JPH05223768A - 脱臭性能評価方法および装置 - Google Patents
脱臭性能評価方法および装置Info
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- JPH05223768A JPH05223768A JP4030466A JP3046692A JPH05223768A JP H05223768 A JPH05223768 A JP H05223768A JP 4030466 A JP4030466 A JP 4030466A JP 3046692 A JP3046692 A JP 3046692A JP H05223768 A JPH05223768 A JP H05223768A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 脱臭剤の脱臭性能を定量的かつ連続的に評価
する。 【構成】 試験槽１内に脱臭剤９を設置し、内部のガス
を攪拌しつつ１ないし２種類以上のにおいガス成分を一
定量注入する。試験槽１内に設置したにおいガス成分数
以上の半導体ガスセンサ１４からの出力信号を連続的に
受信し、あらかじめ作成しておいたガス濃度−センサ出
力の関係式に適用して、試験槽１内に注入した各におい
ガス成分の濃度変化を連続的に測定する。試験槽１内に
設置した脱臭剤の脱臭性能を定量的かつ連続的に評価す
ることができ、２種類以上のにおいガス成分が共存して
いる場合にも、脱臭性能を定量的かつ同時に評価するこ
とができる。
する。 【構成】 試験槽１内に脱臭剤９を設置し、内部のガス
を攪拌しつつ１ないし２種類以上のにおいガス成分を一
定量注入する。試験槽１内に設置したにおいガス成分数
以上の半導体ガスセンサ１４からの出力信号を連続的に
受信し、あらかじめ作成しておいたガス濃度−センサ出
力の関係式に適用して、試験槽１内に注入した各におい
ガス成分の濃度変化を連続的に測定する。試験槽１内に
設置した脱臭剤の脱臭性能を定量的かつ連続的に評価す
ることができ、２種類以上のにおいガス成分が共存して
いる場合にも、脱臭性能を定量的かつ同時に評価するこ
とができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明はにおいガス成分に対す
る脱臭剤の脱臭性能を定量的かつ連続的に、しかも２種
類以上のにおいガス成分が共存している場合にも各ガス
成分に対する脱臭性能を同時に評価することができる方
法および装置に関する。この発明は食品、環境汚染など
においや悪臭を発し、その除去および定量的評価を必要
とする分野で利用される。
る脱臭剤の脱臭性能を定量的かつ連続的に、しかも２種
類以上のにおいガス成分が共存している場合にも各ガス
成分に対する脱臭性能を同時に評価することができる方
法および装置に関する。この発明は食品、環境汚染など
においや悪臭を発し、その除去および定量的評価を必要
とする分野で利用される。
【０００２】
【従来の技術】我々の生活環境の中には、多種多様のに
おいが存在している。においは人間の嗅覚によって検知
されるものであり、においの程度は個人差およびそれの
置かれている環境状況によって変化する。しかし、食品
の腐敗やタバコ臭、汚物などから発せられるにおいは通
常万人が悪臭と意識し、快適な生活環境の維持には、そ
のにおい除去が大きな課題となっている。このような中
で、現在活性炭（悪臭の研究、ｖｏｌ．５７、Ｎｏ．１
２、ｐ９、１９８３）、金属錯体（工業材料、ｖｏｌ．
３９、Ｎｏ．１３、ｐ５８、１９９１）など様々な材料
を用いた脱臭剤が幅広い分野で開発され、市販されてい
る。しかし、これら多種の脱臭剤の脱臭性能を画一的に
評価する方法は存在していない。これは、においの基本
量を表す基本単位が存在しないこと、および通常の生活
環境におけるにおいが１種類だけで構成されることがま
れなために、混合されたにおいに対する総合的な脱臭性
能を定量的に評価することが困難なためである。
おいが存在している。においは人間の嗅覚によって検知
されるものであり、においの程度は個人差およびそれの
置かれている環境状況によって変化する。しかし、食品
の腐敗やタバコ臭、汚物などから発せられるにおいは通
常万人が悪臭と意識し、快適な生活環境の維持には、そ
のにおい除去が大きな課題となっている。このような中
で、現在活性炭（悪臭の研究、ｖｏｌ．５７、Ｎｏ．１
２、ｐ９、１９８３）、金属錯体（工業材料、ｖｏｌ．
３９、Ｎｏ．１３、ｐ５８、１９９１）など様々な材料
を用いた脱臭剤が幅広い分野で開発され、市販されてい
る。しかし、これら多種の脱臭剤の脱臭性能を画一的に
評価する方法は存在していない。これは、においの基本
量を表す基本単位が存在しないこと、および通常の生活
環境におけるにおいが１種類だけで構成されることがま
れなために、混合されたにおいに対する総合的な脱臭性
能を定量的に評価することが困難なためである。
【０００３】通常、においの評価には、におい全体を何
種類かのガス成分として認識し、これらのガス成分をガ
スクロマトグラフィーやガス検知管など周知のガス検出
器によって検出・定量する方法が採られている。一方、
脱臭剤については、におい全体に対する脱臭性能を評価
することが上記の理由により困難なため、単一のにおい
ガス成分ごとの脱臭性能を調査し、評価しているにすぎ
ない。（ＰＰＭ、ｖｏｌ．５、Ｎｏ．１１、ｐ２、１９
９０）。しかし、この方法を用いるかぎり、単一のにお
いガス成分に対する時間的に間欠的な情報しか得ること
ができず、脱臭剤設置後ある時間経過した後のあるにお
いガス成分濃度の減少割合を知ることができるだけであ
る。近年、連続的な情報を得ることを目的に、ガスセン
サを用いてにおいガス成分の検出を行い（食品機械加
工、Ｎｏ．１２、ｐ７４、１９８５）、商品として市販
した例もある。しかし、これらの方法および装置を用い
たとしても、複数のにおいガス成分が同時に存在する場
合の脱臭剤の脱臭性能評価を総合的に行うことは困難で
ある。
種類かのガス成分として認識し、これらのガス成分をガ
スクロマトグラフィーやガス検知管など周知のガス検出
器によって検出・定量する方法が採られている。一方、
脱臭剤については、におい全体に対する脱臭性能を評価
することが上記の理由により困難なため、単一のにおい
ガス成分ごとの脱臭性能を調査し、評価しているにすぎ
ない。（ＰＰＭ、ｖｏｌ．５、Ｎｏ．１１、ｐ２、１９
９０）。しかし、この方法を用いるかぎり、単一のにお
いガス成分に対する時間的に間欠的な情報しか得ること
ができず、脱臭剤設置後ある時間経過した後のあるにお
いガス成分濃度の減少割合を知ることができるだけであ
る。近年、連続的な情報を得ることを目的に、ガスセン
サを用いてにおいガス成分の検出を行い（食品機械加
工、Ｎｏ．１２、ｐ７４、１９８５）、商品として市販
