JPH05238968A - 1,1,1,2−テトラフルオロエタンと1−クロロ−2,2−ジフルオロエチレンとの混合物の1−クロロ−2,2−ジフルオロエチレン含有成分を低下させる方法 - Google Patents
1,1,1,2−テトラフルオロエタンと1−クロロ−2,2−ジフルオロエチレンとの混合物の1−クロロ−2,2−ジフルオロエチレン含有成分を低下させる方法Info
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- JPH05238968A JPH05238968A JP7422092A JP7422092A JPH05238968A JP H05238968 A JPH05238968 A JP H05238968A JP 7422092 A JP7422092 A JP 7422092A JP 7422092 A JP7422092 A JP 7422092A JP H05238968 A JPH05238968 A JP H05238968A
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
- C07C17/093—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens
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- C07C17/21—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens of halogen atoms by other halogen atoms with simultaneous increase of the number of halogen atoms
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
- C07C17/38—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives
- C07C17/395—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives by treatment giving rise to a chemical modification of at least one compound
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【構成】 1,1,1,2−テトラフルオロエタン(H
FC134a)と1−クロロ−2,2−ジフルオロエチ
レン(HCFC1122)との混合物を、50〜180
℃の温度でしかもフッ素化触媒の実質的な不在下に液相
中でフッ化水素と共に加熱することからなる、前記混合
物の1−クロロ−2,2−ジフルオロエチレン含有成分
を低下させる方法。 【効果】 医療用エーロゾルに要求されるきわめて低い
濃度にまでHCFC1122濃度を低下させることがで
きる。
FC134a)と1−クロロ−2,2−ジフルオロエチ
レン(HCFC1122)との混合物を、50〜180
℃の温度でしかもフッ素化触媒の実質的な不在下に液相
中でフッ化水素と共に加熱することからなる、前記混合
物の1−クロロ−2,2−ジフルオロエチレン含有成分
を低下させる方法。 【効果】 医療用エーロゾルに要求されるきわめて低い
濃度にまでHCFC1122濃度を低下させることがで
きる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は精製法に関し、更に詳し
く言えば1−クロロ−2,2−ジフルオロエチレン(H
CFC 1122)と1,1,1,2−テトラフルオロ
エタン(HFC 134a)との混合物の1−クロロ−
2,2,−ジフルオロエチレン含有成分(含有量)を低
下、減少させる方法に関する。
く言えば1−クロロ−2,2−ジフルオロエチレン(H
CFC 1122)と1,1,1,2−テトラフルオロ
エタン(HFC 134a)との混合物の1−クロロ−
2,2,−ジフルオロエチレン含有成分(含有量)を低
下、減少させる方法に関する。
【0002】
【従来の技術及び課題】冷却、空調及び他の用途にクロ
ロフルオロカーボン(CFC8 )の代替品として有用で
あるHFC 134aを生成するためフッ化水素を種々
のC2 化合物例えばトリクロロエチレン及び/又は1−
クロロ−2,2,2−トリフルオロエタン(HCFC
133a)と反応させることは周知である。これらの方
