JPH05232312A - Production of light shielding layer of color filter for liquid crystal display element - Google Patents

Production of light shielding layer of color filter for liquid crystal display element

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JPH05232312A
JPH05232312A JP3657392A JP3657392A JPH05232312A JP H05232312 A JPH05232312 A JP H05232312A JP 3657392 A JP3657392 A JP 3657392A JP 3657392 A JP3657392 A JP 3657392A JP H05232312 A JPH05232312 A JP H05232312A
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JP
Japan
Prior art keywords
layer
light
silicone rubber
photosensitive resin
rubber layer
Prior art date
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Application number
JP3657392A
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Japanese (ja)
Inventor
Kuniko Kimura
邦子 木村
Masao Iwamoto
昌夫 岩本
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Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH05232312A publication Critical patent/JPH05232312A/en
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Abstract

PURPOSE:To easily and efficiently obtain a patterned light shielding layer at high accuracy by applying a specified ink compsn., curing, and then removing a photosensitive resin layer and a silicone rubber layer by the same means as used for a developing process. CONSTITUTION:A photosensitive resin layer which becomes soluble in an area exposed to light and a silicone rubber layer are laminated in this order on the surface of a light-transmitting base body. This laminated body is exposed and developed by photolithography to remove the exposed area of the silicone rubber layer and the photosensitive resin layer under the silicone rubber layer to form a pattern. Then an ink compsn. containing a black coloring material which is cured with light or heat is applied on the pattern part and subjected to posttreatment. Then the photosensitive resin layer 5 remaining on the substrate where the layer is not exposed in the pattern exposing process is exposed over the whole surface to become soluble. Then the remaining photosensitive layer is removed with the upper silicon rubber layer. In this case, the silicone rubber layer has to have repelling effect against the ink compsn. used for coloring.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、液晶表示素子用カラ−
フィルタの画素間に設けられる遮光層を簡便かつ高精度
に作製する方法に関するものであり、これに従来からの
技術によりRGB三原色の着色画素を形成して液晶表示
素子用カラ−フィルタを提供するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to a color for a liquid crystal display device.
The present invention relates to a method for producing a light-shielding layer provided between pixels of a filter simply and with high accuracy, and providing colored pixels of three primary colors of RGB by a conventional technique to provide a color filter for a liquid crystal display device. Is.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶表示素子用カラ−フィルタは液晶表
示素子をカラ−化するための必須部材であり、ガラスあ
るいは透明プラスチック基板上に着色画素を形成して作
られる。赤(R),緑(G),青(B)三原色の画素を
ライン状やモザイク状に配置した構成でそのサイズは10
0 μm 前後である。各画素の間には、画像のコントラス
トを高めるため、一般にブラックマトリックスと呼ばれ
る遮光層が形成される。アクティブマトリクス駆動方式
においてはトランジスタや配線部の遮蔽のため遮光部を
形成している。
2. Description of the Related Art A color filter for a liquid crystal display device is an essential member for colorizing a liquid crystal display device and is formed by forming colored pixels on a glass or transparent plastic substrate. Red (R), green (G), and blue (B) pixels of the three primary colors are arranged in a line or mosaic, and the size is 10
It is around 0 μm. A light-shielding layer generally called a black matrix is formed between each pixel in order to enhance the contrast of an image. In the active matrix driving method, a light shielding portion is formed to shield the transistor and the wiring portion.

【0003】ブラックマトリクスは通常金属クロムの蒸
着膜やスパッタリング膜のエッチング加工により形成さ
れており、RGBのそれぞれの画素の配置に対応してス
トライプ状、モザイク状、格子状などの形状で作製され
ているが、その幅は狭いところでは数μm であり、広い
ところでは100 μm 程度になる。クロム薄膜を均一かつ
ピンホ−ルなどの欠陥なく作製することが必須であり、
パタ−ン化には、レジスト塗布、露光・現像、ベ−キン
グ、エッチング、レジスト剥離などの加工工程が必要で
ある。
The black matrix is usually formed by etching a metal chromium deposition film or a sputtering film, and is formed in a stripe shape, a mosaic shape, a grid shape, or the like corresponding to the arrangement of each pixel of RGB. However, the width is several μm in a narrow place and about 100 μm in a wide place. It is essential to produce a chromium thin film uniformly and without defects such as pinholes,
Patterning requires processing steps such as resist coating, exposure / development, baking, etching, and resist stripping.