した例もある。しかし、これらの方法および装置を用い
たとしても、複数のにおいガス成分が同時に存在する場
合の脱臭剤の脱臭性能評価を総合的に行うことは困難で
ある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】種々の脱臭剤の脱臭性
能を画一的に評価し、相互比較を行うためには、単一の
においガス成分に対する間欠的な情報だけでは不十分で
あり、複数のにおいガス成分が共存した場合の各ガス成
分に対する脱臭性能（においガス除去能力）を長期間連
続的に評価する必要がある。しかし、現在一般のガス分
析の用途に用いられているガス検出器では時間的に間欠
的な情報しか得ることができず、これまでに開発された
においガス成分の測定方法を用いたとしても、単一にお
いガス成分の測定しか行うことはできない。そこで、本
発明はにおいガス成分に対する脱臭剤の脱臭性能を定量
的かつ連続的に、しかも２種類以上のにおいガス成分が
共存している場合にも各ガス成分に対する脱臭性能を同
時に評価することができる方法および装置を提供する。
能を画一的に評価し、相互比較を行うためには、単一の
においガス成分に対する間欠的な情報だけでは不十分で
あり、複数のにおいガス成分が共存した場合の各ガス成
分に対する脱臭性能（においガス除去能力）を長期間連
続的に評価する必要がある。しかし、現在一般のガス分
析の用途に用いられているガス検出器では時間的に間欠
的な情報しか得ることができず、これまでに開発された
においガス成分の測定方法を用いたとしても、単一にお
いガス成分の測定しか行うことはできない。そこで、本
発明はにおいガス成分に対する脱臭剤の脱臭性能を定量
的かつ連続的に、しかも２種類以上のにおいガス成分が
共存している場合にも各ガス成分に対する脱臭性能を同
時に評価することができる方法および装置を提供する。
【０００５】
【課題を解決するための手段】以上の問題を解決するた
め、本発明者らは次の方法および装置が有効であること
がわかった。すなわち、一定容積の密閉容器内に所定の
大きさの脱臭剤を設置し、単一のにおいガス成分を該容
器内に一定量注入して攪拌しつつ、容器内に設置した半
導体ガスセンサによって該容器内のにおいガス成分濃度
の経時変化を連続的に測定し、該容器内に設置した脱臭
剤の脱臭性能を定量的に評価することを特徴とする脱臭
性能評価方法、および一定容積の密閉容器内に所定の大
きさの脱臭剤を設置し、２種類以上のにおいガス成分を
該容器内にそれぞれ一定量注入して攪拌しつつ、容器内
に設置したガス成分数以上の種類の異なる半導体ガスセ
ンサからの出力信号を、あらかじめ検出すべき複数のに
おいガス成分で構成されるガス体に対して重回帰分析法
により作成した関係式に適用することで、該容器内の複
数のにおいガス成分濃度の経時変化を連続的に測定し、
該容器内に設置した脱臭剤の脱臭性能を定量的に評価す
ることを特徴とする脱臭性能評価方法であり、これを実
現するために、においガス成分を注入するためのガス注
入口とガスを排出するためのガス排出口を有する一定容
積の密閉容器内部に、脱臭剤設置台とガス循環器およ
び、１ないし２種類以上の半導体ガスセンサを配置し、
該容器周囲に温度および湿度調節機構を備えた恒温恒湿
槽を設置し、該容器外部に各センサからの出力信号を連
続的に受信して該容器内の１ないし２種類以上のにおい
ガス成分濃度を連続的に計算する装置を備えた、脱臭剤
の脱臭性能を定量的に評価することを特徴とする脱臭性
能評価装置を用いる手段である。
め、本発明者らは次の方法および装置が有効であること
がわかった。すなわち、一定容積の密閉容器内に所定の
大きさの脱臭剤を設置し、単一のにおいガス成分を該容
器内に一定量注入して攪拌しつつ、容器内に設置した半
導体ガスセンサによって該容器内のにおいガス成分濃度
の経時変化を連続的に測定し、該容器内に設置した脱臭
剤の脱臭性能を定量的に評価することを特徴とする脱臭
性能評価方法、および一定容積の密閉容器内に所定の大
きさの脱臭剤を設置し、２種類以上のにおいガス成分を
該容器内にそれぞれ一定量注入して攪拌しつつ、容器内
に設置したガス成分数以上の種類の異なる半導体ガスセ
ンサからの出力信号を、あらかじめ検出すべき複数のに
おいガス成分で構成されるガス体に対して重回帰分析法
により作成した関係式に適用することで、該容器内の複
数のにおいガス成分濃度の経時変化を連続的に測定し、
該容器内に設置した脱臭剤の脱臭性能を定量的に評価す
ることを特徴とする脱臭性能評価方法であり、これを実
現するために、においガス成分を注入するためのガス注
入口とガスを排出するためのガス排出口を有する一定容
積の密閉容器内部に、脱臭剤設置台とガス循環器およ
び、１ないし２種類以上の半導体ガスセンサを配置し、
該容器周囲に温度および湿度調節機構を備えた恒温恒湿
槽を設置し、該容器外部に各センサからの出力信号を連
続的に受信して該容器内の１ないし２種類以上のにおい
ガス成分濃度を連続的に計算する装置を備えた、脱臭剤
の脱臭性能を定量的に評価することを特徴とする脱臭性
能評価装置を用いる手段である。
【０００６】
【作用】以下、本発明について具体的に説明する。本発
明では、単一においガス成分に対する脱臭剤の脱臭性能
を評価するためには、性能評価に先だってあらかじめ使
用する半導体ガスセンサのセンサ出力と評価すべきにお
いガス成分濃度との間の相関を調べておく必要がある。
このためには、評価すべきにおいガス成分の標準ガス
（純ガスでも良い）を一定量採取して密閉容器内に注入
し、そのときのセンサ出力を測定する。同様の操作を２
水準以上のガス濃度で行う事で、においガス成分濃度と
センサ出力との相関を知ることができる。この操作の
後、密閉容器内に脱臭剤を設置して評価すべきにおいガ
ス成分を一定量注入し、センサからの出力信号を連続的
に受信してあらかじめ求めておいたにおいガス成分濃度
−センサ出力関係に適用する。この操作により、評価す
べきにおいガス成分の濃度変化を連続的に知ることがで
き、設置した脱臭剤の脱臭性能を定量的かつ連続的に評
価することができる。
明では、単一においガス成分に対する脱臭剤の脱臭性能
を評価するためには、性能評価に先だってあらかじめ使
用する半導体ガスセンサのセンサ出力と評価すべきにお
いガス成分濃度との間の相関を調べておく必要がある。
このためには、評価すべきにおいガス成分の標準ガス
（純ガスでも良い）を一定量採取して密閉容器内に注入
し、そのときのセンサ出力を測定する。同様の操作を２
水準以上のガス濃度で行う事で、においガス成分濃度と
センサ出力との相関を知ることができる。この操作の
後、密閉容器内に脱臭剤を設置して評価すべきにおいガ
ス成分を一定量注入し、センサからの出力信号を連続的
に受信してあらかじめ求めておいたにおいガス成分濃度
