JPH05223057A - クライオポンプ - Google Patents
クライオポンプInfo
- Publication number
- JPH05223057A JPH05223057A JP2311192A JP2311192A JPH05223057A JP H05223057 A JPH05223057 A JP H05223057A JP 2311192 A JP2311192 A JP 2311192A JP 2311192 A JP2311192 A JP 2311192A JP H05223057 A JPH05223057 A JP H05223057A
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- Japan
- Prior art keywords
- pump case
- cryopump
- vacuum chamber
- mass spectrometer
- cold panel
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-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04B—POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS
- F04B37/00—Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00
- F04B37/06—Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00 for evacuating by thermal means
- F04B37/08—Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00 for evacuating by thermal means by condensing or freezing, e.g. cryogenic pumps
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 半導体装置の製造設備において真空チャンバ
内を超真空状態にするクライオポンプの構造に関し、質
量分析計を具え補助排気システムを併用せずに真空チャ
ンバ内の気体を容易に分析できるクライオポンプの提供
を目的とする。 【構成】 熱的に絶縁されたポンプケース72によって支
持され極低温に冷却された冷媒が供給される冷却管33
と、底面73が冷却管33に取付けられ円筒部がポンプケー
ス72と対向するコールドパネル74と、コールドパネル74
内に位置し冷却管33に取付けられたクライオパネル38と
を有し、ポンプケース72が質量分析計取付用の開口部75
とフランジ76を具えてなるように構成する。
内を超真空状態にするクライオポンプの構造に関し、質
量分析計を具え補助排気システムを併用せずに真空チャ
ンバ内の気体を容易に分析できるクライオポンプの提供
を目的とする。 【構成】 熱的に絶縁されたポンプケース72によって支
持され極低温に冷却された冷媒が供給される冷却管33
と、底面73が冷却管33に取付けられ円筒部がポンプケー
ス72と対向するコールドパネル74と、コールドパネル74
内に位置し冷却管33に取付けられたクライオパネル38と
を有し、ポンプケース72が質量分析計取付用の開口部75
とフランジ76を具えてなるように構成する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体装置の製造設備に
おいて真空チャンバ内を超真空状態にするクライオポン
プに係り、特に質量分析計の取付けが可能で真空チャン
バから流入する気体を質量を容易に分析できるクライオ
ポンプの構造に関する。
おいて真空チャンバ内を超真空状態にするクライオポン
プに係り、特に質量分析計の取付けが可能で真空チャン
バから流入する気体を質量を容易に分析できるクライオ
ポンプの構造に関する。
【0002】真空チャンバ内に各種の気体を導入し所定
の特性を有する膜を半導体基板上に生成する半導体装置
の製造設備において、真空チャンバに付属させるクライ
オポンプはクリーンで且つ高度な超真空状態を創り出せ
るものでなければならない。
の特性を有する膜を半導体基板上に生成する半導体装置
の製造設備において、真空チャンバに付属させるクライ
オポンプはクリーンで且つ高度な超真空状態を創り出せ
るものでなければならない。
【0003】即ち、真空状態が高度化するとリークした
気体が真空チャンバに流入しクリーン度を低下させる場
合がある。したがって、真空チャンバ内のクリーン度を
維持するには質量分析計等によって内部の気体の成分を
常に監視する必要がある。
気体が真空チャンバに流入しクリーン度を低下させる場
合がある。したがって、真空チャンバ内のクリーン度を
