JPH05227942A - 培養装置 - Google Patents
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- JPH05227942A JPH05227942A JP7344792A JP7344792A JPH05227942A JP H05227942 A JPH05227942 A JP H05227942A JP 7344792 A JP7344792 A JP 7344792A JP 7344792 A JP7344792 A JP 7344792A JP H05227942 A JPH05227942 A JP H05227942A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C12—BIOCHEMISTRY; BEER; SPIRITS; WINE; VINEGAR; MICROBIOLOGY; ENZYMOLOGY; MUTATION OR GENETIC ENGINEERING
- C12M—APPARATUS FOR ENZYMOLOGY OR MICROBIOLOGY; APPARATUS FOR CULTURING MICROORGANISMS FOR PRODUCING BIOMASS, FOR GROWING CELLS OR FOR OBTAINING FERMENTATION OR METABOLIC PRODUCTS, i.e. BIOREACTORS OR FERMENTERS
- C12M41/00—Means for regulation, monitoring, measurement or control, e.g. flow regulation
- C12M41/12—Means for regulation, monitoring, measurement or control, e.g. flow regulation of temperature
- C12M41/14—Incubators; Climatic chambers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C12—BIOCHEMISTRY; BEER; SPIRITS; WINE; VINEGAR; MICROBIOLOGY; ENZYMOLOGY; MUTATION OR GENETIC ENGINEERING
- C12M—APPARATUS FOR ENZYMOLOGY OR MICROBIOLOGY; APPARATUS FOR CULTURING MICROORGANISMS FOR PRODUCING BIOMASS, FOR GROWING CELLS OR FOR OBTAINING FERMENTATION OR METABOLIC PRODUCTS, i.e. BIOREACTORS OR FERMENTERS
- C12M41/00—Means for regulation, monitoring, measurement or control, e.g. flow regulation
- C12M41/30—Means for regulation, monitoring, measurement or control, e.g. flow regulation of concentration
- C12M41/34—Means for regulation, monitoring, measurement or control, e.g. flow regulation of concentration of gas
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】培養槽中の湿度が過飽和状態となることを防止
し、ひいては培養槽中で結露が生じることを回避し、結
果的に細菌あるいは細胞などの培養対象物の培養に悪影
響を及ぼすことを回避する。 【構成】培養槽12内の雰囲気温度を所望温度に維持する
ための第１の発熱体13,17Dを培養槽の周囲に凹部12A を
除いて配置し、かつ凹部12A に保持された水を培養槽内
の雰囲気温度よりも低い温度に維持するための第２の発
熱体14を凹部12A の周囲に配置することにより、凹部12
A に保持された水の温度を培養槽内の雰囲気温度に比べ
て所望温度だけ低く維持せしめる。
し、ひいては培養槽中で結露が生じることを回避し、結
果的に細菌あるいは細胞などの培養対象物の培養に悪影
響を及ぼすことを回避する。 【構成】培養槽12内の雰囲気温度を所望温度に維持する
ための第１の発熱体13,17Dを培養槽の周囲に凹部12A を
除いて配置し、かつ凹部12A に保持された水を培養槽内
の雰囲気温度よりも低い温度に維持するための第２の発
熱体14を凹部12A の周囲に配置することにより、凹部12
A に保持された水の温度を培養槽内の雰囲気温度に比べ
て所望温度だけ低く維持せしめる。
Description
【０００１】
【０００２】
【産業上の利用分野】本発明は、培養液中で細菌あるい
は細胞などの培養対象物を培養する際の培養雰囲気を確
保するための培養装置に関し、特に培養槽の底面に形成
された凹部に保持された水の温度を培養槽内の雰囲気温
度に比べて所望温度だけ低く維持せしめることにより培
養槽中の湿度が過飽和状態となることを防止して結露を
生じることを回避してなる培養装置に関するものであ
る。
は細胞などの培養対象物を培養する際の培養雰囲気を確
保するための培養装置に関し、特に培養槽の底面に形成
された凹部に保持された水の温度を培養槽内の雰囲気温
度に比べて所望温度だけ低く維持せしめることにより培
養槽中の湿度が過飽和状態となることを防止して結露を
生じることを回避してなる培養装置に関するものであ
る。
【０００３】
【従来の技術】従来、この種の培養装置としては、培養
装置内に形成された培養槽内の培養雰囲気中の湿度を飽
和湿度近傍に確保する目的で、水を保持せしめた加湿バ
ットを培養槽内に配置せしめてなるものが提案されてい
た。
装置内に形成された培養槽内の培養雰囲気中の湿度を飽
和湿度近傍に確保する目的で、水を保持せしめた加湿バ
ットを培養槽内に配置せしめてなるものが提案されてい
た。
【０００４】
【解決すべき問題点】しかしながら、従来の培養装置で
は、培養槽内に単に加湿バットを配置するのみであった
ので、(i) 加湿バットの温度が培養槽内の雰囲気温度と
同一温度に維持されてしまう欠点があり、ひいては(ii)
培養槽内の湿度が過飽和状態となってしまい易い欠点が
あり、これに伴なって(iii) 培養槽内に結露を生じてし