−センサ出力関係に適用する。この操作により、評価す
べきにおいガス成分の濃度変化を連続的に知ることがで
き、設置した脱臭剤の脱臭性能を定量的かつ連続的に評
価することができる。
【０００７】また、２種類以上のにおいガス成分に対す
る脱臭剤の脱臭性能を同時に評価するためには、ガス成
分数以上の種類の異なる半導体ガスセンサを必要とし、
脱臭性能評価に先だってあらかじめ個々のにおいガス成
分に対して、その濃度とこれら複数の半導体ガスセンサ
のセンサ出力との間の相関を重回帰分析法により求めて
おく必要がある。このためには、評価すべき２種類以上
のにおいガス成分の標準ガス（純ガスでも良い）をそれ
ぞれ一定量採取して密閉容器内に注入し、そのときのす
べてのセンサの出力を測定する。今、ｎ種類の半導体ガ
スセンサを用い、ｍ成分のにおいを同時に測定する場合
（ｎ≧ｍ）には、各におい成分の濃度（Ｃ1 、Ｃ2 、・
・・、Ｃm ）とｎ種のセンサの出力（Ｒ1 、Ｒ2 、・・
・、Ｒn）との間には、次の（１）式の関係が成立す
る。
る脱臭剤の脱臭性能を同時に評価するためには、ガス成
分数以上の種類の異なる半導体ガスセンサを必要とし、
脱臭性能評価に先だってあらかじめ個々のにおいガス成
分に対して、その濃度とこれら複数の半導体ガスセンサ
のセンサ出力との間の相関を重回帰分析法により求めて
おく必要がある。このためには、評価すべき２種類以上
のにおいガス成分の標準ガス（純ガスでも良い）をそれ
ぞれ一定量採取して密閉容器内に注入し、そのときのす
べてのセンサの出力を測定する。今、ｎ種類の半導体ガ
スセンサを用い、ｍ成分のにおいを同時に測定する場合
（ｎ≧ｍ）には、各におい成分の濃度（Ｃ1 、Ｃ2 、・
・・、Ｃm ）とｎ種のセンサの出力（Ｒ1 、Ｒ2 、・・
・、Ｒn）との間には、次の（１）式の関係が成立す
る。
【０００８】 logＣ1 ＝ｂ10 +ｂ11log Ｒ1 + ｂ12 logＲ2 + ・・+ ｂ1n logＲn ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ logＣk ＝ｂk0 +ｂk1log Ｒ1 + ｂk2 logＲ2 + ・・+ ｂkn logＲn ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ logＣm ＝ｂm0 +ｂm1log Ｒ1 + ｂm2 logＲ2 + ・・+ ｂmn logＲn ・・・（１）
【０００９】すなわち、評価すべきｍ成分のにおいが混
合したガス体について、その成分混合比が異なる（ｎ＋
１）個以上の試料の測定を行い、それぞれの場合のにお
い成分濃度（Ｃ1 、Ｃ2 、・・・、Ｃm ）とセンサ出力
（Ｒ1 、Ｒ2 、・・・、Ｒn）との関係を重回帰分析法
によって解析することで、（１）式中の偏回帰係数ｂmn
をすべて決定することができ、２種類以上のにおいガス
成分に対して、その濃度と複数センサの出力との相関を
知ることができる。以上のような操作の後、密閉容器内
に脱臭剤を設置して評価すべき２種類以上のにおいガス
成分を一定量注入し、複数のセンサからの出力信号を連
続的に受信してあらかじめ求めておいた（１）式の関係
に適用する。この操作により、評価すべき２種類以上の
においガス成分の濃度を連続的かつ同時に知ることがで
き、２種類以上のにおいガス成分が共存している場合に
ついても、脱臭剤の脱臭性能を同時かつ定量的に評価す
ることができる。
合したガス体について、その成分混合比が異なる（ｎ＋
１）個以上の試料の測定を行い、それぞれの場合のにお
い成分濃度（Ｃ1 、Ｃ2 、・・・、Ｃm ）とセンサ出力
（Ｒ1 、Ｒ2 、・・・、Ｒn）との関係を重回帰分析法
によって解析することで、（１）式中の偏回帰係数ｂmn
をすべて決定することができ、２種類以上のにおいガス
成分に対して、その濃度と複数センサの出力との相関を
知ることができる。以上のような操作の後、密閉容器内
に脱臭剤を設置して評価すべき２種類以上のにおいガス
成分を一定量注入し、複数のセンサからの出力信号を連
続的に受信してあらかじめ求めておいた（１）式の関係
に適用する。この操作により、評価すべき２種類以上の
においガス成分の濃度を連続的かつ同時に知ることがで
き、２種類以上のにおいガス成分が共存している場合に
ついても、脱臭剤の脱臭性能を同時かつ定量的に評価す
ることができる。
【００１０】
【実施例】以下、本発明の実施例について説明する。図
１は本発明の装置の概略を示している。図１に示すよう
に、一定容積の試験槽１の周囲は断熱材２で囲まれてお
り、試験槽１の内部の温度および湿度は、温度計３およ
び湿度計４に接続された温度湿度調節装置５、およびそ
れによって制御されるヒーター６および水分供給装置７
を用いて所定の温度および湿度に調節される。脱臭剤の
設置環境を変化させるとともに、評価すべきにおいガス
成分や脱臭剤の種類によっても試験条件を変化させるこ
とができるよう、試験槽１の内部の温度は０〜１００
℃、湿度は相対湿度０〜１００％の範囲で調節できるよ
うになっている。試験槽１はアクリル、ガラス、金属な
ど内部のガス体を保温・保湿し、さらに密閉することが
可能な材料によって構成され、その周囲の断熱材にはガ
ラスウールなど外気の温度および湿度の変動の影響を防
ぐことができる材料が用いられる。また、試験槽１と断
熱材２の間に設置されるヒーターは、シースヒーターな
ど試験槽内のガス体を容易に加熱することが可能である
ものが用いられる。
１は本発明の装置の概略を示している。図１に示すよう
に、一定容積の試験槽１の周囲は断熱材２で囲まれてお
り、試験槽１の内部の温度および湿度は、温度計３およ
び湿度計４に接続された温度湿度調節装置５、およびそ
れによって制御されるヒーター６および水分供給装置７
を用いて所定の温度および湿度に調節される。脱臭剤の
設置環境を変化させるとともに、評価すべきにおいガス
成分や脱臭剤の種類によっても試験条件を変化させるこ
とができるよう、試験槽１の内部の温度は０〜１００
℃、湿度は相対湿度０〜１００％の範囲で調節できるよ
うになっている。試験槽１はアクリル、ガラス、金属な
ど内部のガス体を保温・保湿し、さらに密閉することが
可能な材料によって構成され、その周囲の断熱材にはガ
ラスウールなど外気の温度および湿度の変動の影響を防
ぐことができる材料が用いられる。また、試験槽１と断
熱材２の間に設置されるヒーターは、シースヒーターな
ど試験槽内のガス体を容易に加熱することが可能である
ものが用いられる。
【００１１】試験槽１の内部には脱臭剤設置台８に設置
された評価すべき脱臭剤９、および試験槽１内のガスを
循環させるためのガス循環器１０が設置されている。設
置台８は種類の異なる脱臭剤の大きさを一定にするとと
もに、試験槽１内のガスが脱臭剤９と効率よく接触する
