JPH05220189A - Ablation device by laser beam - Google Patents

Ablation device by laser beam

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JPH05220189A
JPH05220189A JP4061211A JP6121192A JPH05220189A JP H05220189 A JPH05220189 A JP H05220189A JP 4061211 A JP4061211 A JP 4061211A JP 6121192 A JP6121192 A JP 6121192A JP H05220189 A JPH05220189 A JP H05220189A
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JP
Japan
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laser beam
intensity distribution
ablation
distribution
laser
Prior art date
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Pending
Application number
JP4061211A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toshibumi Sumiya
俊文 角谷
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Nidek Co Ltd
Original Assignee
Nidek Co Ltd
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Publication date
Application filed by Nidek Co Ltd filed Critical Nidek Co Ltd
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Abstract

PURPOSE:To execute an ablation of uniform depth by a simple constitution by providing a reflecting system optical element for scanning a laser beam in the direction having an ununiform intensity distribution, and a diaphragm which can control an opening area, in the device being suitable for straightening a curvature of a diaphragm. CONSTITUTION:The device is provided with an excimer laser light source 10 in which an intensity distribution in the horizontal direction (x axis direction) of a beam is a roughly uniform distribution F (W), and an intensity distribution in the vertical direction (y axis direction) becomes a Gaussian distribution (gauss distribution) F (H), with regard to a cross sectional shape of an emitted laser beam. In such a state, the laser beam emitted therefrom is deflected by 90 deg. by plane mirrors 11, 12, respectively, and thereafter, is made incident on a dichroic mirror 13, sets an optical axis of an objective lens of an observing system and the laser beam to the same axial state, and is allowed to irradiate a diaphragm 15 through an aperture 14 for limiting an ablation area, whose opening diameter is variable. The plane mirror 12 is synchronized with a laser pulse in the (z) axis direction, and moved in parallel in accordance with depth of the ablation, etc.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はビーム断面の一方向が均
一でそれと直交する方向がガウス分布等の不均一な強度
分布を持ったレーザビーム(代表的にはエキシマレー
ザ)により対象物の特定面積をアブレーションする装置
に係り、殊に角膜の曲率を矯正するのに好適なレーザビ
ームによるアブレーション装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention identifies an object by a laser beam (typically an excimer laser) having a beam cross-section in one direction that is uniform and a direction orthogonal thereto has a non-uniform intensity distribution such as a Gaussian distribution. The present invention relates to an area ablation device, and more particularly to a laser beam ablation device suitable for correcting the curvature of the cornea.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、レーザビームで角膜の表面をアブ
レーションしその曲率を変化させることによって眼球の
屈折異常を矯正しようとする手法が注目されている。ア
ブレーションにより角膜を所望の曲率に変化させるに
は、アブレーションする領域が均一な深さになるように
制御できることが必要である。そこで、従来はこの均一
な深さのアブレーションを行うために、アブレーション
に使用するレーザビームの強度分布を均一にする方法が
とられてきた。特開昭63−150069号(USP 4,911,711 "
Sculpturte apparatus for correcting curvature of t
he cornea "L'Esperance Francis A Jr.出願)には、特
殊な透過率分布をもったフィルタを使って均一化する方
法やレ−ザビ−ムを折り曲げることにより均一化する方
法が示されている。前者の特殊な透過率分布をもったフ
ィルタを使う方法は、レーザビームの強度分布と反対の
透過率分布のフィルタを通すことにより、強度の高い部
分を低下させ、レーザビーム強度の均一化を図るという
ものである。つまり、図1の(b),(c)の強度分布
をもち、その光断面が図1の(a)のレーザビームが、
図2の(b),(c)の透過率分布をもつ図2の(a)
のフィルタを通ると、レーザビームの強度が高い部分
(図1の(c)中央)がフィルタの透過率の低い部分
(図2の(c)中央)によりその強度が低下する。これ
に対して、レーザビームの強度が低い部分(図1の
(c)の端部)はフィルタの透過率が高い部分(図2の
(c)端部)を通るため、その強度はほとんど低下しな
い。これにより、レーザビームの強度が低い部分と中央
の部分とは強度がほぼ同じになり、均一化が達成され
る。また、後者のレーザビームを折り曲げる方法は、レ
ーザビームを複数の部分に分割し、均一化されるように
それらを再び重ね合わせるというものである。この均一
化装置の実施例が図3に示されている。均一化装置は、
中央の三角プリズム2aと、2つの外側の小さい三角プ
リズム2b,2cと、三角プリズムの間の第1及び第2
のビームスプリッタ面3a,3bと、レーザビーム1を
分割するために間隔を置いたミラー4a,4bと、外側
の一対のミラー5a,5b、及び6a,6bから構成さ
れる。寸法Hの幅のレーザビーム1はミラー4a,4b
により3つの部分に分割される。ミラー4a,4bの間
を通過した中央の1/3部分はそのまま真直ぐに進み、
三角プリズム2bへ入射する。そして、ミラー4aで反
射されミラー5a,5bを経て三角プリズム2aに入射
してきた上側の1/3部分とビームスピリッタ面3aで
重ね合わされる。この重ね合わされたレーザビームは三
角プリズム2a中を右方向へと進み、ビームスプリッタ
面3bでミラー4bにより反射され、ミラー6a,6b
を経てきた下側の1/3部分と重ね合わされる。図4は
レーザビームの重ね合わせの強度分布を描いたものであ
り、分割前のレーザビームの強度分布がPで、ミラー4
a,5a,5bを伝送してきた上側の1/3部分の強度
分布がP' ,ミラー4b,6a,6bを伝送してきた下
側の1/3部分の強度分布がP''である。この均一化装
置を通ったレーザビームは、H/3の寸法をもち、実線
R によって示されるような強度分布をもつことにな
る。また、特開昭63-289519 号(「照射装置」キャノン
株式会社出願)には、小さな円柱レンズを密に並列した
円柱レンズアレイを使った方法が開示されている。図5
はその例であり、レーザビームはトーリックレンズ7、