まい易い欠点があり、結果的に(iv)細菌あるいは細胞な
どの培養対象物の培養に悪影響を及ぼしてしまう欠点が
あった。
は、培養槽内に単に加湿バットを配置するのみであった
ので、(i) 加湿バットの温度が培養槽内の雰囲気温度と
同一温度に維持されてしまう欠点があり、ひいては(ii)
培養槽内の湿度が過飽和状態となってしまい易い欠点が
あり、これに伴なって(iii) 培養槽内に結露を生じてし
まい易い欠点があり、結果的に(iv)細菌あるいは細胞な
どの培養対象物の培養に悪影響を及ぼしてしまう欠点が
あった。
【０００５】そこで、本発明は、これらの欠点を除去す
る目的で、培養槽の底面に形成された凹部に保持された
水の温度を培養槽内の雰囲気温度に比べて所望温度だけ
低く維持せしめることにより培養槽内の湿度が過飽和状
態となることを防止して結露を生じることを回避してな
る培養装置を提供せんとするものである。
る目的で、培養槽の底面に形成された凹部に保持された
水の温度を培養槽内の雰囲気温度に比べて所望温度だけ
低く維持せしめることにより培養槽内の湿度が過飽和状
態となることを防止して結露を生じることを回避してな
る培養装置を提供せんとするものである。
【０００６】
【０００７】
【問題点の解決手段】本発明により提供される問題点の
解決手段は、「培養対象物を培養するに際して培養槽内
の雰囲気温度を所望温度に維持しかつ湿度を飽和湿度近
傍に維持してなる培養装置において、(a) 水を保持する
よう培養槽の底面に形成された凹部(12A) と、(b) 培養
槽の周囲に凹部(12A) を除いて配置されており、培養槽
内の雰囲気温度を所望温度に維持するための第１の発熱
体(13,17D)と、(c) 凹部(12A) の周面に配置されてお
り、凹部(12A) を加熱して凹部(12A) に保持された水を
培養槽内の雰囲気温度よりも低い温度に維持するための
第２の発熱体(14)とを備えてなることを特徴とする培養
装置」である。
解決手段は、「培養対象物を培養するに際して培養槽内
の雰囲気温度を所望温度に維持しかつ湿度を飽和湿度近
傍に維持してなる培養装置において、(a) 水を保持する
よう培養槽の底面に形成された凹部(12A) と、(b) 培養
槽の周囲に凹部(12A) を除いて配置されており、培養槽
内の雰囲気温度を所望温度に維持するための第１の発熱
体(13,17D)と、(c) 凹部(12A) の周面に配置されてお
り、凹部(12A) を加熱して凹部(12A) に保持された水を
培養槽内の雰囲気温度よりも低い温度に維持するための
第２の発熱体(14)とを備えてなることを特徴とする培養
装置」である。
【０００８】
【作用】本発明にかかる培養装置は、上述の［問題点の
解決手段］の欄に明示したごとく、培養対象物を培養す
るに際して培養槽内の雰囲気温度を所望温度に維持しか
つ湿度を飽和湿度近傍に維持してなる培養装置であっ
て、特に、(a) 水を保持するよう培養槽の底面に形成さ
れた凹部と、(b) 培養槽の周囲に凹部を除いて配置され
ており、培養槽内の雰囲気温度を所望温度に維持するた
めの第１の発熱体と、(c) 凹部の周面に配置されてお
り、凹部を加熱して凹部に保持された水を培養槽内の雰
囲気温度よりも低い温度に維持するための第２の発熱体
とを備えているので、(i) 培養槽中の湿度が過飽和状
態となることを防止する作用をなし、ひいては(ii) 培
養槽中で結露が生じることを回避する作用をなし、結果
的に(iii) 細菌あるいは細胞などの培養対象物の培養
に悪影響を及ぼすことを回避する作用をなす。
解決手段］の欄に明示したごとく、培養対象物を培養す
るに際して培養槽内の雰囲気温度を所望温度に維持しか
つ湿度を飽和湿度近傍に維持してなる培養装置であっ
て、特に、(a) 水を保持するよう培養槽の底面に形成さ
れた凹部と、(b) 培養槽の周囲に凹部を除いて配置され
ており、培養槽内の雰囲気温度を所望温度に維持するた
めの第１の発熱体と、(c) 凹部の周面に配置されてお
り、凹部を加熱して凹部に保持された水を培養槽内の雰
囲気温度よりも低い温度に維持するための第２の発熱体
とを備えているので、(i) 培養槽中の湿度が過飽和状
態となることを防止する作用をなし、ひいては(ii) 培
養槽中で結露が生じることを回避する作用をなし、結果
的に(iii) 細菌あるいは細胞などの培養対象物の培養
に悪影響を及ぼすことを回避する作用をなす。
【０００９】
【実施例】次に、本発明にかかる培養装置について、好
ましい実施例を挙げ、添付図面を参照しつつ、具体的に
説明する。
ましい実施例を挙げ、添付図面を参照しつつ、具体的に
説明する。
【００１０】しかしながら、以下に説明する実施例は、
本発明の理解を容易化ないし促進化するために記載され
るものであって、本発明を限定するために記載されるも
のではない。
本発明の理解を容易化ないし促進化するために記載され
るものであって、本発明を限定するために記載されるも
のではない。
【００１１】換言すれば、以下に説明する実施例におい
て開示される各要素は、本発明の精神ならびに技術的範
囲に属する全ての設計変更ならびに均等物置換を含むも
のである。
て開示される各要素は、本発明の精神ならびに技術的範
囲に属する全ての設計変更ならびに均等物置換を含むも
のである。
【００１２】(添付図面)
【００１３】図１は、本発明にかかる培養装置の一実施
例の外観を示すための斜視図であって、外側ドア17およ
び内側ドア16がともに閉鎖された状態にある場合を示し
ている。
例の外観を示すための斜視図であって、外側ドア17およ
び内側ドア16がともに閉鎖された状態にある場合を示し
ている。
【００１４】図２は、図１に示した実施例の内部構造を
示すためのII−II線にそった拡大断面図である。
示すためのII−II線にそった拡大断面図である。
【００１５】図３は、図１に示した実施例の内部構造を
示すためのIII −III 線にそった拡大断面図である。
示すためのIII −III 線にそった拡大断面図である。
【００１６】図４は、図１ないし図３に示した実施例の
使用状態を示すための斜視図であって、外側ドア17が開
放されかつ内側ドア16が閉鎖された状態にある場合を示
している。
使用状態を示すための斜視図であって、外側ドア17が開
放されかつ内側ドア16が閉鎖された状態にある場合を示
している。
【００１７】図５は、図１ないし図３に示した実施例の
使用状態を示すための斜視図であって、外側ドア17およ
び内側ドア16がともに開放された状態にある場合を示し
ている。
使用状態を示すための斜視図であって、外側ドア17およ
び内側ドア16がともに開放された状態にある場合を示し
