JPH05242683A - Semiconductor memory - Google Patents

Semiconductor memory

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JPH05242683A
JPH05242683A JP4042873A JP4287392A JPH05242683A JP H05242683 A JPH05242683 A JP H05242683A JP 4042873 A JP4042873 A JP 4042873A JP 4287392 A JP4287392 A JP 4287392A JP H05242683 A JPH05242683 A JP H05242683A
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JP
Japan
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channel mos
stage
complementary signal
coupled
signal
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JP4042873A
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Japanese (ja)
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Hirokazu Yonezawa
浩和 米澤
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Panasonic Holdings Corp
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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  • Static Random-Access Memory (AREA)
  • Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Dram (AREA)

Abstract

PURPOSE:To improve integration density by decreasing occupancy area without reducing amplification factor. CONSTITUTION:When a pre-stage control signal 12 is selected, a P channel MOS loading means 1 and a pre-stage N channel MOS differential amplifying means 2 perform amplifying operation with the third complementary signal 4, 5 as an input signal and with the second complementary signal 6B, 7B as an output signal. Further, when a post-stage control signal 13 is selected, the P channel MOS loading means 1 and a post-stage N channel MOS differential amplifying means 3 perform amplifying operation with the second complementary signal 6B, 7B as an input signal and with the fourth complementary signal 10, 11 as an output signal. That is, the P channel MOS loading means 1 and the pre-stage N channel MOS differential amplifying means 2 constitutes the pre-stage sense amplifier, and the P channel MOS loading means 1 and the post-stage N channel MOS differential amplifying means 3 constitutes the post- stage sense amplifier, the P channel MOS loading means 1 is shared.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明はセンスアンプを内蔵し
た半導体記憶装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device having a built-in sense amplifier.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体記憶装置の基本動作である読み出
し動作は、まず、アドレス信号が半導体記憶装置に与え
られ、次にこのアドレス信号をデコードしてワード信号
が生成され、このワード信号によりメモリセルから格納
されているデータがビット線に出力され、このビット信
号をセンスアンプが増幅し、最後に出力バッファが外部
に読み出したデータを出力するというものである。ここ
で、センスアンプは微小なメモリセルからの微弱な読み
出し信号、すなわちビット信号を高速に増幅するための
増幅器であり、半導体記憶装置の重要な回路構成要素で
ある。
2. Description of the Related Art In a read operation, which is a basic operation of a semiconductor memory device, an address signal is first applied to the semiconductor memory device, and then this address signal is decoded to generate a word signal. The stored data is output to the bit line, the bit signal is amplified by the sense amplifier, and finally the output buffer outputs the read data to the outside. Here, the sense amplifier is an amplifier for amplifying a weak read signal from a minute memory cell, that is, a bit signal at high speed, and is an important circuit constituent element of the semiconductor memory device.

【0003】近年、ますます微細化の進む半導体記憶装
置では、メモリセルからの読み出し信号も微弱化が進ん
でおり、センスアンプ技術の向上による前記の読み出し
動作の高速化が求められてきている。このような要求に
対して従来では、独立したセンスアンプを複数段直列に
接続して高い増幅度を得たものがある。
In recent years, in semiconductor memory devices that are becoming more and more miniaturized, read signals from memory cells are also becoming weaker, and there is a demand for higher speed of the above-mentioned read operation due to improvement in sense amplifier technology. In response to such a demand, there is a conventional one in which a plurality of independent sense amplifiers are connected in series to obtain a high amplification degree.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
半導体記憶装置においては、直列に接続したセンスアン
プの各々が、独立したCMOS(Complementary Metal Oxide
Semiconductor) 回路で構成されていた。各センスアン
プはPチャネルMOS(P-channel Metal OxideSemicon
ductor)回路部と、NチャネルMOS(N-channel Metal
Oxide Semiconductor)回路部とを有しており、複数段
直列に配置した場合には、占有面積が非常に大きなもの
となり、半導体記憶装置の集積度の向上の妨げとなると
いう問題があった。
However, in the conventional semiconductor memory device, each of the sense amplifiers connected in series has an independent CMOS (Complementary Metal Oxide).
Semiconductor) circuit. Each sense amplifier is a P-channel MOS (P-channel Metal Oxide Semicon)
ductor) circuit part and N-channel MOS (N-channel Metal)
Oxide Semiconductor) circuit section and arranged in multiple stages in series, the occupied area becomes very large, which hinders the improvement of the degree of integration of the semiconductor memory device.

【0005】この発明の目的は上記問題点に鑑み、増幅
度を損なうことがなく占有面積を低減し、集積度の向上
を実現した半導体記憶装置を提供することである。
In view of the above problems, it is an object of the present invention to provide a semiconductor memory device in which the occupied area is reduced without impairing the amplification degree and the integration degree is improved.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】請求項1記載の半導体記
憶装置は、第1の相補信号に結合したPチャネルMOS
負荷手段と、第1の相補信号と第2の相補信号と第3の
相補信号と前段制御信号とに結合した前段NチャネルM
OS差動増幅手段と、第1の相補信号と第2の相補信号
と第4の相補信号と後段制御信号とに結合した後段Nチ
ャネルMOS差動増幅手段とを備えたものであり、前段
制御信号を選択した場合には、PチャネルMOS負荷手
段と前段NチャネルMOS差動増幅手段とが、第3の相
補信号を入力とし第2の相補信号を出力とする増幅動作
を行い、後段制御信号を選択した場合には、Pチャネル
MOS負荷手段と後段NチャネルMOS差動増幅手段と
が、第2の相補信号を入力とし第4の相補信号を出力と
する増幅動作を行うようにしたものである。
A semiconductor memory device according to claim 1 is a P-channel MOS coupled to a first complementary signal.
Front stage N-channel M coupled to the load means, the first complementary signal, the second complementary signal, the third complementary signal and the front stage control signal
An OS differential amplifying means, a second-stage N-channel MOS differential amplifying means coupled to the first complementary signal, the second complementary signal, the fourth complementary signal, and the latter-stage control signal are provided, and the former-stage control is performed. When a signal is selected, the P-channel MOS load means and the preceding-stage N-channel MOS differential amplifying means perform an amplifying operation in which the third complementary signal is input and the second complementary signal is output, and the latter-stage control signal is supplied. When is selected, the P-channel MOS load means and the latter-stage N-channel MOS differential amplifier means perform the amplifying operation in which the second complementary signal is input and the fourth complementary signal is output. is there.

【0007】請求項2記載の半導体記憶装置は、第1の
相補信号に結合したPチャネルMOS負荷手段と、第1
の相補信号と第2の相補信号と第3の相補信号と第1の
前段制御信号とに結合した第1の前段NチャネルMOS
差動増幅手段と、第1の相補信号と第2の相補信号と第
4の相補信号と第2の前段制御信号とに結合した第2の
前段NチャネルMOS差動増幅手段と、第1の相補信号
と第2の相補信号と第5の相補信号と後段制御信号とに
結合した後段NチャネルMOS差動増幅手段とを備えた
ものであり、第1の前段制御信号を選択した場合には、
PチャネルMOS負荷手段と第1の前段NチャネルMO
S差動増幅手段とが、第3の相補信号を入力とし第2の
相補信号を出力とする増幅動作を行い、第2の前段制御
信号を選択した場合には、PチャネルMOS負荷手段と
第2の前段NチャネルMOS差動増幅手段とが、第4の
相補信号を入力とし第2の相補信号を出力とする増幅動
作を行い、後段制御信号を選択した場合には、Pチャネ
ルMOS負荷手段と後段NチャネルMOS差動増幅手段
とが、第2の相補信号を入力とし第5の相補信号を出力
とする増幅動作を行うようにしたものである。
According to another aspect of the semiconductor memory device of the present invention, there is provided P-channel MOS load means coupled to the first complementary signal and the first complementary signal.
First pre-stage N-channel MOS coupled to the complementary signal, the second complementary signal, the third complementary signal, and the first pre-stage control signal
Differential amplifying means, second complementary N-channel MOS differential amplifying means coupled to the first complementary signal, the second complementary signal, the fourth complementary signal, and the second upstream control signal; The second-stage N-channel MOS differential amplifying means coupled to the complementary signal, the second complementary signal, the fifth complementary signal, and the latter-stage control signal is provided, and when the first preceding-stage control signal is selected, ,
P-channel MOS load means and first pre-stage N-channel MO
The S differential amplifying means performs an amplifying operation in which the third complementary signal is input and the second complementary signal is output, and when the second preceding stage control signal is selected, the P channel MOS load means and the The second-stage N-channel MOS differential amplifying means of 2 performs an amplifying operation in which the fourth complementary signal is input and the second complementary signal is output, and when the latter-stage control signal is selected, the P-channel MOS load means is provided. And the latter-stage N-channel MOS differential amplifying means performs an amplifying operation in which the second complementary signal is input and the fifth complementary signal is output.