円柱レンズアレイ8を通って被照射面Sに達する。レー
ザビームは、y方向には強い集光性を有するがx方向に
対しては弱い集光性しか示さないトーリックレンズ7で
集光された後、多数の小円柱レンズをy方向に密に並列
した円柱レンズアレイ8に入射する。円柱レンズアレイ
8によるy方向の屈折はランダム化されるので、被照射
面S上でのレーザビームの強度分布は一様に平均化され
ることになる。
2. Description of the Related Art Recently, attention has been focused on a technique for correcting the refractive error of the eyeball by ablating the surface of the cornea with a laser beam and changing its curvature. In order to change the cornea to a desired curvature by ablation, it is necessary to be able to control the ablated region so as to have a uniform depth. Therefore, conventionally, in order to perform ablation with this uniform depth, a method has been adopted in which the intensity distribution of the laser beam used for ablation is made uniform. JP 63-150069 (USP 4,911,711 "
Sculpturte apparatus for correcting curvature of t
(He cornea "L'Esperance Francis A Jr. application") shows a method of making uniform by using a filter having a special transmittance distribution and a method of making uniform by bending the laser beam. The former method of using a filter with a special transmittance distribution reduces the high-intensity part by passing a filter with a transmittance distribution opposite to that of the laser beam, and makes the laser beam intensity uniform. That is, the laser beam having the intensity distributions shown in (b) and (c) of FIG.
(A) of FIG. 2 having the transmittance distributions of (b) and (c) of FIG.
After passing through the filter (1), the intensity of the laser beam (the center of (c) of FIG. 1) is reduced by the low transmittance of the filter (the center of (c) of FIG. 2). On the other hand, the portion where the laser beam intensity is low (the end portion of (c) of FIG. 1) passes through the portion where the transmittance of the filter is high (the end portion of (c) of FIG. 2), so the intensity is almost reduced. do not do. As a result, the intensity of the low-intensity portion of the laser beam is approximately the same as that of the central portion, and uniformization is achieved. In the latter method of bending the laser beam, the laser beam is divided into a plurality of portions, and the portions are overlapped again so as to be uniform. An example of this homogenizer is shown in FIG. The homogenizer is
The central triangular prism 2a, the two outer small triangular prisms 2b and 2c, and the first and second between the triangular prisms.
Beam splitter surfaces 3a, 3b, mirrors 4a, 4b spaced apart for splitting the laser beam 1, and a pair of outer mirrors 5a, 5b and 6a, 6b. The laser beam 1 having the width of the dimension H is reflected by the mirrors 4a and 4b.
Is divided into three parts. The central 1/3 portion that has passed between the mirrors 4a and 4b proceeds straight as it is,
It is incident on the triangular prism 2b. Then, the upper one-third portion reflected by the mirror 4a and incident on the triangular prism 2a via the mirrors 5a and 5b is superposed on the beam splitter surface 3a. The superposed laser beam travels rightward in the triangular prism 2a, is reflected by the mirror 4b on the beam splitter surface 3b, and is reflected by the mirrors 6a and 6b.
It is overlapped with the lower 1/3 part that has passed through. FIG. 4 shows the intensity distribution of the superposed laser beams. The intensity distribution of the laser beam before division is P, and the mirror 4
The intensity distribution of the upper one-third portion that has transmitted a, 5a, 5b is P ', and the intensity distribution of the lower one-third portion that has transmitted the mirrors 4b, 6a, 6b is P''. The laser beam passed through this homogenizer will have a dimension of H / 3 and will have an intensity distribution as shown by the solid line P R. Further, Japanese Patent Laid-Open No. 63-289519 (filed by "Irradiator" Canon Inc.) discloses a method using a cylindrical lens array in which small cylindrical lenses are closely arranged. Figure 5
Is an example, the laser beam is a toric lens 7,
The irradiation target surface S is reached through the cylindrical lens array 8. The laser beam is condensed by the toric lens 7 which has a strong light condensing property in the y direction but a weak light converging property in the x direction, and then a large number of small cylindrical lenses are closely arranged in the y direction. The light enters the cylindrical lens array 8. Since the refraction in the y direction by the cylindrical lens array 8 is randomized, the intensity distribution of the laser beam on the irradiation target surface S is uniformly averaged.

