JPH05228613A

JPH05228613A - 含浸装置

Info

Publication number: JPH05228613A
Application number: JP3201992A
Authority: JP
Inventors: Mitsuyoshi Sato; 三由佐藤; Minoru Uozumi; 稔魚住
Original assignee: Toyota Motor Corp
Current assignee: Toyota Motor Corp
Priority date: 1992-02-19
Filing date: 1992-02-19
Publication date: 1993-09-07
Anticipated expiration: 2015-03-21
Also published as: JP3024342B2

Abstract

(57)【要約】【目的】不純物除去装置を一連の含浸液流動路内に含浸
槽から独立させて設けることにより、含浸液の劣化を遅
らせ、かつ、効率よく含浸液の不純物除去を行うことを
目的とする。【構成】含浸槽に収納された含浸液中に空孔中の空気を
除去した鋳造品を浸漬することにより、前記鋳造品に含
浸処理を施す含浸装置において、前記含浸槽に排出路を
介して連通し、前記含浸液中の不純物を除去する不純物
除去装置と、この不純物除去装置と連通し、不純物が除
去された含浸液を前記含浸槽に戻す送出路と、前記含浸
液を前記含浸槽から前記不純物除去槽に流動させ、前記
不純物除去装置にて不純物が除去された含浸液を前記不
純物除去装置から含浸槽に流動させる流動装置とを設け
たことを特徴とする含浸装置。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、鋳造品の鋳巣やピンホ
ール等の空孔内に含浸液を含浸させるための含浸装置に
関するものである。

【０００２】

【従来技術】従来、自動車の鋳造部品の多くは、ダイカ
スト鋳造法にて製造されている。このダイカスト鋳造法
は生産性が良い反面、鋳造品に鋳巣やピンホール等の空
孔が生じ易く、鋳造品の耐圧性が劣るといった問題があ
る。そこで、ダイカスト鋳造法にて製造された鋳造品の
耐圧性を向上させる目的で、熱硬化性樹脂などの有機系
の含浸液を鋳巣やピンホール等の空孔に含浸させるとと
もに該含浸液を硬化させる含浸処理が行なわれている。

【０００３】この含浸処理を行う含浸装置としては、鋳
造品を浸漬する含浸液を有する含浸槽と、この含浸槽に
電磁弁を有する配管を介して連通する貯槽と、前記含浸
槽と前記貯槽とのそれぞれに電磁弁を有する排気管を介
して連通されて設けられた真空ポンプと、一端を貯槽と
含浸槽とそれぞれに連通し、他端を大気に連通し、電磁
弁を有する大気開放通路とで構成されている。

【０００４】そして、鋳造品に含浸処理を施す際には、
含浸槽内に鋳造品を投入し、この含浸槽内を密閉する。
このとき含浸液は、貯槽内に貯溜されている。次に、真
空ポンプを作動させ、含浸槽と真空ポンプを連通する排
気管の電磁弁を開にして、含浸槽内を減圧し、鋳造品の
空孔中に滞留する空気を完全に除去する。続いて、含浸
槽内が所定の減圧度に達したことを確認した後、含浸槽
と貯槽を連通する配管の電磁弁を開にして、貯槽内の含
浸液を貯槽と含浸槽との差圧によって含浸槽に移動さ
せ、鋳造品を含浸液に浸漬させ、その空孔内に含浸液が
浸入する。そして、所要時間待って、真空ポンプを停止
し、真空ポンプと含浸槽を連通する排気路の電磁弁を
閉、含浸槽と外界を連通する大気開放通路の電磁弁を開
として、含浸層内を大気開放する。さらに、真空ポンプ
を作動させ、貯槽と真空ポンプを連通する排気管の電磁
弁を開、他の電磁弁を閉として、含浸槽と貯槽との差圧
によって含浸槽内の含浸液を貯槽に戻し、この後、含浸
槽から鋳造品を取り出し、含浸処理された鋳造品を加熱
雰囲気内に放置することにより、鋳造品の空孔中の含浸
液を硬化させて、空孔に含浸処理を施していた。