法で得られた典型的な生成物流は有機及び無機の副生物
並びに所望のHFC 134aと一緒に未変化の原料を
含有する。
ロフルオロカーボン(CFC8 )の代替品として有用で
あるHFC 134aを生成するためフッ化水素を種々
のC2 化合物例えばトリクロロエチレン及び/又は1−
クロロ−2,2,2−トリフルオロエタン(HCFC
133a)と反応させることは周知である。これらの方
法で得られた典型的な生成物流は有機及び無機の副生物
並びに所望のHFC 134aと一緒に未変化の原料を
含有する。
【0003】生成物流の他成分からHFC 134aを
分離する目的で種々の慣用の分離技術例えば蒸留及び水
性洗浄が提案されている。然しながら、HFC 134
aの沸点に近い沸点を有する或るハロゲン化炭化水素を
除去するのには格別の支障に出会ってしまう。かかる1
つの化合物は1−クロロ−2,2−ジフルオロエチレン
(HCFC 1122)であり、これは通常比較的少量
で存在するけれどもその毒性の故に実施できるだけ完全
に除去しなければならない。
分離する目的で種々の慣用の分離技術例えば蒸留及び水
性洗浄が提案されている。然しながら、HFC 134
aの沸点に近い沸点を有する或るハロゲン化炭化水素を
除去するのには格別の支障に出会ってしまう。かかる1
つの化合物は1−クロロ−2,2−ジフルオロエチレン
(HCFC 1122)であり、これは通常比較的少量
で存在するけれどもその毒性の故に実施できるだけ完全
に除去しなければならない。
【0004】HFA 134aのHCFC 1122含
有成分を実質的に減少させるために化学的方法と物理的
方法との両方で幾つかの低下方法が提案されている。即
ち米国特許第4,158,675号明細書には、1−ク
ロロ−2,2,2−トリフルオロエタンを気相中で30
0〜400℃でクロミア触媒の存在下にフッ化水素と反
応させることによりHFA 134aを製造する方法が
記載されており、該方法では不純物としてHCFC 1
122を含有するHFA 134a生成物をフッ化水素
と共に100〜275℃の温度でクロミア触媒と接触さ
せ、これによって生成物流のHCFC 1122含有量
を減少させるものである。米国特許第4,129,60
3号明細書においては、HFA 134a生成物流を金
属過マンガン酸塩と接触させることにより該生成物流か
らHCFC 1122を除去することが記載されてい
る。米国特許第4,906,796号明細書において
は、HFA 134a混合物を3.8〜4.8オングス
トロームの平均寸法の細孔を有するゼオライト又はカー
ボン分子篩と接触させることによりHFA 134aか
らHCFC 1122を除去することが記載されてい
る。
有成分を実質的に減少させるために化学的方法と物理的
方法との両方で幾つかの低下方法が提案されている。即
ち米国特許第4,158,675号明細書には、1−ク
ロロ−2,2,2−トリフルオロエタンを気相中で30
0〜400℃でクロミア触媒の存在下にフッ化水素と反
応させることによりHFA 134aを製造する方法が
記載されており、該方法では不純物としてHCFC 1
122を含有するHFA 134a生成物をフッ化水素
と共に100〜275℃の温度でクロミア触媒と接触さ
せ、これによって生成物流のHCFC 1122含有量
を減少させるものである。米国特許第4,129,60
3号明細書においては、HFA 134a生成物流を金
属過マンガン酸塩と接触させることにより該生成物流か
らHCFC 1122を除去することが記載されてい
る。米国特許第4,906,796号明細書において
は、HFA 134a混合物を3.8〜4.8オングス
トロームの平均寸法の細孔を有するゼオライト又はカー
ボン分子篩と接触させることによりHFA 134aか
らHCFC 1122を除去することが記載されてい
る。
【0005】米国特許第4,158,675号明細書に
記載された方法は2個の反応帯域を有する単一の反応器
で実施でき、その際第1の反応帯域(HFA 134a
の製造)は第2の反応帯域(HCFC 1122の除
去)よりも高い温度に維持するものとし、あるいは2個
の別個の反応器で実施できるが、何れの方法を用いると
しても、不純なHFA 134aを気相中でフッ化水素
で処理する時にはクロミア触媒が存在するのが該方法の
必須要件である。
記載された方法は2個の反応帯域を有する単一の反応器
で実施でき、その際第1の反応帯域(HFA 134a
の製造)は第2の反応帯域(HCFC 1122の除
去)よりも高い温度に維持するものとし、あるいは2個