ている。
【００１８】図６は、図１ないし図３に示した一実施例
の電気回路を示すためのブロック回路図である。
の電気回路を示すためのブロック回路図である。
【００１９】図７は、図１ないし図３に示した実施例の
作用を示すためのグラフであって、凹部12A に保持され
た水Ｗの温度が培養槽12中の雰囲気温度すなわち室内温
度に比べて0.5 ℃だけ低く維持された場合の培養槽12中
の湿度がその室内温度に対して示されている。
作用を示すためのグラフであって、凹部12A に保持され
た水Ｗの温度が培養槽12中の雰囲気温度すなわち室内温
度に比べて0.5 ℃だけ低く維持された場合の培養槽12中
の湿度がその室内温度に対して示されている。
【００２０】(実施例の構成)
【００２１】まず、図１ないし図６を参照しつつ、本発
明にかかる培養装置の一実施例について、その構成を詳
細に説明する。
明にかかる培養装置の一実施例について、その構成を詳
細に説明する。
【００２２】10は、本発明にかかる培養装置であって、
ハウジング11A 内に収容されかつ適宜の材料 (たとえば
ステンレススチールなどの金属材料) によって形成され
ており内部に培養スペースを確保するための培養槽12
を、備えている。培養槽12には、その底面に所望量の水
Ｗを保持できるよう凹部12A が形成されている。培養槽
12には、また、一側面に細菌もしくは細胞などの培養対
象物の収容された培養液を保持した容器 (“培養容器”
という) Ｍを挿入しあるいは取り出すために開口(“側
面開口”という) が形成されており、その側面開口の縁
辺部を構成するようフランジ部12B が形成されている。
培養槽12には、その側面開口からみて左右両内側面に支
持部材12C1,12D1;12C2,12D2 が配設され、培養容器Ｍを
載置するための支持板 (たとえばガラス板)12E1;12E2を
支持している。
ハウジング11A 内に収容されかつ適宜の材料 (たとえば
ステンレススチールなどの金属材料) によって形成され
ており内部に培養スペースを確保するための培養槽12
を、備えている。培養槽12には、その底面に所望量の水
Ｗを保持できるよう凹部12A が形成されている。培養槽
12には、また、一側面に細菌もしくは細胞などの培養対
象物の収容された培養液を保持した容器 (“培養容器”
という) Ｍを挿入しあるいは取り出すために開口(“側
面開口”という) が形成されており、その側面開口の縁
辺部を構成するようフランジ部12B が形成されている。
培養槽12には、その側面開口からみて左右両内側面に支
持部材12C1,12D1;12C2,12D2 が配設され、培養容器Ｍを
載置するための支持板 (たとえばガラス板)12E1;12E2を
支持している。
【００２３】本発明にかかる培養装置10は、また、培養
槽12の周囲 (すなわち裏面側) に凹部12A を除いて配置
されており培養槽12の内部空間 (すなわち培養スペー
ス) 中の雰囲気 (“培養雰囲気”という) を加熱して所
望温度 (たとえば20〜45℃の温度) とするための第１の
発熱体13と、培養槽12の底面に所望量の水Ｗを保持する
よう形成された凹部12A の下面 (すなわち裏面側) に配
設されており凹部12A を加熱して凹部12A に保持された
水Ｗの温度を培養雰囲気の温度に比べて所定温度(たと
えば0.2 〜0.7 ℃；好ましくは0.3 〜0.5 ℃) だけ低く
維持するための第２の発熱体14と、ハウジング11A 内に
収容されかつ培養槽12の周囲に配設された第１，第２の
発熱体13,14 を適宜のスペースを保持しつつ包囲してお
り培養槽12の培養雰囲気を恒温状態 (すなわち所定温
度) に保持するための断熱材15とを、備えている。ちな
みに、第１，第２の発熱体13,14 は、本発明を阻害しな
い限り周知の要領で形成すればよく、たとえば、絶縁被
覆されたニクロム線を培養槽12の周面の該当箇所に適宜
の間隔を保持しつつ配設すればよい。また、断熱材15と
第１，第２の発熱体13,14 との間に適宜のスペースを保
持している根拠は、第１の発熱体13で発生された熱が断
熱材15を介して凹部12A に伝達され、水Ｗを加熱してし
まうことを回避することにある。
槽12の周囲 (すなわち裏面側) に凹部12A を除いて配置
されており培養槽12の内部空間 (すなわち培養スペー
ス) 中の雰囲気 (“培養雰囲気”という) を加熱して所
望温度 (たとえば20〜45℃の温度) とするための第１の
発熱体13と、培養槽12の底面に所望量の水Ｗを保持する
よう形成された凹部12A の下面 (すなわち裏面側) に配
設されており凹部12A を加熱して凹部12A に保持された
水Ｗの温度を培養雰囲気の温度に比べて所定温度(たと
えば0.2 〜0.7 ℃；好ましくは0.3 〜0.5 ℃) だけ低く
維持するための第２の発熱体14と、ハウジング11A 内に
収容されかつ培養槽12の周囲に配設された第１，第２の
発熱体13,14 を適宜のスペースを保持しつつ包囲してお
り培養槽12の培養雰囲気を恒温状態 (すなわち所定温
度) に保持するための断熱材15とを、備えている。ちな
みに、第１，第２の発熱体13,14 は、本発明を阻害しな
い限り周知の要領で形成すればよく、たとえば、絶縁被
覆されたニクロム線を培養槽12の周面の該当箇所に適宜
の間隔を保持しつつ配設すればよい。また、断熱材15と
第１，第２の発熱体13,14 との間に適宜のスペースを保
持している根拠は、第１の発熱体13で発生された熱が断
熱材15を介して凹部12A に伝達され、水Ｗを加熱してし
まうことを回避することにある。
【００２４】本発明にかかる培養装置10は、更にまた、
培養槽12の側面開口の近傍 (すなわちフランジ部12B あ
るいはハウジング11A)に対し一端部が支持体16A,16B に
よって支持されており培養容器Ｍの挿入あるいは取出の
ために培養槽12の側面開口を開閉するための内側ドア16
を、備えている。内側ドア16は、培養槽12内の培養スペ
ース中を開放することなく観察できるので、ガラスなど
の透明材料によって形成されていることが好ましい。培
養槽12の側面開口の周縁には、一周にわたってパッキン
グ部材16C が配設されており、内側ドア16を閉鎖したと
きに培養槽12内の培養スペースを外部空間から隔離でき
るよう配慮されている。
培養槽12の側面開口の近傍 (すなわちフランジ部12B あ
るいはハウジング11A)に対し一端部が支持体16A,16B に
よって支持されており培養容器Ｍの挿入あるいは取出の
ために培養槽12の側面開口を開閉するための内側ドア16