ように配置される。試験槽の容積は脱臭剤の大きさ、ガ
ス循環器の送風能力などによって変化させる必要がある
が、通常１〜１０ｃｍ 3 程度の脱臭剤を用い、０．１〜
１ｍ3 程度の試験槽で試験が行われる。また、ガスの循
環能力は試験槽内のガス総量を０．５〜２分程度で送風
できる能力が適している。
された評価すべき脱臭剤９、および試験槽１内のガスを
循環させるためのガス循環器１０が設置されている。設
置台８は種類の異なる脱臭剤の大きさを一定にするとと
もに、試験槽１内のガスが脱臭剤９と効率よく接触する
ように配置される。試験槽の容積は脱臭剤の大きさ、ガ
ス循環器の送風能力などによって変化させる必要がある
が、通常１〜１０ｃｍ 3 程度の脱臭剤を用い、０．１〜
１ｍ3 程度の試験槽で試験が行われる。また、ガスの循
環能力は試験槽内のガス総量を０．５〜２分程度で送風
できる能力が適している。
【００１２】また、試験槽１の側面には評価すべきにお
いガスを注入するためのガス注入口１１、および試験槽
１内のガスを排出するためのガス排出口１２が設置され
ている。ガス注入口１１はゴム栓あるいはシリコン栓な
どで密閉されており、ガスシリンジなどで採取した一定
量のにおいガスを試験槽１内に容易に注入できるように
なっている。ガス排出口１２は試験槽１の両側面にそれ
ぞれ設置され、片方のガス排出口１２には試験槽１内の
ガスを強制的に排気できるようガス排気装置１３が接続
されている。試験槽１の内部にはにおいガス成分を検出
するための半導体ガスセンサ１４が配置され、試験槽１
の外部に設置された電圧供給源１５より電圧が供給され
る。この実施例では、半導体ガスセンサ１４はＳｎＯ2
半導体よりなっており、評価すべきにおいガス成分数以
上の種類の異なるセンサが配置される。これらのセンサ
からの出力は出力信号受信装置１６で連続的に受信さ
れ、これに接続されたデータ解析・表示装置１７によっ
て試験槽１内のにおい成分濃度の経時変化が連続的に解
析され、表示される。
いガスを注入するためのガス注入口１１、および試験槽
１内のガスを排出するためのガス排出口１２が設置され
ている。ガス注入口１１はゴム栓あるいはシリコン栓な
どで密閉されており、ガスシリンジなどで採取した一定
量のにおいガスを試験槽１内に容易に注入できるように
なっている。ガス排出口１２は試験槽１の両側面にそれ
ぞれ設置され、片方のガス排出口１２には試験槽１内の
ガスを強制的に排気できるようガス排気装置１３が接続
されている。試験槽１の内部にはにおいガス成分を検出
するための半導体ガスセンサ１４が配置され、試験槽１
の外部に設置された電圧供給源１５より電圧が供給され
る。この実施例では、半導体ガスセンサ１４はＳｎＯ2
半導体よりなっており、評価すべきにおいガス成分数以
上の種類の異なるセンサが配置される。これらのセンサ
からの出力は出力信号受信装置１６で連続的に受信さ
れ、これに接続されたデータ解析・表示装置１７によっ
て試験槽１内のにおい成分濃度の経時変化が連続的に解
析され、表示される。
【００１３】次に、上記のように構成された本発明の装
置によって脱臭剤の脱臭性能を定量的に評価する方法に
ついて説明する。脱臭性能評価に先だって、使用するセ
ンサのセンサ出力とにおいガス成分濃度との関係式を作
成する。まず、試験槽１のガス排出口１２を開け、試験
槽１内のガスを一旦排気した後ガス排出口を閉め、試験
槽１を密閉状態に保つ。この後、ガス循環器１０を作動
させ内部のガスを攪拌させながら、温度湿度調節装置
５、ヒーター６、水分供給装置７を用いて試験槽１内を
所定の温度および湿度に調節する。評価すべきにおいガ
ス成分が単一成分の場合には、試験槽１内に半導体ガス
センサ１４を一個設置し、脱臭剤が存在しない状態で、
ガスシリンジで採取した一定量のにおいガスをガス注入
口１１から試験槽１内に注入する。ガス注入と同時に、
半導体ガスセンサ１４の出力は変化し、０．５〜２分程
度で試験槽１内のガス濃度に対応した出力で安定する。
この出力信号をセンサ出力受信装置１６で受信する。同
様の操作を２水準以上のガス濃度で行い、データ解析・
表示装置１７でセンサ出力−においガス成分濃度の関係
式を作成する。
置によって脱臭剤の脱臭性能を定量的に評価する方法に
ついて説明する。脱臭性能評価に先だって、使用するセ
ンサのセンサ出力とにおいガス成分濃度との関係式を作
成する。まず、試験槽１のガス排出口１２を開け、試験
槽１内のガスを一旦排気した後ガス排出口を閉め、試験
槽１を密閉状態に保つ。この後、ガス循環器１０を作動
させ内部のガスを攪拌させながら、温度湿度調節装置
５、ヒーター６、水分供給装置７を用いて試験槽１内を
所定の温度および湿度に調節する。評価すべきにおいガ
ス成分が単一成分の場合には、試験槽１内に半導体ガス
センサ１４を一個設置し、脱臭剤が存在しない状態で、
ガスシリンジで採取した一定量のにおいガスをガス注入
口１１から試験槽１内に注入する。ガス注入と同時に、
半導体ガスセンサ１４の出力は変化し、０．５〜２分程
度で試験槽１内のガス濃度に対応した出力で安定する。
この出力信号をセンサ出力受信装置１６で受信する。同
様の操作を２水準以上のガス濃度で行い、データ解析・
表示装置１７でセンサ出力−においガス成分濃度の関係
式を作成する。
【００１４】この後、脱臭剤９を試験槽１内に設置し
て、上記と同様の操作により試験槽１内の温度および湿
度を調節した後、評価すべき単一のにおいガス成分の一
定量をガス注入口１１から試験槽１内に注入する。試験
槽１内に注入されたにおいガスは時間経過とともに脱臭
剤によって除去され、センサの出力もその濃度変化に従
って変化する。この出力変化をセンサ出力受信装置１６
で連続的に受信し、データ解析・表示装置１７であらか
じめ作成しておいたセンサ出力−においガス成分濃度の
関係式に適用する。その結果、試験槽１内に注入したに
おいガス成分の濃度変化を定量的かつ連続的に測定する
ことができ、設置した脱臭剤８の脱臭性能を定量的に評
価することができる。
て、上記と同様の操作により試験槽１内の温度および湿
度を調節した後、評価すべき単一のにおいガス成分の一
定量をガス注入口１１から試験槽１内に注入する。試験
槽１内に注入されたにおいガスは時間経過とともに脱臭
剤によって除去され、センサの出力もその濃度変化に従
って変化する。この出力変化をセンサ出力受信装置１６
で連続的に受信し、データ解析・表示装置１７であらか
じめ作成しておいたセンサ出力−においガス成分濃度の
関係式に適用する。その結果、試験槽１内に注入したに
おいガス成分の濃度変化を定量的かつ連続的に測定する
ことができ、設置した脱臭剤８の脱臭性能を定量的に評
価することができる。
【００１５】また、２種類以上のにおいガス成分に対す
る脱臭剤の脱臭性能を同時に評価するためには、試験槽
１内に半導体ガスセンサ１４を評価すべきにおいガス成