の別個の反応器で実施できるが、何れの方法を用いると
しても、不純なHFA 134aを気相中でフッ化水素
で処理する時にはクロミア触媒が存在するのが該方法の
必須要件である。
【0006】今般見出された所によると驚くべきことに
は、HFA 134aとHCFC1122との混合物の
HCFC 1122含有量は、該混合物をフッ素化触媒
の実質的な不在下で比較的低い温度で液相中のフッ化水
素と共に加熱することにより有効に減少させることがで
き、かくしてきわめて簡単な装置中で熱供給量を低下さ
せながら精製を行なうことができる。
は、HFA 134aとHCFC1122との混合物の
HCFC 1122含有量は、該混合物をフッ素化触媒
の実質的な不在下で比較的低い温度で液相中のフッ化水
素と共に加熱することにより有効に減少させることがで
き、かくしてきわめて簡単な装置中で熱供給量を低下さ
せながら精製を行なうことができる。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明によると、1,
1,1,2−テトラフルオロエタンと1−クロロ−2,
2−ジフルオロエチレンとの混合物を液相中で50〜1
80℃の温度でしかもフッ素化触媒の実質的な不在下に
フッ化水素と共に加熱することからなる、前記混合物の
1−クロロ−2,2−ジフルオロエチレン含有成分の低
下方法が提供される。
1,1,2−テトラフルオロエタンと1−クロロ−2,
2−ジフルオロエチレンとの混合物を液相中で50〜1
80℃の温度でしかもフッ素化触媒の実質的な不在下に
フッ化水素と共に加熱することからなる、前記混合物の
1−クロロ−2,2−ジフルオロエチレン含有成分の低
下方法が提供される。
【0008】本明細書で用いた表現“フッ素化触媒”は
フッ素化反応で使用するのが知られた均質な触媒又は不
均質な触媒の何れかを意味し、不均質な触媒は気相反応
で使用するのが通常であり、均質な触媒は液相反応で使
用するのが通常である。かかる触媒には、アルミニウ
ム、コバルト、マンガン、鉄及び特にクロムの如き金属
の種々の無機化合物例えばオキシド、オキシハライド及
びハライドがある。
フッ素化反応で使用するのが知られた均質な触媒又は不
均質な触媒の何れかを意味し、不均質な触媒は気相反応
で使用するのが通常であり、均質な触媒は液相反応で使
用するのが通常である。かかる触媒には、アルミニウ
ム、コバルト、マンガン、鉄及び特にクロムの如き金属
の種々の無機化合物例えばオキシド、オキシハライド及
びハライドがある。
【0009】フッ素化触媒の“実質的な不在下”とは、
本発明の方法で処理されるHFA134a混合物を製造
するのに用いた方法に応じてコン跡量の触媒例えば該混
合物の約500重量ppm以下であるが好ましくは約2
00重量ppm以下の触媒がHFA 134a混合物中
の不純物として存在しうるけれども、フッ素化触媒を本
発明の方法中に使用しないことを意味する。
本発明の方法で処理されるHFA134a混合物を製造
するのに用いた方法に応じてコン跡量の触媒例えば該混
合物の約500重量ppm以下であるが好ましくは約2
00重量ppm以下の触媒がHFA 134a混合物中
の不純物として存在しうるけれども、フッ素化触媒を本
発明の方法中に使用しないことを意味する。
【0010】本発明の方法は、フッ化水素とC2 化合物
例えばトリクロロエチレン及び/又は1−クロロ−2,
2,2−トリフルオロエタンとの反応によりHFA 1
34aを製造する方法で得られた混合物の如きHFA
134aとHCFC 1122との何れかの混合物に幅
広く応用できる。
例えばトリクロロエチレン及び/又は1−クロロ−2,
2,2−トリフルオロエタンとの反応によりHFA 1
34aを製造する方法で得られた混合物の如きHFA
134aとHCFC 1122との何れかの混合物に幅
広く応用できる。
【0011】本発明の別の要旨によると、次の工程即ち
(a)トリクロロエチレン及び/又は1−クロロ−2,
2,2−トリフルオロエタンをフッ化水素と反応させ、
これによって1,1,1,2−テトラフルオロエタンと
1−クロロ−2,2−ジフルオロエチレンとを含有して
なる生成物流を製造する工程と、(b)工程(a)から
の生成物流を液相中で約50℃〜約180℃の範囲の温
度でしかもフッ素化触媒の実質的な不在下にフッ化水素
と共に加熱し、これによって工程(a)からの生成物流
の1−クロロ−2,2−ジフルオロエチレン含有成分を
低下させる工程とからなる、1,1,1,2−テトラフ
ルオロエタンの製造方法が提供される。