を、備えている。内側ドア16は、培養槽12内の培養スペ
ース中を開放することなく観察できるので、ガラスなど
の透明材料によって形成されていることが好ましい。培
養槽12の側面開口の周縁には、一周にわたってパッキン
グ部材16C が配設されており、内側ドア16を閉鎖したと
きに培養槽12内の培養スペースを外部空間から隔離でき
るよう配慮されている。
【００２５】本発明にかかる培養装置10は、加えて、ハ
ウジング11A に対しハウジング11Bが支持体17A,17B に
よって支持されかつ内側ドア16の外側に配設されており
培養容器Ｍの挿入あるいは取出に際して培養槽12の側面
開口を開閉しかつ培養槽12内の観察に際して内側ドア16
を露出するための外側ドア17を、備えている。外側ドア
17は、培養槽12の側面開口に対し内側ドア16を介して対
向する箇所に配置されかつ適宜の材料 (たとえばステン
レススチールなどの金属材料) によって形成された加熱
板17C と、加熱板17C の内側 (すなわち裏面側) に配設
された第３の発熱体17D と、第３の発熱体17D を包囲す
るように配設されており第３の発熱体17D とともにハウ
ジング11B 内に収容された断熱材17E とを、包有してい
る。ちなみに、第３の発熱体17D は、本発明を阻害しな
い限り周知の要領で形成すればよく、たとえば、絶縁被
覆されたニクロム線を加熱板17C の一面の該当箇所に適
宜の間隔を保持しつつ配設すればよい。外側ドア17は、
培養槽12の側面開口の周囲に対向する領域 (たとえばハ
ウジング11B)に対し、一周にわたってパッキング部材17
F が配設されており、外側ドア17を閉鎖したときに内側
ドア16を介して培養槽12から熱が失われることを阻止す
るよう配慮されている。
ウジング11A に対しハウジング11Bが支持体17A,17B に
よって支持されかつ内側ドア16の外側に配設されており
培養容器Ｍの挿入あるいは取出に際して培養槽12の側面
開口を開閉しかつ培養槽12内の観察に際して内側ドア16
を露出するための外側ドア17を、備えている。外側ドア
17は、培養槽12の側面開口に対し内側ドア16を介して対
向する箇所に配置されかつ適宜の材料 (たとえばステン
レススチールなどの金属材料) によって形成された加熱
板17C と、加熱板17C の内側 (すなわち裏面側) に配設
された第３の発熱体17D と、第３の発熱体17D を包囲す
るように配設されており第３の発熱体17D とともにハウ
ジング11B 内に収容された断熱材17E とを、包有してい
る。ちなみに、第３の発熱体17D は、本発明を阻害しな
い限り周知の要領で形成すればよく、たとえば、絶縁被
覆されたニクロム線を加熱板17C の一面の該当箇所に適
宜の間隔を保持しつつ配設すればよい。外側ドア17は、
培養槽12の側面開口の周囲に対向する領域 (たとえばハ
ウジング11B)に対し、一周にわたってパッキング部材17
F が配設されており、外側ドア17を閉鎖したときに内側
ドア16を介して培養槽12から熱が失われることを阻止す
るよう配慮されている。
【００２６】本発明にかかる培養装置10は、加えてま
た、一端部が培養槽12内に開口されかつ他端部が開閉バ
ルブ18A を介して二酸化炭素ガス供給源（図示せず）に
連通された二酸化炭素ガス供給管18と、一端部が培養槽
12内に開口されており他端部から開閉バルブ19A を開放
して培養槽12の内部空間すなわち培養スペース内の空気
を採取するための空気採取管19とを、備えている。
た、一端部が培養槽12内に開口されかつ他端部が開閉バ
ルブ18A を介して二酸化炭素ガス供給源（図示せず）に
連通された二酸化炭素ガス供給管18と、一端部が培養槽
12内に開口されており他端部から開閉バルブ19A を開放
して培養槽12の内部空間すなわち培養スペース内の空気
を採取するための空気採取管19とを、備えている。
【００２７】20は、本発明にかかる培養装置10に配設さ
れた制御装置であって、培養槽12内に配設されており培
養槽12内の雰囲気温度 (“室内温度”ともいう) を検出
するための温度検出装置21と、培養槽12内に配設されて
おり培養槽12内の湿度を検出するための湿度検出装置22
と、培養槽12内に配設されており培養槽12内の二酸化炭
素濃度を検出するための二酸化炭素濃度検出装置23と、
培養槽12の凹部12A 内に配設されており凹部12A 内に保
持された水Ｗの温度 (“水温”ともいう) を検出するた
めの温度検出装置24とを、備えている。
れた制御装置であって、培養槽12内に配設されており培
養槽12内の雰囲気温度 (“室内温度”ともいう) を検出
するための温度検出装置21と、培養槽12内に配設されて
おり培養槽12内の湿度を検出するための湿度検出装置22
と、培養槽12内に配設されており培養槽12内の二酸化炭
素濃度を検出するための二酸化炭素濃度検出装置23と、
培養槽12の凹部12A 内に配設されており凹部12A 内に保
持された水Ｗの温度 (“水温”ともいう) を検出するた
めの温度検出装置24とを、備えている。
【００２８】制御装置20は、また、ハウジング11A 内に
配設されており第１ないし第４の入力端が温度検出装置
21，湿度検出装置22，二酸化炭素濃度検出装置23および
温度検出装置24に接続されかつ第１の出力端が二酸化炭
素ガス供給管18に配設された開閉バルブ18A に接続され
かつ第２ないし第４の出力端が第１ないし第３の発熱体
13,14,17D に接続された制御回路25を、備えている。
配設されており第１ないし第４の入力端が温度検出装置
21，湿度検出装置22，二酸化炭素濃度検出装置23および
温度検出装置24に接続されかつ第１の出力端が二酸化炭
素ガス供給管18に配設された開閉バルブ18A に接続され
かつ第２ないし第４の出力端が第１ないし第３の発熱体
13,14,17D に接続された制御回路25を、備えている。
【００２９】制御装置20は、更に、ハウジング11A の前
面上部に設置されかつ制御回路25の第５の入力端に接続
されており培養槽12内の雰囲気温度に対する所望値を設
定するための温度設定装置26A と、ハウジング11A の前
面上部に設置されかつ制御回路25の第６の入力端に接続
されており培養槽12内の湿度に対する所望値を設定する
ための二酸化炭素濃度設定装置26B と、ハウジング11A
の前面上部に設置されかつ制御回路25の第５の出力端に
接続されており温度検出装置21で検出された培養槽12内
の雰囲気温度 (すなわち検出温度) を表示するための温
度表示装置27と、ハウジング11A の前面上部に設置され
かつ制御回路25の第６の出力端に接続されており湿度検