【０００５】このように、繰り返し含浸処理を行ってい
ると、鋳造品に付着している金属粉や切削油等の不純物
が含浸液内に混入してしまう。そして、この不純物と含
浸液が反応し、含浸液が重合反応してしまう。これによ
り、含浸液の粘性が増し、鋳造品の空孔への含浸性が悪
くなり、また、含浸装置の配管内に粘着性の含浸液が付
着してしまい、その結果配管が詰まり、装置を破損させ
てしまう虞がある。したがって、この不純物を除去する
ために、作業者の手作業にて含浸液をくみ出し、濾過を
行い不純物の除去をおこなっていた。しかしながら、こ
れは作業者の手作業によるところが多く、不純物除去作
業に多大な時間を費やし、生産性が悪くなるだけでな
く、その処理の間にも重合反応が進行し、含浸液が劣化
してしまう。

【０００６】そこで、含浸液から不純物を容易に除去す
る技術として、例えば、実開昭６３−６９５４１公報に
示されているような装置が用いられている。この従来技
術を図２に基づいて説明する。図２において、含浸槽本
体１０１は、フロア１０２上に設置され、その内部に
は、含浸液Ａを収納するように設けられており、上蓋１
０３は含浸槽本体１０１の上方に、該含浸槽本体１０１
に被蓋するように上下動自在に吊設され、含浸槽本体１
０１と上蓋１０２の両者によって一つの含浸槽１１９が
形成されている。そして上蓋１０３は釣鐘状に形成され
ており、含浸槽本体１０１との間に比較的大きな密閉空
間を画成することができる。また、上蓋１０３には真空
ポンプ１０４に一端が接続する配管１０５が延設されて
おり、この配管１０５の途中には外界に一端を開放する
分岐配管１０６が接続されている。さらに、配管１０５
の分岐配管１０６より真空ポンプ１０４側には、電磁弁
１０７が設けられている。また、分岐配管１０６の途中
にも電磁弁１０８が設けられており、これら二つの電磁
弁１０７、１０８の切替えと真空ポンプ１０４の作動と
によって、含浸槽本体１０１と上蓋１０３とで形成され
る密閉空間は、適時減圧あるいは大気に開放されるよう
になる。シャフト１０９は、シリンダ１２０から上蓋１
０３の天井部を通して該上蓋１０３内まで延設されてお
り、このシャフト１０９の下端にはパレット１１０が取
り付けられている。このパレット１１０は、鋳造品Ｗを
保持する役割をなすもので、含浸槽本体１０１の上端よ
り僅か上方位置に下面が位置決めされる状態と、含浸液
Ａ中に完全に浸漬される状態とを維持できるようにシリ
ンダ１２０によって、その上昇端および下降端が定めら
れている。そして、含浸槽本体１０１の下方内部には含
浸槽本体１０１の底面と平行に所定距離を有して配置さ
れ、含浸槽本体１０１の断面の全面をカバーするように
フィルタ装置１１１が配設されている。このフィルタ装
置１１１は、上下二枚のパンチングメタル１１２ａ、１
１２ｂの間にフィルタ１１３を保持し、その中央部にエ
ア通路１１４を穿設して成るもので、含浸槽本体１０１
の内壁に凸設されたリング状の支持部材１１５上に脱着
自在に載置されている。一方、フィルタ装置１１１の下
方には、図示しないエア源に一端を結ぶエア配管１１６
の開口端部が配設されている。このエア配管１１６の途
中には、除湿器１１７および電磁弁１１８が設けられて
おり、この電磁弁１１８の開作動により、含浸槽本体１
０１の含浸液Ａ中には乾燥したエアが供給されるように
なっている。