【0004】これらの遮光層パタ−ンを黒色着色材料を
含む感光性レジスト材料を用いて作製する試みもあるが
遮光効果を高くすることと高感度化、高解像度とは両立
しがたい。感光性または非感光性の黒色着色材料を含む
インキを印刷法でパタ−ン塗布する方法も提案されてい
るが10-50 μm サイズのパタ−ンを形成することは非常
に困難である。
There have been attempts to produce these light-shielding layer patterns using a photosensitive resist material containing a black coloring material, but it is difficult to achieve both high light-shielding effect and high sensitivity and high resolution. Although a method of pattern-coating an ink containing a photosensitive or non-photosensitive black coloring material by a printing method has been proposed, it is very difficult to form a pattern of 10-50 μm size.

【0005】高い遮光性と高精度のパタ−ン形成性が要
求されるため現在は金属クロムの薄膜をエッチング処理
して作製している。ブラックマトリクスが形成されてい
る基板にRGBの三原色の画素部分を形成する方法に
は、染色法、顔料分散法、電着法、印刷法などが提案さ
れている。
Since a high light-shielding property and a high-precision pattern forming property are required, a metal chromium thin film is currently produced by etching. A dyeing method, a pigment dispersion method, an electrodeposition method, a printing method, and the like have been proposed as methods for forming pixel portions of three primary colors of RGB on a substrate on which a black matrix is formed.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、かかる従来
技術の諸欠点に鑑み創案されたもので、その目的とする
ところはカラ−フィルタの高品質化に必須であるパタ−
ン化された遮光層をより簡便かつ効率的に、しかも高精
度に作製する方法を提供することにある。
The present invention was devised in view of the above-mentioned drawbacks of the prior art. The purpose of the present invention is a pattern which is essential for improving the quality of color filters.
An object of the present invention is to provide a method for producing a light-shielding light-shielding layer, which is simpler, more efficient, and highly accurate.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明は、光透過性基材
表面に、露光部分が可溶化する感光性樹脂層およびシリ
コ−ンゴム層をこの順に積層した後、該積層体をフォト
リソグラフィ法により露光・現像することにより露光部
分のシリコ−ンゴム層とその下の感光性樹脂層とを共に
除去してパタ−ンを形成し、ついで黒色着色材料を含み
光、熱などの作用で硬化するインキ組成物を該パタ−ン
部分に塗布し後処理を行った後、上記パタ−ン露光時に
非露光部であった残留感光性樹脂層を全面に露光するこ
とにより可溶化し上部のシリコ−ンゴム層と共に除去す
ることを特徴とする液晶表示素子用カラ−フィルタの遮
光層の作製法に関する。
According to the present invention, a photosensitive resin layer and a silicone rubber layer in which exposed portions are solubilized are laminated in this order on the surface of a light-transmissive substrate, and then the laminated body is subjected to a photolithography method. By exposing and developing, the silicone rubber layer in the exposed portion and the photosensitive resin layer thereunder are both removed to form a pattern, and then a black coloring material is included and cured by the action of light, heat, etc. After the ink composition is applied to the pattern portion and post-treated, the residual photosensitive resin layer, which was the non-exposed portion at the time of the pattern exposure, is exposed to the entire surface to be solubilized and the silicone on the upper portion. The present invention relates to a method of manufacturing a light shielding layer of a color filter for a liquid crystal display element, which is characterized in that it is removed together with a rubber layer.

【0008】すなわち、本発明はフォトリソグラフィに
よりパタ−ニング加工された反発性シリコ−ンゴム層に
より形成された凹部に主として熱硬化する黒色着色材料
を含有するインキ組成物を塗布して硬化させた後、パタ
−ニングに用いた感光性樹脂層とその上のシリコ−ンゴ
ム層とを現像工程と同様の手段で取り除くことで遮光層
パタ−ンを形成するものである。
That is, according to the present invention, after the ink composition containing a black coloring material which is mainly thermosetting is applied to the concave portion formed by the repulsive silicone rubber layer patterned by photolithography and then cured, The light-shielding layer pattern is formed by removing the photosensitive resin layer used for the patterning and the silicone rubber layer thereover by the same means as in the developing step.