【0008】請求項3記載の半導体記憶装置は、各ゲー
トおよび各ドレインをクロスカップル接続し、各ソース
を電源線に接続し、各ドレインを第1の相補信号に結合
した第1および第2のPチャネルMOSトランジスタを
有するPチャネルMOS負荷手段と、各ゲートを第2の
相補信号に結合し、各ドレインを第1の相補信号に結合
した第1および第2のNチャネルMOSトランジスタ
と、各ドレインを第1および第2のNチャネルMOSト
ランジスタの各ソースに接続し、各ゲートを第2の前段
制御信号に結合した第3および第4のNチャネルMOS
トランジスタと、ドレインを第3および第4のNチャネ
ルMOSトランジスタの各ソースに接続し、ゲートを第
1の前段制御信号に結合し、ソースをグラウンド線に接
続した第5のNチャネルMOSトランジスタとを有する
前段NチャネルMOS差動増幅手段と、各ゲートおよび
各ドレインをクロスカップル接続し、各ドレインを第1
の相補信号に結合した第6および第7のNチャネルMO
Sトランジスタと、ドレインを第6のNチャネルMOS
トランジスタのソースに接続し、ゲートを後段制御信号
に結合し、ソースをグラウンド線に接続した第8のNチ
ャネルMOSトランジスタと、ドレインを第7のNチャ
ネルMOSトランジスタのソースに接続し、ゲートを後
段制御信号に結合し、ソースをグラウンド線に接続した
第9のNチャネルMOSトランジスタとを有する後段N
チャネルMOS差動増幅手段とを備えたものであり、第
1および第2の前段制御信号を選択した場合には、Pチ
ャネルMOS負荷手段と前段NチャネルMOS差動増幅
手段とが、第2の相補信号を入力とし第1の相補信号を
出力とする増幅動作を行い、後段制御信号を選択した場
合には、PチャネルMOS負荷手段と後段NチャネルM
OS差動増幅手段とが、第1の相補信号を入出力とする
増幅動作を行うようにしたものである。
According to another aspect of the semiconductor memory device of the present invention, each gate and each drain are cross-coupled, each source is connected to a power supply line, and each drain is coupled to a first complementary signal. P-channel MOS load means having a P-channel MOS transistor, first and second N-channel MOS transistors having respective gates coupled to a second complementary signal and respective drains coupled to a first complementary signal, and respective drains Connected to respective sources of the first and second N-channel MOS transistors, and third and fourth N-channel MOS transistors in which respective gates are coupled to the second pre-stage control signal.
A transistor and a fifth N-channel MOS transistor whose drain is connected to each source of the third and fourth N-channel MOS transistors, whose gate is coupled to the first pre-stage control signal, and whose source is connected to the ground line. The preceding stage N-channel MOS differential amplifying means having the same and each gate and each drain are cross-coupled, and each drain is a first
6th and 7th N-channel MO coupled to complementary signals of
S-transistor and drain for sixth N-channel MOS
The eighth N-channel MOS transistor, which is connected to the source of the transistor, whose gate is coupled to the latter-stage control signal, whose source is connected to the ground line, and whose drain is connected to the source of the seventh N-channel MOS transistor, and whose gate is the latter stage. N stage N-channel MOS transistor coupled to control signal and having source connected to ground line
Channel MOS differential amplification means, and when the first and second front stage control signals are selected, the P channel MOS load means and the front stage N channel MOS differential amplification means are the second When the amplification operation is performed with the complementary signal as an input and the first complementary signal as an output, and the latter-stage control signal is selected, the P-channel MOS load means and the latter-stage N-channel M are provided.
The OS differential amplification means is configured to perform an amplification operation using the first complementary signal as an input / output.

【0009】請求項4記載の半導体記憶装置は、各ゲー
トおよび各ドレインをクロスカップル接続し、各ソース
を電源線に接続し、各ドレインを第1の相補信号に結合
した第1および第2のPチャネルMOSトランジスタを
有するPチャネルMOS負荷手段と、各ゲートを第2の
相補信号に結合し、各ドレインを第1の相補信号に結合
した第1および第2のNチャネルMOSトランジスタ
と、各ゲートを第1の前段制御信号に結合し、各ドレイ
ンを第1および第2のNチャネルMOSトランジスタの
各ソースに接続した第3および第4のNチャネルMOS
トランジスタと、ドレインを第3および第4のNチャネ
ルMOSトランジスタの各ソースに接続し、ゲートを第
3の前段制御信号に接続し、ソースをグラウンド線に接
続した第5のNチャネルMOSトランジスタとを有する
第1の前段NチャネルMOS差動増幅手段と、各ゲート
を第3の相補信号に結合し、各ドレインを第1の相補信
号に結合した第6および第7のNチャネルMOSトラン
ジスタと、各ゲートを第2の前段制御信号に結合し、各
ドレインを第6および第7のNチャネルMOSトランジ
スタの各ソースに接続した第8および第9のNチャネル
MOSトランジスタと、ドレインを第8および第9のN
チャネルMOSトランジスタの各ソースに接続し、ゲー
トを第3の前段制御信号に結合し、ソースをグラウンド
線に接続した第10のNチャネルMOSトランジスタと
を有する第2の前段NチャネルMOS差動増幅手段と、
各ゲートおよび各ドレインをクロスカップル接続し、各
ドレインを第1の相補信号に結合した第11および第1
2のNチャネルMOSトランジスタと、ドレインを第1
1のNチャネルMOSトランジスタのソースに接続し、
ゲートを後段制御信号に結合し、ソースをグラウンド線
に接続した第13のNチャネルMOSトランジスタと、
ドレインを第12のNチャネルMOSトランジスタのソ
ースに接続し、ゲートを後段制御信号に結合し、ソース
をグラウンド線に接続した第14のNチャネルMOSト
ランジスタとを有する後段NチャネルMOS差動増幅手
段とを備えたものであり、第1および第3の前段制御信
号を選択した場合には、PチャネルMOS負荷手段と第
1の前段NチャネルMOS差動増幅手段とが、第2の相
補信号を入力とし第1の相補信号を出力とする増幅動作
を行い、第2および第3の前段制御信号を選択した場合
には、PチャネルMOS負荷手段と第2の前段Nチャネ
ルMOS差動増幅手段とが、第3の相補信号を入力とし
第1の相補信号を出力とする増幅動作を行い、後段制御
信号を選択した場合には、PチャネルMOS負荷手段と
後段NチャネルMOS差動増幅手段とが、第1の相補信
号を入出力とする増幅動作を行うようにしたものであ
る。
According to another aspect of the semiconductor memory device of the present invention, each gate and each drain are cross-coupled, each source is connected to a power supply line, and each drain is coupled to a first complementary signal. P-channel MOS load means having a P-channel MOS transistor, first and second N-channel MOS transistors having respective gates coupled to a second complementary signal and drains coupled to a first complementary signal, and respective gates To a first pre-stage control signal and each drain is connected to each source of the first and second N-channel MOS transistors.
A transistor and a fifth N-channel MOS transistor whose drain is connected to each source of the third and fourth N-channel MOS transistors, whose gate is connected to the third pre-stage control signal, and whose source is connected to the ground line. A first pre-stage N-channel MOS differential amplifying means, a sixth and seventh N-channel MOS transistor having each gate coupled to a third complementary signal and each drain coupled to a first complementary signal; Eighth and ninth N-channel MOS transistors having their gates coupled to the second pre-stage control signal and having their drains connected to the sources of the sixth and seventh N-channel MOS transistors respectively, and the drains to the eighth and ninth N
Second pre-stage N-channel MOS differential amplification means having a tenth N-channel MOS transistor connected to each source of the channel MOS transistor, having its gate coupled to a third pre-stage control signal and having its source connected to the ground line. When,
Eleventh and first gates in which each gate and each drain are cross-coupled and each drain is coupled to a first complementary signal.
2 N-channel MOS transistors and drain first
Connect to the source of N-channel MOS transistor of 1,
A thirteenth N-channel MOS transistor whose gate is coupled to the latter-stage control signal and whose source is connected to the ground line;
A 14th N-channel MOS transistor having a drain connected to the source of the 12th N-channel MOS transistor, a gate coupled to the latter-stage control signal, and a source connected to the ground line; When the first and third front-stage control signals are selected, the P-channel MOS load means and the first front-stage N-channel MOS differential amplification means input the second complementary signal. When the amplifying operation with the first complementary signal as the output is performed and the second and third front stage control signals are selected, the P channel MOS load means and the second front stage N channel MOS differential amplifier means , A third complementary signal is input and a first complementary signal is output, an amplifying operation is performed, and when the second-stage control signal is selected, the P-channel MOS load means and the second-stage N-channel M are connected. And the S differential amplifying means, in which to perform the amplifying operation to output the first complementary signal.

【0010】[0010]

【作用】請求項1記載の構成によれば、前段制御信号を
選択したときには、PチャネルMOS負荷手段と前段N
チャネルMOS差動増幅手段とが、前段のセンスアンプ
を構成し、また、後段制御信号を選択したときには、P
チャネルMOS負荷手段と後段NチャネルMOS差動増
幅手段とが後段のセンスアンプを構成することとなる。
すなわち、1つのPチャネルMOS負荷手段を直列接続
した複数のNチャネルMOS差動増幅手段間で共有した
ため、従来の独立したセンスアンプと比較してPチャネ
ルMOS負荷手段の占有面積を大幅に低減することがで
きる。従って、増幅度を損なうことなしに高集積度を達
成できる。
According to the structure of claim 1, when the pre-stage control signal is selected, the P-channel MOS load means and the pre-stage N are connected.
When the channel MOS differential amplification means constitutes the preceding stage sense amplifier and the latter stage control signal is selected, P
The channel MOS load means and the latter N-channel MOS differential amplifying means constitute the latter sense amplifier.
That is, since one P-channel MOS load means is shared by a plurality of N-channel MOS differential amplification means connected in series, the area occupied by the P-channel MOS load means is greatly reduced as compared with the conventional independent sense amplifier. be able to. Therefore, a high degree of integration can be achieved without impairing the degree of amplification.

【0011】請求項2記載の構成によれば、第1の前段
制御信号を選択したときには、PチャネルMOS負荷手
段と第1の前段NチャネルMOS差動増幅手段とが、前
段のセンスアンプを構成し、また、第2の前段制御信号
を選択したときには、PチャネルMOS負荷手段と第2
の前段NチャネルMOS差動増幅手段とが、前段のセン
スアンプを構成し、さらに後段制御信号を選択したとき
には、PチャネルMOS負荷手段と後段NチャネルMO
S差動増幅手段とが、後段のセンスアンプを構成するこ
ととなる。すなわち、1つのPチャネルMOS負荷手段
を直列接続した複数のNチャネルMOS差動増幅手段間
で共有したため、従来の独立したセンスアンプと比較し
てPチャネルMOS負荷手段の占有面積を大幅に低減す
ることができる。従って、増幅度を損なうことなしに高
集積度を達成できる。
According to the structure of claim 2, when the first pre-stage control signal is selected, the P-channel MOS load means and the first pre-stage N-channel MOS differential amplifying means constitute a pre-stage sense amplifier. In addition, when the second preceding control signal is selected, the P-channel MOS load means and the second
When the preceding stage N channel MOS differential amplifying means of the above constitutes a preceding stage sense amplifier and further selects the following stage control signal, the P channel MOS load means and the following stage N channel MO
The S differential amplification means constitutes a sense amplifier in the subsequent stage. That is, since one P-channel MOS load means is shared by a plurality of N-channel MOS differential amplification means connected in series, the area occupied by the P-channel MOS load means is greatly reduced as compared with the conventional independent sense amplifier. be able to. Therefore, a high degree of integration can be achieved without impairing the degree of amplification.