(a)トリクロロエチレン及び/又は1−クロロ−2,
2,2−トリフルオロエタンをフッ化水素と反応させ、
これによって1,1,1,2−テトラフルオロエタンと
1−クロロ−2,2−ジフルオロエチレンとを含有して
なる生成物流を製造する工程と、(b)工程(a)から
の生成物流を液相中で約50℃〜約180℃の範囲の温
度でしかもフッ素化触媒の実質的な不在下にフッ化水素
と共に加熱し、これによって工程(a)からの生成物流
の1−クロロ−2,2−ジフルオロエチレン含有成分を
低下させる工程とからなる、1,1,1,2−テトラフ
ルオロエタンの製造方法が提供される。
【0012】例えば本発明の別の要旨の工程(a)の如
く記載されるかかる方法で製造した混合物はHFA 1
34a及びHCFCのみならず他の成分例えば1−クロ
ロ−2,2,2−トリフルオロエタン、塩化水素及びフ
ッ化水素をも含有するのが普通であり、これらの別成分
は他のハロエタン類の大きな割合で及び小さな割合が存
在し得る。未処理の反応生成物のHCFC 1122含
量は典型的には、少なくとも或る程度まではHFC 1
34aの製造に用いた特定の寸法及び反応条件に応じて
重量基準で20〜1,000ppmである。然しながら
一般的には本発明の方法で及び本発明の別の要旨の工程
(b)で処理される生成物流のHCFC1122含有量
は少なくとも20ppm、及び特に少なくとも40pp
mであるが、或る反応条件下では処理される生成物流の
HCFC 1122含有量はずっと高くさえあり例えば
少なくとも100ppm又は少なくとも1000ppm
でさえあり得る。
く記載されるかかる方法で製造した混合物はHFA 1
34a及びHCFCのみならず他の成分例えば1−クロ
ロ−2,2,2−トリフルオロエタン、塩化水素及びフ
ッ化水素をも含有するのが普通であり、これらの別成分
は他のハロエタン類の大きな割合で及び小さな割合が存
在し得る。未処理の反応生成物のHCFC 1122含
量は典型的には、少なくとも或る程度まではHFC 1
34aの製造に用いた特定の寸法及び反応条件に応じて
重量基準で20〜1,000ppmである。然しながら
一般的には本発明の方法で及び本発明の別の要旨の工程
(b)で処理される生成物流のHCFC1122含有量
は少なくとも20ppm、及び特に少なくとも40pp
mであるが、或る反応条件下では処理される生成物流の
HCFC 1122含有量はずっと高くさえあり例えば
少なくとも100ppm又は少なくとも1000ppm
でさえあり得る。
【0013】所望ならば、前記別成分の1種又はそれ以
上の部分的又は全体的な除去を行なうために前記工程
(a)からの反応流に予備処理を行なうことができ、例
えば工程(b)で本発明の精製法を行なう前に蒸留によ
り予備処理を行なうことができるが、かかる別成分の除
去は本発明の方法と同時に行ない得るのがより都合良
い。然しながら、1−クロロ−2,2,2−トリフルオ
ロエタンを製造するHCFC 1122とフッ化水素と
の反応が可逆反応であり得るとしても前記混合物から1
−クロロ−2,2,2−トリフルオロエタンを除去する
のは必須ではなく;本発明で用いた条件下ではHCFC
1122とフッ化水素との反応は可逆性ではない。
上の部分的又は全体的な除去を行なうために前記工程
(a)からの反応流に予備処理を行なうことができ、例
えば工程(b)で本発明の精製法を行なう前に蒸留によ
り予備処理を行なうことができるが、かかる別成分の除
去は本発明の方法と同時に行ない得るのがより都合良
い。然しながら、1−クロロ−2,2,2−トリフルオ
ロエタンを製造するHCFC 1122とフッ化水素と
の反応が可逆反応であり得るとしても前記混合物から1
−クロロ−2,2,2−トリフルオロエタンを除去する
のは必須ではなく;本発明で用いた条件下ではHCFC
1122とフッ化水素との反応は可逆性ではない。
【0014】本発明のHCFC 1122除去処理過程
では実質的に過剰量のフッ化水素を通常使用する。即
ち、フッ化水素とHCFC 1122との重量割合は通
常少なくとも15:1、好ましくは少なくとも30:1
であり、100:1程の高くあることもでき又は例えば
1000:1の如くより高くさえあることができる。本
法で用いた混合物が例えば本発明の別の要旨の工程
(a)の如く前記した方法によりHFA 134aの製
造で得られた反応生成物である時には、前記混合物のフ
ッ化水素含有量は通常、フッ化水素のそれ以上の添加が
必要でないようなものである。かかる混合物のフッ化水
素含有量はHCFC 1122に関して少なくとも約1
0,000:1程に高くあり得る。