【0009】黒色に着色された組成物を光硬化させる必
要はないので、遮光のため着色成分を高濃度化すること
が可能である。金属クロム薄膜を用いる方法の様な繁雑
な工程や反射率が高いことによる障害や材料の毒性の問
題もなくなる。また、印刷法より数段の高精度が達成で
きる。
Since it is not necessary to photo-cure the composition colored in black, it is possible to increase the concentration of the coloring component for light shielding. There are no problems such as complicated processes such as the method using a metal chrome thin film and obstacles due to high reflectance and toxicity of materials. In addition, it is possible to achieve several steps of high accuracy compared to the printing method.

【0010】本発明で用いる光透明性基板は、ガラスや
透明プラスチックシ−トで、この上に下地層を形成ある
いは形成せずに感光性樹脂層とシリコ−ンゴム層をこの
順に形成する。
The light-transparent substrate used in the present invention is a glass or transparent plastic sheet, on which a photosensitive resin layer and a silicone rubber layer are formed in this order with or without an underlayer.

【0011】本発明で用いる感光性樹脂層は、露光部が
変化して可溶化するタイプである。露光部が変化して可
溶化する性質を有する感光性樹脂組成物としては、LSI
の製造に用いられるポジ型レジストがある。ポジ型レジ
ストとしては例えばクレゾ−ルノボラック樹脂にナフト
キノンジアジド化合物を配合したものであり市販のレジ
ストをそのまま利用することもできる。
The photosensitive resin layer used in the present invention is of a type in which the exposed area changes and is solubilized. As a photosensitive resin composition having a property that the exposed portion changes and becomes soluble,
There is a positive type resist used for manufacturing. As the positive resist, for example, a cresol-novolak resin is mixed with a naphthoquinonediazide compound, and a commercially available resist can be used as it is.

【0012】この感光性樹脂層の上に反発性能を有する
シリコ−ンゴム層を形成する。露光による物性変化で感
光性樹脂層の溶解性が変化しこれを利用して現像してパ
タ−ン化を行う。この際に、感光性樹脂層の工夫によ
り、露光部の感光性樹脂層とその上のシリコ−ンゴム層
を共に除去することも、シリコ−ンゴム層だけを除去す
ることも可能である。両層共に除去するのが一般的であ
る。
A silicone rubber layer having a resilience performance is formed on the photosensitive resin layer. The solubility of the photosensitive resin layer changes due to changes in the physical properties due to exposure, and this is used to develop and pattern. At this time, by devising the photosensitive resin layer, it is possible to remove both the photosensitive resin layer in the exposed portion and the silicone rubber layer thereabove, or to remove only the silicone rubber layer. Generally, both layers are removed.

【0013】表層に塗設されるシリコ−ンゴム層は、着
色に用いるインキ組成物に対して反発効果を有すること
が必須であり、これに限定されるものではないが、次の
様な繰り返し単位を有する分子量数千〜数十万の線状有
機ポリシロキサンを主成分とするものである。
It is essential that the silicone rubber layer coated on the surface layer has a repulsive effect with respect to the ink composition used for coloring, but it is not limited thereto, but the following repeating units are included. The main component is a linear organic polysiloxane having a molecular weight of several thousand to several hundred thousand.

【0014】[0014]