【0012】請求項3記載の構成によれば、第1および
第2の前段制御信号を選択したときには、PチャネルM
OS負荷手段と前段NチャネルMOS差動増幅手段と
が、前段のセンスアンプを構成し、また、後段制御信号
を選択したときには、PチャネルMOS負荷手段と後段
NチャネルMOS差動増幅手段とが、後段のセンスアン
プを構成することとなる。すなわち、1つのPチャネル
MOS負荷手段を直列接続した複数のNチャネルMOS
差動増幅手段間で共有したため、従来の独立したセンス
アンプと比較してPチャネルMOS負荷手段の占有面積
を大幅に低減することができる。従って、増幅度を損な
うことなしに高集積度を達成できる。
According to the third aspect of the invention, when the first and second front stage control signals are selected, the P channel M
The OS load means and the preceding N channel MOS differential amplifying means constitute a preceding sense amplifier, and when the following control signal is selected, the P channel MOS loading means and the following N channel MOS differential amplifying means The latter stage sense amplifier will be configured. That is, a plurality of N channel MOSs in which one P channel MOS load means is connected in series
Since it is shared by the differential amplifying means, the area occupied by the P-channel MOS load means can be greatly reduced as compared with the conventional independent sense amplifier. Therefore, a high degree of integration can be achieved without impairing the degree of amplification.

【0013】請求項4記載の構成によれば、第1および
第3の前段制御信号を選択したときには、PチャネルM
OS負荷手段と第1の前段NチャネルMOS差動増幅手
段とが前段のセンスアンプを構成し、また第2および第
3の前段制御信号を選択したときには、PチャネルMO
S負荷手段と第2の前段NチャネルMOS差動増幅手段
とが、前段のセンスアンプを構成し、さらに後段制御信
号を選択したときには、PチャネルMOS負荷手段と後
段NチャネルMOS差動増幅手段とが後段のセンスアン
プを構成することとなる。すなわち、1つのPチャネル
MOS負荷手段を直列接続した複数のNチャネルMOS
差動増幅手段間で共有したため、従来の独立したセンス
アンプと比較してPチャネルMOS負荷手段の占有面積
を大幅に低減することができる。従って、増幅度を損な
うことなしに高集積度を達成できる。
According to the structure of the fourth aspect, when the first and third front stage control signals are selected, the P channel M
When the OS load means and the first front-stage N-channel MOS differential amplification means constitute the front-stage sense amplifier, and when the second and third front-stage control signals are selected, the P-channel MO
When the S load means and the second front N-channel MOS differential amplification means constitute a front-stage sense amplifier and a rear-stage control signal is selected, the P-channel MOS load means and the rear-stage N-channel MOS differential amplification means are connected. Will constitute the sense amplifier in the subsequent stage. That is, a plurality of N channel MOSs in which one P channel MOS load means is connected in series
Since it is shared by the differential amplifying means, the area occupied by the P-channel MOS load means can be greatly reduced as compared with the conventional independent sense amplifier. Therefore, a high degree of integration can be achieved without impairing the degree of amplification.

【0014】[0014]

【実施例】以下、この発明の第1ないし第4の実施例を
図面を参照しながら説明する。図1はこの発明の第1の
実施例の半導体記憶装置の構成を示すブロック図であ
る。図1に示すように、第1の実施例の半導体記憶装置
は、PチャネルMOS負荷手段1と、前段NチャネルM
OS差動増幅手段2と、後段NチャネルMOS差動増幅
手段3とを有している。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS First to fourth embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. 1 is a block diagram showing the configuration of a semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, the semiconductor memory device of the first embodiment has a P-channel MOS load means 1 and a preceding N-channel M.
It has an OS differential amplifying means 2 and a post-stage N-channel MOS differential amplifying means 3.

【0015】PチャネルMOS負荷手段1は、第1の相
補信号6A,7Aに結合される。前段NチャネルMOS
差動増幅手段2は、第1の相補信号6A,7Aと第2の
相補信号6B,7Bと第3の相補信号4,5と前段制御
信号12とに結合される。そして、後段NチャネルMO
S差動増幅手段3は、第1の相補信号6A,7Aと第2
の相補信号6B,7Bと第4の相補信号10,11と後
段制御信号13とに結合されており、全体として2段直
列結合したセンスアンプを構成している。
P-channel MOS load means 1 is coupled to first complementary signals 6A and 7A. Previous N channel MOS
The differential amplifier 2 is coupled to the first complementary signals 6A and 7A, the second complementary signals 6B and 7B, the third complementary signals 4 and 5, and the preceding stage control signal 12. Then, the latter N channel MO
The S differential amplification means 3 includes the first complementary signals 6A and 7A and the second complementary signals 6A and 7A.
Are coupled to the complementary signals 6B and 7B, the fourth complementary signals 10 and 11 and the latter-stage control signal 13 to form a two-stage serially coupled sense amplifier.

【0016】このように構成した第1の実施例の半導体
記憶装置の増幅動作について説明する。まず、初期状態
として、第3の相補信号4,5と第2の相補信号6B,
7Bはイコライズ(等電位)されており、前段制御信号
12および後段制御信号13は共にディセーブル(非選
択)されているものとする。
The amplifying operation of the semiconductor memory device of the first embodiment having the above configuration will be described. First, as an initial state, the third complementary signals 4 and 5 and the second complementary signal 6B,
7B is equalized (equal potential), and both the pre-stage control signal 12 and the post-stage control signal 13 are disabled (non-selected).

【0017】このような状態の際に、メモリセル(図示
せず)などからの微小電位差が入力として第3の相補信
号4,5に与えられたとする。その後、前段制御信号1
2がイネーブル(選択)されると、PチャネルMOS負
荷手段1および前段NチャネルMOS差動増幅手段2が
第1の相補信号6A,7Aを介して第3の相補信号4,
5を入力とし、第2の相補信号6B,7Bを出力とした
前段センスアンプを構成することとなる。これにより増
幅を行なう。
In such a state, it is assumed that a minute potential difference from a memory cell (not shown) or the like is applied to the third complementary signals 4 and 5 as an input. After that, the previous stage control signal 1
When 2 is enabled (selected), the P-channel MOS load means 1 and the preceding N-channel MOS differential amplification means 2 cause the third complementary signal 4 and the third complementary signal 4 via the first complementary signals 6A and 7A.
Thus, a pre-stage sense amplifier having 5 as an input and the second complementary signals 6B and 7B as an output is configured. This causes amplification.

【0018】次に、後段制御信号13がイネーブルされ
ると、PチャネルMOS負荷手段1と後段NチャネルM
OS差動増幅手段3とが、第1の相補信号6A,7Aを
介して前段センスアンプの出力である第2の相補信号6
B,7Bを入力とし、第4の相補信号10,11を出力
とした後段センスアンプを構成することとなる。これに
より、増幅を行なう。
Next, when the post-stage control signal 13 is enabled, the P-channel MOS load means 1 and the post-stage N-channel M are provided.
The OS differential amplifier means 3 and the second complementary signal 6 which is the output of the preceding stage sense amplifier via the first complementary signals 6A and 7A.
A second-stage sense amplifier that receives B and 7B as inputs and outputs the fourth complementary signals 10 and 11 is configured. Thereby, amplification is performed.

【0019】このように第1の実施例の半導体記憶装置
では、1つのPチャネルMOS負荷手段1を、Pチャネ
ルMOS負荷手段1および前段NチャネルMOS差動増
幅手段2からなる前段のセンスアンプと、PチャネルM
OS負荷手段1および後段NチャネルMOS差動増幅手
段3からなる後段のセンスアンプとで共有するため、P
チャネルMOS負荷手段1の占有面積は小さなものとな
る。一方、増幅度は、前段センスアンプおよび後段セン
スアンプ共に独立したセンスアンプのときと同程度を維
持できる。従って、増幅度を損なうことなしに高集積度
を達成できる。
As described above, in the semiconductor memory device of the first embodiment, one P-channel MOS load means 1 is used as a front-stage sense amplifier including the P-channel MOS load means 1 and the front-stage N-channel MOS differential amplification means 2. , P channel M
Since it is shared by the OS load means 1 and the sense amplifier in the subsequent stage including the N-channel MOS differential amplification means 3 in the subsequent stage, P
The area occupied by the channel MOS load means 1 is small. On the other hand, the amplification degree can be maintained at the same level as in the case of independent sense amplifiers for both the front stage sense amplifier and the rear stage sense amplifier. Therefore, a high degree of integration can be achieved without impairing the degree of amplification.

【0020】なお、第1の実施例はセンスアンプを2段
直列にした場合であったが、後段NチャネルMOS差動
増幅手段3をさらに増設したより多段の構成でもよい。
また、第1の実施例では第1の相補信号6A,7Aと第
2の相補信号6B,7Bと第4の相補信号10,11と
を別々の信号として扱ったが、これらを共通にした構成
でも良い。
In the first embodiment, the sense amplifiers are connected in series in two stages, but a multi-stage configuration in which the post-stage N-channel MOS differential amplifying means 3 is further added may be adopted.
Further, in the first embodiment, the first complementary signals 6A and 7A, the second complementary signals 6B and 7B and the fourth complementary signals 10 and 11 are treated as separate signals, but they are common. But good.

【0021】次に、図2はこの発明の第2の実施例の半
導体記憶装置の構成を示すブロック図である。図2に示
すように、第2の実施例の半導体記憶装置は、Pチャネ
ルMOS負荷手段1と、第1の前段NチャネルMOS差
動増幅手段2Aと、第2の前段NチャネルMOS差動増
幅手段2Bと、後段NチャネルMOS差動増幅手段3と
を有している。
Next, FIG. 2 is a block diagram showing a structure of a semiconductor memory device according to a second embodiment of the present invention. As shown in FIG. 2, the semiconductor memory device of the second embodiment includes a P-channel MOS load means 1, a first pre-stage N-channel MOS differential amplifying means 2A, and a second pre-stage N-channel MOS differential amplifying means. It has a means 2B and a latter-stage N-channel MOS differential amplifier means 3.