【０００７】このように構成された従来技術について作
用を以下に説明する。先ず、上蓋１０３を開いた状態
で、パレット１１０上に鋳造品Ｗを載置し、その後、上
蓋１０３を下降させて、含浸槽本体１０１に被蓋する。
次に、真空ポンプ１０４を作動させ、電磁弁１０７を
開、電磁弁１０８を閉として、含浸槽１１９内を減圧す
る。この時、鋳造品Ｗを含むパレット１１０は含浸液Ａ
上に位置されており、これによって鋳造品Ｗの空孔およ
び含浸液Ａの双方に滞留する空気が除去されるようにな
る。次に、シリンダ１２０の作動によってパレット１１
０を下降させ、鋳造品Ｗの全体を含浸液Ａ中に浸漬す
る。この浸漬によって鋳造品Ｗの空孔内に含浸液Ａが浸
入する。そして、所定時間待って真空ポンプ１０４を停
止し、電磁弁１０７を閉、電磁弁１０８を開として、含
浸槽１１９内を大気に開放する。この大気開放によって
含浸液Ａはさらに鋳造品Ｗの空孔内に浸入する。再びシ
リンダ１２０の作動によりパレット１１０を上昇させ、
これと同時に上蓋１０３も上昇させて、パレット１１０
より鋳造品Ｗを取り出し、加熱雰囲気内に放置し、含浸
液Ａを硬化させ、一連の含浸処理が終了する。ここで、
電磁弁１１８を開として含浸液Ａ中にエアを供給し、こ
の供給されたエアはフィルタ装置１１１のエア通路１１
４から上方へ通過して含浸液Ａをバブリングさせる。こ
の結果、含浸液Ａに対流が生じ、その際、不純物を有す
る含浸液Ａは、フィルタ装置１１１を通過して含浸槽本
体１０１の底部に移動し、この間、含浸液Ａ中に浮遊し
ている不純物がフィルタ１１３に捕捉される。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、フィル
タ装置１１１自体が含浸液Ａ内に浸漬した状態であるた
め、含浸液Ａがフィルタ装置１１１に捕捉された不純物
と反応し、重合反応を起こしてしまう。これにより、含
浸液Ａの劣化が促進され、含浸液Ａの粘性が増し、鋳造
品の空孔への含浸性が悪くなるという問題がある。そこ
で本発明は、不純物除去装置を一連の含浸液流動路内に
おいて含浸槽から独立させて設けることにより、含浸液
の劣化を遅らせ、かつ、効率よく含浸液中の不純物の除
去を行うことを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明の含浸装置におい
ては、含浸槽に収納された含浸液中に空孔中の空気を除
去した鋳造品を浸漬することにより、前記鋳造品に含浸
処理を施す含浸装置において、前記含浸槽に排出路を介
して連通し、前記含浸液中の不純物を除去する不純物除
去装置と、この不純物除去装置と連通し、不純物が除去
された含浸液を前記含浸槽に戻す送出路と、前記含浸液
を前記含浸槽から前記不純物除去槽に流動させ、前記不
純物除去装置にて不純物が除去された含浸液を前記不純
物除去装置から含浸槽に流動させる流動装置とを設けた
ものである。

【００１０】

【作用】含浸液から不純物を除去する際には、流動装置
を作動させ、含浸層内の含浸液を排出路を介して不純物
除去装置内に導入し、含浸液内の不純物を除去する。そ
の後、送出路を介して不純物除去済の含浸液を含浸槽へ
戻す。不純物除去装置を一連の含浸液流動路内において
含浸槽から独立させて設けることにより、通常時に含浸
液と不純物除去装置に触れることがなくなり、含浸液の
劣化を遅らせることができる。また、含浸液の流動を自
動化したことにより、効率良く含浸液から不純物の除去
を行うことができる。