【化1】 (ここでn は2以上の整数、Rは炭素数 1〜10のアルキ
ル基、アルケニル基あるいはフェニル基である) この様な線状有機ポリシロキサンをまばらに架橋するこ
とによりシリコ−ンゴムが得られる。架橋剤は、いわゆ
る室温(低温)硬化型のシリコ−ンゴムに使われるアセ
トキシシラン、ケトオキシムシラン、アルコキシシラ
ン、アミノシラン、アミドシラン、アルケニオキシシラ
ンなどであり、通常線状の有機ポリシロキサンとして末
端が水酸基であるものと組み合わせて、それぞれ脱酢酸
型、脱オキシム型、脱アルコ−ル型、脱アミン型、脱ア
ミド型、脱ケトン型のシリコ−ンゴムとなる。また、シ
リコ−ンゴムには、触媒として少量の有機スズ化合物な
どが添加される。感光性樹脂層とシリコ−ンゴム層の接
着のために層間に接着層として種々のものを用いること
があり、特にアミノシラン化合物や有機チタネ−ト化合
物が好ましい。感光性樹脂層とシリコ−ンゴム層間に接
着層を設ける代わりにシリコ−ンゴム層に接着成分を添
加しておくこともできる。この添加接着成分としてもア
ミノシラン化合物や有機チタネ−ト化合物が使用でき
る。
[Chemical 1] (Here, n is an integer of 2 or more, and R is an alkyl group, an alkenyl group, or a phenyl group having 1 to 10 carbon atoms.) By sparsely crosslinking such a linear organic polysiloxane, a silicone rubber can be obtained. .. The cross-linking agent is acetoxysilane, ketoxime silane, alkoxysilane, aminosilane, amidosilane, alkenioxysilane, etc. used for so-called room temperature (low temperature) curing silicone rubber, and usually has a terminal as a linear organic polysiloxane. Combined with those having a hydroxyl group, they become deacetic acid type, deoxime type, dealcohol type, deamine type, deamidation type and deketone type silicone rubbers, respectively. Further, a small amount of an organic tin compound or the like is added as a catalyst to the silicone rubber. In order to bond the photosensitive resin layer and the silicone rubber layer, various adhesive layers may be used between the layers, and aminosilane compounds and organic titanate compounds are particularly preferable. Instead of providing an adhesive layer between the photosensitive resin layer and the silicone rubber layer, an adhesive component may be added to the silicone rubber layer. An aminosilane compound or an organic titanate compound can also be used as the added adhesive component.

【0015】感光性樹脂層は、ディップ法、ロ−ラコ−
タなどのコ−タ類、ホエラ−、スピナ−などの回転塗布
装置を用い形成する。必要なら、上記と同様の方法で接
着層を塗布・乾燥してから、シリコ−ンゴム層を同様の
方法で塗布し、通常100-130℃の温度で数分熱処理して
シリコ−ンゴム層を形成する。必要ならば、保護カバ−
フィルムを該シリコ−ンゴム層上にラミネ−タ等を用い
てカバ−することがある。保護フィルムは保管、運搬、
取扱い中や作業工程での表面シリコ−ンゴム層の損傷を
防止するためである。一般にはポリプロピレンやポリエ
ステルフィルムを用いる。
The photosensitive resin layer is formed by a dipping method, a roller coat method.
It is formed by using a coating device such as a coater, a spin coater such as a holer, a spinner and the like. If necessary, apply and dry the adhesive layer in the same manner as above, then apply the silicone rubber layer in the same manner and heat-treat at a temperature of 100-130 ° C for several minutes to form the silicone rubber layer. To do. If necessary, a protective cover
The film may be covered on the silicone rubber layer with a laminator or the like. Protective film is stored, transported,
This is to prevent damage to the surface silicone rubber layer during handling or during the working process. Generally, polypropylene or polyester film is used.

【0016】パタ−ン形成は、通常のフォトリソグラフ
ィの手法により行われる。パタ−ンマスクを介して水銀
灯あるいはメタルハライドランプの光で露光した後、現
像には例えば炭化水素とアルコ−ルとの混合溶剤を用い
て露光部の感光性樹脂とシリコ−ンゴムとを除去する。
ブラックマトリクスに対応するシリコ−ンゴムの表層に
囲まれた凹状のパタ−ンができる。
The pattern formation is performed by a usual photolithography technique. After exposure with light from a mercury lamp or a metal halide lamp through a pattern mask, the photosensitive resin and silicone rubber in the exposed area are removed using a mixed solvent of hydrocarbon and alcohol for development, for example.
A concave pattern surrounded by the surface layer of silicone rubber corresponding to the black matrix is formed.

【0017】この凹部に黒色着色材料を含むインキ組成
物をロ−ラコ−タなどの手段で塗布する。パタ−ン化さ
れた凹部以外の部分は反発性のシリコ−ンゴム層であり
インキ組成物は反発され効率的に凹部のみに塗布され
る。このインキ組成物層の厚さは遮光効率により決まる
が、凹部の深さにも依存するので、感光性樹脂層とシリ
コ−ンゴム層との塗布厚さを制御することで対応でき
る。乾燥や硬化処理による収縮などを考慮することも必
要である。
An ink composition containing a black coloring material is applied to the depressions by means of a roller coater or the like. The area other than the patterned recesses is a repulsive silicone rubber layer, and the ink composition is repelled and is efficiently applied only to the recesses. Although the thickness of the ink composition layer is determined by the light-shielding efficiency, it also depends on the depth of the recesses, so that it can be dealt with by controlling the coating thickness of the photosensitive resin layer and the silicone rubber layer. It is also necessary to consider shrinkage due to drying or curing treatment.