【0022】PチャネルMOS負荷手段1は、第1の相
補信号6A,7Aに結合される。また、第1の前段Nチ
ャネルMOS差動増幅手段2Aは、第1の相補信号6
A,7Aと第2の相補信号6B,7Bと第3の相補信号
4A,5Aと第1の前段制御信号12Aとに結合され
る。第2の前段NチャネルMOS差動増幅手段2Bは、
第1の相補信号6A,7Aと第2の相補信号6B,7B
と第4の相補信号4B,5Bと第2の前段制御信号12
Bとに結合される。そして、後段NチャネルMOS差動
増幅手段3は、第1の相補信号6A,7Aと第2の相補
信号6B,7Bと第5の相補信号10a,11aと後段
制御信号13とに結合されており、全体として2段直列
接続したセンスアンプを構成している。
P-channel MOS load means 1 is coupled to the first complementary signals 6A and 7A. In addition, the first front stage N-channel MOS differential amplifying means 2A has the first complementary signal 6
A, 7A and the second complementary signals 6B, 7B, the third complementary signals 4A, 5A and the first front stage control signal 12A. The second front stage N-channel MOS differential amplification means 2B is
First complementary signals 6A, 7A and second complementary signals 6B, 7B
And the fourth complementary signals 4B and 5B and the second front stage control signal 12
Is connected to B. The latter-stage N-channel MOS differential amplifying means 3 is coupled to the first complementary signals 6A and 7A, the second complementary signals 6B and 7B, the fifth complementary signals 10a and 11a, and the latter-stage control signal 13. , As a whole, a two-stage series connected sense amplifier is configured.

【0023】このように構成した第2の実施例の半導体
記憶装置の増幅動作について説明する。まず、初期状態
として、第3の相補信号4A,5Aと第4の相補信号4
B,5Bと第2の相補信号6B,7Bとはそれぞれイコ
ライズされており、第1の前段制御信号12A,第2の
前段制御信号12Bおよび後段制御信号13は、共にデ
ィセーブルされているものとする。
The amplifying operation of the semiconductor memory device of the second embodiment having the above configuration will be described. First, as an initial state, the third complementary signals 4A and 5A and the fourth complementary signal 4 are
B and 5B and the second complementary signals 6B and 7B are equalized, respectively, and the first pre-stage control signal 12A, the second pre-stage control signal 12B and the post-stage control signal 13 are both disabled. To do.

【0024】このような状態の際に、メモリセルなどか
らの微小電位差が入力として第3の相補信号4A,5A
に与えられたとする。その後、第1の前段制御信号12
Aがイネーブルされると、PチャネルMOS負荷手段1
と第1の前段NチャネルMOS差動増幅手段2Aとが、
第1の相補信号6A,7Aを介して第3の相補信号4
A,5Aを入力とし、第2の相補信号6B,7Bを出力
とした前段センスアンプを構成することとなる。これに
より増幅を行なう。
In such a state, the minute potential difference from the memory cell or the like is used as an input for the third complementary signals 4A and 5A.
Given to. Then, the first pre-stage control signal 12
When A is enabled, P-channel MOS load means 1
And the first front stage N-channel MOS differential amplification means 2A,
The third complementary signal 4 is transmitted via the first complementary signals 6A and 7A.
A pre-stage sense amplifier having A and 5A as inputs and second complementary signals 6B and 7B as outputs is configured. This causes amplification.

【0025】また、同様に微小電位差入力が第4の相補
信号4B,5Bに与えられた場合には、第2の前段制御
信号12Bがイネーブルされると、PチャネルMOS負
荷手段1と第2の前段NチャネルMOS差動増幅手段2
Bとが第1の相補信号6A,7Aを介して第4の相補信
号4B,5Bを入力とし、第2の相補信号6B,7Bを
出力とした前段センスアンプを構成することとなる。こ
れにより増幅を行なう。
Similarly, when the minute potential difference input is applied to the fourth complementary signals 4B and 5B, when the second front stage control signal 12B is enabled, the P-channel MOS load means 1 and the second complementary control signal 12B are activated. Pre-stage N channel MOS differential amplification means 2
B constitutes a pre-stage sense amplifier which receives the fourth complementary signals 4B and 5B via the first complementary signals 6A and 7A and outputs the second complementary signals 6B and 7B. This causes amplification.

【0026】次に、後段制御信号13がイネーブルされ
ると、PチャネルMOS負荷手段1と後段NチャネルM
OS差動増幅手段3とが、第1の相補信号6A,7Aを
介して前段センスアンプの出力である第2の相補信号6
B,7Bを入力とし、第5の相補信号10a,11aを
出力とした後段センスアンプを構成することとなる。こ
れにより増幅を行なう。
Next, when the post-stage control signal 13 is enabled, the P-channel MOS load means 1 and the post-stage N-channel M are provided.
The OS differential amplifier means 3 and the second complementary signal 6 which is the output of the preceding stage sense amplifier via the first complementary signals 6A and 7A.
B and 7B are input, and the fifth complementary signals 10a and 11a are output to form a post-stage sense amplifier. This causes amplification.

【0027】このように第2の実施例の半導体記憶装置
では、1つのPチャネルMOS負荷手段1を前段のセン
スアンプおよび後段のセンスアンプで共有するため、P
チャネルMOS負荷手段1の占有面積は小さなものとな
る。一方、増幅度は、前段センスアンプおよび後段セン
スアンプ共に独立したセンスアンプのときと同程度を維
持できる。従って、増幅度を損なうことなしに高集積度
を達成できる。
As described above, in the semiconductor memory device of the second embodiment, since one P-channel MOS load means 1 is shared by the preceding sense amplifier and the latter sense amplifier, P
The area occupied by the channel MOS load means 1 is small. On the other hand, the amplification degree can be maintained at the same level as in the case of independent sense amplifiers for both the front stage sense amplifier and the rear stage sense amplifier. Therefore, a high degree of integration can be achieved without impairing the degree of amplification.

【0028】また、第2の実施例では2つの前段制御信
号を2つの入力信号の選択信号として用いてメモリのコ
ラムセレクタとセンスアンプを結合した形になってい
る。このため、より高機能回路への適用が可能である。
なお、この第2の実施例はセンスアンプを2段直列にし
た場合であったが、後段NチャネルMOS差動増幅手段
3をさらに増設したより多段の構成でもよい。また、こ
の第2の実施例では、入力できる信号数が2つの場合で
あったが、前段NチャネルMOS差動増幅手段数を増や
して入力できる信号数を増やしてもよい。さらに、この
第2の実施例では、第1の相補信号6A,7Aと第2の
相補信号6B,7Bと第5の相補信号10a,11aを
別々の信号として扱ったが、これらを共通にした構成で
もよい。
In the second embodiment, two column control signals are used as selection signals for two input signals, and the column selector of the memory and the sense amplifier are connected. Therefore, it can be applied to higher-performance circuits.
In the second embodiment, the sense amplifiers are connected in series in two stages, but a multi-stage configuration in which the post-stage N-channel MOS differential amplifying means 3 is further added may be adopted. In addition, although the number of signals that can be input is two in the second embodiment, the number of signals that can be input may be increased by increasing the number of preceding N-channel MOS differential amplifying means. Furthermore, in the second embodiment, the first complementary signals 6A, 7A, the second complementary signals 6B, 7B and the fifth complementary signals 10a, 11a are treated as separate signals, but they are made common. It may be configured.

【0029】次に、この発明の第3の実施例の半導体記
憶装置を図3および図4を参照しながら説明する。図3
はこの発明の第3の実施例の半導体記憶装置の構成を示
す回路図、図4は同半導体記憶装置の動作を説明するた
めの波形図である。図3に示すように、第3の実施例の
半導体記憶装置は、PチャネルMOS負荷手段1と、前
段NチャネルMOS差動増幅手段2と、後段Nチャネル
MOS差動増幅手段3とを有している。
Next, a semiconductor memory device according to a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. Figure 3
Is a circuit diagram showing a configuration of a semiconductor memory device according to a third embodiment of the present invention, and FIG. 4 is a waveform diagram for explaining the operation of the semiconductor memory device. As shown in FIG. 3, the semiconductor memory device of the third embodiment has P-channel MOS load means 1, pre-stage N-channel MOS differential amplification means 2, and post-stage N-channel MOS differential amplification means 3. ing.

【0030】PチャネルMOS負荷手段1は、Pチャネ
ルMOSトランジスタP1,P2を有するものである。
このPチャネルMOSトランジスタP1,P2は、各ゲ
ートと各ドレインをクロスカップル接続し、各ソースを
電源線に接続し、さらに各ドレインを第1の相補信号
6,7に結合させたものである。
The P-channel MOS load means 1 has P-channel MOS transistors P1 and P2.
Each of the P-channel MOS transistors P1 and P2 has a structure in which each gate and each drain are cross-coupled, each source is connected to a power supply line, and each drain is coupled to the first complementary signals 6 and 7.

【0031】また、前段NチャネルMOS差動増幅手段
2は、NチャネルMOSトランジスタN1,N2,N
3,N4およびN5を有するものである。このNチャネ
ルMOSトランジスタN1,N2は、各ドレインを第1
の相補信号6,7に結合させ、各ゲートを第2の相補信
号4C,5Cに結合させたものである。
The preceding stage N-channel MOS differential amplifying means 2 includes N-channel MOS transistors N1, N2 and N.
3, N4 and N5. These N-channel MOS transistors N1 and N2 have their drains
Of the complementary signals 6 and 7, and each gate is coupled to the second complementary signals 4C and 5C.

【0032】NチャネルMOSトランジスタN3,N4
は、各ゲートを第2の前段制御信号12Bに結合し、各
ドレインをNチャネルMOSトランジスタN1,N2の
各ソースに接続したものである。NチャネルMOSトラ
ンジスタN5は、ゲートを第1の前段制御信号12Aに
接続し、ドレインをNチャネルMOSトランジスタN
3,N4の各ソースに接続し、ソースをグラウンド線に
接続したものである。
N-channel MOS transistors N3 and N4
Is a circuit in which each gate is coupled to the second pre-stage control signal 12B and each drain is connected to each source of the N-channel MOS transistors N1 and N2. The N-channel MOS transistor N5 has a gate connected to the first front stage control signal 12A and a drain connected to the N-channel MOS transistor N5.
3 and N4, and the sources are connected to the ground line.

