing surface of hard disk

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JPH05253850A
JPH05253850A JP8666992A JP8666992A JPH05253850A JP H05253850 A JPH05253850 A JP H05253850A JP 8666992 A JP8666992 A JP 8666992A JP 8666992 A JP8666992 A JP 8666992A JP H05253850 A JPH05253850 A JP H05253850A
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JP
Japan
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polishing
hard disk
tape
polishing tape
texturing
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JP8666992A
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Yuji Horie
祐二 堀江
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NIPPON MICRO KOOTEINGU KK
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Abstract

PURPOSE:To provide an abrasive tape which can form uniform irregularities on the surface when texturing the surface of a hard disk. CONSTITUTION:An abrasive tape which textures the surface of a hard disk, comprises an abrasive layer 2 formed in such a way that a mixture of abrasive grains and binder is applied to a base sheet 1 made of nonwoven cloth. In this case, since the nonwoven cloth acting as the base sheet is elastic, and allows to abrasion chips to remain, it is possible to form uniform irregularities (texturing) on the surface of a hard disk.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、ハードディスクの表面
をテクスチャー加工するための研磨テープに関する。
FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to an abrasive tape for texturing the surface of a hard disk.

【0002】[0002]

【従来技術】コンピューター等において磁気記憶媒体と
してハードディスクが利用されている。このハードディ
スクの表面にはニッケル−リンのメッキがなされている
が、磁化の高密度化を図るため、ハードディスクの表面
にテクスチャー加工がなされる。
2. Description of the Related Art Hard disks are used as magnetic storage media in computers and the like. The surface of this hard disk is plated with nickel-phosphorus, but the surface of the hard disk is textured in order to increase the density of magnetization.

【0003】このテクスチャー加工のため、従来は基材
シートであるPETフィルム(12〜75μm)上に研
磨材(たとえば酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、
ダイアモンド等)とバインダーとを混練したものを、研
磨層としてその厚さが3〜30μmとなるように塗布し
て成る研磨テープを利用していた。
For this texturing, an abrasive material (for example, aluminum oxide, zirconium oxide, etc.) is formed on a PET film (12 to 75 μm) which is a base material sheet in the past.
A polishing tape prepared by coating a mixture of a diamond (or the like) and a binder so as to have a thickness of 3 to 30 μm as a polishing layer has been used.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかし、このような従
来の研磨テープによるテクスチャー加工では、図3に示
すようにハードディスク表面上を均一に凹凸付けること
ができず、不均一な突起が生じていた。かかる不均一な
凹凸は、磁化密度の高度化を阻害する。このような凹凸
の不均一さはの原因としては、基材シートの弾力性の欠
如が考えられている。すなわち、基材シートに弾力性が
ないと粒度の大きい研磨材がハードディスクの表面に深
く食い込み所望以上の凹凸を付けてしまうからである。
However, in such a conventional texturing process using a polishing tape, the surface of the hard disk cannot be made uneven as shown in FIG. 3, resulting in uneven projections. .. Such unevenness hinders the advancement of the magnetization density. The lack of elasticity of the base sheet is considered as a cause of such unevenness of the unevenness. That is, if the base material sheet is not elastic, the abrasive having a large grain size deeply digs into the surface of the hard disk and creates unevenness more than desired.

【0005】また、他の原因としては研磨による研磨く
ずがハードディスク上に残り、その研磨くずがハードデ
ィスク表面を凹凸付けるためと考えられている。
Another cause is considered to be that polishing debris due to polishing remains on the hard disk, and the polishing debris makes the surface of the hard disk uneven.

【0006】そこで、本発明の目的は、ハードディスク
の表面にテクスチャー加工を行う際に、その表面に均一
な凹凸を形成できる研磨テープを提供することである。
Therefore, an object of the present invention is to provide a polishing tape capable of forming uniform unevenness on the surface of a hard disk when the surface of the hard disk is textured.