では実質的に過剰量のフッ化水素を通常使用する。即
ち、フッ化水素とHCFC 1122との重量割合は通
常少なくとも15:1、好ましくは少なくとも30:1
であり、100:1程の高くあることもでき又は例えば
1000:1の如くより高くさえあることができる。本
法で用いた混合物が例えば本発明の別の要旨の工程
(a)の如く前記した方法によりHFA 134aの製
造で得られた反応生成物である時には、前記混合物のフ
ッ化水素含有量は通常、フッ化水素のそれ以上の添加が
必要でないようなものである。かかる混合物のフッ化水
素含有量はHCFC 1122に関して少なくとも約1
0,000:1程に高くあり得る。
【0015】前記の混合物は典型的には、50〜180
℃、好ましくは70〜120℃の温度で数時間までの期
間例えば10時間までの期間液体状態に維持する。反応
はHFA 134aとフッ化水素とを液相中に維持する
のに十分な大気圧以上の圧力下で行なうことができる。
それ故圧力は或る程度までは使用温度及び処理される生
成物流の組成に応じて決まるものである。然しながら一
般には、圧力は通常約1バール(barg)〜約30バ
ールの範囲にあるが、より高い圧力下でさえ例えば10
0バール程の高い圧力下でさえ反応を行なうことができ
る。
℃、好ましくは70〜120℃の温度で数時間までの期
間例えば10時間までの期間液体状態に維持する。反応
はHFA 134aとフッ化水素とを液相中に維持する
のに十分な大気圧以上の圧力下で行なうことができる。
それ故圧力は或る程度までは使用温度及び処理される生
成物流の組成に応じて決まるものである。然しながら一
般には、圧力は通常約1バール(barg)〜約30バ
ールの範囲にあるが、より高い圧力下でさえ例えば10
0バール程の高い圧力下でさえ反応を行なうことができ
る。
【0016】本発明の方法により得られたHFA 13
4a生成物の混合物は典型的には10重量ppm以下の
HCFC 1122を含有する。所望ならば、該生成物
に別個の精製処理を施すことができ、特にフッ化水素、
1−クロロ−2,2,2−トリフルオロエタン及び/又
は塩化水素の如き何れかの残留している汚染物を除去す
る目的で、本発明の方法に先立って又はこれと同時にか
かる処理が既に行なわれていなかったならば該精製処理
を施すことができる。所望ならばHCFC 1122不
純物を尚一層減少させるか又は本質的に完全に除去する
のに別の精製処理を施すこともでき;例えば或る専門分
野の用途に例えば医療用エーロゾルに使用するためのH
FA 134aはHCFC 1122を本質的に含有し
てはならない。
4a生成物の混合物は典型的には10重量ppm以下の
HCFC 1122を含有する。所望ならば、該生成物
に別個の精製処理を施すことができ、特にフッ化水素、
1−クロロ−2,2,2−トリフルオロエタン及び/又
は塩化水素の如き何れかの残留している汚染物を除去す
る目的で、本発明の方法に先立って又はこれと同時にか
かる処理が既に行なわれていなかったならば該精製処理
を施すことができる。所望ならばHCFC 1122不
純物を尚一層減少させるか又は本質的に完全に除去する
のに別の精製処理を施すこともでき;例えば或る専門分
野の用途に例えば医療用エーロゾルに使用するためのH
FA 134aはHCFC 1122を本質的に含有し
てはならない。
【0017】残留HCFC 1122を除去するための
好ましい別個の精製処理又は“研磨”処理は3.8〜約
4.8オングストロームの平均直径の細孔を有するゼオ
ライト分子篩特にゼオライトAW−500(カルシウム
チャバザイト)に対してHFA 134aを接触させる
ことからなる。HFA 134aは例えば−50℃〜1
00℃の温度で都合良くは室温で液相又は気相中でゼオ
ライトの充填床(ベッド)上に通送させ得る。かかる研
磨工程前にHCFC 1122の濃度を実質的に低下さ
せるために本発明の方法の操作によって、或る専門分野
の用途例えば医療用エーロゾルに要求されるきわめて低
い濃度にまでHCFC 1122濃度を低下させるに必
要とされるゼオライトの量によりゼオライトをずっとよ
り有効に使用することができる。
好ましい別個の精製処理又は“研磨”処理は3.8〜約
4.8オングストロームの平均直径の細孔を有するゼオ
ライト分子篩特にゼオライトAW−500(カルシウム
チャバザイト)に対してHFA 134aを接触させる
ことからなる。HFA 134aは例えば−50℃〜1
00℃の温度で都合良くは室温で液相又は気相中でゼオ
ライトの充填床(ベッド)上に通送させ得る。かかる研