出装置22で検出された培養槽12内の湿度 (すなわち検出
湿度) を表示するための湿度表示装置28と、ハウジング
11A の前面上部に設置されかつ制御回路25の第７の出力
端に接続されており二酸化炭素濃度検出装置23で検出さ
れた培養槽12内の二酸化炭素濃度 (すなわち二酸化炭素
検出濃度) を表示するための二酸化炭素濃度表示装置29
とを、備えている。
面上部に設置されかつ制御回路25の第５の入力端に接続
されており培養槽12内の雰囲気温度に対する所望値を設
定するための温度設定装置26A と、ハウジング11A の前
面上部に設置されかつ制御回路25の第６の入力端に接続
されており培養槽12内の湿度に対する所望値を設定する
ための二酸化炭素濃度設定装置26B と、ハウジング11A
の前面上部に設置されかつ制御回路25の第５の出力端に
接続されており温度検出装置21で検出された培養槽12内
の雰囲気温度 (すなわち検出温度) を表示するための温
度表示装置27と、ハウジング11A の前面上部に設置され
かつ制御回路25の第６の出力端に接続されており湿度検
出装置22で検出された培養槽12内の湿度 (すなわち検出
湿度) を表示するための湿度表示装置28と、ハウジング
11A の前面上部に設置されかつ制御回路25の第７の出力
端に接続されており二酸化炭素濃度検出装置23で検出さ
れた培養槽12内の二酸化炭素濃度 (すなわち二酸化炭素
検出濃度) を表示するための二酸化炭素濃度表示装置29
とを、備えている。
【００３０】(実施例の作用)
【００３１】また、図１ないし図６を参照しつつ、本発
明にかかる培養装置の一実施例について、その作用を詳
細に説明する。
明にかかる培養装置の一実施例について、その作用を詳
細に説明する。
【００３２】本発明にかかる培養装置10は、空気採取管
19に配設された開閉バルブ19A を閉鎖し、外側ドア17お
よび内側ドア16を開放して培養槽12の底面に形成された
凹部12A に対し所定量の水Ｗを保持せしめる。水Ｗが保
持せしめられると、内側ドア16および外側ドア17を閉鎖
し、ハウジング11A の前面上部に配設された温度設定装
置26A および二酸化炭素濃度設定装置26B で、温度なら
びに二酸化炭素濃度を所望に応じて設定する。
19に配設された開閉バルブ19A を閉鎖し、外側ドア17お
よび内側ドア16を開放して培養槽12の底面に形成された
凹部12A に対し所定量の水Ｗを保持せしめる。水Ｗが保
持せしめられると、内側ドア16および外側ドア17を閉鎖
し、ハウジング11A の前面上部に配設された温度設定装
置26A および二酸化炭素濃度設定装置26B で、温度なら
びに二酸化炭素濃度を所望に応じて設定する。
【００３３】温度設定装置26A によって設定された温度
(“設定温度”という) と二酸化炭素濃度設定装置26B
によって設定された二酸化炭素濃度 (“二酸化炭素設定
濃度”という) とは、制御回路25に与えられる。
(“設定温度”という) と二酸化炭素濃度設定装置26B
によって設定された二酸化炭素濃度 (“二酸化炭素設定
濃度”という) とは、制御回路25に与えられる。
【００３４】制御回路25には、温度検出装置21によって
検出された検出温度と湿度検出装置22によって検出され
た検出湿度と二酸化炭素濃度検出装置23によって検出さ
れた二酸化炭素検出濃度と温度検出装置24によって検出
された検出水温とが、同様に与えられている。
検出された検出温度と湿度検出装置22によって検出され
た検出湿度と二酸化炭素濃度検出装置23によって検出さ
れた二酸化炭素検出濃度と温度検出装置24によって検出
された検出水温とが、同様に与えられている。
【００３５】制御回路25は、温度設定装置26A によって
与えられた設定温度と温度検出装置21によって検出され
た検出温度とを比較し、その比較結果に応じて、第１，
第３の発熱体13,17Dに対し適宜に電力を供給する。制御
回路25は、また、温度検出装置21によって検出された検
出温度と温度検出装置24によって検出された検出水温と
を比較し、その比較結果に応じて、第２の発熱体14に対
し適宜に電力を供給する。
与えられた設定温度と温度検出装置21によって検出され
た検出温度とを比較し、その比較結果に応じて、第１，
第３の発熱体13,17Dに対し適宜に電力を供給する。制御
回路25は、また、温度検出装置21によって検出された検
出温度と温度検出装置24によって検出された検出水温と
を比較し、その比較結果に応じて、第２の発熱体14に対
し適宜に電力を供給する。
【００３６】第１ないし第３の発熱体13,14,17D は、こ
れにより、発熱し、培養槽12および培養槽12の底面の凹
部12A に保持された水Ｗを加熱する。このとき、凹部12
A に保持された水Ｗの温度は、培養槽12中で結露を生じ
ることを防止する目的で、培養槽12中の雰囲気温度 (具
体的には温度検出装置21による検出温度) に比べて所定
温度 (たとえば0.2 〜0.7 ℃) だけ低い温度に維持され
ている。
れにより、発熱し、培養槽12および培養槽12の底面の凹
部12A に保持された水Ｗを加熱する。このとき、凹部12
A に保持された水Ｗの温度は、培養槽12中で結露を生じ
ることを防止する目的で、培養槽12中の雰囲気温度 (具
体的には温度検出装置21による検出温度) に比べて所定
温度 (たとえば0.2 〜0.7 ℃) だけ低い温度に維持され
ている。
【００３７】温度検出装置21によって検出された検出温
度が温度設定装置26A によって設定された設定温度に到
達すると、第１ないし第３の発熱体13,14,17D に対する
電力供給は、停止ないしは減弱せしめられる。これによ
り、培養槽12の内部に形成された培養スペース (すなわ
ち培養雰囲気) 中の温度が設定温度に維持され、かつ培
養槽12の底面の凹部12A に保持された水Ｗの温度がその
設定温度よりも所定温度 (たとえば0.2 〜0.7 ℃) だけ
低い温度に維持される。
度が温度設定装置26A によって設定された設定温度に到
達すると、第１ないし第３の発熱体13,14,17D に対する
電力供給は、停止ないしは減弱せしめられる。これによ
り、培養槽12の内部に形成された培養スペース (すなわ
ち培養雰囲気) 中の温度が設定温度に維持され、かつ培
養槽12の底面の凹部12A に保持された水Ｗの温度がその
設定温度よりも所定温度 (たとえば0.2 〜0.7 ℃) だけ
低い温度に維持される。
【００３８】培養槽12中の雰囲気温度が設定温度になっ
たことを温度表示装置によって確認したのち、外側ドア
17および内側ドア16を開放し、培養対象物の収容された