【0018】黒色着色材料を含むインキ組成物は可視光
遮断効果を必要とするものである。RGB加工工程での
耐熱、耐薬品性などへの耐性が要求されるので、通常三
次元化構造の硬化樹脂とするのが適当である。硬化は主
として熱による方法が推奨される。着色のためカ−ボン
ブラックなどの顔料を多量に含有させることを必要とす
るので光で硬化させるより熱の方が有効である。光によ
り表層だけ硬化させて、不要になったシリコ−ンゴム層
をその下の感光性樹脂層と共に除去する際の耐性のみを
与えることはプロセス上の観点では有効である。インキ
組成物をパタ−ン凹部に塗布した後、全面に露光する
と、残存していた部分の感光性樹脂層が反応して物性が
変化し先にパタ−ンを現像した時と同様に適当な溶剤に
可溶になるので、これを取り除くことができる。この不
要部分の取り除き工程と着色材料の硬化とをどの順で行
うかは用いるインキ組成物の性質を考えて決めることが
できる。
The ink composition containing the black coloring material is required to have a visible light shielding effect. Since resistance to heat resistance, chemical resistance, etc. in the RGB processing step is required, it is usually suitable to use a cured resin having a three-dimensional structure. For the curing, a method mainly using heat is recommended. Since it is necessary to add a large amount of pigment such as carbon black for coloring, heat is more effective than curing by light. It is effective from a process point of view to cure only the surface layer by light and to provide only the resistance when the unnecessary silicone rubber layer is removed together with the underlying photosensitive resin layer. After the ink composition is applied to the pattern recesses and exposed to light, the photosensitive resin layer in the remaining portion reacts to change the physical properties and the pattern is appropriately developed as in the case of developing the pattern earlier. It becomes soluble in the solvent and can be removed. The order in which the step of removing the unnecessary portion and the curing of the coloring material are performed can be determined in consideration of the properties of the ink composition used.

【0019】着色材料は、可視光遮断のための着色成分
となる染料、顔料と膜形成のための樹脂成分あるいは樹
脂形成成分とを主な成分とする組成物である。
The coloring material is a composition mainly composed of a dye or pigment serving as a coloring component for blocking visible light and a resin component for forming a film or a resin forming component.

【0020】膜形成成分を硬化させるには、その手段と
して常温乾燥、強制乾燥、加熱乾燥、高エネルギ−線照
射、などがあり、いずれも工業的に実施されている。加
熱硬化や紫外線・電子線照射硬化が迅速な処理の点で好
ましい。この様な被膜を形成する組成物の被膜形成成分
(バインダ−)として、色々な樹脂成分が利用されてい
る。加熱乾燥型の組成物には、アミノ・アルキッド樹
脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、
フェノ−ル樹脂があり、紫外線硬化型のバインダ−に
は、不飽和ポリエステル樹脂、アクリルオリゴマ、変性
シリコ−ン樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ケイ皮
酸樹脂およびポリチオ−ル樹脂などが例示される。
As means for curing the film-forming component, there are room temperature drying, forced drying, heat drying, high energy ray irradiation, etc., all of which are industrially carried out. Heat curing and ultraviolet ray / electron beam irradiation curing are preferable in terms of rapid processing. Various resin components are used as a film-forming component (binder) of a composition that forms such a film. The heat-drying composition includes amino alkyd resin, epoxy resin, urethane resin, polyester resin,
There is a phenol resin, and examples of the UV-curable binder include unsaturated polyester resin, acrylic oligomer, modified silicone resin, acrylic resin, epoxy resin, cinnamic acid resin and polythiol resin. ..

【0021】メラミン・アルキッド樹脂の硬化は、メラ
ミン樹脂とアルキッド樹脂の反応およびメラミン樹脂の
自己縮合が同時に進行して三次元化し硬化する。硬化促
進にはp-トルエンスルフォン酸やその誘導体が有効であ
る。これに限定されるものではないが、カ−ボンブラッ
クを分散したメラミン樹脂やこれにさらにアルキッド樹
脂を配合したものが使用できる。
In the curing of the melamine-alkyd resin, the reaction between the melamine resin and the alkyd resin and the self-condensation of the melamine resin simultaneously proceed to become three-dimensional and to cure. P-Toluenesulfonic acid and its derivatives are effective for curing. Although not limited to this, a melamine resin in which carbon black is dispersed, or a melamine resin further mixed with an alkyd resin can be used.