【0007】さらに、本発明の他の目的は、研磨くずを
ハードディスク上に残留させることなく、かつ研磨くず
を排出できる研磨テープを提供することである。
Still another object of the present invention is to provide a polishing tape capable of discharging polishing debris without leaving the polishing debris on the hard disk.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明のハードディスク
の表面をテクスチャー加工する研磨テープは、不織布か
ら成る基材シート上に、研磨材粒子とバインダーとを混
練したものを塗布して研磨層を形成して成るものであ
る。研磨層の厚さは1μm〜10μmの範囲に、基材シ
ートの厚さは50μm〜500μmの範囲にあることが
望ましい。
A polishing tape for texture-processing the surface of a hard disk according to the present invention comprises a base material sheet made of a non-woven fabric, coated with a mixture of abrasive particles and a binder to form a polishing layer. It consists of The thickness of the polishing layer is preferably in the range of 1 μm to 10 μm, and the thickness of the substrate sheet is preferably in the range of 50 μm to 500 μm.

【0009】ここで、不織布がレーヨン、ポリエステ
ル、パルプ、麻などの長繊維から成る不織布でも、レー
ヨンとパルプの混合紙であってもよい。また、研磨くず
を排出させるための溝を研磨テープ上に設けてもよい。
Here, the non-woven fabric may be a non-woven fabric composed of long fibers such as rayon, polyester, pulp, hemp, or a mixed paper of rayon and pulp. Further, a groove for discharging polishing waste may be provided on the polishing tape.

【0010】[0010]

【作用】本発明の基材シートである不織布は弾力性があ
り、また研磨層が薄いため、比較的大きい研磨粒子が研
磨テープ上にあっても、ハードディスクに研磨テープを
押し当てたとき研磨粒子がハードディスクへではなく基
材シート内へと食い込む。そのため、研磨粒子の大きさ
に多少の違いがあってもハードディスクの表面上には均
一な凹凸が形成される。
The nonwoven fabric, which is the base sheet of the present invention, is elastic and has a thin polishing layer, so that even if relatively large abrasive particles are present on the abrasive tape, the abrasive particles when the abrasive tape is pressed against the hard disk are large. Penetrates into the base sheet, not into the hard disk. Therefore, even if there are some differences in the size of the abrasive particles, uniform unevenness is formed on the surface of the hard disk.

【0011】また、研磨くずはハードディスク上に残留
することなく、研磨テープと共に運ばれる。研磨テープ
上に研磨くずの排出のための溝が形成されていると、研
磨くずはその溝を通って排出される。
Further, the polishing waste is carried along with the polishing tape without remaining on the hard disk. When a groove for discharging the scraps is formed on the polishing tape, the scraps are discharged through the groove.

【0012】[0012]

【実施例】図1に示すように、本発明のハードディスク
をテクスチャー加工するための研磨テープは、不織布1
の上に研磨層2が形成されている。基材シート1の不織
布はレーヨンの長繊維の不織布が好適である。ただし、
基材シート1としてこの不織布に限定されず、ポリエス
テル、発泡ウレタン、紙、麻あるいは混合紙(たとえ
ば、レーヨンとパルプの混合紙)などでもよい。基材シ
ート1の厚さは50〜500μmが好適である。あまり
薄すぎると、弾力性に欠けることになるからである。
EXAMPLE As shown in FIG. 1, a polishing tape for texturing a hard disk of the present invention is a nonwoven fabric 1
The polishing layer 2 is formed on the above. The nonwoven fabric of the base material sheet 1 is preferably a nonwoven fabric of rayon long fibers. However,
The base sheet 1 is not limited to this non-woven fabric, but may be polyester, urethane foam, paper, linen, or mixed paper (for example, mixed paper of rayon and pulp). The thickness of the base sheet 1 is preferably 50 to 500 μm. If it is too thin, it will lack elasticity.