培養容器Ｍを培養槽12中に挿入する。そののち、内側ド
ア16および外側ドア17を順次閉鎖し、培養容器Ｍ中の培
養対象物を所定の時間にわたって培養する。
たことを温度表示装置によって確認したのち、外側ドア
17および内側ドア16を開放し、培養対象物の収容された
培養容器Ｍを培養槽12中に挿入する。そののち、内側ド
ア16および外側ドア17を順次閉鎖し、培養容器Ｍ中の培
養対象物を所定の時間にわたって培養する。
【００３９】(具体例)
【００４０】併せて、図１ないし図７を参照しつつ、本
発明にかかる培養装置の一実施例について、その理解を
一層促進する目的で、具体的な数値などを挙げて説明す
る。
発明にかかる培養装置の一実施例について、その理解を
一層促進する目的で、具体的な数値などを挙げて説明す
る。
【００４１】実施例１
【００４２】温度検出装置21で検出した検出温度 (すな
わち培養槽12中の雰囲気温度) に比べて凹部12A の水Ｗ
の温度を 0.2℃だけ低く維持したところ、培養槽12の内
面における結露が比較例に比べて減少した。ちなみに、
培養槽12中の雰囲気温度 (すなわち室内温度) は、20〜
45℃の範囲で変化せしめられた。
わち培養槽12中の雰囲気温度) に比べて凹部12A の水Ｗ
の温度を 0.2℃だけ低く維持したところ、培養槽12の内
面における結露が比較例に比べて減少した。ちなみに、
培養槽12中の雰囲気温度 (すなわち室内温度) は、20〜
45℃の範囲で変化せしめられた。
【００４３】実施例２
【００４４】温度検出装置21で検出した検出温度 (すな
わち培養槽12中の雰囲気温度) に比べて凹部12A の水Ｗ
の温度を 0.5℃だけ低く維持したところ、培養槽12の内
面における結露が消滅した。ちなみに、培養槽12中の雰
囲気温度 (すなわち室内温度) は、30〜45℃の範囲で変
化せしめられた。また、湿度検出装置22で検出した検出
湿度 (すなわち培養槽12中の湿度) は、図７に示したご
とく、飽和湿度 (すなわち 100％) に比べて若干小さい
値を示していた。ここで、飽和湿度とは、培養槽12中の
雰囲気温度 (すなわち室内温度) と凹部12A の水Ｗの温
度とを一致せしめたときの培養槽12中の湿度をいう。
わち培養槽12中の雰囲気温度) に比べて凹部12A の水Ｗ
の温度を 0.5℃だけ低く維持したところ、培養槽12の内
面における結露が消滅した。ちなみに、培養槽12中の雰
囲気温度 (すなわち室内温度) は、30〜45℃の範囲で変
化せしめられた。また、湿度検出装置22で検出した検出
湿度 (すなわち培養槽12中の湿度) は、図７に示したご
とく、飽和湿度 (すなわち 100％) に比べて若干小さい
値を示していた。ここで、飽和湿度とは、培養槽12中の
雰囲気温度 (すなわち室内温度) と凹部12A の水Ｗの温
度とを一致せしめたときの培養槽12中の湿度をいう。
【００４５】実施例３
【００４６】温度検出装置21で検出した検出温度 (すな
わち培養槽12中の雰囲気温度) に比べて凹部12A の水Ｗ
の温度を 0.7℃だけ低く維持したところ、培養槽12の内
面における結露が消滅した。ちなみに、培養槽12中の雰
囲気温度 (すなわち室内温度) は、20〜45℃の範囲で変
化せしめられた。
わち培養槽12中の雰囲気温度) に比べて凹部12A の水Ｗ
の温度を 0.7℃だけ低く維持したところ、培養槽12の内
面における結露が消滅した。ちなみに、培養槽12中の雰
囲気温度 (すなわち室内温度) は、20〜45℃の範囲で変
化せしめられた。
【００４７】比較例
【００４８】温度検出装置21で検出した検出温度 (すな
わち培養槽12中の雰囲気温度) と凹部12A の水Ｗの温度
とを一致せしめて維持したところ、培養槽12の内面にお
ける結露が発生した。ちなみに、培養槽12中の雰囲気温
度 (すなわち室内温度) は、20〜45℃の範囲で変化せし
められた。
わち培養槽12中の雰囲気温度) と凹部12A の水Ｗの温度
とを一致せしめて維持したところ、培養槽12の内面にお
ける結露が発生した。ちなみに、培養槽12中の雰囲気温
度 (すなわち室内温度) は、20〜45℃の範囲で変化せし
められた。
【００４９】(変形例)
【００５０】なお、上述では、培養槽12の凹部12A に対
して温度検出装置24を配設する場合を説明したが、本発
明は、これに限定されるものではなく、培養槽12の凹部
12Aに対して温度検出装置を配設しない場合も包摂して
いる。この場合には、発熱体14に与えられる電力を制御
することによって、培養槽12の凹部12A に維持された水
Ｗの温度を、培養槽12中の雰囲気温度よりも所定温度だ
け低い温度に維持すればよい。
して温度検出装置24を配設する場合を説明したが、本発
明は、これに限定されるものではなく、培養槽12の凹部
12Aに対して温度検出装置を配設しない場合も包摂して
いる。この場合には、発熱体14に与えられる電力を制御
することによって、培養槽12の凹部12A に維持された水
Ｗの温度を、培養槽12中の雰囲気温度よりも所定温度だ
け低い温度に維持すればよい。
【００５１】
【発明の効果】上述より明らかなように、本発明にかか
る培養装置は、［問題点の解決手段］の欄に明示したご
とく、培養対象物を培養するに際して培養槽内の雰囲気
温度を所望温度に維持しかつ湿度を飽和湿度近傍に維持
してなる培養装置であって、特に、(a) 水を保持するよ
う培養槽の底面に形成された凹部と、(b) 培養槽の周囲
に凹部を除いて配置されており、培養槽内の雰囲気温度
を所望温度に維持するための第１の発熱体と、(c) 凹部
の周面に配置されており、凹部を加熱して凹部に保持さ
れた水を培養槽内の雰囲気温度よりも低い温度に維持す
るための第２の発熱体とを備えているので、(i) 培養
槽中の湿度が過飽和状態となることを防止できる効果を
有し、ひいては(ii) 培養槽で結露が生じることを回避
できる効果を有し、結果的に(iii) 細菌あるいは細胞
などの培養対象物の培養に悪影響を及ぼすことを回避で
きる効果を有する。
る培養装置は、［問題点の解決手段］の欄に明示したご
とく、培養対象物を培養するに際して培養槽内の雰囲気
温度を所望温度に維持しかつ湿度を飽和湿度近傍に維持
してなる培養装置であって、特に、(a) 水を保持するよ
う培養槽の底面に形成された凹部と、(b) 培養槽の周囲
に凹部を除いて配置されており、培養槽内の雰囲気温度
を所望温度に維持するための第１の発熱体と、(c) 凹部
の周面に配置されており、凹部を加熱して凹部に保持さ
れた水を培養槽内の雰囲気温度よりも低い温度に維持す