【0022】光で硬化することも可能であるが、カ−ボ
ンブラックなどの顔料成分を多く含ませる必要があり、
被膜全体を紫外線照射で硬化させるのは得策ではないの
で、初期硬化あるいは表層のみを硬化させるのに紫外線
を利用し、全体の硬化は熱を利用するのが好ましい。例
えば、紫外線硬化型インキを利用しこれに熱硬化性の成
分あるいはラジカル発生剤を添加して利用する方法であ
る。UVキュアインキは、多くのインキ製造会社から発
売されているので、これらを利用できる。さらに、水な
し平版用として開発されたUVキュアインキならさらに
好適である。例えば、東華色素化学工業(株)の“ベス
トキュア”タイプなどである。熱硬化性の付与には、熱
ラジカル重合開始剤、例えば、過酸化物、アゾビス化合
物などを添加する。
It is possible to cure with light, but it is necessary to add a large amount of pigment components such as carbon black,
Since it is not advisable to cure the entire coating by irradiating it with ultraviolet rays, it is preferable to use ultraviolet rays for initial curing or to cure only the surface layer and to use heat for the overall curing. For example, it is a method in which an ultraviolet curable ink is used and a thermosetting component or a radical generator is added to the ink. UV cure inks are available from many ink manufacturers, so they can be used. Furthermore, the UV curing ink developed for waterless planographic printing is more preferable. For example, it is a “best cure” type manufactured by Toka Color Chemical Co., Ltd. To impart thermosetting properties, a thermal radical polymerization initiator such as a peroxide or an azobis compound is added.

【0023】富士ハント社がカラ−フィルタ用感光性ペ
−ストとして販売している“カラ−モザイク”のブラッ
クに熱重合開始剤を添加したものが例として挙げられ
る。その他、熱硬化性の塗料、インキとして用いられて
いる組成物をベ−スにして、耐熱性や耐薬品性を改善し
たものを利用することができる。
As an example, a black color of "Color Mosaic" sold by Fuji Hunt Co., Ltd. as a photosensitive paste for a color filter to which a thermal polymerization initiator is added is used. In addition, a composition used as a thermosetting paint or ink can be used as a base, and a composition having improved heat resistance and chemical resistance can be used.

【0024】[0024]

【実施例】以下、実施例を挙げて本発明をさらに具体的
に説明する。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail below with reference to examples.

【0025】実施例1 表面に SiO2 膜を形成したガラス基板に、エステル化
度45% のフェノ−ルノボラック樹脂(住友ベ−クライト
製、“スミレジン”PR50235)のナフトキノン-1,2- ジア
ジド-5- スルホン酸エステル(分子量約1300) の10wt.%
ジオキサン溶液を塗布し、60℃熱風中で乾燥し、厚さ2
μm の感光性樹脂層を設けた。この上にγ- アミノピロ
ピルトリエトキシシラン(UCC製:A1100) の0.5wt%n-ヘプ
タン溶液を塗布し100 ℃で乾燥した。さらにこの上に、
次の組成を有するシリコ−ンゴム組成物の10wt%n- ヘプ
タン溶液を塗布し、100 ℃で乾燥して1 μm のシリコ−
ンゴム層を設置した。
Example 1 A naphthoquinone-1,2-diazide-5 of a phenol novolac resin (Sumitomo Becklite, "Sumiresin PR50235") having an esterification degree of 45% was placed on a glass substrate having a SiO 2 film formed on the surface thereof. -10 wt.% Of sulfonic acid ester (molecular weight about 1300)
Apply dioxane solution and dry in hot air at 60 ℃, thickness 2
A μm photosensitive resin layer was provided. A 0.5 wt% n-heptane solution of γ-aminopyropyrtriethoxysilane (manufactured by UCC: A1100) was applied onto this and dried at 100 ° C. On top of this,
A 10 wt% n-heptane solution of a silicone rubber composition having the following composition was applied and dried at 100 ° C to obtain a 1 μm silicone composition.
The rubber layer was installed.