【0003】[0003]

【発明が解決すべき課題】上記のようなレーザビームの
均一化装置は以下のような問題点がある。第1の特殊な
透過率分布のフィルタを使う方法には、フィルタの製作
上の困難の割りには、フィルタの透過率分布が不正確な
ので実際にレーザビームを通してみても均一な強度分布
が得られないことが多い。また、レーザビームの強度分
布が変化したり、光軸がずれたりしてすると、フィルタ
の透過率分布でレーザビームの強度分布を打消すことが
できなくなるという欠点がある。さらに、強度の低い部
分に合わせるために高い部分を下げるので、エネルギー
の損失が大きいという欠点もあった。
The laser beam homogenizing apparatus as described above has the following problems. In the first method using a filter having a special transmittance distribution, a uniform intensity distribution can be obtained even when actually passing through a laser beam because the transmittance distribution of the filter is inaccurate despite the difficulty in manufacturing the filter. Often not. Further, if the intensity distribution of the laser beam changes or the optical axis shifts, there is a drawback that the intensity distribution of the laser beam cannot be canceled by the transmittance distribution of the filter. Further, since the high portion is lowered in order to match the low strength portion, there is a drawback that energy loss is large.

【0004】次に、第2のレーザビームを折り曲げる方
法では、多数のミラーを使用する複雑な構造なので、調
整に時間がかかる。また、レーザビームの強度分布が変
化したり、光軸がずれたりしたときに、均一な強度分布
が得られなくなる。さらに、ビームスプリッタで分割さ
れたビームを再び重ね合わせるときに大きくエネルギー
を損失するという欠点もある。第3の円柱レンズアレイ
による方法では、第1の方法のフィルタと同様に円柱レ
ンズアレイの製作が複雑で時間がかかるという欠点があ
る。
Next, in the method of bending the second laser beam, it takes a long time for adjustment because of the complicated structure using a large number of mirrors. Further, when the intensity distribution of the laser beam changes or the optical axis shifts, a uniform intensity distribution cannot be obtained. Further, there is a drawback that a large amount of energy is lost when the beams split by the beam splitter are re-superposed. The method using the third cylindrical lens array has a drawback that the manufacturing of the cylindrical lens array is complicated and time-consuming like the filter of the first method.