磨工程前にHCFC 1122の濃度を実質的に低下さ
せるために本発明の方法の操作によって、或る専門分野
の用途例えば医療用エーロゾルに要求されるきわめて低
い濃度にまでHCFC 1122濃度を低下させるに必
要とされるゼオライトの量によりゼオライトをずっとよ
り有効に使用することができる。
【0018】
【実施例】本発明を次の実施例により説明する。
【0019】実施例1 本実施例に1−クロロ−2,2,2−トリフルオロエタ
ンを製造するのに85℃でフッ化水素とHCFC 11
22との触媒無添加(uncatalysed)反応を
例証する。
ンを製造するのに85℃でフッ化水素とHCFC 11
22との触媒無添加(uncatalysed)反応を
例証する。
【0020】無水のフッ化水素(液体,71g)を1l
容量のモネル耐圧容器に装入し、該容器を密封し、その
内容物を85℃に加熱した。HCFC 1122(2
g)を加熱したフッ化水素に注入し、これを撹拌せず、
耐圧容器のヘッドスペース中の蒸気試料を数分毎に取出
しガスクロマトグラフィーによって分析した。15分の
期間後にはHCFC 1122蒸気は全有機物蒸気(最
初は100%のHCFC1122)の33重量%に降下
し、対応して1−クロロ−2,2,2−トリフルオロエ
タンの割合が増大していることが測定された。
容量のモネル耐圧容器に装入し、該容器を密封し、その
内容物を85℃に加熱した。HCFC 1122(2
g)を加熱したフッ化水素に注入し、これを撹拌せず、
耐圧容器のヘッドスペース中の蒸気試料を数分毎に取出
しガスクロマトグラフィーによって分析した。15分の
期間後にはHCFC 1122蒸気は全有機物蒸気(最
初は100%のHCFC1122)の33重量%に降下
し、対応して1−クロロ−2,2,2−トリフルオロエ
タンの割合が増大していることが測定された。
【0021】実施例2 本実施例は、85℃でフッ化水素と共に1−クロロ−
2,2,2−トリフルオロエタンを加熱するとHCFC
1122の形成を生起しないので1−クロロ−2,
2,2−トリフルオロエタンへの転化によりHFA 1
34aからHCFC1122を除去することは1−クロ
ロ−2,2,2−トリフルオロエタンの存在によっては
影響を受けないことを例証する。
2,2,2−トリフルオロエタンを加熱するとHCFC
1122の形成を生起しないので1−クロロ−2,
2,2−トリフルオロエタンへの転化によりHFA 1
34aからHCFC1122を除去することは1−クロ
ロ−2,2,2−トリフルオロエタンの存在によっては
影響を受けないことを例証する。
【0022】無水フッ化水素(50g)と1−クロロ−
2,2,2−トリフルオロエタン(0.6g)との混合
物を密封容器中で85℃で5時間加熱した。この期間後
に、容器のヘッドスペース中の蒸気をガスクロマトグラ
フィーにより分析し;1−クロロ−2,2,2−トリフ
ルオロエタンがHCFC 1122に転化する徴候は検
出されなかった。
2,2,2−トリフルオロエタン(0.6g)との混合
物を密封容器中で85℃で5時間加熱した。この期間後
に、容器のヘッドスペース中の蒸気をガスクロマトグラ
フィーにより分析し;1−クロロ−2,2,2−トリフ
ルオロエタンがHCFC 1122に転化する徴候は検
出されなかった。
【0023】実施例3 本実施例は1−クロロ−2,2,2−トリフルオロエタ
ンとフッ化水素との反応で得られた生成物流の組成と典
型的な組成を有する混合物のHCFC 1122含量の
低下を例証する。
ンとフッ化水素との反応で得られた生成物流の組成と典
型的な組成を有する混合物のHCFC 1122含量の
低下を例証する。
【0024】50mlのハステロイCオートクレーブに
フッ化水素(21.4g)、1−クロロ−2,2,2−
トリフルオロエタン(18g)、1,1,1,2−テト
ラフルオロエタン(3.2g)及びHCFC 1122
(22mg)を装入した。ヘッドスペースのガス試料を
取出し、ガスクロマトグラフィーにより分析した。試料
中の1−クロロ−2,2,2−トリフルオロエタンに関
するHCFC 1122の濃度は0.34容量%である
と見出された。次いでオートクレーブを90℃及び1
0.5バールの圧力で2時間加熱した。この期間後にオ
ートクレーブを室温に冷却し、ヘッドスペースのガス試
料を取出し、ガスクロマトグラフィーにより分析した。
試料は1−クロロ−2,2,2−トリフルオロエタンに
関して0.03%のHCFC 1122を含有すること
が見出された。
フッ化水素(21.4g)、1−クロロ−2,2,2−
トリフルオロエタン(18g)、1,1,1,2−テト