るための第２の発熱体とを備えているので、(i) 培養
槽中の湿度が過飽和状態となることを防止できる効果を
有し、ひいては(ii) 培養槽で結露が生じることを回避
できる効果を有し、結果的に(iii) 細菌あるいは細胞
などの培養対象物の培養に悪影響を及ぼすことを回避で
きる効果を有する。
【図１】本発明にかかる培養装置の一実施例の外観を示
すための斜視図である。
すための斜視図である。
【図２】図１に示した実施例の内部構造を示すためのII
−II線にそった拡大断面図である。
−II線にそった拡大断面図である。
【図３】図１に示した実施例の内部構造を示すためのII
I −III 線にそった拡大断面図である。
I −III 線にそった拡大断面図である。
【図４】図１ないし図３に示した実施例の使用状態を示
すための斜視図である。
すための斜視図である。
【図５】図１ないし図３に示した実施例の使用状態を示
すための斜視図である。
すための斜視図である。
【図６】図１ないし図３に示した実施例の電気回路を示
すためのブロック回路図である。
すためのブロック回路図である。
【図７】図１ないし図３に示した実施例の作用を示すた
めのグラフである。
めのグラフである。
【符号の説明】10・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ 培養装置 11A,11B ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ハウジング 12・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・培養槽 12A ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・凹部 12B ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・フランジ部 12C1,12D1;12C2,12D2 ・・・・・・支持部材 12E1,12E2 ・・・・・・・・・・・・・・・・支持板 13,14・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・発熱体 15・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・断熱材 16・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・内側ドア 16A,16B ・・・・・・・・・・・・・・・・・・支持体 16C ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・パッキング部材 17・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・外側ドア 17A,17B ・・・・・・・・・・・・・・・・・・支持体 17C ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・加熱板 17D ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・発熱体 17E ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・断熱材 17F ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・パッキング部材 18・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・二酸化炭素ガス供給管 18A ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・開閉バルブ 19・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・空気採取管 19A ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・開閉バルブ20・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ 制御装置 21・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・温度検出装置 22・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・湿度検出装置 23・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・二酸化炭素濃度検出装置 24・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・温度検出装置 25・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・制御回路 26A ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・温度設定装置 26B ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・二酸化炭素濃度設定装置 27・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・温度表示装置 28・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・湿度表示装置 29・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・二酸化炭素濃度表示装置 Ｍ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・培養容器 Ｗ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・水
Claims (2)
- 【請求項１】培養対象物を培養するに際して培養槽内の
雰囲気温度を所望温度に維持しかつ湿度を飽和湿度近傍
に維持してなる培養装置において、 (a) 水を保持するよう培養槽の底面に形成された凹部(1
2A) と、 (b) 培養槽の周囲に凹部(12A) を除いて配置されてお
り、培養槽内の雰囲気温度を所望温度に維持するための
第１の発熱体(13,17D)と、 (c) 凹部(12A) の周面に配置されており、凹部(12A) を
加熱して凹部(12A) に保持された水を培養槽内の雰囲気
温度よりも低い温度に維持するための第２の発熱体(14)