【0026】 シリコ−ンゴム層組成 イ.ポリジメチルシロキサン(分子量約8万、両末端 -OH基) 100wt部 ロ.メチルトリアセトキシシラン 5wt部 ハ.酢酸ジブチルスズ 0.2wt部 超高圧水銀灯露光機で遮光層パタ−ンのマスクを介して
上記のとうり作製した塗布基板に露光し、n-ヘプタン/
エタノ−ル(1:1) 混合液を含ませたパッドで表面を軽く
擦って露光された部分の感光層とその上のシリコ−ンゴ
ム層とを除去し、十分洗浄してパタ−ンが形成された基
板を作製した。
Silicone rubber layer composition a. Polydimethylsiloxane (Molecular weight: about 80,000, -OH groups at both ends) 100 wt. Parts b. Methyltriacetoxysilane 5 wt part c. Dibutyltin acetate 0.2 wt parts Exposed to the coated substrate prepared as above through a mask of the pattern of the light-shielding layer with an ultra-high pressure mercury lamp exposure machine, and n-heptane /
The surface was lightly rubbed with a pad containing an ethanol (1: 1) mixture to remove the exposed photosensitive layer and the silicone rubber layer on it, and then washed thoroughly to form a pattern. The manufactured substrate was produced.

【0027】住友化学(株)“スミレジン”M3(メチロ
−ル化メラミン)に対して5wt%づつのヒドロキシプロピ
ルセルロ−スと硬化剤ACX (住友化学(株)製)を加え
た水溶液に御国色素(株)HIミクロンKカラ−のブラッ
ク#7360を1:1 で混合した黒色着色材料を基板上にの
せ、ゴムロ−ラでパタ−ン化した凹部に塗布した。凹部
以外の部分はシリコ−ンゴム層であり着色材料は反発さ
れてゴムロ−ラ側にもっていかれるのでインキ組成物は
凹部のみに塗設される。
Sumitomo Chemical Co., Ltd. "Sumiresin" M3 (methylolated melamine) 5 wt% of hydroxypropyl cellulose and a curing agent ACX (Sumitomo Chemical Co., Ltd.) was added to an aqueous solution A black coloring material prepared by mixing Black # 7360 of HI Micron K Color Co., Ltd. in a ratio of 1: 1 was placed on the substrate and applied to the concave portion patterned by a rubber roller. The ink composition is applied only to the recesses because the portions other than the recesses are the silicone rubber layer and the coloring material is repelled and brought to the rubber roller side.

【0028】メラミン樹脂は100-120 ℃の加熱で硬化さ
せると現像に用いる溶剤に対する耐性を生じるので、こ
の熱処理の後、全面に露光してn-ヘプタン/エタノ−ル
(1:1) 混合液に浸漬して表面から軽く擦って現像処理
し、不要になったシリコ−ンゴム層とその下の感光性樹
脂層を除去した。基板には黒色着色材料のパタ−ン化の
みが残る。これをさらに熱処理して耐熱、耐薬品性を向
上させた。
When the melamine resin is cured by heating at 100 to 120 ° C., it develops resistance to the solvent used for development. Therefore, after this heat treatment, the entire surface is exposed to n-heptane / ethanol.
It was immersed in a (1: 1) mixed solution and lightly rubbed from the surface for development to remove the unnecessary silicone rubber layer and the photosensitive resin layer thereunder. Only the patterning of the black coloring material remains on the substrate. This was further heat-treated to improve heat resistance and chemical resistance.

【0029】RGBの画素形成には感光性ペ−スト法を
適用してカラ−フィルタを作製した。
A color filter was manufactured by applying a photosensitive paste method to the formation of RGB pixels.