【００１１】

【実施例】本発明の実施例を図１に基づいて以下に説明
する。図１は本発明の含浸装置を表す断面図であり、含
浸槽本体１は図示しないブラケット、台座等を介してフ
ロア上に設置され、含浸液Ａを収容して設けられてい
る。また、含浸槽本体１の上方には上蓋２が配設されて
おり、含浸槽本体１に被蓋するように上下動自在に吊設
されており、この含浸槽本体１と上蓋２の両者によって
一つの含浸槽２４を形成している。そして、上蓋２は釣
鐘状に形成されており、含浸槽本体１に被蓋された際
に、含浸槽本体１との間に比較的大きな密閉空間Ｋを画
成することができる。上蓋２にはシャフト３が移動可能
に設けられており、シリンダ２５から上蓋２の天井部を
通して該上蓋２内まで延設され、その下端には枠体のパ
レット４が取り付けられている。このパレット４は、鋳
造品Ｗを保持する役割をなすもので、含浸槽本体１の上
端より僅か上方位置に下面が位置決めされる状態と、含
浸液Ａ中に完全に浸漬される状態とを維持できるように
シリンダ２５によって、その上昇端および下降端が定め
られている。そして、含浸槽本体１の内側底部には、含
浸液Ａを含浸槽本体１外に排出する排出路１１の一端が
配設されており、この排出路１１の他端は不純物除去槽
７に開口し、その途中には第一の電磁弁１３が設けられ
ている。この不純物除去槽７の底部には、凹状の不純物
集積部１２が設けられており、この不純物集積部１２に
は、含浸液Ａに比べ比重の重い金属粉等の不純物５が集
積されるようになっている。また、不純物除去槽７の内
側底部には、含浸液Ａを含浸槽本体１に戻す連通路２６
の一端が開口して設けられており、その途中には第二の
電磁弁１４が設けられている。そして、連通路２７の他
端には、ケース８内に孔径が約１μｍのフィルター９を
収納している不純物濾過装置６が連通して設けられてい
る。これらの不純物除去槽７と不純物濾過装置６及び、
連通路２７により、不純物除去装置２６が構成されてい
る。また、不純物濾過装置６には、他端を含浸槽本体１
に連通した送出路１０が連通して設けられている。一
方、上蓋２には真空ポンプ１９に接続する第一のエア配
管２０がパッキン２８を介して、上蓋２上昇時には解放
し、上蓋２の被蓋時には連結する様に脱着自在に設けら
れており、その途中には第三の電磁弁１５が設けられて
いる。この第一のエア配管２０の第三の電磁弁１５より
上蓋２側には、第一の大気開放電磁弁１７を有する第一
の大気開放配管２２が配設されている。また、不純物除
去槽７には、真空ポンプ１９に接続する第二のエア配管
２１が延設されており、その途中には第四の電磁弁１６
が設けられている。そして、第二のエア配管２１の第四
の電磁弁１６より不純物除去槽７側には、第二の大気開
放電磁弁１８を有する第二の大気開放配管２３が配設さ
れている。これらの、真空ポンプ１９とエアー配管２
０、２１と大気開放配管２２、２３と電磁弁１５、１６
及び、大気開放電磁弁１７、１８とで含浸液Ａを流動さ
せる流動装置が構成される。

【００１２】以上のように構成された含浸装置にて鋳造
品Ｗに含浸処理を施す際には、先ず、シリンダ２５を作
動させ、上蓋２を開いた状態で、図示しない搬送装置に
よって搬送されて来た鋳造品Ｗをパレット４に移載す
る。その後、シリンダ２５を逆作動させ、上蓋２を下動
して含浸槽本体１に被蓋する。その際、含浸槽本体１と
上蓋２とで密閉空間Ｋが形成される。次に、真空ポンプ
１９を作動させ、第三の電磁弁１５を開、他の電磁弁１
３、１４、１６、１７、１８を閉とし、含浸槽２４内を
減圧する。この時、鋳造品Ｗを載置したパレット４は含
浸液Ａ上に位置決めされており、これによって、鋳造品
Ｗの空孔から空気が除去される。そして、シリンダ２５
の作動によってパレット４を下降させ、鋳造品Ｗを含浸
液Ａ中に浸漬し、所定時間待って真空ポンプ１９を停止
させ、第三の電磁弁１５を閉、第一の大気開放電磁弁１
７を開にして、含浸槽２４内の密閉空間Ｋを大気に開放
する。これにより、含浸液Ａは差圧により押され、さら
に鋳造品Ｗの空孔内に浸入する。含浸槽内が大気に開放
されるのを待って、再びシリンダ２５の作動によりパレ
ット４を上昇させ、これと同時に上蓋２も上昇させてパ
レット４より鋳造品Ｗを取り出す、その後、この鋳造品
Ｗを加熱雰囲気中に放置し、含浸液Ａを硬化させて一連
の含浸処理が完了する。このように鋳造品Ｗに含浸処理
を繰り返し行っていると、鋳造品Ｗに付着していた、切
削油や金属粉等の不純物５が含浸液Ａ中に混入してく
る。そして、含浸液Ａから不純物５を除去する際には、
先ず真空ポンプ１９を作動させると同時に第一の電磁弁
１３と第四の電磁弁１６を開、他の電磁弁１４、１５、
１７、１８を閉とし、含浸槽本体１内の含浸液Ａを排出
路１１を介して不純物除去槽７に移動させる。含浸液Ａ
の移動を確認した後、真空ポンプ１９を停止させ、第二
の大気開放電磁弁１８を大気開放して不純物除去装置７
内を大気開放する。この状態で一定時間静止させること
により、不純物除去槽７内の含浸液Ａ中の含浸液Ａに比
べ比重の重い金属粉等の不純物５が不純物除去槽７下部
に設けられた不純物集積部１２に沈澱する。次に、真空
ポンプ１９を作動させ、第二の電磁弁１４と第三の電磁
弁１５を開、他の電磁弁１３、１６、１７、１８を閉と
すると、不純物除去槽７内の含浸液Ａが連通路２７、不
純物濾過装置６及び送出路１０を介して含浸層本体１に
移動する。