【0013】研磨層2は研磨粒子とバインダーとの混練
物を基材シート1上に塗布して形成されたものである。
研磨粒子としては、好適には平均粒径が1〜10μmの
酸化アルミニウム(Al23)、酸化クロム(Cr
23)、シリコンカーバイド(SiC)、酸化鉄(Fe
23)等が使用できる。
The polishing layer 2 is formed by applying a kneaded material of abrasive particles and a binder onto the base sheet 1.
The abrasive particles are preferably aluminum oxide (Al 2 O 3 ) and chromium oxide (Cr) having an average particle size of 1 to 10 μm.
2 O 3 ), silicon carbide (SiC), iron oxide (Fe
2 O 3 ) etc. can be used.

【0014】バインダーは、好適には飽和ポリエステル
樹脂をトルエン、キシレン、酢酸エチル、メチルエチル
ケトンの混合溶媒に溶かし、さらにイソシアネート化合
物硬化剤を加えたものである。
The binder is preferably prepared by dissolving a saturated polyester resin in a mixed solvent of toluene, xylene, ethyl acetate and methyl ethyl ketone, and further adding an isocyanate compound curing agent.

【0015】研磨材粒子とバインダー接着剤との混合物
の塗布時の粘度は100〜600cpである。混練物の
基材シート1への塗布は、研磨層2の厚さが1〜10μ
mとなるように行われる。
The viscosity of the mixture of the abrasive particles and the binder adhesive when applied is 100 to 600 cp. When the kneaded material is applied to the base material sheet 1, the polishing layer 2 has a thickness of 1 to 10 μm.
m is performed.

【0016】塗布の方法としては、いわゆるベタ塗り
(たとえば、特公昭53−44714号を参照)でも良
いが、研磨くずが容易に研磨テープから排出でき、効果
的にテクスチャー加工をなすために、研磨層表面に塗布
方向に関して20〜70度をなす直線溝を等間隔に形成
するすることが望ましい(図2を参照)。溝の形成方法
としては、櫛で研磨層表面を等間隔にすく方法(米国特
許第2,755,607号)、基材シートに種々のパタ
ーンの研磨層をプリントする方向(米国特許第4,14
2,334号)、あるいは表面がエンボス加工された基
材シート上に混練物を塗布し、乾燥時の混練物の表面張
力により研磨層に凹凸を形成する方法(特開平1−17
1771号)がある。
The coating method may be so-called solid coating (see, for example, Japanese Examined Patent Publication No. 53-44714), but polishing scraps can be easily discharged from the polishing tape and effectively textured. It is desirable to form straight grooves forming an angle of 20 to 70 degrees on the surface of the layer at equal intervals (see FIG. 2). As the method for forming the grooves, a method of combing the surface of the polishing layer at regular intervals with a comb (US Pat. No. 2,755,607) and a direction of printing a polishing layer having various patterns on a base sheet (US Pat. 14
No. 2,334) or a substrate sheet whose surface is embossed, and the kneaded material is applied to form irregularities on the polishing layer by the surface tension of the kneaded material during drying (Japanese Patent Laid-Open No. 1-17).
1771).

【0017】[実施例1]酸化アルミニウム(平均粒径
3μm)1kgを100℃で1時間加熱後、飽和ポリエ
ステル樹脂1150gをトルエン、キシレン、酢酸エチ
ル、メチルエチルケトンの混合溶媒に混合撹拌し(50
0cp)、イソシアネート系硬化剤75gを添加し、金
網フィルターで濾過した。厚さ90μmのレーヨン素材
(長繊維)の不織布にこの混合物を3μmの均一な厚さ
に塗布し、乾燥機により乾燥させた。
Example 1 After heating 1 kg of aluminum oxide (average particle size 3 μm) at 100 ° C. for 1 hour, 1150 g of saturated polyester resin was mixed and stirred in a mixed solvent of toluene, xylene, ethyl acetate and methyl ethyl ketone (50
0 cp) and 75 g of an isocyanate-based curing agent were added, and the mixture was filtered with a wire mesh filter. This mixture was applied to a non-woven fabric of rayon material (long fibers) having a thickness of 90 μm to a uniform thickness of 3 μm and dried by a dryer.