分数以上（ｎ個）設置し、脱臭剤が存在しない状態で、
それぞれのにおいガス成分について、ガスシリンジで採
取した一定量のガスをガス注入口１１から試験槽１内に
注入する。設置した個々の半導体ガスセンサ１４は各に
おいガス成分に対する感度が異なるため、それぞれ異な
った出力で０．５〜２分後に安定する。すべてのセンサ
からの出力信号をセンサ出力受信装置１６で受信する。
同様の操作を、成分混合比を変化させた（ｎ＋１）個以
上の試料について行い、データ解析・表示装置１７で個
々のセンサについてセンサ出力−においガス成分濃度の
関係式を重回帰分析法を用いて作成する。
る脱臭剤の脱臭性能を同時に評価するためには、試験槽
１内に半導体ガスセンサ１４を評価すべきにおいガス成
分数以上（ｎ個）設置し、脱臭剤が存在しない状態で、
それぞれのにおいガス成分について、ガスシリンジで採
取した一定量のガスをガス注入口１１から試験槽１内に
注入する。設置した個々の半導体ガスセンサ１４は各に
おいガス成分に対する感度が異なるため、それぞれ異な
った出力で０．５〜２分後に安定する。すべてのセンサ
からの出力信号をセンサ出力受信装置１６で受信する。
同様の操作を、成分混合比を変化させた（ｎ＋１）個以
上の試料について行い、データ解析・表示装置１７で個
々のセンサについてセンサ出力−においガス成分濃度の
関係式を重回帰分析法を用いて作成する。
【００１６】この後、脱臭剤９を試験槽１内に設置し
て、前記と同様の操作により試験槽１内の温度および湿
度を調節した後、評価すべき２種類以上のにおいガス成
分をそれぞれ一定量ガス注入口１１から試験槽１内に注
入する。試験槽１内に注入された２種類以上のにおいガ
ス成分は時間経過とともに脱臭剤によって除去され、セ
ンサの出力もそれらの濃度変化に従って変化する。セン
サによって各においガス成分に対する感度が異なり、し
かも脱臭剤の脱臭能力は一般ににおいガス成分ごとに異
なるため、出力変化の度合はセンサによって異なるが、
すべてのセンサからの出力をセンサ出力受信装置１６で
連続的に受信し、データ解析・表示装置１７であらかじ
め作成しておいたセンサ出力−においガス成分濃度の重
回帰式に適用する。その結果、試験槽１内に注入した２
種類以上のにおいガス成分の濃度変化を同時かつ連続的
に測定することができ、２種類以上のにおいガス成分が
共存している場合の脱臭剤８の脱臭性能を同時かつ定量
的に評価することができる。
て、前記と同様の操作により試験槽１内の温度および湿
度を調節した後、評価すべき２種類以上のにおいガス成
分をそれぞれ一定量ガス注入口１１から試験槽１内に注
入する。試験槽１内に注入された２種類以上のにおいガ
ス成分は時間経過とともに脱臭剤によって除去され、セ
ンサの出力もそれらの濃度変化に従って変化する。セン
サによって各においガス成分に対する感度が異なり、し
かも脱臭剤の脱臭能力は一般ににおいガス成分ごとに異
なるため、出力変化の度合はセンサによって異なるが、
すべてのセンサからの出力をセンサ出力受信装置１６で
連続的に受信し、データ解析・表示装置１７であらかじ
め作成しておいたセンサ出力−においガス成分濃度の重
回帰式に適用する。その結果、試験槽１内に注入した２
種類以上のにおいガス成分の濃度変化を同時かつ連続的
に測定することができ、２種類以上のにおいガス成分が
共存している場合の脱臭剤８の脱臭性能を同時かつ定量
的に評価することができる。
【００１７】ここで、市販の脱臭剤のＨ2Ｓガスに対す
る脱臭性能を評価した結果を説明する。容積１ｍ3 の試
験槽内を温度２５℃、湿度５０％に保持し、１０ｃｍ3
に調製した脱臭剤で試験を行った。ガス循環器により、
０．５ｍ3 ／ｍｉｎで試験槽内のガスを循環させた状態
で硫化水素（Ｈ2Ｓ）１０ｃｍ3 を注入した（試験槽内
のＨ2Ｓ 濃度＝１０ｐｐｍ）。試験槽内に設置した一
個のＳｎＯ2 半導体ガスセンサから得られた試験槽内の
ガス濃度の経時変化の様子を図２に示す。Ｈ2Ｓ注入前
のセンサ出力は濃度０に対応するレベルで安定し、Ｈ2
Ｓ注入と同時にセンサ出力が上昇する。０．１分以内の
遅れでセンサ出力はＨ2Ｓ濃度１０ｐｐｍに対応するレ
ベルに達し、それ以降一様に減少した。これは試験槽内
のＨ2Ｓガスが注入と同時に脱臭剤によって除去され始
め、時間経過とともに試験槽内のＨ2Ｓ濃度が一様に減
少していることを示している。Ｈ2Ｓ注入後約７分で試
験槽内の濃度がほぼ１／２に減少し、１５分でほぼ完全
に除去されていることがわかる。このように、一種類の
センサを用いれば、単一のにおいガス成分に対する脱臭
剤の脱臭性能を定量的に評価することができる。
る脱臭性能を評価した結果を説明する。容積１ｍ3 の試
験槽内を温度２５℃、湿度５０％に保持し、１０ｃｍ3
に調製した脱臭剤で試験を行った。ガス循環器により、
０．５ｍ3 ／ｍｉｎで試験槽内のガスを循環させた状態
で硫化水素（Ｈ2Ｓ）１０ｃｍ3 を注入した（試験槽内
のＨ2Ｓ 濃度＝１０ｐｐｍ）。試験槽内に設置した一
個のＳｎＯ2 半導体ガスセンサから得られた試験槽内の
ガス濃度の経時変化の様子を図２に示す。Ｈ2Ｓ注入前
のセンサ出力は濃度０に対応するレベルで安定し、Ｈ2
Ｓ注入と同時にセンサ出力が上昇する。０．１分以内の
遅れでセンサ出力はＨ2Ｓ濃度１０ｐｐｍに対応するレ
ベルに達し、それ以降一様に減少した。これは試験槽内
のＨ2Ｓガスが注入と同時に脱臭剤によって除去され始
め、時間経過とともに試験槽内のＨ2Ｓ濃度が一様に減
少していることを示している。Ｈ2Ｓ注入後約７分で試
験槽内の濃度がほぼ１／２に減少し、１５分でほぼ完全
に除去されていることがわかる。このように、一種類の
センサを用いれば、単一のにおいガス成分に対する脱臭
剤の脱臭性能を定量的に評価することができる。
【００１８】また、試験槽内に８種類の半導体ガスセン
サを配置し、上記と同様の試験条件において、硫化水素
（Ｈ2Ｓ）、アンモニア（ＮＨ3 ）、メチルメルカプタ
ン（ＣＨ3 ＳＨ）、アセトアルデヒド（ＣＨ3 ＣＨＯ）
の４種類のにおいガス成分をそれぞれ１０ｃｍ3 （試験
槽内の各においガス成分濃度＝１０ｐｐｍ）ずつ注入し
た。８種類のセンサからの出力を連続的に受信し、あら
かじめ作成しておいた各においガス成分濃度−センサ出
力関係（重回帰式）に適用することで得られた各におい
ガス成分濃度の経時変化の様子を図３に示す。４種類の
ガスを注入した後、０．１分以内の遅れで各成分とも１
０ｐｐｍを示し、それ以降一様に減少した。しかし、そ
の減少傾向はにおいガス成分ごとに異なり、ＮＨ3 は約
１０分、Ｈ2 Ｓは約１５分で濃度はほぼ０を示したが、
ＣＨ3ＳＨ、ＣＨ3ＣＨＯについては、２０分経過しても
３ｐｐｍ程度が残存していた。これは、脱臭剤の脱臭性
能がにおい成分ごとに異なることを示している結果であ
り、この例ではＮＨ3 、Ｈ 2Ｓに対する脱臭性能がＣＨ