維持するには質量分析計等によって内部の気体の成分を
常に監視する必要がある。
【0004】しかるに、質量分析計を直接取り付けるに
は真空チャンバ内の圧力が高く補助排気システム等を併
用する必要がある。そこで、質量分析計を具え真空チャ
ンバ内の気体の質量を容易に分析可能なクライオポンプ
の開発が要望されている。
は真空チャンバ内の圧力が高く補助排気システム等を併
用する必要がある。そこで、質量分析計を具え真空チャ
ンバ内の気体の質量を容易に分析可能なクライオポンプ
の開発が要望されている。
【0005】
【従来の技術】図2は従来のクライオポンプの構造を示
す模式図である。超真空状態の真空チャンバ内に各種の
気体を導入し半導体基板上に所定の膜を生成する半導体
装置の製造設備は、図示の如く真空チャンバ1に気体の
流出入を閉塞するメインシャッタ2を介してクライオポ
ンプ3が装着されている。
す模式図である。超真空状態の真空チャンバ内に各種の
気体を導入し半導体基板上に所定の膜を生成する半導体
装置の製造設備は、図示の如く真空チャンバ1に気体の
流出入を閉塞するメインシャッタ2を介してクライオポ
ンプ3が装着されている。
【0006】従来のクライオポンプ3は開口部31がメイ
ンシャッタ2を介して真空チャンバ1に接続されるポン
プケース32を有し、極低温に冷却された冷媒が冷凍機4
から供給される冷却管33は熱的に絶縁されたポンプケー
ス32により支持されている。
ンシャッタ2を介して真空チャンバ1に接続されるポン
プケース32を有し、極低温に冷却された冷媒が冷凍機4
から供給される冷却管33は熱的に絶縁されたポンプケー
ス32により支持されている。
【0007】ポンプケース32と対向する円筒部分34およ
び底面35からなるコールドパネル36の底面35が冷却管33
の側面に装着され、コールドパネル36の開口部には複数
のリング状部材を同心円状に組み合わせて構成されたバ
ッフル37が装着されている。
び底面35からなるコールドパネル36の底面35が冷却管33
の側面に装着され、コールドパネル36の開口部には複数
のリング状部材を同心円状に組み合わせて構成されたバ
ッフル37が装着されている。
【0008】また、コールドパネル36とバッフル37によ
って取り囲まれた空間には複数枚のクライオパネル38が
配設されており、複数枚のクライオパネル38は間隔を置
いて積み重ねられコールドパネル36内に突出した冷却管
33の端面に装着されている。
って取り囲まれた空間には複数枚のクライオパネル38が
配設されており、複数枚のクライオパネル38は間隔を置
いて積み重ねられコールドパネル36内に突出した冷却管
33の端面に装着されている。
【0009】真空チャンバ1からクライオポンプ3に流
入した気体の水蒸気やそれより蒸気圧の高い気体はバッ
フル37に凝縮排気され、水蒸気等と比較して蒸気圧の低
い例えば窒素や酸素、アルゴン等の気体はコールドパネ
ル36によって捕獲される。
入した気体の水蒸気やそれより蒸気圧の高い気体はバッ
フル37に凝縮排気され、水蒸気等と比較して蒸気圧の低
い例えば窒素や酸素、アルゴン等の気体はコールドパネ
ル36によって捕獲される。
【0010】また、窒素や酸素、アルゴン等より更に蒸
気圧の低い例えばヘリウムや水素等はクライオパネル38
によって捕獲される。その結果、クライオポンプ3によ
って真空チャンバ1内の圧力を10-3Torr台にまで低下さ
せることが可能になる。
気圧の低い例えばヘリウムや水素等はクライオパネル38
によって捕獲される。その結果、クライオポンプ3によ
って真空チャンバ1内の圧力を10-3Torr台にまで低下さ
せることが可能になる。
【0011】しかし、真空状態が高度化するとリークし
た気体が真空チャンバ1に流入してクリーン度を低下さ
せる場合があり、高度なクリーン度を維持するには質量
分析計等によって真空チャンバ1内の気体の成分を常に
監視する必要がある。
た気体が真空チャンバ1に流入してクリーン度を低下さ
せる場合があり、高度なクリーン度を維持するには質量
分析計等によって真空チャンバ1内の気体の成分を常に
監視する必要がある。
【0012】そこで従来の半導体装置の製造設備等では
図示の如く真空チャンバ1の側面に質量分析計(mass sp
ectrometer)5を取付け、真空チャンバ1の気体からサ
ンプルを質量分析計5内に取り込んで気体に含まれる成
分の分析を行っている。
図示の如く真空チャンバ1の側面に質量分析計(mass sp
ectrometer)5を取付け、真空チャンバ1の気体からサ
ンプルを質量分析計5内に取り込んで気体に含まれる成
分の分析を行っている。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】気体の成分を質量分析
計によって分析するには真空圧力を分子流領域、即ち、
10-5Torr台まで低下させる必要がある。しかるに、従来
の装置において質量分析計を取り付ける真空チャンバ内
の圧力は10-3Torr台で成分分析は不可能である。