【0033】また、後段NチャネルMOS差動増幅手段
3は、NチャネルMOSトランジスタN6,N7,N8
およびN9を有するものである。このNチャネルMOS
トランジスタN6,N7は、各ゲートと各ドレインをク
ロスカップル接続し、さらに第1の相補信号6,7に結
合させたものである。NチャネルMOSトランジスタN
8は、ドレインをNチャネルMOSトランジスタN6の
ソースに接続し、ソースをグラウンド線に接続し、ゲー
トを後段制御信号13に結合したものである。同様に、
NチャネルMOSトランジスタN9は、ドレインをNチ
ャネルMOSトランジスタN7のソースに接続し、ソー
スをグラウンド線に接続し、ゲートを後段制御信号13
に結合したものである。
Further, the latter-stage N-channel MOS differential amplifying means 3 includes N-channel MOS transistors N6, N7 and N8.
And N9. This N channel MOS
Transistors N6 and N7 are such that each gate and each drain are cross-coupled and further coupled to the first complementary signals 6 and 7. N-channel MOS transistor N
Reference numeral 8 denotes a drain connected to the source of the N-channel MOS transistor N6, a source connected to the ground line, and a gate coupled to the post-stage control signal 13. Similarly,
The N-channel MOS transistor N9 has a drain connected to the source of the N-channel MOS transistor N7, a source connected to the ground line, and a gate connected to the latter-stage control signal 13.
Combined with.

【0034】このように構成した第3の実施例の半導体
記憶装置の増幅動作について説明する。まず、初期状態
として、第2の相補信号4C,5Cおよび第1の相補信
号6,7がイコライズされており、第1の前段制御信号
12Aおよび後段制御信号13は共にディセーブルされ
ており、第2の前段制御信号12Bはイネーブルされて
いるものとする(図4の符号イの時点)。
The amplifying operation of the semiconductor memory device of the third embodiment having the above structure will be described. First, as an initial state, the second complementary signals 4C and 5C and the first complementary signals 6 and 7 are equalized, and the first front stage control signal 12A and the second stage control signal 13 are both disabled. It is assumed that the preceding stage control signal 12B of No. 2 is enabled (at the time point indicated by symbol a in FIG. 4).

【0035】そこへメモリセルなどからの微小電位差が
入力として第2の相補信号4C,5Cに与えられたとす
る(図4の符号ロの時点)。その後、第1の前段制御信
号12Aがイネーブルされると(図4の符号ハの時
点)、PチャネルMOS負荷手段1と前段NチャネルM
OS差動増幅手段2とが第1の相補信号6,7を介して
第2の相補信号4C,5Cを入力とし、第1の相補信号
6,7を出力とした前段センスアンプを構成し、これに
より増幅動作を行なう。
It is assumed that a minute potential difference from the memory cell or the like is applied as an input to the second complementary signals 4C and 5C (at the time point of the reference numeral B in FIG. 4). After that, when the first front-stage control signal 12A is enabled (at the time point C in FIG. 4), the P-channel MOS load means 1 and the front-stage N-channel M are connected.
The OS differential amplifying means 2 constitutes a pre-stage sense amplifier which receives the second complementary signals 4C and 5C via the first complementary signals 6 and 7 and outputs the first complementary signals 6 and 7. As a result, the amplification operation is performed.

【0036】次に、後段制御信号13がイネーブルさ
れ、それと同時に第2の前段制御信号12Bがディセー
ブルされると(図4の符号ニの時点)、PチャネルMO
S負荷手段1と後段NチャネルMOS差動増幅手段3と
が、入出力を第1の相補信号6,7とした後段センスア
ンプを構成し、これにより増幅動作を行なう(図4の符
号ホの時点)。
Next, when the latter-stage control signal 13 is enabled and at the same time the second former-stage control signal 12B is disabled (at the point of the reference numeral D in FIG. 4), the P-channel MO
The S load means 1 and the post-stage N-channel MOS differential amplification means 3 constitute a post-stage sense amplifier whose input and output are the first complementary signals 6 and 7, and perform an amplification operation (see the symbol e in FIG. 4). Time point).

【0037】このように第3の実施例の半導体記憶装置
では、1つのPチャネルMOS負荷手段1を、前段のセ
ンスアンプおよび後段のセンスアンプで共有したため、
PチャネルMOS負荷手段1の占有面積は小さなものと
なる。一方、増幅度は、前段センスアンプおよび後段セ
ンスアンプ共に独立したセンスアンプのときと同程度に
維持できる。従って、増幅度を損なうことなしに高集積
度を達成できる。また後段センスアンプはラッチ型セン
スアンプを形成しているので、出力電圧のフルスイング
が可能である。
As described above, in the semiconductor memory device of the third embodiment, one P-channel MOS load means 1 is shared by the sense amplifier in the preceding stage and the sense amplifier in the succeeding stage.
The area occupied by the P-channel MOS load means 1 is small. On the other hand, the degree of amplification can be maintained at the same level as in the case of independent sense amplifiers for both the front sense amplifier and the rear sense amplifier. Therefore, a high degree of integration can be achieved without impairing the degree of amplification. Further, since the latter stage sense amplifier forms a latch type sense amplifier, a full swing of the output voltage is possible.

【0038】なお、第3の実施例はセンスアンプを2段
直列にした場合であったが、後段NチャネルMOS差動
増幅手段をさらに増設したより多段の構成でも良い。次
に、第4の実施例の半導体記憶装置について図5および
図6を参照しながら説明する。図5はこの発明の第4の
実施例の半導体記憶装置の構成を示す回路図、図6は同
半導体記憶装置の動作を説明するための波形図である。
In the third embodiment, the sense amplifiers are connected in two stages in series, but a multi-stage configuration in which a post-stage N-channel MOS differential amplifying means is further added may be used. Next, a semiconductor memory device of the fourth embodiment will be described with reference to FIGS. FIG. 5 is a circuit diagram showing a configuration of a semiconductor memory device according to a fourth embodiment of the present invention, and FIG. 6 is a waveform diagram for explaining the operation of the semiconductor memory device.

【0039】第4の実施例の半導体記憶装置は、Pチャ
ネルMOS負荷手段1と、第1の前段NチャネルMOS
差動増幅手段2Aと、第2の前段NチャネルMOS差動
増幅手段2Bと、後段NチャネルMOS差動増幅手段3
とを有している。PチャネルMOS負荷手段1は、Pチ
ャネルMOSトランジスタP1,P2を有する。
The semiconductor memory device of the fourth embodiment comprises a P-channel MOS load means 1 and a first pre-stage N-channel MOS.
Differential amplification means 2A, second front stage N-channel MOS differential amplification means 2B, and rear stage N-channel MOS differential amplification means 3
And have. The P channel MOS load means 1 has P channel MOS transistors P1 and P2.

【0040】このPチャネルMOSトランジスタP1,
P2は、各ゲートと各ドレインをクロスカップル接続
し、各ソースを電源線に接続し、さらに各ドレインを第
1の相補信号6,7に結合したものである。また、第1
の前段NチャネルMOS差動増幅手段2Aは、Nチャネ
ルMOSトランジスタN1,N2,N3,N4およびN
5を有する。
This P channel MOS transistor P1,
In P2, each gate and each drain are cross-coupled, each source is connected to the power supply line, and each drain is coupled to the first complementary signals 6 and 7. Also, the first
The preceding stage N-channel MOS differential amplifying means 2A includes N-channel MOS transistors N1, N2, N3, N4 and N.
Have 5.

【0041】このNチャネルMOSトランジスタN1,
N2は、各ゲートを第2の相補信号4C,5Cに結合
し、各ドレインを第1の相補信号6,7に結合したもの
である。NチャネルMOSトランジスタN3,N4は、
各ゲートを第1の前段制御信号12Aに結合し、各ドレ
インをNチャネルMOSトランジスタN1,N2の各ソ
ースに接続したものである。
This N-channel MOS transistor N1,
N2 has each gate coupled to the second complementary signals 4C and 5C and each drain coupled to the first complementary signals 6 and 7. The N-channel MOS transistors N3 and N4 are
Each gate is coupled to the first pre-stage control signal 12A, and each drain is connected to each source of the N-channel MOS transistors N1 and N2.

【0042】NチャネルMOSトランジスタN5は、ド
レインをNチャネルMOSトランジスタN3,N4の各
ソースに接続し、ソースをグラウンド線に接続し、ゲー
トを第3の前段制御信号12Cに結合したものである。
また、第2の前段NチャネルMOS差動増幅手段2B
は、NチャネルMOSトランジスタN6,N7,N8,
N9およびN10を有する。
The N-channel MOS transistor N5 has a drain connected to the sources of the N-channel MOS transistors N3 and N4, a source connected to the ground line, and a gate coupled to the third pre-stage control signal 12C.
In addition, the second front stage N-channel MOS differential amplification means 2B
Are N-channel MOS transistors N6, N7, N8,
N9 and N10.

【0043】このNチャネルMOSトランジスタN6,
N7は、各ゲートを第3の相補信号4A,5Aに結合
し、各ドレインを第1の相補信号6,7に結合したもの
である。NチャネルMOSトランジスタN8,N9は、
各ゲートを第2の前段制御信号12Bに結合し、各ドレ
インをNチャネルMOSトランジスタN6,N7の各ソ
ースに接続したものである。
This N-channel MOS transistor N6
N7 has each gate coupled to the third complementary signals 4A and 5A and each drain coupled to the first complementary signals 6 and 7. The N-channel MOS transistors N8 and N9 are
Each gate is coupled to the second pre-stage control signal 12B, and each drain is connected to each source of the N-channel MOS transistors N6 and N7.

【0044】NチャネルMOSトランジスタN10は、
ドレインをNチャネルMOSトランジスタN8,N9の
各ソースに接続し、ゲートを第3の前段制御信号12C
に接続し、ソースをグラウンド線に接続したものであ
る。また、後段NチャネルMOS差動増幅手段3は、N
チャネルMOSトランジスタN11,N12,N13お
よびN14を有する。
The N-channel MOS transistor N10 is
The drain is connected to the sources of the N-channel MOS transistors N8 and N9, and the gate is the third pre-stage control signal 12C.
The source is connected to the ground line. Further, the latter-stage N-channel MOS differential amplifying means 3 is
It has channel MOS transistors N11, N12, N13 and N14.