ラフルオロエタン(3.2g)及びHCFC 1122
(22mg)を装入した。ヘッドスペースのガス試料を
取出し、ガスクロマトグラフィーにより分析した。試料
中の1−クロロ−2,2,2−トリフルオロエタンに関
するHCFC 1122の濃度は0.34容量%である
と見出された。次いでオートクレーブを90℃及び1
0.5バールの圧力で2時間加熱した。この期間後にオ
ートクレーブを室温に冷却し、ヘッドスペースのガス試
料を取出し、ガスクロマトグラフィーにより分析した。
試料は1−クロロ−2,2,2−トリフルオロエタンに
関して0.03%のHCFC 1122を含有すること
が見出された。
【0025】実施例4 本実施例はゼオライト分子篩を用いて、低下した濃度の
HCFC 1122を含有するHFA 134a流の
“研磨”を例証する。
HCFC 1122を含有するHFA 134a流の
“研磨”を例証する。
【0026】54ppmのHCFC 1122を含有す
るHFA 134a 40g(本発明によりフッ化水素
で短時間処理した約900〜1000ppmのHCFC
1122を最初は含有するHFA 134aに模擬し
てある)をゼオライト分子篩AW−500(1g)と一
緒に反応容器に装入した。室温で24時間にHFA13
4a中のHCFC 1122濃度は10ppm以下に下
降した。
るHFA 134a 40g(本発明によりフッ化水素
で短時間処理した約900〜1000ppmのHCFC
1122を最初は含有するHFA 134aに模擬し
てある)をゼオライト分子篩AW−500(1g)と一
緒に反応容器に装入した。室温で24時間にHFA13
4a中のHCFC 1122濃度は10ppm以下に下
降した。
【0027】比較の目的で、有意な程に高い初期濃度の
HCFC 1122(928ppm)を含有するHFA
134aの同重量(40g)を前記の方法により処理
し;24時間の期間にHCFC 1122濃度を10p
pm以下に低下させるのに6gのゼオライトを必要とす
ることが見出された。
HCFC 1122(928ppm)を含有するHFA
134aの同重量(40g)を前記の方法により処理
し;24時間の期間にHCFC 1122濃度を10p
pm以下に低下させるのに6gのゼオライトを必要とす
ることが見出された。
【0028】前記の結果が証明する所によれば、本発明
によりフッ化水素との反応によってHFA 134aの
HCFC 1122含有量を先ず減少させることにより
ゼオライト分子篩を用いてHFA 134aからHCF
C 1122を除去するのに有意な程の利点が達成され
る。
によりフッ化水素との反応によってHFA 134aの
HCFC 1122含有量を先ず減少させることにより
ゼオライト分子篩を用いてHFA 134aからHCF
C 1122を除去するのに有意な程の利点が達成され
る。
Claims (10)
- 【請求項1】 1,1,1,2−テトラフルオロエタン
と1−クロロ−2,2−ジフルオロエチレンとの混合物
を、液相中で50〜180℃の温度でしかもフッ素化触
媒の実質的な不在下にフッ化水素と共に加熱し、これに
よって前記混合物の1−クロロ−2,2−ジフルオロエ
チレン含有成分を低下させることからなる、前記混合物
の1−クロロ−2,2−ジフルオロエチレン含有成分の
低下方法。 - 【請求項2】 加熱される前記の混合物はフッ化水素と
トリクロロエチレン及び/又は1−クロロ−2,2,2
−トリフルオロエタンとの反応によって得られた生成物
流である請求項1記載の方法。 - 【請求項3】 前記の混合物は1−クロロ−2,2,2
−トリフルオロエタンを更に含有してなる請求項1又は
2記載の方法。 - 【請求項4】 加熱される前記の混合物の1−クロロ−
2,2−ジフルオロエチレン含有量は少なくとも20p
pmである請求項1〜3の何れかに記載の方法。 - 【請求項5】 加熱される前記の混合物の1−クロロ−
2,2−ジフルオロエチレン含有量は少なくとも100
ppmである請求項4記載の方法。 - 【請求項6】 フッ化水素と前記混合物中の1−クロロ
−2,2−ジフルオロエチレンとの割合は少なくとも1
5:1である請求項1〜5の何れかに記載の方法。 - 【請求項7】 前記の混合物を約70℃〜約120℃の
範囲の温度で加熱する請求項1〜6の何れかに記載の方
法。 - 【請求項8】 本法を実施する圧力は約1バール〜約3
0バールの範囲にある請求項1〜7の何れかに記載の方
法。 - 【請求項9】 1−クロロ−2,2−ジフルオロエチレ
ン含有成分の低下した前記混合物を、約3.8〜約4.