3 ＳＨ、ＣＨ3 ＣＨＯよりも優れていることを示してい
る。このように、２種類以上のにおいガス成分が共存し
ている場合にも、ガス成分数以上の種類の異なる半導体
ガスセンサを用いることで、各においガス成分に対する
脱臭剤の脱臭性能を同時かつ定量的に評価することがで
きる。
サを配置し、上記と同様の試験条件において、硫化水素
（Ｈ2Ｓ）、アンモニア（ＮＨ3 ）、メチルメルカプタ
ン（ＣＨ3 ＳＨ）、アセトアルデヒド（ＣＨ3 ＣＨＯ）
の４種類のにおいガス成分をそれぞれ１０ｃｍ3 （試験
槽内の各においガス成分濃度＝１０ｐｐｍ）ずつ注入し
た。８種類のセンサからの出力を連続的に受信し、あら
かじめ作成しておいた各においガス成分濃度−センサ出
力関係（重回帰式）に適用することで得られた各におい
ガス成分濃度の経時変化の様子を図３に示す。４種類の
ガスを注入した後、０．１分以内の遅れで各成分とも１
０ｐｐｍを示し、それ以降一様に減少した。しかし、そ
の減少傾向はにおいガス成分ごとに異なり、ＮＨ3 は約
１０分、Ｈ2 Ｓは約１５分で濃度はほぼ０を示したが、
ＣＨ3ＳＨ、ＣＨ3ＣＨＯについては、２０分経過しても
３ｐｐｍ程度が残存していた。これは、脱臭剤の脱臭性
能がにおい成分ごとに異なることを示している結果であ
り、この例ではＮＨ3 、Ｈ 2Ｓに対する脱臭性能がＣＨ
3 ＳＨ、ＣＨ3 ＣＨＯよりも優れていることを示してい
る。このように、２種類以上のにおいガス成分が共存し
ている場合にも、ガス成分数以上の種類の異なる半導体
ガスセンサを用いることで、各においガス成分に対する
脱臭剤の脱臭性能を同時かつ定量的に評価することがで
きる。
【００１９】
【発明の効果】本発明の方法および装置により、におい
ガス成分に対する脱臭剤の脱臭性能を定量的かつ連続的
に、しかも２種類以上のにおいガス成分が共存している
場合にも各ガス成分に対する脱臭性能を同時に評価する
ことができるようになり、これまで画一的な評価が行わ
れていなかった脱臭剤の脱臭性能を画一的に評価し、相
互に比較することができる。このため、食品、環境汚染
などにおいや悪臭を発し、その除去および定量的評価が
必要な分野へ寄与する効果は大きい。
ガス成分に対する脱臭剤の脱臭性能を定量的かつ連続的
に、しかも２種類以上のにおいガス成分が共存している
場合にも各ガス成分に対する脱臭性能を同時に評価する
ことができるようになり、これまで画一的な評価が行わ
れていなかった脱臭剤の脱臭性能を画一的に評価し、相
互に比較することができる。このため、食品、環境汚染
などにおいや悪臭を発し、その除去および定量的評価が
必要な分野へ寄与する効果は大きい。
【図１】本発明の装置の全体の概略図、
【図２】試験槽内の硫化水素濃度の経時変化、
【図３】試験槽内の硫化水素、アンモニア、メチルメル
カプタン、アセトアルデヒドの４種類のにおいガス成分
濃度の経時変化を示した図である。
カプタン、アセトアルデヒドの４種類のにおいガス成分
濃度の経時変化を示した図である。
１ 試験槽 ２ 断熱材 ３ 温度計 ４ 湿度計 ５ 温度湿度調節装置 ６ ヒーター ７ 水分供給装置 ８ 脱臭剤設置台 ９ 脱臭剤 １０ ガス循環器 １１ ガス注入口 １２ ガス排出口 １３ ガス排気装置 １４ 半導体ガスセンサ １５ 電圧供給源 １６ センサ出力受信装置 １７ データ解析・表示装置
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成５年１月５日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００２】
【従来の技術】我々の生活環境の中には、多種多様のに
おいが存在している。においは人間の嗅覚によって検知
されるものであり、においの程度は個人差およびそれの
置かれている環境状況によって変化する。しかし、食品
の腐敗臭やタバコ臭、汚物などから発せられるにおいは
通常万人が悪臭と意識し、快適な生活環境の維持には、
そのにおい除去が大きな課題となっている。このような
中で、現在活性炭（悪臭の研究、Ｖｏｌ．５７、Ｎｏ．
１２、ｐ９、１９８３）、金属錯体（工業材料、Ｖｏ
ｌ．３９、Ｎｏ．１３、ｐ５８、１９９１）など様々な
材料を用いた脱臭剤が幅広い分野で開発され、市販され
ている。しかし、これら多種の脱臭剤の脱臭性能を画一
的に評価する方法は存在していない。これは、においの
基本量を表す基本単位が存在しないこと、および通常の
生活環境におけるにおいが１種類だけで構成されること
がまれなために、混合されたにおいに対する総合的な脱
臭性能を定量的に評価することが困難なためである。
おいが存在している。においは人間の嗅覚によって検知
されるものであり、においの程度は個人差およびそれの
置かれている環境状況によって変化する。しかし、食品
の腐敗臭やタバコ臭、汚物などから発せられるにおいは
通常万人が悪臭と意識し、快適な生活環境の維持には、
そのにおい除去が大きな課題となっている。このような
中で、現在活性炭（悪臭の研究、Ｖｏｌ．５７、Ｎｏ．
１２、ｐ９、１９８３）、金属錯体（工業材料、Ｖｏ
ｌ．３９、Ｎｏ．１３、ｐ５８、１９９１）など様々な
材料を用いた脱臭剤が幅広い分野で開発され、市販され
ている。しかし、これら多種の脱臭剤の脱臭性能を画一
的に評価する方法は存在していない。これは、においの
基本量を表す基本単位が存在しないこと、および通常の
生活環境におけるにおいが１種類だけで構成されること
がまれなために、混合されたにおいに対する総合的な脱
臭性能を定量的に評価することが困難なためである。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１１】試験槽１の内部には脱臭剤設置台８に設置
された評価すべき脱臭剤９、および試験槽１内のガスを
循環させるためのガス循環器１０が設置されている。設
置台８は種類の異なる脱臭剤の大きさを一定にするとと
もに、試験槽１内のガスが脱臭剤９と効率よく接触する
ように配置される。試験槽の容積は脱臭剤の大きさ、ガ
ス循環器の送風能力などによって変化させる必要がある
が、通常１〜１０００ｃｍ３程度の脱臭剤を用い、０．
１〜１ｍ３程度の試験槽で試験が行われる。また、ガス
の循環能力は試験槽内のガス総量を０．５〜２分程度で
送風できる能力が適している。
された評価すべき脱臭剤９、および試験槽１内のガスを
循環させるためのガス循環器１０が設置されている。設
置台８は種類の異なる脱臭剤の大きさを一定にするとと
もに、試験槽１内のガスが脱臭剤９と効率よく接触する
ように配置される。試験槽の容積は脱臭剤の大きさ、ガ
ス循環器の送風能力などによって変化させる必要がある
が、通常１〜１０００ｃｍ３程度の脱臭剤を用い、０．
１〜１ｍ３程度の試験槽で試験が行われる。また、ガス
の循環能力は試験槽内のガス総量を０．５〜２分程度で