とを備えてなることを特徴とする培養装置。 - 【請求項２】凹部(12A) に保持された水が、培養槽内の
雰囲気温度に比べて0.2 〜0.7℃だけ低い温度に維持さ
れてなることを特徴とする請求項１に記載の培養装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7344792A JPH05227942A (ja) | 1992-02-25 | 1992-02-25 | 培養装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7344792A JPH05227942A (ja) | 1992-02-25 | 1992-02-25 | 培養装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05227942A true JPH05227942A (ja) | 1993-09-07 |
Family
ID=13518489
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7344792A Pending JPH05227942A (ja) | 1992-02-25 | 1992-02-25 | 培養装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05227942A (ja) |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010057398A (ja) * | 2008-09-03 | 2010-03-18 | Sanyo Electric Co Ltd | 培養装置 |
| EP2573163A1 (en) | 2011-09-22 | 2013-03-27 | Panasonic Healthcare Co., Ltd. | Culture apparatus having heaters |
| EP2573162A1 (en) | 2011-09-22 | 2013-03-27 | Panasonic Healthcare Co., Ltd. | Culture apparatus provided with heat pipe |
| WO2014148057A1 (ja) | 2013-03-22 | 2014-09-25 | パナソニックヘルスケア株式会社 | 培養装置 |
| WO2014148058A1 (ja) | 2013-03-22 | 2014-09-25 | パナソニックヘルスケア株式会社 | 培養装置 |
| JP2016041086A (ja) * | 2006-06-16 | 2016-03-31 | パナソニックヘルスケアホールディングス株式会社 | 培養物観察システム |
| WO2016158337A1 (ja) * | 2015-03-30 | 2016-10-06 | パナソニックヘルスケアホールディングス株式会社 | 培養装置 |
| WO2017169850A1 (ja) | 2016-03-28 | 2017-10-05 | パナソニックヘルスケアホールディングス株式会社 | 培養装置及び培養装置の制御方法 |
| WO2020085006A1 (ja) * | 2018-10-26 | 2020-04-30 | Ｐｈｃホールディングス株式会社 | 培養装置 |
| JP2021520216A (ja) * | 2018-04-09 | 2021-08-19 | エッペンドルフ アクチェンゲゼルシャフト | 実験室温度調節装置 |
| US11565232B2 (en) * | 2016-07-29 | 2023-01-31 | Pyrowave Inc. | Drum and door assembly for catalytic microwave depolymerization reactor |
-
1992
- 1992-02-25 JP JP7344792A patent/JPH05227942A/ja active Pending
Cited By (27)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US9506026B2 (en) | 2011-09-22 | 2016-11-29 | Pasonic Healthcare Holdings Co., Ltd. | Culture apparatus provided with heat pipe |
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| WO2014148058A1 (ja) | 2013-03-22 | 2014-09-25 | パナソニックヘルスケア株式会社 | 培養装置 |
| WO2014148057A1 (ja) | 2013-03-22 | 2014-09-25 | パナソニックヘルスケア株式会社 | 培養装置 |
| US9902931B2 (en) | 2013-03-22 | 2018-02-27 | Panasonic Healthcare Holdings Co., Ltd. | Culture apparatus |
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| CN107406812B (zh) * | 2015-03-30 | 2020-02-28 | 普和希控股公司 | 培养装置 |
| WO2016158337A1 (ja) * | 2015-03-30 | 2016-10-06 | パナソニックヘルスケアホールディングス株式会社 | 培養装置 |
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| JPWO2016158337A1 (ja) * | 2015-03-30 | 2017-11-24 | パナソニックヘルスケアホールディングス株式会社 | 培養装置 |
| CN107406812A (zh) * | 2015-03-30 | 2017-11-28 | 松下健康医疗控股株式会社 | 培养装置 |
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| WO2017169850A1 (ja) | 2016-03-28 | 2017-10-05 | パナソニックヘルスケアホールディングス株式会社 | 培養装置及び培養装置の制御方法 |
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