8オングストロームの平均直径の細孔を有するゼオライ
ト分子篩に対して接触させる追加の工程を包含してなる
請求項1〜8の何れかに記載の方法。 - 【請求項10】 次の工程即ち (a)トリクロロエチレン及び/又は1−クロロ−2,
2,2−トリフルオロエタンをフッ化水素と反応させ、
これによって1,1,1,2−テトラフルオロエタンと
1−クロロ−2,2−ジフルオロエチレンとを含有して
なる生成物流を製造する工程と、 (b)工程(a)からの生成物流を液相中で約50℃〜
約180℃の範囲の温度でしかもフッ素化触媒の実質的
な不在下にフッ化水素と共に加熱し、これによって工程
(a)からの生成物流の1−クロロ−2,2−ジフルオ
ロエチレン含有成分を低下させる工程とからなる、1,
1,1,2−テトラフルオロエタンの製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB9107087:0 | 1991-04-04 | ||
GB919107087A GB9107087D0 (en) | 1991-04-04 | 1991-04-04 | Purification process |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05238968A true JPH05238968A (ja) | 1993-09-17 |
Family
ID=10692644
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7422092A Pending JPH05238968A (ja) | 1991-04-04 | 1992-03-30 | 1,1,1,2−テトラフルオロエタンと1−クロロ−2,2−ジフルオロエチレンとの混合物の1−クロロ−2,2−ジフルオロエチレン含有成分を低下させる方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0507458A3 (ja) |
JP (1) | JPH05238968A (ja) |
CA (1) | CA2063697A1 (ja) |
GB (1) | GB9107087D0 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011136955A (ja) * | 2009-12-28 | 2011-07-14 | Union Showa Kk | 高純度含フッ素化合物の製造方法及びその方法で得られた高純度含フッ素化合物 |
JP2021508668A (ja) * | 2018-11-08 | 2021-03-11 | 福建永晶科技股▲ふん▼有限公司Fujian Yongjing Technology Co., Ltd | 1,1,1−トリフルオロ−2−クロロエタン(HCFC−133a)及び/又はトリフルオロエチルアミン(TFEA)の新しい製造方法 |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB9116777D0 (en) * | 1991-08-02 | 1991-09-18 | Ici Plc | Purification of 1,1,1,2-tetrafluoroethane |
DE4335179A1 (de) * | 1993-10-15 | 1995-04-20 | Solvay Fluor & Derivate | Verfahren zur Herstellung von Pentafluorethan und zur Reinigung von 1,1,1,2-Tetrafluorethan |
FR2806077B1 (fr) * | 2000-03-07 | 2004-01-30 | Solvay | Procede pour l'obtention d'un hydrofluoroalcane epure, hydrofluoroalcane epure, utilisation de l'hydrofluoroalcane et methode d'analyse d'un hydrofluoroalcane |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
AU518050B2 (en) * | 1977-02-17 | 1981-09-10 | Imperial Chemical Industries Limited | Manufacture of 1,1,1,2-tetrafluoro ethane & method of reducing amount of 1,1,difluord-chldro ethlene impurity |
US4906796A (en) * | 1989-03-08 | 1990-03-06 | Allied Signal Inc. | Process for purifying 1,1,1,2-tetrafluoroethane |
EP0467531B1 (en) * | 1990-07-04 | 1994-10-05 | Imperial Chemical Industries Plc | Process for the separation of 1,1,1,2-tetrafluoroethane from mixtures thereof with hydrogen fluoride and/or 1-chloro-2,2-difluoroethylene |
-
1991
- 1991-04-04 GB GB919107087A patent/GB9107087D0/en active Pending
-
1992
- 1992-03-09 EP EP19920301969 patent/EP0507458A3/en not_active Ceased
- 1992-03-20 CA CA 2063697 patent/CA2063697A1/en not_active Abandoned
- 1992-03-30 JP JP7422092A patent/JPH05238968A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011136955A (ja) * | 2009-12-28 | 2011-07-14 | Union Showa Kk | 高純度含フッ素化合物の製造方法及びその方法で得られた高純度含フッ素化合物 |
JP2021508668A (ja) * | 2018-11-08 | 2021-03-11 | 福建永晶科技股▲ふん▼有限公司Fujian Yongjing Technology Co., Ltd | 1,1,1−トリフルオロ−2−クロロエタン(HCFC−133a)及び/又はトリフルオロエチルアミン(TFEA)の新しい製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB9107087D0 (en) | 1991-05-22 |
EP0507458A3 (en) | 1993-08-11 |
CA2063697A1 (en) | 1992-10-05 |
EP0507458A2 (en) | 1992-10-07 |
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