【0045】このNチャネルMOSトランジスタN1
1,N12は、各ゲートと各ドレインをクロスカップル
接続し、さらに第1の相補信号6,7に結合したもので
ある。NチャネルMOSトランジスタN13は、ドレイ
ンをNチャネルMOSトランジスタN11のソースに接
続し、ソースをグラウンド線に接続し、ゲートを後段制
御信号13に結合させたものである。
This N-channel MOS transistor N1
Reference numerals 1 and N12 are obtained by cross-coupling the respective gates and the respective drains and further coupling them to the first complementary signals 6 and 7. The N-channel MOS transistor N13 has a drain connected to the source of the N-channel MOS transistor N11, a source connected to the ground line, and a gate coupled to the latter-stage control signal 13.

【0046】NチャネルMOSトランジスタN14は、
ドレインをNチャネルMOSトランジスタN12のソー
スに接続し、ソースをグラウンド線に接続し、ゲートを
後段制御信号13に結合させたものである。このように
構成した第4の実施例の半導体記憶装置の増幅動作につ
いて説明する。
The N-channel MOS transistor N14 is
The drain is connected to the source of the N-channel MOS transistor N12, the source is connected to the ground line, and the gate is coupled to the post-stage control signal 13. The amplifying operation of the semiconductor memory device of the fourth embodiment having the above configuration will be described.

【0047】まず、初期状態として、第2の相補信号4
C,5Cと第3の相補信号4A,5Aと第1の相補信号
6,7とがイコライズされており、第2の前段制御信号
12B,第3の前段制御信号12Cおよび後段制御信号
13は共にディセーブルされており、第1の前段制御信
号12Aはイネーブルされているものとする(図6の符
号イの時点)。
First, as the initial state, the second complementary signal 4
C, 5C, the third complementary signals 4A, 5A and the first complementary signals 6, 7 are equalized, and the second front stage control signal 12B, the third front stage control signal 12C and the rear stage control signal 13 are all It is assumed that the signal is disabled and the first front-stage control signal 12A is enabled (at the time point indicated by symbol a in FIG. 6).

【0048】そこへメモリセルなどからの微小電位差が
入力として第2の相補信号4C,5Cに与えられたとす
る(図6の符号ロの時点)。その後、第3の前段制御信
号12Cがイネーブルされると(図6の符号ハの時
点)、PチャネルMOS負荷手段1と第1の前段Nチャ
ネルMOS差動増幅手段2Aとが、第1の相補信号6,
7を介して第2の相補信号4C,5Cを入力とし、第1
の相補信号6,7を出力とした前段センスアンプを構成
し、これにより増幅を行なう。
It is assumed that a minute potential difference from a memory cell or the like is applied to the second complementary signals 4C and 5C as an input (at the time point of the reference numeral B in FIG. 6). After that, when the third pre-stage control signal 12C is enabled (at the time of the symbol C in FIG. 6), the P-channel MOS load means 1 and the first pre-stage N-channel MOS differential amplifying means 2A become the first complementary. Signal 6,
The second complementary signals 4C and 5C are input via
A pre-stage sense amplifier that outputs the complementary signals 6 and 7 is constructed, and amplification is performed by this.

【0049】次に、後段制御信号13がイネーブルさ
れ、それと同時に第1の前段制御信号12Aがディセー
ブルされると(図6の符号ニの時点)、PチャネルMO
S負荷手段1と後段NチャネルMOS差動増幅手段3と
が、第1の相補信号6,7を入出力とした後段センスア
ンプを構成し、これにより増幅を行なう(図6の符号ホ
の時点)。
Next, when the latter-stage control signal 13 is enabled and at the same time the first former-stage control signal 12A is disabled (at the point of the reference numeral D in FIG. 6), the P-channel MO
The S load means 1 and the post-stage N-channel MOS differential amplifying means 3 constitute a post-stage sense amplifier that inputs and outputs the first complementary signals 6 and 7, and performs amplification (at the time indicated by the symbol E in FIG. 6). ).

【0050】同様に微小電位差が入力として第3の相補
信号4A,5Aに与えられた場合を説明する。この場
合、初期状態として、第2の相補信号4C,5Cと第3
の相補信号4A,5Aと第1の相補信号6,7とがイコ
ライズされており、第1の前段制御信号12A,第3の
前段制御信号12Cおよび後段制御信号13は共にディ
セーブルされており、第2の前段制御信号12Bがイネ
ーブルされているものとする。
Similarly, the case where a minute potential difference is applied as an input to the third complementary signals 4A and 5A will be described. In this case, as the initial state, the second complementary signals 4C and 5C and the third complementary signal 4C
Complementary signals 4A, 5A and the first complementary signals 6, 7 are equalized, and the first pre-stage control signal 12A, the third pre-stage control signal 12C, and the post-stage control signal 13 are both disabled. It is assumed that the second front stage control signal 12B is enabled.

【0051】そこへ微小電位差が入力として第3の相補
信号4A,5Aに与えられ、その後第3の前段制御信号
12Cがイネーブルされると、PチャネルMOS負荷手
段1と第2の前段NチャネルMOS差動増幅手段2Bと
が第1の相補信号6,7を介して第3の相補信号4A,
5Aを入力とし第1の相補信号6,7を出力とした前段
センスアンプを構成し、これにより増幅を行なう。
When a minute potential difference is applied as an input to the third complementary signals 4A and 5A and then the third front stage control signal 12C is enabled, the P channel MOS load means 1 and the second front stage N channel MOS are provided. The differential amplifying means 2B and the third complementary signal 4A, via the first complementary signal 6 and 7,
A pre-stage sense amplifier having 5A as an input and the first complementary signals 6 and 7 as an output is configured to perform amplification.

【0052】次に、後段制御信号13がイネーブルさ
れ、それと同時に第2の前段制御信号12Bがディセー
ブルされると、PチャネルMOS負荷手段1と後段Nチ
ャネルMOS差動増幅手段3とが第1の相補信号6,7
を入出力とした後段センスアンプを構成し、これにより
増幅を行なう。このように第4の実施例の半導体記憶装
置では、1つのPチャネルMOS負荷手段1を、前段の
センスアンプおよび後段のセンスアンプで共有したた
め、従来と比較してPチャネルMOS負荷手段1の占有
面積は小さなものとなる。一方、増幅度は、前段センス
アンプおよび後段センスアンプ共に独立したセンスアン
プのときと同程度を維持できる。従って、増幅度を損な
うことなしに高集積度を達成できる。
Next, when the latter-stage control signal 13 is enabled and at the same time the second former-stage control signal 12B is disabled, the P-channel MOS load means 1 and the latter-stage N-channel MOS differential amplifying means 3 become the first. Complementary signals 6, 7
A post-stage sense amplifier having the input and output as the input and output is configured to perform amplification. As described above, in the semiconductor memory device of the fourth embodiment, one P-channel MOS load means 1 is shared by the preceding sense amplifier and the subsequent sense amplifier, so that the P-channel MOS load means 1 is occupied as compared with the conventional one. The area will be small. On the other hand, the amplification degree can be maintained at the same level as in the case of independent sense amplifiers for both the front stage sense amplifier and the rear stage sense amplifier. Therefore, a high degree of integration can be achieved without impairing the degree of amplification.

【0053】また、この第4の実施例では2つの前段制
御信号12A,12Bを2つの入力信号の選択信号とし
て用いてメモリのコラムセレクタとセンスアンプを結合
した形になっている。このため、より高機能回路への適
用が可能である。また、後段センスアンプがラッチ型セ
ンスアンプを形成するので、出力電圧のフルスイングが
可能である。
In the fourth embodiment, the two column control signals 12A and 12B are used as selection signals for the two input signals, and the column selector of the memory and the sense amplifier are connected. Therefore, it can be applied to higher-performance circuits. Further, since the latter-stage sense amplifier forms a latch-type sense amplifier, a full swing of the output voltage is possible.

【0054】なお、この第4の実施例では入力できる相
補信号数が2つの場合であったが、前段NチャネルMO
S差動増幅手段数を増やて入力できる相補信号数を増や
しても良い。また、第4の実施例はセンスアンプを2段
直列にした場合であったが、後段NチャネルMOS差動
増幅手段をさらに増設したより多段の構成でもよい。ま
た、第4の実施例では第3の前段制御信号12CでNチ
ャネルMOSトランジスタN5,N10を両方制御して
いるが、信号を分けて制御してもよい。
In the fourth embodiment, the number of complementary signals that can be input is two.
The number of S differential amplification means may be increased to increase the number of complementary signals that can be input. In the fourth embodiment, two stages of sense amplifiers are connected in series, but a multi-stage configuration in which a post-stage N-channel MOS differential amplifying means is further added may be used. Further, in the fourth embodiment, both the N-channel MOS transistors N5 and N10 are controlled by the third front stage control signal 12C, but the signals may be controlled separately.

【0055】[0055]

【発明の効果】請求項1記載の半導体記憶装置によれ
ば、1つのPチャネルMOS負荷手段を直列接続した複
数のNチャネルMOS差動増幅手段間で共有したため、
従来と比較してPチャネルMOS負荷手段の占有面積を
大幅に低減することができる。また、増幅度は独立した
センスアンプのときと同程度を維持できる。よって増幅
度を損なうことなしに高集積化を達成できる。
According to the semiconductor memory device of the first aspect, one P-channel MOS load means is shared by a plurality of N-channel MOS differential amplifier means connected in series.
The area occupied by the P-channel MOS load means can be significantly reduced as compared with the conventional case. Further, the amplification degree can be maintained at the same level as that of the independent sense amplifier. Therefore, high integration can be achieved without impairing the amplification degree.