【0018】[実施例2]基材シートとして厚さ200
μmのレーヨン素材の不織布を用いた点を除けば実施例
1と同様の研磨テープ。
[Example 2] A substrate sheet having a thickness of 200
The same polishing tape as in Example 1 except that a non-woven fabric of rayon material of μm was used.

【0019】[実施例3]基材シートとして厚さ860
μmのレーヨンとパルプの混合紙を用いた点を除けば実
施例1と同様の研磨テープ。
[Example 3] A substrate sheet having a thickness of 860
The same polishing tape as in Example 1 except that a mixed paper of rayon and pulp of μm was used.

【0020】[比較]厚さ25μmのPETシート上
に、平均粒径2μmの酸化アルミニウムの研磨粒子を含
む研磨層を3μm塗布してなる従来の研磨テープを比較
のために利用した。
[Comparative] A conventional polishing tape prepared by coating a PET layer having a thickness of 25 μm with a polishing layer containing polishing particles of aluminum oxide having an average particle diameter of 2 μm for 3 μm was used for comparison.

【0021】以上の四種類のテープを用いて3.5″の
ハードディスクにテクスチャー加工し、そのディスク粗
さを測定した。
A 3.5 "hard disk was textured using the above four types of tapes, and the disk roughness was measured.

【0022】テクスチャー加工は、自社製研磨機器によ
り以下の条件で実施した。 テクスチャー加工条件 研磨時間20秒 テープ送り50cm/分 スピンドル
回転400RPM ゴム硬度40度 オシュレーション回転160RPM・
幅±1mm 圧力2.2kg
The texture processing was carried out under the following conditions using a polishing machine manufactured by the company. Texture processing conditions Polishing time 20 seconds Tape feed 50 cm / min Spindle rotation 400 RPM Rubber hardness 40 degrees Oscillation rotation 160 RPM
Width ± 1mm Pressure 2.2kg

【0023】研磨後のディスク粗さの測定は、テンコー
ル製接触式粗さ測定器(P−1)を用い以下の条件にて
8点を測定し、その平均を求めた。 測定条件 針先0.2μmRのダイアモンド 測定長0.5mm
測定速度20μm/sec カットオフ80μm 針荷重5mg 測定位置R=23
mm
For the measurement of the disc roughness after polishing, eight points were measured using a contact-type roughness measuring instrument (P-1) manufactured by Tencor under the following conditions, and the average thereof was obtained. Measurement condition Diamond tip with a tip of 0.2μm R Measuring length 0.5mm
Measurement speed 20 μm / sec Cutoff 80 μm Needle load 5 mg Measurement position R = 23
mm

【0024】上記測定の結果は以下の表で示す。ここ
で、Raは中心線平均粗さ(Å)、Rpは中心線山高さ
(Å)を示し、その比は突起率を示す。したがって、突
起率が小さいほど均一なテクスチャー加工、すなわちハ
ードディスクの表面に均一な凹凸を付けることができた
ことを示す。この表から明らかなように、本発明の研磨
テープにより突起率は従来のテープと比べて40%以上
改善された。
The results of the above measurements are shown in the table below. Here, Ra indicates the center line average roughness (Å), Rp indicates the center line mountain height (Å), and the ratio thereof indicates the protrusion rate. Therefore, it is shown that the smaller the protrusion rate, the more uniform the texture processing, that is, the more uniform the surface of the hard disk could be. As is clear from this table, the polishing tape of the present invention improved the protrusion ratio by 40% or more as compared with the conventional tape.