計によって分析するには真空圧力を分子流領域、即ち、
10-5Torr台まで低下させる必要がある。しかるに、従来
の装置において質量分析計を取り付ける真空チャンバ内
の圧力は10-3Torr台で成分分析は不可能である。
【0014】そこで従来の装置では図2に示す如く質量
分析計5に専用の補助排気システム6を付加することに
よって、分析する気体を質量分析計5に取り込んだあと
補助排気システム6により質量分析計5内の圧力を分子
流領域まで低下させている。
分析計5に専用の補助排気システム6を付加することに
よって、分析する気体を質量分析計5に取り込んだあと
補助排気システム6により質量分析計5内の圧力を分子
流領域まで低下させている。
【0015】しかし、分析する気体を質量分析計に取り
込んだあと質量分析計内の圧力を分子流領域まで低下さ
せる従来の方法は、圧力を分子流領域まで低下させる高
性能な補助排気システムを必要とし真空装置が大型化す
るばかりでなく高価になる。
込んだあと質量分析計内の圧力を分子流領域まで低下さ
せる従来の方法は、圧力を分子流領域まで低下させる高
性能な補助排気システムを必要とし真空装置が大型化す
るばかりでなく高価になる。
【0016】しかも、分析する気体を取り込んだあと圧
力を分子流領域まで低下させるため連続的な分析が不可
能であるばかりでなく、取り込んだ気体を希釈した状態
で分析するため含有量の少ない成分を検出しにくいとい
う問題があった。
力を分子流領域まで低下させるため連続的な分析が不可
能であるばかりでなく、取り込んだ気体を希釈した状態
で分析するため含有量の少ない成分を検出しにくいとい
う問題があった。
【0017】本発明の目的は質量分析計を具え補助排気
システムを併用せずに真空チャンバ内の気体を容易に分
析できるクライオポンプを提供することにある。
システムを併用せずに真空チャンバ内の気体を容易に分
析できるクライオポンプを提供することにある。
【0018】
【課題を解決するための手段】図1は本発明になるクラ
イオポンプの構造を示す模式図である。なお全図を通し
同じ対象物は同一記号で表している。
イオポンプの構造を示す模式図である。なお全図を通し
同じ対象物は同一記号で表している。
【0019】上記課題は真空チャンバ1に付属せしめ真
空チャンバ1内を超真空状態にするクライオポンプであ
って、開口部71がメインシャッタ2を介して真空チャン
バ1に接続されるポンプケース72と、熱的に絶縁された
ポンプケース72によって支持され冷凍機4から極低温に
冷却された冷媒が供給される冷却管33と、底面73が冷却
管33に取付けられ円筒部が隙間を介してポンプケース72
と対向するコールドパネル74と、コールドパネル74内に
位置し冷却管33に取付けられた複数のクライオパネル38
とを有し、且つ、ポンプケース72が質量分析計取付用の
開口部75とフランジ76を具えてなる本発明になるクライ
オポンプによって達成される。
空チャンバ1内を超真空状態にするクライオポンプであ
って、開口部71がメインシャッタ2を介して真空チャン
バ1に接続されるポンプケース72と、熱的に絶縁された
ポンプケース72によって支持され冷凍機4から極低温に
冷却された冷媒が供給される冷却管33と、底面73が冷却
管33に取付けられ円筒部が隙間を介してポンプケース72
と対向するコールドパネル74と、コールドパネル74内に
位置し冷却管33に取付けられた複数のクライオパネル38
とを有し、且つ、ポンプケース72が質量分析計取付用の
開口部75とフランジ76を具えてなる本発明になるクライ
オポンプによって達成される。
【0020】
【作用】通常、クライオポンプの圧力はクライオパネル
に近いコールドパネルの内側において10-5Torr台まで低
下する。したがって、開口部とフランジを有するポンプ
ケースに質量分析計を取り付けクライオパネルに近い気
体を取り込むことで、質量分析計の圧力低下用の補助排
気システムを併用することなく気体成分の分析が可能に
なる。即ち、質量分析計を具え補助排気システムを併用
せずに真空チャンバ内の気体を容易に分析できるクライ
オポンプを実現することができる。
に近いコールドパネルの内側において10-5Torr台まで低
下する。したがって、開口部とフランジを有するポンプ
ケースに質量分析計を取り付けクライオパネルに近い気
体を取り込むことで、質量分析計の圧力低下用の補助排
気システムを併用することなく気体成分の分析が可能に
なる。即ち、質量分析計を具え補助排気システムを併用
せずに真空チャンバ内の気体を容易に分析できるクライ
オポンプを実現することができる。
【0021】
【実施例】以下図1により本発明の実施例について詳細
に説明する。超真空状態の真空チャンバ内に各種の気体
を導入し半導体基板上に所定の膜を生成する半導体装置
の製造設備は、図示の如く真空チャンバ1に気体の流出
入を閉塞するメインシャッタ2を介してクライオポンプ
7が装着されている。
に説明する。超真空状態の真空チャンバ内に各種の気体