【0005】本発明の目的は、上記問題点に鑑み、製作
の難しい光学素子や複雑な光学系も使用せずに、簡単な
構成で均一な深さのアブレーションを行うことができる
装置を提供することにある。
In view of the above problems, an object of the present invention is to provide an apparatus capable of performing ablation with a uniform depth with a simple structure without using an optical element and a complicated optical system which are difficult to manufacture. Especially.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明のレーザビームによるアブレーション装置
は、次のような特徴を有している。 (1) ビーム断面の一方向が均一でそれと直交する方
向がガウス分布等の不均一な強度分布を持ったレーザビ
ームにより対象物のある面積をアブレーションするレー
ザビームによるアブレーション装置において、前記レー
ザビームを対象物に導光するとともにレーザビームを不
均一な強度分布を持つ方向にスキャンする反射系光学素
子と、開口部の面積が制御可能な絞りと、を有すること
を特徴としている。
In order to achieve the above object, the laser beam ablation device of the present invention has the following features. (1) In a laser beam ablation device for ablating a certain area of an object with a laser beam having a beam cross-section with one direction being uniform and a direction orthogonal thereto having a non-uniform intensity distribution such as Gaussian distribution, It is characterized by having a reflective optical element that guides an object and scans a laser beam in a direction having a non-uniform intensity distribution, and a diaphragm whose area of an opening can be controlled.

【0007】(2) (1)のレーザビームはエキシマ
レーザであることを特徴としている。
(2) The laser beam of (1) is characterized by being an excimer laser.

【0008】(3) (1)の反射系光学素子はレーザ
ビームを対象物方向に偏向するミラ−であり、該ミラ−
をレーザビームの入射方向に移動制御することを特徴と
している。
(3) The reflection type optical element of (1) is a mirror for deflecting a laser beam in the direction of an object.
Is controlled to move in the incident direction of the laser beam.

【0009】(4) (1)のレーザビームによるアブ
レーション装置は角膜の曲率を矯正するものであること
を特徴としている。
(4) The laser beam ablation device of (1) is characterized in that it corrects the curvature of the cornea.

【0010】[0010]

【実施例】以下、本発明の実施例について図面に基づい
て説明する。図6は1実施例の光学系の配置図である。
10はエキシマレーザ光源であり、そのレーザ光源から
出射されるレーザビームの断面形状は、図7に示すよう
に、ビームの水平方向(x軸方向)の強度分布がほぼ均
一な分布F(W)で、垂直方向(y軸方向)の強度分布
がガウシアン分布(ガウス分布)F(H)となってい
る。11及び12は平面ミラーでレーザビームを90°
偏向するためのものであり、レーザ光源10より水平方
向に出射されたレーザビームは、平面ミラー11により
上方へ90°偏向され、さらに平面ミラー12で水平方
向に偏向される。平面ミラー12はz軸方向に平行移動
できるようになっている(移動については後述する)。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 6 is a layout diagram of the optical system of the first embodiment.
Reference numeral 10 denotes an excimer laser light source, and the cross-sectional shape of the laser beam emitted from the laser light source is, as shown in FIG. 7, a distribution F (W) in which the intensity distribution in the horizontal direction (x-axis direction) of the beam is substantially uniform. Then, the intensity distribution in the vertical direction (y-axis direction) is a Gaussian distribution (Gaussian distribution) F (H). Reference numerals 11 and 12 are plane mirrors, which make the laser beam 90 °
The laser beam emitted from the laser light source 10 in the horizontal direction is deflected upward by 90 ° by the plane mirror 11, and further deflected in the horizontal direction by the plane mirror 12. The plane mirror 12 can be moved in parallel in the z-axis direction (movement will be described later).

【0011】13はダイクロイックミラ−であり、観察
系の対物レンズの光軸とレーザビームとを同軸にする。
アパ−チャ14はアブレーション領域を限定するための
もので、開口の径を変えることができる。アパ−チャ1
4は回折の影響を避けるために角膜15にできるだけ近
づけることが望ましい。このため、手術顕微鏡による観
察の妨げにならないように、アパ−チャ14は透明ガラ
ス等術者の視野の確保できる材質のものを用いる。眼球
角膜15は装置に対して所定の位置関係にくるように予
め位置決めされる(位置決め手段については図示せ
ず)。
Reference numeral 13 is a dichroic mirror, which makes the optical axis of the objective lens of the observation system coaxial with the laser beam.
The aperture 14 is for limiting the ablation region, and the diameter of the opening can be changed. Aperture 1
It is desirable that 4 is as close as possible to the cornea 15 to avoid the influence of diffraction. For this reason, the aperture 14 is made of a material such as transparent glass that can secure the operator's visual field so as not to interfere with the observation with the surgical microscope. The cornea 15 of the eye is pre-positioned so that it has a predetermined positional relationship with the device (the positioning means is not shown).