送風できる能力が適している。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１４】この後、脱臭剤９を試験槽１内に設置し
て、上記と同様の操作により試験槽１内の温度および湿
度を調節した後、評価すべき単一のにおいガス成分の一
定量をガス注入口１１から試験槽１内に注入する。試験
槽１内に注入されたにおいガスは時間経過とともに脱臭
剤によって除去され、センサの出力もその濃度変化に従
って変化する。この出力変化をセンサ出力受信装置１６
で連続的に受信し、データ解析・表示装置１７であらか
じめ作成しておいたセンサ出力−においガス成分濃度の
関係式に適用する。その結果、試験槽１内に注入したに
おいガス成分の濃度変化を定量的かつ連続的に測定する
ことができ、設置した脱臭剤９の脱臭性能を定量的に評
価することができる。
て、上記と同様の操作により試験槽１内の温度および湿
度を調節した後、評価すべき単一のにおいガス成分の一
定量をガス注入口１１から試験槽１内に注入する。試験
槽１内に注入されたにおいガスは時間経過とともに脱臭
剤によって除去され、センサの出力もその濃度変化に従
って変化する。この出力変化をセンサ出力受信装置１６
で連続的に受信し、データ解析・表示装置１７であらか
じめ作成しておいたセンサ出力−においガス成分濃度の
関係式に適用する。その結果、試験槽１内に注入したに
おいガス成分の濃度変化を定量的かつ連続的に測定する
ことができ、設置した脱臭剤９の脱臭性能を定量的に評
価することができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１６】この後、脱臭剤９を試験槽１内に設置し
て、前記と同様の操作により試験槽１内の温度および湿
度を調節した後、評価すべき２種類以上のにおいガス成
分をそれぞれ一定量ガス注入口１１から試験槽１内に注
入する。試験槽１内に注入された２種類以上のにおいガ
ス成分は時間経過とともに脱臭剤によって除去され、セ
ンサの出力もそれらの濃度変化に従って変化する。セン
サによって各においガス成分に対する感度が異なり、し
かも脱臭剤の脱臭能力は一般ににおいガス成分ごとに異
なるため、出力変化の度合はセンサによって異なるが、
すべてのセンサからの出力をセンサ出力受信装置１６で
連続的に受信し、データ解析・表示装置１７であらかじ
め作成しておいたセンサ出力−においガス成分濃度の重
回帰式に適用する。その結果、試験槽１内に注入した２
種類以上のにおいガス成分の濃度変化を同時かつ連続的
に測定することができ、２種類以上のにおいガス成分が
共存している場合の脱臭剤９の脱臭性能を同時かつ定量
的に評価することができる。
て、前記と同様の操作により試験槽１内の温度および湿
度を調節した後、評価すべき２種類以上のにおいガス成
分をそれぞれ一定量ガス注入口１１から試験槽１内に注
入する。試験槽１内に注入された２種類以上のにおいガ
ス成分は時間経過とともに脱臭剤によって除去され、セ
ンサの出力もそれらの濃度変化に従って変化する。セン
サによって各においガス成分に対する感度が異なり、し
かも脱臭剤の脱臭能力は一般ににおいガス成分ごとに異
なるため、出力変化の度合はセンサによって異なるが、
すべてのセンサからの出力をセンサ出力受信装置１６で
連続的に受信し、データ解析・表示装置１７であらかじ
め作成しておいたセンサ出力−においガス成分濃度の重
回帰式に適用する。その結果、試験槽１内に注入した２
種類以上のにおいガス成分の濃度変化を同時かつ連続的
に測定することができ、２種類以上のにおいガス成分が
共存している場合の脱臭剤９の脱臭性能を同時かつ定量
的に評価することができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正内容】 ここで、市販の脱臭剤のＨ２Ｓガスに対する脱臭性能を
評価した結果を説明する。容積１ｍ３の試験槽内を温度
２５℃、湿度５０％に保持し、１００ｃｍ３に調製した
脱臭剤で試験を行った。ガス循環器により、０．５ｍ３
／ｍｉｎで試験槽内のガスを循環させた状態で硫化水素
（Ｈ２Ｓ）１０ｃｍ３を注入した（試験槽内のＨ２Ｓ
濃度＝１０ｐｐｍ）。試験槽内に設置した一個のＳｎＯ
２半導体ガスセンサから得られた試験槽内のガス濃度の
経時変化の様子を図２に示す。Ｈ２Ｓ注入前のセンサ出
力は濃度０に対応するレベルで安定し、Ｈ２Ｓ注入と同
時にセンサ出力が上昇する。１分以内の遅れでセンサ出
力はＨ２Ｓ濃度１０ｐｐｍに対応するレベルに達し、そ
れ以降一様に減少した。これは試験槽内のＨ２Ｓガスが
注入と同時に脱臭剤によって除去され始め、時間経過と
ともに試験槽内のＨ２Ｓ濃度が一様に減少していること
を示している。Ｈ２Ｓ注入後約７分で試験槽内の濃度が
ほぼ１／２に減少し、１５分でほぼ完全に除去されてい
ることがわかる。このように、一種類のセンサを用いれ
ば、単一のにおいガス成分に対する脱臭剤の脱臭性能を
定量的に評価することができる。
評価した結果を説明する。容積１ｍ３の試験槽内を温度
２５℃、湿度５０％に保持し、１００ｃｍ３に調製した
脱臭剤で試験を行った。ガス循環器により、０．５ｍ３
／ｍｉｎで試験槽内のガスを循環させた状態で硫化水素
（Ｈ２Ｓ）１０ｃｍ３を注入した（試験槽内のＨ２Ｓ
濃度＝１０ｐｐｍ）。試験槽内に設置した一個のＳｎＯ
２半導体ガスセンサから得られた試験槽内のガス濃度の
経時変化の様子を図２に示す。Ｈ２Ｓ注入前のセンサ出
力は濃度０に対応するレベルで安定し、Ｈ２Ｓ注入と同
時にセンサ出力が上昇する。１分以内の遅れでセンサ出
力はＨ２Ｓ濃度１０ｐｐｍに対応するレベルに達し、そ
れ以降一様に減少した。これは試験槽内のＨ２Ｓガスが
注入と同時に脱臭剤によって除去され始め、時間経過と
ともに試験槽内のＨ２Ｓ濃度が一様に減少していること
を示している。Ｈ２Ｓ注入後約７分で試験槽内の濃度が
ほぼ１／２に減少し、１５分でほぼ完全に除去されてい
ることがわかる。このように、一種類のセンサを用いれ
ば、単一のにおいガス成分に対する脱臭剤の脱臭性能を
定量的に評価することができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１８】また、試験槽内に８種類の半導体ガスセン
サを配置し、上記と同様の試験条件において、硫化水素
（Ｈ２Ｓ）、アンモニア（ＮＨ３）、メチルメルカプタ
ン（ＣＨ３ＳＨ）、アセトアルデヒド（ＣＨ３ＣＨＯ）
の４種類のにおいガス成分をそれぞれ１０ｃｍ３（試験
槽内の各においガス成分濃度＝１０ｐｐｍ）ずつ注入し
た。８種類のセンサからの出力を連続的に受信し、あら
かじめ作成しておいた各においガス成分濃度−センサ出
力関係（重回帰式）に適用することで得られた各におい
ガス成分濃度の経時変化の様子を図３に示す。４種類の
ガスを注入した後、１分以内の遅れで各成分とも１０ｐ