を導入し半導体基板上に所定の膜を生成する半導体装置
の製造設備は、図示の如く真空チャンバ1に気体の流出
入を閉塞するメインシャッタ2を介してクライオポンプ
7が装着されている。
【0022】本発明のクライオポンプ7は開口部71がメ
インシャッタ2を介し真空チャンバ1に接続されるポン
プケース72を有し、極低温に冷却された冷媒が冷凍機4
から供給される冷却管33は熱的に絶縁されたポンプケー
ス72により支持されている。
インシャッタ2を介し真空チャンバ1に接続されるポン
プケース72を有し、極低温に冷却された冷媒が冷凍機4
から供給される冷却管33は熱的に絶縁されたポンプケー
ス72により支持されている。
【0023】同心円状に配置された外筒部77と内筒部78
からなる円筒部を有するコールドパネル74は底面73が冷
却管33の側面に装着され、コールドパネル74の開口部に
は複数のリング状部材を同心円状に組み合わせたバッフ
ル37が装着されている。
からなる円筒部を有するコールドパネル74は底面73が冷
却管33の側面に装着され、コールドパネル74の開口部に
は複数のリング状部材を同心円状に組み合わせたバッフ
ル37が装着されている。
【0024】外筒部77と内筒部78にはコールドパネル74
の内側と外側の圧力をほぼ同等にするため複数の貫通孔
79が設けられ、ポンプケース72からの輻射熱を遮断する
ため軸芯側からポンプケース72を見通せないよう貫通孔
79の位置をずらしている。
の内側と外側の圧力をほぼ同等にするため複数の貫通孔
79が設けられ、ポンプケース72からの輻射熱を遮断する
ため軸芯側からポンプケース72を見通せないよう貫通孔
79の位置をずらしている。
【0025】また、コールドパネル74とバッフル37によ
って取り囲まれた空間には複数枚のクライオパネル38が
配設されており、複数枚のクライオパネル38は間隔を置
いて積み重ねられコールドパネル74内に突出した冷却管
33の端面に装着されている。
って取り囲まれた空間には複数枚のクライオパネル38が
配設されており、複数枚のクライオパネル38は間隔を置
いて積み重ねられコールドパネル74内に突出した冷却管
33の端面に装着されている。
【0026】ポンプケース72はコールドパネル74の外筒
部77と対向する壁面に質量分析計取付用の開口部75とフ
ランジ76を具えており、フランジ76に取付けられた質量
分析計5にサンプルを取り込み気体の成分を分析するよ
う構成されている。
部77と対向する壁面に質量分析計取付用の開口部75とフ
ランジ76を具えており、フランジ76に取付けられた質量
分析計5にサンプルを取り込み気体の成分を分析するよ
う構成されている。
【0027】従来のクライオポンプの圧力はクライオパ
ネルに近いコールドパネルの内側において10-5Torr台ま
で低下するが、ポンプケースとコールドパネルで挟まれ
た空間では10-4Torr台で質量分析計によって気体成分の
分析を行うにはまだ高い。
ネルに近いコールドパネルの内側において10-5Torr台ま
で低下するが、ポンプケースとコールドパネルで挟まれ
た空間では10-4Torr台で質量分析計によって気体成分の
分析を行うにはまだ高い。
【0028】しかし、本発明のクライオポンプ7は同心
円状の外筒部77と内筒部78に複数の貫通孔79を設けるこ
とによって、コールドパネル74の内外を連通しておりポ
ンプケース72とコールドパネル74で挟まれた空間の圧力
が10-5Torr台まで低下する。
円状の外筒部77と内筒部78に複数の貫通孔79を設けるこ
とによって、コールドパネル74の内外を連通しておりポ
ンプケース72とコールドパネル74で挟まれた空間の圧力
が10-5Torr台まで低下する。
【0029】このように開口部とフランジを有するポン
プケースに質量分析計を取り付けクライオパネルに近い
気体を取り込むことによって、質量分析計の圧力低下用
の補助排気システムを併用することなく気体にふくまれ
た成分の分析が可能になる。
プケースに質量分析計を取り付けクライオパネルに近い
気体を取り込むことによって、質量分析計の圧力低下用
の補助排気システムを併用することなく気体にふくまれ
た成分の分析が可能になる。
【0030】しかも、分析する気体を取り込んだあと圧
力を分子流領域まで低下させる必要がないため連続的な
分析が可能になり、取り込んだ気体を濃縮した状態で分
析することが可能になり含有量の少ない成分も容易に検
出できるという特徴がある。即ち、質量分析計を具え補
助排気システムを併用せずに真空チャンバ内の気体を容
易に分析できるクライオポンプを実現することができ
る。
力を分子流領域まで低下させる必要がないため連続的な
分析が可能になり、取り込んだ気体を濃縮した状態で分
析することが可能になり含有量の少ない成分も容易に検
出できるという特徴がある。即ち、質量分析計を具え補
助排気システムを併用せずに真空チャンバ内の気体を容
易に分析できるクライオポンプを実現することができ
る。
【0031】