【0012】以上のような構成の装置であるが、次に、
平面ミラ−12の移動制御について説明する。前記のよ
うに、平面ミラー12はz軸方向に平行移動し、ビ−ム
をガウシアン分布方向に平行移動する。平面ミラー12
はレーザパルスに同期して移動させるが、ある位置で1
パルス又は数パルス照射後に平面ミラー12を次の位置
に移動させ、再び1パルス又は数パルス照射後ミラー1
2を移動させる。この動作をアパーチャ14の開口の1
端から他端まで繰返す。これは、アブレーション領域に
所定の間隔で1パルス又は数パルスの照射を繰り返し、
そのパルスを重ね合わせることにより、均一な深さのア
ブレーションを行おうというのである。
The apparatus having the above-mentioned structure is as follows.
The movement control of the plane mirror 12 will be described. As described above, the plane mirror 12 translates in the z-axis direction and translates the beam in the Gaussian distribution direction. Plane mirror 12
Moves in synchronization with the laser pulse, but at a certain position 1
After irradiation of the pulse or several pulses, the plane mirror 12 is moved to the next position, and the mirror 1 after irradiation of one pulse or several pulses again.
Move 2. This operation is performed in the opening 1 of the aperture 14.
Repeat from end to end. This is repeated irradiation of one pulse or several pulses at a predetermined interval in the ablation area,
By overlapping the pulses, it is possible to perform ablation with a uniform depth.

【0013】平面ミラー12の移動量は、アブレーショ
ンの深さ及び要求される均一性の程度やビ−ムの強度・
強度分布等の各要素の相関関係で決まる。レ−ザビ−ム
の強度や1パルス当たりのアブレーションの深さの調整
は、一定の範囲内ではレ−ザ光源の出力を調整すること
によっても可能である。説明の便宜上、仮に1パルスご
とに平面ミラー12を移動させたとする。図8はこのと
きのアパーチャ14上のレーザビームのy軸方向の強度
分布の変化を示したものであり、図9は角膜15上での
y軸方向の強度分布の変化を示している。図10は図9
のアブレーションの過程を示す。
The amount of movement of the plane mirror 12 depends on the depth of ablation, the required degree of uniformity and the intensity of the beam.
It is determined by the correlation of each element such as intensity distribution. The intensity of the laser beam and the depth of ablation per pulse can also be adjusted by adjusting the output of the laser light source within a certain range. For convenience of explanation, it is assumed that the plane mirror 12 is moved for each pulse. FIG. 8 shows changes in the intensity distribution of the laser beam on the aperture 14 in the y-axis direction at this time, and FIG. 9 shows changes in the intensity distribution in the y-axis direction on the cornea 15. FIG. 10 shows FIG.
Shows the process of ablation.

【0014】1パルス目、アパーチャ14上で図8の
(a)の強度分布をもつレーザビームがアパ−チャを通
過すると、角膜15上では図9の(a)のような強度分
布になる。このレーザビームの照射により角膜15は図
10の(a)の斜線部がアブレーションされる。2パル
ス目は、平面ミラー12がz軸方向に移動するので、ア
パーチャ14上の強度分布は図8の(b)のように変わ
る。従って、角膜15上での強度分布は図9の(b)に
なり、図10の(b)の斜線部がアブレーションされる
ことになる。3パルス目ではアパーチャ14上で図8の
(c)、角膜15上で図9の(c)の強度分布となり、
図10の(c)の斜線部がアブレーションされ、4パル
ス目以降も同様であり、nパルス目ではアパーチャ14
上が図8の(d)、角膜15上が図9の(d)の強度分
布で、図10の(d)の斜線部がアブレーションされ
る。以上のように、レーザパルスに同期してミラー12
を平行移動させ、レーザビームを不均一な強度分布方向
にスキャンしながら照射すると、図10の(e)のよう
な結果となり、ほぼ均一な深さのアブレーションが行え
る。
At the first pulse, when the laser beam having the intensity distribution shown in FIG. 8A on the aperture 14 passes through the aperture, the intensity distribution on the cornea 15 becomes as shown in FIG. 9A. By the irradiation of this laser beam, the cornea 15 is ablated at the hatched portion in FIG. At the second pulse, since the plane mirror 12 moves in the z-axis direction, the intensity distribution on the aperture 14 changes as shown in FIG. 8B. Therefore, the intensity distribution on the cornea 15 is as shown in FIG. 9B, and the hatched portion in FIG. 10B is ablated. At the third pulse, the intensity distribution shown in FIG. 8C on the aperture 14 and that on the cornea 15 in FIG. 9C are obtained.
The shaded area in (c) of FIG. 10 is ablated, and the same is true for the fourth and subsequent pulses, and the aperture 14 at the nth pulse
The upper part is the intensity distribution of FIG. 8D, the upper part of the cornea 15 is the intensity distribution of FIG. 9D, and the shaded part of FIG. 10D is ablated. As described above, the mirror 12 is synchronized with the laser pulse.
When the laser beam is moved in parallel and is irradiated while scanning the laser beam in the direction of the non-uniform intensity distribution, the result as shown in FIG. 10 (e) is obtained, and the ablation with a substantially uniform depth can be performed.