【0030】実施例2 実施例1と同様にシリコ−ンゴム層が除去されたパタ−
ンを作成し、東華色素化学工業(株)製水なし平版用U
Vインキ“ベストキュア”171Aの黒インキをゴムロ−ラ
を用いて表面に塗布して、パタ−ン化された凹部に充填
した。全面に超高圧水銀灯のUV光を照射し、充填した
UVインキを硬化させると共に、シリコ−ンゴム層のパ
タ−ンの際には未露光部であった部分を光反応して現像
液に可溶の状態にする。n-ヘプタン/エタノ−ル(1:1)
混合液を含ませたパッドで表面を軽く擦ってシリコ−ン
ゴム層とその下の感光性樹脂層を溶解除去する。こうす
ると黒色インキのパタ−ンが基板上に残る。インキをさ
らに硬化させるため200 ℃,30 min.ポストキュアをおこ
なった。この様にして作成した遮光層パタ−ンを有する
ガラス基板を、顔料分散法、印刷法などでの着色画素の
形成に利用できる。
Example 2 A pattern in which the silicone rubber layer was removed in the same manner as in Example 1.
U for waterless lithographic plate made by Toka Color Chemical Co., Ltd.
The black ink of V-ink "Best Cure" 171A was applied on the surface using a rubber roller and filled in the patterned recesses. The entire surface is irradiated with the UV light of an ultra-high pressure mercury lamp to cure the filled UV ink, and at the time of the pattern of the silicone rubber layer, the unexposed portion is photoreacted and soluble in the developing solution. To the state of. n-heptane / ethanol (1: 1)
The surface is lightly rubbed with a pad containing the mixed solution to dissolve and remove the silicone rubber layer and the photosensitive resin layer thereunder. This leaves a pattern of black ink on the substrate. Post curing was performed at 200 ° C for 30 min. To further cure the ink. The glass substrate having the light-shielding layer pattern thus produced can be used for forming colored pixels by a pigment dispersion method, a printing method, or the like.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】光透過性基材表面に、露光部分が可溶化す
る感光性樹脂層およびシリコ−ンゴム層をこの順に積層
した後、該積層体をフォトリソグラフィ法により露光・
現像することにより露光部分のシリコ−ンゴム層とその
下の感光性樹脂層とを共に除去してパタ−ンを形成し、
ついで黒色着色材料を含み光、熱などの作用で硬化する
インキ組成物を該パタ−ン部分に塗布し後処理を行った
後、上記パタ−ン露光時に非露光部であった残留感光性
樹脂層を全面に露光することにより可溶化し上部のシリ
コ−ンゴム層と共に除去することを特徴とする液晶表示
素子用カラ−フィルタの遮光層の作製法。
1. A photosensitive resin layer and a silicone rubber layer in which an exposed portion is solubilized are laminated in this order on the surface of a light-transmitting substrate, and the laminated body is exposed by a photolithography method.
By developing, the silicone rubber layer in the exposed portion and the photosensitive resin layer thereunder are both removed to form a pattern,
Then, after applying an ink composition containing a black coloring material and curable by the action of light, heat, etc. to the pattern portion and performing a post-treatment, the residual photosensitive resin which was the non-exposed portion at the time of the pattern exposure. A method for producing a light-shielding layer for a color filter for a liquid crystal display device, which comprises solubilizing the entire surface by exposure to light and removing the layer together with the upper silicone rubber layer.
【請求項2】光透過性基材表面に、その上に積層する感
光性樹脂層または塗布されるインキ組成物に対して親和
性あるいは接着効果を有する下地層を形成することを特
徴とする請求項1の液晶表示素子用カラ−フィルタの遮
光層の作製法。
2. A light-transmitting substrate surface is provided with a photosensitive resin layer to be laminated thereon or a base layer having an affinity or an adhesive effect to the ink composition to be coated. Item 2. A method for producing a light-shielding layer of a color filter for a liquid crystal display element according to item 1.
【請求項3】遮光層が黒色着色材料を含み熱の作用で硬
化するインキ組成物で形成されることを特徴とする請求
項1または2記載の液晶表示素子用カラ−フィルタの遮
光層の作製法。
3. A light-shielding layer of a color filter for a liquid crystal display device according to claim 1, wherein the light-shielding layer is formed of an ink composition containing a black coloring material and cured by the action of heat. Law.
【請求項4】遮光層が黒色着色材料を含み光の作用で初
期硬化し、次いで熱硬化するインキ組成物で形成される
ことを特徴とする請求項1または2記載の液晶表示素子
用カラ−フィルタの遮光層の作製法。
4. The color for a liquid crystal display device according to claim 1, wherein the light-shielding layer is formed of an ink composition containing a black coloring material, which is initially cured by the action of light and then thermally cured. A method of forming a light shielding layer of a filter.
JP3657392A 1992-02-24 1992-02-24 Production of light shielding layer of color filter for liquid crystal display element Pending JPH05232312A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5508134A (en) * 1993-06-29 1996-04-16 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal element manufacturing method

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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