【発明の効果】上述の如く本発明によれば質量分析計を
具え補助排気システムを併用せず真空チャンバ内の気体
を容易に分析できるクライオポンプを提供することがで
きる。
具え補助排気システムを併用せず真空チャンバ内の気体
を容易に分析できるクライオポンプを提供することがで
きる。
【図1】 本発明になるクライオポンプの構造を示す模
式図である。
式図である。
【図2】 従来のクライオポンプの構造を示す模式図で
ある。
ある。
【符号の説明】 1 真空チャンバ 2 メインシャッタ 4 冷凍機 5 質量分析計 7 クライオポンプ 33 冷却管 37 バッフル 38 クライオパネル 71 開口部 72 ポンプケース 73 底面 74 コールドパネル 75 開口部 76 フランジ 77 外筒部 78 内筒部 79 貫通孔
Claims (2)
- 【請求項1】 真空チャンバ(1) に付属せしめ該真空チ
ャンバ(1) 内を超真空状態にするクライオポンプであっ
て、開口部(71)がメインシャッタ(2) を介して該真空チ
ャンバ(1) に接続されるポンプケース(72)と、熱的に絶
縁された該ポンプケース(72)によって支持され冷凍機
(4) から極低温に冷却された冷媒が供給される冷却管(3
3)と、底面(73)が該冷却管(33)に取付けられ円筒部が隙
間を介して該ポンプケース(72)と対向するコールドパネ
ル(74)と、該コールドパネル(74)内に位置し該冷却管(3
3)に取付けられた複数のクライオパネル(38)とを有し、
且つ、該ポンプケース(72)が質量分析計取付用の開口部
(75)とフランジ(76)を具えてなることを特徴とするクラ
イオポンプ。 - 【請求項2】 請求項1に記載されたコールドパネル(7
4)の円筒部が同心円状に配置された外筒部(77)と内筒部
(78)からなり、該外筒部(77)に設けられた複数の貫通孔
(79)と該内筒部(78)に設けられた複数の貫通孔(79)の位
置が、軸芯側からポンプケース(72)を見通せないよう互
いにずれてなることを特徴とするクライオポンプ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4023111A JP3060036B2 (ja) | 1992-02-10 | 1992-02-10 | クライオポンプ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4023111A JP3060036B2 (ja) | 1992-02-10 | 1992-02-10 | クライオポンプ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05223057A true JPH05223057A (ja) | 1993-08-31 |
JP3060036B2 JP3060036B2 (ja) | 2000-07-04 |
Family
ID=12101370
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4023111A Expired - Fee Related JP3060036B2 (ja) | 1992-02-10 | 1992-02-10 | クライオポンプ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3060036B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009013807A1 (ja) * | 2007-07-23 | 2009-01-29 | Sumitomo Heavy Industries, Ltd. | クライオポンプ |
-
1992
- 1992-02-10 JP JP4023111A patent/JP3060036B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009013807A1 (ja) * | 2007-07-23 | 2009-01-29 | Sumitomo Heavy Industries, Ltd. | クライオポンプ |
KR101104171B1 (ko) * | 2007-07-23 | 2012-01-12 | 스미도모쥬기가이고교 가부시키가이샤 | 크라이오 펌프 |
JP4932911B2 (ja) * | 2007-07-23 | 2012-05-16 | 住友重機械工業株式会社 | クライオポンプ |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3060036B2 (ja) | 2000-07-04 |
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JPH0323386A (ja) | クライオポンプ |
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