【0056】請求項2記載の半導体記憶装置によれば、
1つのPチャネルMOS負荷手段を直列接続した複数の
NチャネルMOS差動増幅手段間で共有したため、従来
と比較してPチャネルMOS負荷手段の占有面積を大幅
に低減できる。また、増幅度は独立したセンスアンプの
ときと同程度を維持できる。よって増幅度を損なうこと
なしに高集積化を達成できる。さらに、複数の前段Nチ
ャネルMOS差動増幅手段を有することで複数の入力信
号を選択することができ、コラムセレクタとセンスアン
プを結合した形での高度な用途が可能である。
According to the semiconductor memory device of the second aspect,
Since one P-channel MOS load means is shared by a plurality of N-channel MOS differential amplifier means connected in series, the area occupied by the P-channel MOS load means can be significantly reduced as compared with the conventional case. Further, the amplification degree can be maintained at the same level as that of the independent sense amplifier. Therefore, high integration can be achieved without impairing the amplification degree. Further, by having a plurality of preceding N-channel MOS differential amplifying means, a plurality of input signals can be selected, and a high-level application in the form of coupling the column selector and the sense amplifier is possible.

【0057】請求項3記載の半導体記憶装置によれば、
1つのPチャネルMOS負荷手段を直列接続した複数の
NチャネルMOS差動増幅手段間で共有したため、従来
と比較してPチャネルMOS負荷手段の占有面積を大幅
に低減できる。また、増幅度は独立したセンスアンプの
ときと同程度を維持できる。よって増幅度を損なうこと
なしに高集積化を達成できる。また、PチャネルMOS
負荷手段と後段NチャネルMOS差動増幅手段で構成さ
れる後段センスアンプは、ラッチ型センスアンプを形成
するので、出力電圧のフルスイングが可能である。請求
項4記載の半導体記憶装置によれば、1つのPチャネル
MOS負荷手段を直列接続した複数のNチャネルMOS
差動増幅手段間で共有したため、従来と比較してPチャ
ネルMOS負荷手段の占有面積を大幅に低減できる。ま
た、増幅度は独立したセンスアンプのときと同程度を維
持できる。よって増幅度を損なうことなしに高集積化を
達成できる。さらに、複数の前段NチャネルMOS差動
増幅手段を有することで複数の入力信号を選択すること
ができ、コラムセレクタとセンスアンプを結合した形で
の高度な用途が可能である。また、PチャネルMOS負
荷手段と後段NチャネルMOS差動増幅手段で構成され
る後段センスアンプがラッチ型センスアンプを形成する
ので、出力電圧のフルスイングが可能である。
According to the semiconductor memory device of the third aspect,
Since one P-channel MOS load means is shared by a plurality of N-channel MOS differential amplifier means connected in series, the area occupied by the P-channel MOS load means can be significantly reduced as compared with the conventional case. Further, the amplification degree can be maintained at the same level as that of the independent sense amplifier. Therefore, high integration can be achieved without impairing the amplification degree. In addition, P-channel MOS
Since the latter-stage sense amplifier formed by the load means and the latter-stage N-channel MOS differential amplifier means forms a latch type sense amplifier, the output voltage can be fully swung. According to the semiconductor memory device of claim 4, a plurality of N-channel MOSs in which one P-channel MOS load means is connected in series.
Since it is shared between the differential amplifying means, the area occupied by the P-channel MOS load means can be greatly reduced as compared with the conventional case. Further, the amplification degree can be maintained at the same level as that of the independent sense amplifier. Therefore, high integration can be achieved without impairing the amplification degree. Further, by having a plurality of preceding N-channel MOS differential amplifying means, a plurality of input signals can be selected, and a high-level application in the form of coupling the column selector and the sense amplifier is possible. Further, since the latter-stage sense amplifier composed of the P-channel MOS load means and the latter-stage N-channel MOS differential amplifying means forms a latch type sense amplifier, a full swing of the output voltage is possible.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明の第1の実施例の半導体記憶装置の構
成を示すブロック図(請求項1に対応)である。
FIG. 1 is a block diagram (corresponding to claim 1) showing a configuration of a semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】この発明の第2の実施例の半導体記憶装置の構
成を示すブロック図(請求項2対応)である。
FIG. 2 is a block diagram (corresponding to claim 2) showing a configuration of a semiconductor memory device according to a second embodiment of the present invention.

【図3】この発明の第3の実施例の半導体記憶装置の構
成を示す回路図(請求項3に対応)である。
FIG. 3 is a circuit diagram (corresponding to claim 3) showing a configuration of a semiconductor memory device according to a third embodiment of the present invention.

【図4】同半導体記憶装置の動作を説明するための波形
図である。
FIG. 4 is a waveform diagram for explaining the operation of the same semiconductor memory device.

【図5】この発明の第4の実施例の半導体記憶装置の構
成を示す回路図(請求項4に対応)である。
FIG. 5 is a circuit diagram (corresponding to claim 4) showing a configuration of a semiconductor memory device according to a fourth embodiment of the present invention.

【図6】同半導体記憶装置の動作を説明するための波形
図である。
FIG. 6 is a waveform diagram for explaining the operation of the same semiconductor memory device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 PチャネルMOS負荷手段 2 前段NチャネルMOS差動増幅手段 3 後段NチャネルMOS差動増幅手段 6,7,6A,7A 第1の相補信号 6B,7B,4C,5C 第2の相補信号 4,5,4A,5A 第3の相補信号 10,11,4B,5B 第4の相補信号 10a,11a 第5の相補信号 12 前段制御信号 13 後段制御信号 2A 第1の前段NチャネルMOS差動増幅手段 2B 第2の前段NチャネルMOS差動増幅手段 P1 第1のPチャネルMOSトランジスタ P2 第2のPチャネルMOSトランジスタ N1 第1のNチャネルMOSトランジスタ N2 第2のNチャネルMOSトランジスタ N3 第3のNチャネルMOSトランジスタ N4 第4のNチャネルMOSトランジスタ N5 第5のNチャネルMOSトランジスタ N6 第6のNチャネルMOSトランジスタ N7 第7のNチャネルMOSトランジスタ N8 第8のNチャネルMOSトランジスタ N9 第9のNチャネルMOSトランジスタ N10 第10のNチャネルMOSトランジスタ N11 第11のNチャネルMOSトランジスタ N12 第12のNチャネルMOSトランジスタ N13 第13のNチャネルMOSトランジスタ N14 第14のNチャネルMOSトランジスタ 12A 第1の前段制御信号 12B 第2の前段制御信号 12C 第3の前段制御信号 1 P-channel MOS load means 2 Pre-stage N-channel MOS differential amplification means 3 Rear-stage N-channel MOS differential amplification means 6, 7, 6A, 7A First complementary signal 6B, 7B, 4C, 5C Second complementary signal 4, 5,4A, 5A Third complementary signal 10,11,4B, 5B Fourth complementary signal 10a, 11a Fifth complementary signal 12 Pre-stage control signal 13 Post-stage control signal 2A First pre-stage N-channel MOS differential amplifying means 2B Second pre-stage N-channel MOS differential amplifying means P1 First P-channel MOS transistor P2 Second P-channel MOS transistor N1 First N-channel MOS transistor N2 Second N-channel MOS transistor N3 Third N-channel MOS transistor N4 Fourth N-channel MOS transistor N5 Fifth N-channel MOS transistor N6 Sixth N-channel MOS transistor N7 Seventh N-channel MOS transistor Star N8 Eighth N-channel MOS transistor N9 Ninth N-channel MOS transistor N10 Tenth N-channel MOS transistor N11 Eleventh N-channel MOS transistor N12 Twelfth N-channel MOS transistor N13 Thirteenth N-channel MOS transistor N14 Fourteenth N-channel MOS transistor 12A First pre-stage control signal 12B Second pre-stage control signal 12C Third pre-stage control signal