ｐｍを示し、それ以降一様に減少した。しかし、その減
少傾向はにおいガス成分ごとに異なり、ＮＨ３は約１０
分、Ｈ２Ｓは約１５分で濃度はほぼ０を示したが、ＣＨ
３ＳＨ、ＣＨ３ＣＨＯについては、２０分経過しても３
ｐｐｍ程度が残存していた。これは、脱臭剤の脱臭性能
がにおい成分ごとに異なることを示している結果であ
り、この例ではＮＨ３、Ｈ２Ｓに対する脱臭性能がＣＨ
３ＳＨ、ＣＨ３ＣＨＯよりも優れていることを示してい
る。このように、２種類以上のにおいガス成分が共存し
ている場合にも、ガス成分数以上の種類の異なる半導体
ガスセンサを用いることで、各においガス成分に対する
脱臭剤の脱臭性能を同時かつ定量的に評価することがで
きる。
サを配置し、上記と同様の試験条件において、硫化水素
（Ｈ２Ｓ）、アンモニア（ＮＨ３）、メチルメルカプタ
ン（ＣＨ３ＳＨ）、アセトアルデヒド（ＣＨ３ＣＨＯ）
の４種類のにおいガス成分をそれぞれ１０ｃｍ３（試験
槽内の各においガス成分濃度＝１０ｐｐｍ）ずつ注入し
た。８種類のセンサからの出力を連続的に受信し、あら
かじめ作成しておいた各においガス成分濃度−センサ出
力関係（重回帰式）に適用することで得られた各におい
ガス成分濃度の経時変化の様子を図３に示す。４種類の
ガスを注入した後、１分以内の遅れで各成分とも１０ｐ
ｐｍを示し、それ以降一様に減少した。しかし、その減
少傾向はにおいガス成分ごとに異なり、ＮＨ３は約１０
分、Ｈ２Ｓは約１５分で濃度はほぼ０を示したが、ＣＨ
３ＳＨ、ＣＨ３ＣＨＯについては、２０分経過しても３
ｐｐｍ程度が残存していた。これは、脱臭剤の脱臭性能
がにおい成分ごとに異なることを示している結果であ
り、この例ではＮＨ３、Ｈ２Ｓに対する脱臭性能がＣＨ
３ＳＨ、ＣＨ３ＣＨＯよりも優れていることを示してい
る。このように、２種類以上のにおいガス成分が共存し
ている場合にも、ガス成分数以上の種類の異なる半導体
ガスセンサを用いることで、各においガス成分に対する
脱臭剤の脱臭性能を同時かつ定量的に評価することがで
きる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 鈴木 堅市 神奈川県川崎市中原区井田1618番地 新日 本製鐵株式会社先端技術研究所内
Claims (3)
- 【請求項１】 一定容積の密閉容器内に所定の大きさの
脱臭剤を設置し、単一のにおいガス成分を該容器内に一
定量注入して攪拌しつつ、容器内に設置した半導体ガス
センサによって該容器内のにおいガス成分濃度の経時変
化を連続的に測定し、該容器内に設置した脱臭剤の脱臭
性能を定量的に評価することを特徴とする脱臭性能評価
方法。 - 【請求項２】 一定容積の密閉容器内に所定の大きさの
脱臭剤を設置し、２種類以上のにおいガス成分を該容器
内にそれぞれ一定量注入して攪拌しつつ、容器内に設置
したガス成分数以上の種類の異なる半導体ガスセンサか
らの出力信号を、あらかじめ検出すべき複数のにおいガ
ス成分で構成されるガス体に対して重回帰分析法により
作成した関係式に適用することで、該容器内の複数のに
おいガス成分濃度の経時変化を連続的に測定し、該容器
内に設置した脱臭剤の脱臭性能を定量的に評価すること
を特徴とする脱臭性能評価方法。 - 【請求項３】 においガス成分を注入するためのガス注
入口とガスを排出するためのガス排出口を有する一定容
積の密閉容器内部に、脱臭剤設置台とガス循環器およ
び、１ないし２種類以上の半導体ガスセンサを配置し、
該容器周囲に温度および湿度調節機構を備えた恒温恒湿
槽を設置し、該容器外部に各センサからの出力信号を連
続的に受信して該容器内の１ないし２種類以上のにおい
ガス成分濃度を連続的に計算する装置を備えた、脱臭剤
の脱臭性能を定量的に評価することを特徴とする脱臭性
能評価装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4030466A JPH05223768A (ja) | 1992-02-18 | 1992-02-18 | 脱臭性能評価方法および装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4030466A JPH05223768A (ja) | 1992-02-18 | 1992-02-18 | 脱臭性能評価方法および装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05223768A true JPH05223768A (ja) | 1993-08-31 |
Family
ID=12304662
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4030466A Withdrawn JPH05223768A (ja) | 1992-02-18 | 1992-02-18 | 脱臭性能評価方法および装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05223768A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003501625A (ja) * | 1999-05-31 | 2003-01-14 | エーアーデーエス・ドイッチェランド・ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 半導体ガスセンサ、ガスセンサ・システムおよびガス分析方法 |
| KR101032758B1 (ko) * | 2010-03-16 | 2011-05-06 | 이소영 | 유해가스 탈취 및 흡착성능 실험을 위한 다기능 가스실험장치 |
| CN109470817A (zh) * | 2017-09-08 | 2019-03-15 | 金红叶纸业集团有限公司 | 一种评估除臭效果的设备及方法 |
-
1992
- 1992-02-18 JP JP4030466A patent/JPH05223768A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003501625A (ja) * | 1999-05-31 | 2003-01-14 | エーアーデーエス・ドイッチェランド・ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 半導体ガスセンサ、ガスセンサ・システムおよびガス分析方法 |
| KR101032758B1 (ko) * | 2010-03-16 | 2011-05-06 | 이소영 | 유해가스 탈취 및 흡착성능 실험을 위한 다기능 가스실험장치 |
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