【0015】図11は平面ミラー12をレーザパルスと
同期して移動する制御機構を説明すタイミングチャ−ト
図であり、(a)はレ−ザの光出力を、(b)は平面ミ
ラ−12の位置を検出する検出器の出力信号を示してい
る。ここで、均一な深さのアブレ−ションを行うのに必
要な平面ミラ−12の移動量は位置検出器(例えばミラ
−を駆動するモ−タの駆動軸に取り付けられたロ−タリ
エンコ−ダ)の出力信号でmパルス分に相当するものと
する。1パルス目のレ−ザ照射時の平面ミラ−12の位
置検出器の出力信号を1パルス目とすると、2パルス目
のレ−ザ照射時にm+1番目の出力信号、3パルス目の
レ−ザ照射時に2m+1番目の出力信号というように、
平面ミラ−12の位置検出器の出力信号のmパルスごと
にレ−ザパルスが照射されるべく、平面ミラ−12を移
動させる。このようなレ−ザ照射を繰り返すことによ
り、レ−ザ照射による均一なアブレ−ションが達成され
る。
11A and 11B are timing charts for explaining the control mechanism for moving the plane mirror 12 in synchronization with the laser pulse. FIG. 11A shows the optical output of the laser, and FIG. 11B shows the plane mirror. The output signal of the detector which detects 12 positions is shown. Here, the amount of movement of the plane mirror 12 required to perform ablation with a uniform depth is determined by a position detector (for example, a rotary encoder mounted on the drive shaft of a motor for driving the mirror). ) Output signal corresponding to m pulses. When the output signal of the position detector of the plane mirror 12 at the time of laser irradiation at the first pulse is the first pulse, the m + 1th output signal at the time of laser irradiation at the second pulse and the laser at the third pulse At the time of irradiation, the 2m + 1th output signal,
The plane mirror 12 is moved so that a laser pulse is emitted every m pulses of the output signal of the position detector of the plane mirror 12. By repeating such laser irradiation, uniform abrasion by laser irradiation is achieved.

【0016】なお、本実施例の説明中の方向を示す語
は、レ−ザのエネルギ−分布方向との関係を特定するた
めに使用したもので、それ以上の意味はない。また、本
装置の動作はマイクロコンピュ−タにより制御される。
以上の実施例では、角膜のいわゆるラ−ジアブレ−ショ
ンを念頭に置いた説明を行ったが、本発明の技術思想を
越えることなく、他の加工に利用できることは明かであ
る。
The term indicating the direction in the description of this embodiment is used to specify the relationship with the energy distribution direction of the laser and has no further meaning. The operation of this device is controlled by the microcomputer.
In the above embodiments, the description was made with the so-called radial ablation of the cornea in mind, but it is obvious that the invention can be used for other processing without exceeding the technical idea of the present invention.

【0017】[0017]

【発明の効果】本発明によれば、複雑な光学系や光学素
子を用いることなく、簡単な機構により、均一でない強
度分布を持つレーザビームによる、均一な深さのアブレ
ーションが可能となる。
According to the present invention, it is possible to perform ablation with a uniform depth by a laser beam having a non-uniform intensity distribution by a simple mechanism without using a complicated optical system or optical element.