【0025】 表 テープ Ra Rp Rp/Ra(突起率) 実施例1 59 186 3.2 実施例2 68 213 3.1 実施例3 60 210 3.5 従来テープ 64 325 5.1Table Tape Ra Rp Rp / Ra (protrusion ratio) Example 1 59 186 3.2 Example 2 68 213 3.1 Example 3 60 210 3.5 3.5 Conventional tape 64 325 5.1

【0026】本発明の研磨テープによりテクスチャー加
工したハードディスク表面上の突起の状況を図4に示
す。図4と図3とを比較すると明らかなように、本発明
の研磨テープによりテクスチャー加工による凹凸の均一
性は著しく改善された。
FIG. 4 shows the state of protrusions on the surface of a hard disk that was textured with the polishing tape of the present invention. As is clear from comparison between FIG. 4 and FIG. 3, the polishing tape of the present invention remarkably improved the uniformity of the unevenness due to the texturing.

【0027】[0027]

【発明の効果】本発明を実施した研磨テープを用いてハ
ードディスクの表面をテクスチャー加工すると、ハード
ディスクの表面に均一な凹凸を形成することができる。
When the surface of a hard disk is textured using the polishing tape of the present invention, it is possible to form uniform unevenness on the surface of the hard disk.

【0028】さらに、研磨により生じた研磨くずをハー
ドディスク上に残留させることなく、また研磨くずを排
出できる。
Furthermore, the polishing scraps generated by polishing can be discharged without remaining on the hard disk.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明のハードディスクの表面をテクスチャー
加工するための研磨テープの断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view of an abrasive tape for texturing the surface of a hard disk of the present invention.

【図2】研磨層表面上に直線溝を形成した本発明の研磨
テープを示す。
FIG. 2 shows the polishing tape of the present invention having linear grooves formed on the surface of the polishing layer.

【図3】従来の研磨テープによりテクスチャー加工した
ハードディスクの表面の突起の状況を示す。
FIG. 3 shows the state of protrusions on the surface of a hard disk textured by a conventional polishing tape.

【図4】本発明の研磨テープによりテクスチャー加工し
たハードディスクの表面の突起の状況を示す。
FIG. 4 shows the state of protrusions on the surface of a hard disk that has been texture-processed with the polishing tape of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基材シート 2 研磨層 3 溝 1 Base Material Sheet 2 Polishing Layer 3 Groove

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 不織布から成る基材シート上に、研磨材
粒子とバインダーとを混練したものを塗布して研磨層を
形成して成る、ハードディスクの表面をテクスチャー加
工するための研磨テープ。
1. A polishing tape for texturing the surface of a hard disk, comprising a substrate sheet made of a non-woven fabric, and a mixture of abrasive particles and a binder applied on the substrate sheet to form a polishing layer.
【請求項2】 請求項1に記載の研磨テープであって、 前記研磨層の厚さが1μmから10μmの範囲にある、
ところの研磨テープ。
2. The polishing tape according to claim 1, wherein the polishing layer has a thickness of 1 μm to 10 μm.
Polishing tape.
【請求項3】 請求項1に記載の研磨テープであって、 前記基材シートの厚さが50μmから500μmの範囲
にある、ところの研磨テープ。
3. The polishing tape according to claim 1, wherein the thickness of the base sheet is in the range of 50 μm to 500 μm.
【請求項4】 請求項1に記載の研磨テープであって、 前記不織布がレーヨン、ポリエステル、パルプまたは麻
の長繊維から成る不織布である、ところの研磨テープ。
4. The polishing tape according to claim 1, wherein the nonwoven fabric is a nonwoven fabric made of rayon, polyester, pulp or hemp filaments.
【請求項5】 請求項1に記載の研磨テープであって、 当該研磨テープの表面上に、研磨くずを排出させるため
の溝が形成される、ところの研磨テープ。
5. The polishing tape according to claim 1, wherein a groove for discharging polishing waste is formed on a surface of the polishing tape.
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