【００１３】この際、不純物濾過装置６に設けられたフ
ィルタ９により含浸液Ａ中の不純物除去槽７で除去しき
れなかった切削油等の含浸液より比重の軽い不純物５を
除去する。これにより、含浸液Ａ中の不純物が完全に除
去される。含浸液Ａから不純物の除去を行う不純物除去
装置２６を含浸槽２４から独立させて設け、かつ、それ
を一連の含浸液Ａ流動経路上に設けることにより、含浸
液Ａの劣化を遅め、効率良く含浸液Ａから不純物５の除
去が行え、作業性が向上する。また、不純物除去槽７で
含浸液Ａに比べ比重の重い不純物５を除去し、さらに、
それから不純物濾過装置６にてそれ以外の不純物５を濾
過する構成にしたことにより、確実に不純物の除去が行
えるだけでなく、不純物濾過装置６のフィルタ９の寿命
も延びフィルタ交換の手間が省ける。

【００１４】

【発明の効果】含浸液から不純物の除去を行う不純物除
去装置を含浸槽から独立させて設け、かつ、それを一連
の含浸液の流動経路上に設けることにより、通常時に含
浸液と不純物除去装置に触れることがなくなり、また、
含浸液の流動を自動化したことにより、効率良く含浸液
から不純物の除去を行うことができる。これによって含
浸液の劣化を遅めることができ、生産性が向上する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の構成を示す正面図である。

【図２】従来技術の構成を示す正面図である。

【符号の説明】

Ａ・・・含浸液Ｗ・・・鋳造品Ｋ・・・密閉空間１・・・含浸槽本体２・・・上蓋３・・・シャフト４・・・パレット５・・・不純物６・・・不純物濾過装置７・・・不純物除去槽８・・・ケース９・・・フィルタ１０・・・送出路１１・・・排出路１２・・・不純物集積部１３・・・第一の電磁弁１４・・・第二の電磁弁１５・・・第三の電磁弁１６・・・第四の電磁弁１７・・・第一の大気開放電磁弁１８・・・第二の大気開放電磁弁１９・・・真空ポンプ２０・・・第一のエア配管２１・・・第二のエア配管２２・・・第一の大気開放配管２３・・・第二の大気開放配管２４・・・含浸槽２５・・・シリンダ２６・・・不純物除去装置２７・・・連通路２８・・・パッキン１０１・・・含浸槽本体１０２・・・フロア１０３・・・上蓋１０４・・・真空ポンプ１０５・・・配管１０６・・・分岐配管１０７・・・電磁弁１０８・・・電磁弁１０９・・・シャフト１１０・・・パレット１１１・・・フィルタ装置１１２ａ・・・パンチングメタル１１２ｂ・・・パンチングメタル１１３・・・フィルタ１１４・・・エア通路１１５・・・リング状支持部材１１６・・・エア配管１１７・・・除湿器１１８・・・電磁弁１１９・・・含浸槽１２０・・・シリンダ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】含浸槽に収納された含浸液中に空孔中の空
気を除去した鋳造品を浸漬することにより、前記鋳造品
に含浸処理を施す含浸装置において、前記含浸槽に排出
路を介して連通し、前記含浸液中の不純物を除去する不
純物除去装置と、この不純物除去装置と連通し、不純物
が除去された含浸液を前記含浸槽に戻す送出路と、前記
含浸液を前記含浸槽から前記不純物除去槽に流動させ、
前記不純物除去装置にて不純物が除去された含浸液を前
記不純物除去装置から含浸槽に流動させる流動装置とを
設けたことを特徴とする含浸装置。