【0018】さらに、本発明では、従来の均一化のため
の光学部品によるレーザビームの光量ロスが防止でき、
効率の良いアブレーションができる。
Further, according to the present invention, it is possible to prevent the loss of the light quantity of the laser beam due to the conventional optical components for homogenization.
Can perform efficient ablation.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】レ−ザのエネルギ−分布の例を説明する図であ
る。
FIG. 1 is a diagram illustrating an example of laser energy distribution.

【図2】従来技術の1つを説明する図である。FIG. 2 is a diagram for explaining one of the conventional techniques.

【図3】第2の従来技術を説明する図である。FIG. 3 is a diagram illustrating a second conventional technique.

【図4】第2の従来技術により得られる強度分布を説明
する図である。
FIG. 4 is a diagram illustrating an intensity distribution obtained by a second conventional technique.

【図5】第3の従来技術を説明する図である。FIG. 5 is a diagram illustrating a third conventional technique.

【図6】本発明の1実施例の光学系の配置図である。FIG. 6 is a layout diagram of an optical system according to one embodiment of the present invention.

【図7】エキシマレ−ザのエネルギ−分布の例を説明す
る図である。
FIG. 7 is a diagram illustrating an example of energy distribution of an excimer laser.

【図8】アパ−チャ上でのレ−ザビ−ムのy軸方向の強
度分布を示した図である。
FIG. 8 is a diagram showing the intensity distribution in the y-axis direction of the laser beam on the aperture.

【図9】角膜上でのレ−ザビ−ムのy軸方向の強度分布
を示した図である。
FIG. 9 is a diagram showing the intensity distribution of the laser beam on the cornea in the y-axis direction.

【図10】図9の時のアブレ−ションの過程を説明する
図である。
FIG. 10 is a diagram illustrating a process of ablation in FIG.

【図11】図11は平面ミラーをレーザパルスと同期し
て移動する制御機構を説明すタイミングチャ−ト図であ
る。
FIG. 11 is a timing chart illustrating a control mechanism that moves a plane mirror in synchronization with a laser pulse.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 エキシマレ−ザ光源 11,12 平面ミラ− 13 ダイクロイックミラ− 14 アパ−チャ 15 角膜 10 Excimer Laser Light Source 11, 12 Planar Mirror 13 Dichroic Mirror 14 Aperture 15 Cornea

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ビーム断面の一方向が均一でそれと直交
する方向がガウス分布等の不均一な強度分布を持ったレ
ーザビームにより対象物のある面積をアブレーションす
るレーザビームによるアブレーション装置において、前
記レーザビームを対象物に導光するとともにレーザビー
ムを不均一な強度分布を持つ方向にスキャンする反射系
光学素子と、開口部の面積が制御可能な絞りと、を有す
ることを特徴とするレーザビームによるアブレーション
装置。
1. A laser beam ablation device for ablating a certain area of an object by a laser beam having a beam cross-section with one direction being uniform and a direction orthogonal thereto having a non-uniform intensity distribution such as a Gaussian distribution. A laser beam characterized by having a reflective optical element that guides the beam to an object and scans the laser beam in a direction having a non-uniform intensity distribution, and a diaphragm whose area of the opening can be controlled. Ablation device.
【請求項2】 請求項1のレーザビームはエキシマレー
ザであることを特徴とするレーザビームによるアブレー
ション装置。
2. The laser beam ablation device according to claim 1, wherein the laser beam is an excimer laser.
【請求項3】 請求項1の反射系光学素子はレーザビー
ムを対象物方向に偏向するミラ−であり、該ミラ−をレ
ーザビームの入射方向に移動制御することを特徴とする
レーザビームによるアブレーション装置。
3. The ablation by a laser beam, wherein the reflective optical element according to claim 1 is a mirror for deflecting a laser beam in the direction of an object, and the movement of the mirror is controlled in the incident direction of the laser beam. apparatus.
【請求項4】 請求項1のレーザビームによるアブレー
ション装置は角膜の曲率を矯正するものであることを特
徴とするレーザビームによるアブレーション装置。
4. The laser beam ablation device according to claim 1, wherein the laser beam ablation device corrects the curvature of the cornea.
JP4061211A 1992-02-14 1992-02-14 Ablation device by laser beam Pending JPH05220189A (en)

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