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 第1の相補信号に結合したPチャネルM
OS負荷手段と、前記第1の相補信号と第2の相補信号
と第3の相補信号と前段制御信号とに結合した前段Nチ
ャネルMOS差動増幅手段と、前記第1の相補信号と前
記第2の相補信号と第4の相補信号と後段制御信号とに
結合した後段NチャネルMOS差動増幅手段とを備え、 前記前段制御信号を選択した場合には、前記Pチャネル
MOS負荷手段と前記前段NチャネルMOS差動増幅手
段とが、前記第3の相補信号を入力とし前記第2の相補
信号を出力とする増幅動作を行い、 前記後段制御信号を選択した場合には、前記Pチャネル
MOS負荷手段と前記後段NチャネルMOS差動増幅手
段とが、前記第2の相補信号を入力とし前記第4の相補
信号を出力とする増幅動作を行うようにした半導体記憶
装置。
1. A P-channel M coupled to a first complementary signal.
OS load means, pre-stage N-channel MOS differential amplification means coupled to the first complementary signal, the second complementary signal, the third complementary signal, and the pre-stage control signal, the first complementary signal and the first complementary signal. A second-stage N-channel MOS differential amplifying means coupled to the second complementary signal, the fourth complementary signal, and the second-stage control signal. When the preceding-stage control signal is selected, the P-channel MOS load means and the preceding stage are provided. The N-channel MOS differential amplifying means performs an amplifying operation in which the third complementary signal is input and the second complementary signal is output, and when the latter-stage control signal is selected, the P-channel MOS load is A semiconductor memory device in which the means and the latter-stage N-channel MOS differential amplifier means perform an amplifying operation in which the second complementary signal is input and the fourth complementary signal is output.
【請求項2】 第1の相補信号に結合したPチャネルM
OS負荷手段と、前記第1の相補信号と第2の相補信号
と第3の相補信号と第1の前段制御信号とに結合した第
1の前段NチャネルMOS差動増幅手段と、前記第1の
相補信号と前記第2の相補信号と第4の相補信号と第2
の前段制御信号とに結合した第2の前段NチャネルMO
S差動増幅手段と、前記第1の相補信号と前記第2の相
補信号と第5の相補信号と後段制御信号とに結合した後
段NチャネルMOS差動増幅手段とを備え、 前記第1の前段制御信号を選択した場合には、前記Pチ
ャネルMOS負荷手段と前記第1の前段NチャネルMO
S差動増幅手段とが、前記第3の相補信号を入力とし前
記第2の相補信号を出力とする増幅動作を行い、 前記第2の前段制御信号を選択した場合には、前記Pチ
ャネルMOS負荷手段と前記第2の前段NチャネルMO
S差動増幅手段とが、前記第4の相補信号を入力とし前
記第2の相補信号を出力とする増幅動作を行い、 前記後段制御信号を選択した場合には、前記Pチャネル
MOS負荷手段と前記後段NチャネルMOS差動増幅手
段とが、前記第2の相補信号を入力とし前記第5の相補
信号を出力とする増幅動作を行うようにした半導体記憶
装置。
2. A P-channel M coupled to the first complementary signal.
OS load means, first pre-stage N-channel MOS differential amplifying means coupled to the first complementary signal, the second complementary signal, the third complementary signal and the first pre-stage control signal, and the first Complementary signal, the second complementary signal, the fourth complementary signal, and the second complementary signal
Second pre-stage N-channel MO coupled to the pre-stage control signal of
S differential amplification means, and second-stage N-channel MOS differential amplification means coupled to the first complementary signal, the second complementary signal, the fifth complementary signal, and the latter-stage control signal, the first differential signal, When the pre-stage control signal is selected, the P-channel MOS load means and the first pre-stage N-channel MO are provided.
The S differential amplifying means performs an amplifying operation in which the third complementary signal is input and the second complementary signal is output, and when the second pre-stage control signal is selected, the P channel MOS Load means and the second front N channel MO
S differential amplifying means performs an amplifying operation in which the fourth complementary signal is input and the second complementary signal is output, and when the latter-stage control signal is selected, the P-channel MOS load means and A semiconductor memory device in which the latter-stage N-channel MOS differential amplifying means performs an amplifying operation in which the second complementary signal is input and the fifth complementary signal is output.
【請求項3】 各ゲートおよび各ドレインをクロスカッ
プル接続し、各ソースを電源線に接続し、各ドレインを
第1の相補信号に結合した第1および第2のPチャネル
MOSトランジスタを有するPチャネルMOS負荷手段
と、 各ゲートを第2の相補信号に結合し、各ドレインを前記
第1の相補信号に結合した第1および第2のNチャネル
MOSトランジスタと、各ドレインを前記第1および第
2のNチャネルMOSトランジスタの各ソースに接続
し、各ゲートを第2の前段制御信号に結合した第3およ
び第4のNチャネルMOSトランジスタと、ドレインを
前記第3および第4のNチャネルMOSトランジスタの
各ソースに接続し、ゲートを第1の前段制御信号に結合
し、ソースをグラウンド線に接続した第5のNチャネル
MOSトランジスタとを有する前段NチャネルMOS差
動増幅手段と、 各ゲートおよび各ドレインをクロスカップル接続し、各
ドレインを前記第1の相補信号に結合した第6および第
7のNチャネルMOSトランジスタと、ドレインを前記
第6のNチャネルMOSトランジスタのソースに接続
し、ゲートを後段制御信号に結合し、ソースを前記グラ
ウンド線に接続した第8のNチャネルMOSトランジス
タと、ドレインを前記第7のNチャネルMOSトランジ
スタのソースに接続し、ゲートを前記後段制御信号に結
合し、ソースを前記グラウンド線に接続した第9のNチ
ャネルMOSトランジスタとを有する後段NチャネルM
OS差動増幅手段とを備え、 前記第1および第2の前段制御信号を選択した場合に
は、前記PチャネルMOS負荷手段と前記前段Nチャネ
ルMOS差動増幅手段とが、前記第2の相補信号を入力
とし前記第1の相補信号を出力とする増幅動作を行い、 前記後段制御信号を選択した場合には、前記Pチャネル
MOS負荷手段と前記後段NチャネルMOS差動増幅手
段とが、前記第1の相補信号を入出力とする増幅動作を
行うようにした半導体記憶装置。
3. A P-channel having first and second P-channel MOS transistors in which each gate and each drain are cross-coupled, each source is connected to a power supply line, and each drain is coupled to a first complementary signal. MOS load means, first and second N-channel MOS transistors each having its gate coupled to a second complementary signal and each drain coupled to said first complementary signal, and each drain having said first and second drains coupled to each other. Of the third and fourth N-channel MOS transistors connected to the respective sources of the N-channel MOS transistors of which respective gates are coupled to the second pre-stage control signal, and the drains of the third and fourth N-channel MOS transistors. A fifth N-channel MOS transistor connected to each source, having its gate coupled to the first pre-control signal and its source connected to the ground line. And a sixth and seventh N-channel MOS transistor in which each gate and each drain are cross-coupled and each drain is coupled to the first complementary signal, and a drain. Is connected to the source of the sixth N-channel MOS transistor, the gate is coupled to the latter-stage control signal, and the source is connected to the ground line, and the drain is the seventh N-channel MOS transistor. A rear N-channel M having a ninth N-channel MOS transistor connected to the source of the transistor, the gate coupled to the rear control signal, and the source connected to the ground line.
OS differential amplifying means, and when the first and second pre-stage control signals are selected, the P-channel MOS load means and the pre-stage N-channel MOS differential amplifying means are the second complementary circuits. When an amplification operation is performed with a signal as an input and the first complementary signal as an output, and the latter-stage control signal is selected, the P-channel MOS load means and the latter-stage N-channel MOS differential amplifier means are A semiconductor memory device configured to perform an amplifying operation using a first complementary signal as an input / output.
【請求項4】 各ゲートおよび各ドレインをクロスカッ
プル接続し、各ソースを電源線に接続し、各ドレインを
第1の相補信号に結合した第1および第2のPチャネル
MOSトランジスタを有するPチャネルMOS負荷手段
と、 各ゲートを第2の相補信号に結合し、各ドレインを前記
第1の相補信号に結合した第1および第2のNチャネル
MOSトランジスタと、各ゲートを第1の前段制御信号
に結合し、各ドレインを前記第1および第2のNチャネ
ルMOSトランジスタの各ソースに接続した第3および
第4のNチャネルMOSトランジスタと、ドレインを前
記第3および第4のNチャネルMOSトランジスタの各
ソースに接続し、ゲートを第3の前段制御信号に接続
し、ソースをグラウンド線に接続した第5のNチャネル
MOSトランジスタとを有する第1の前段NチャネルM
OS差動増幅手段と、 各ゲートを第3の相補信号に結合し、各ドレインを前記
第1の相補信号に結合した第6および第7のNチャネル
MOSトランジスタと、各ゲートを第2の前段制御信号
に結合し、各ドレインを前記第6および第7のNチャネ
ルMOSトランジスタの各ソースに接続した第8および
第9のNチャネルMOSトランジスタと、ドレインを前
記第8および第9のNチャネルMOSトランジスタの各
ソースに接続し、ゲートを前記第3の前段制御信号に結
合し、ソースを前記グラウンド線に接続した第10のN
チャネルMOSトランジスタとを有する第2の前段Nチ
ャネルMOS差動増幅手段と、 各ゲートおよび各ドレインをクロスカップル接続し、各
ドレインを前記第1の相補信号に結合した第11および
第12のNチャネルMOSトランジスタと、ドレインを
前記第11のNチャネルMOSトランジスタのソースに
接続し、ゲートを後段制御信号に結合し、ソースを前記
グラウンド線に接続した第13のNチャネルMOSトラ
ンジスタと、ドレインを前記第12のNチャネルMOS
トランジスタのソースに接続し、ゲートを前記後段制御
信号に結合し、ソースを前記グラウンド線に接続した前
記第14のNチャネルMOSトランジスタとを有する後
段NチャネルMOS差動増幅手段とを備え、 前記第1および第3の前段制御信号を選択した場合に
は、前記PチャネルMOS負荷手段と前記第1の前段N
チャネルMOS差動増幅手段とが、前記第2の相補信号
を入力とし前記第1の相補信号を出力とする増幅動作を
行い、 前記第2および第3の前段制御信号を選択した場合に
は、前記PチャネルMOS負荷手段と前記第2の前段N
チャネルMOS差動増幅手段とが、前記第3の相補信号
を入力とし前記第1の相補信号を出力とする増幅動作を
行い、 前記後段制御信号を選択した場合には、前記Pチャネル
MOS負荷手段と前記後段NチャネルMOS差動増幅手
段とが、前記第1の相補信号を入出力とする増幅動作を
行うようにした半導体記憶装置。
4. A P-channel having first and second P-channel MOS transistors in which each gate and each drain are cross-coupled, each source is connected to a power supply line, and each drain is coupled to a first complementary signal. MOS load means, first and second N-channel MOS transistors each having its gate coupled to a second complementary signal and each drain coupled to said first complementary signal, and each gate having a first pre-stage control signal Of the third and fourth N-channel MOS transistors having drains connected to respective sources of the first and second N-channel MOS transistors, and drains of the third and fourth N-channel MOS transistors. Fifth N-channel MOS transistor connected to each source, gate connected to third pre-control signal, source connected to ground line The first front stage N-channel M and a motor
OS differential amplification means, sixth and seventh N-channel MOS transistors having respective gates coupled to a third complementary signal and drains coupled to the first complementary signal, and respective gates to a second front stage. Eighth and ninth N-channel MOS transistors coupled to a control signal and having drains connected to respective sources of the sixth and seventh N-channel MOS transistors, and drains of the eighth and ninth N-channel MOS transistors. A tenth N connected to each source of the transistor, having a gate coupled to the third pre-control signal and a source connected to the ground line.
Second pre-stage N-channel MOS differential amplification means having a channel MOS transistor, and eleventh and twelfth N-channels in which each gate and each drain are cross-coupled and each drain is coupled to the first complementary signal. A thirteenth N-channel MOS transistor having a MOS transistor and a drain connected to the source of the eleventh N-channel MOS transistor, a gate coupled to a post-stage control signal, and a source connected to the ground line, and a drain to the thirteenth N-channel MOS transistor. 12 N-channel MOS
A second stage N-channel MOS differential amplifying means having a fourteenth N-channel MOS transistor connected to a source of the transistor, a gate coupled to the second-stage control signal, and a source connected to the ground line. When the first and third pre-stage control signals are selected, the P channel MOS load means and the first pre-stage N are selected.
When the channel MOS differential amplifying means performs an amplifying operation in which the second complementary signal is input and the first complementary signal is output, and the second and third pre-stage control signals are selected, The P channel MOS load means and the second front stage N
The channel MOS differential amplifying means performs an amplifying operation in which the third complementary signal is input and the first complementary signal is output, and when the latter-stage control signal is selected, the P-channel MOS load means And a semiconductor memory device in which the latter-stage N-channel MOS differential amplifying means performs an amplifying operation using the first complementary signal as an input / output.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100474994B1 (en) * 1997-08-13 2005-06-17 삼성전자주식회사 Rail operational amplifier output device

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