JPH0521404B2 - - Google Patents
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- JPH0521404B2 JPH0521404B2 JP14179585A JP14179585A JPH0521404B2 JP H0521404 B2 JPH0521404 B2 JP H0521404B2 JP 14179585 A JP14179585 A JP 14179585A JP 14179585 A JP14179585 A JP 14179585A JP H0521404 B2 JPH0521404 B2 JP H0521404B2
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- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Description
(イ) 発明の目的
[産業上の利用分野]
この発明は工作物等の表面の粗さを高感度に測
定するための光学式粗さ計に関するものである。 工作物の表面の粗さは、寸法精度、形状精度と
ともに、機械加工の特性を評価するための重要な
因子である。表面品位の良否は単に外見的な問題
にとどまらず、加工部品の機能とも密接に関連し
ている。個々の部品に要求される表面粗さの程度
を満たすように機械加工を行うことは、加工能率
並びに、使用工具や工作機械の状態とも関連して
くるため、品質管理の一端として表面粗さに注目
することが、機械加工の高度の自動化を達成する
うえで、益々重要な課題になつてきている。 [従来の技術] 表面粗さ測定法としては、従来より触針式表面
粗さ測定法が広く用いられている。 [発明が解決しようとする問題点] しかるに触針式表面粗さ測定法は、信頼性が高
く、測定精度の面でも優れているが、測定測定が
低いこと、被測定物を測定装置に取付けることが
必要なこと、軟質金属に対しては表面を傷つける
可能性があること等が難点となつている。一方、
本件発明の発明者の一人らは、加工サイクル中に
おいて非接触で表面粗さを測定するための方法を
開発し、切削中における測定、加工後ではある
が、オンマシンでの測定の可能性を示すととも
に、開発の目的の一つである工作機械の振動と表
面粗さの関連を明らかにするための実験に適用
し、多くの知見を得た。 しかし、機械加工部品が多様化している現在、
超精密加工や研削加工における、上に述べたよう
な課題に対処するためにはより高速、高精度な測
定をインプロセスで行い得るとともに、測定対象
である機械加工部品の種類に応じて精度と測定範
囲を選択し得る粗さ計の開発が必要になつてきて
いる。 この発明は上記の如き事情に鑑みてなされたも
のであつて、被測定面に対して非接触で、従つ
て、被測定面を傷つけることがなく、高速、高精
度でインプロセス測定が可能であり、かつ、測定
対象である機械加工部品の種類に応じて精度と測
定範囲を選択し得る粗さ計を提供することを目的
とするものである。 (ロ) 発明の構成 [問題を解決するための手段] この目的に対応して、この発明の光学式粗さ計
は、少なくとも、光源とビームスプリツタと一方
の円柱レンズと他方の円柱レンズと対物レンズと
一方の分割受光素子と及び他方の分割受光素子と
をフレームに取付けて備え、両円柱レンズは母線
方向が直交するように配置され、両分割受光素子
のそれぞれの2本の交差線は母線方向と45°をな
す方向に伸びており、光源からの光線束を被測定
面上で反射させ、反射した光線束をビームスプリ
ツタで2分割し、分割された一方の光線束を円柱
レンズを通して一方の分割受光素子上に入射し、
分割された他方の光線束を他方の円柱レンズを通
して他方の分割受光素子上に入射し、一方の分割
受光素子の出力と他方の分割受光素子の出力との
差動出力を出力として取り出すように構成し、か
つ、対物レンズをフレームに着脱可能に取付けて
なることを特徴としている。 以下、この発明の詳細を一実施例を示す図面に
ついて説明する。 まず、この発明の光学式粗さ計による表面粗さ
の測定原理を第1図について説明する。 光により非接触で測定物表面の断面形状を求め
る方法は幾つか発表されているが、レンズにより
測定物表面に結像した光点の焦点位置からのずれ
を知ることにより断面形状を推定する方法が、測
定精度、装置の小型化の可能性などの面から有力
である。光点の変動の検出方法には数種類あり、
すでに非接触の表面粗さ、ないし平面度の測定に
応用されているものもある。本発明ではこれらの
うち、円柱レンズで非点収差を与えることにより
焦点ずれを検知する方式を採用して、インプロセ
ス粗さ測定を行うこととしている。 第1図が測定の原理図である。対物レンズ1に
より結像される表面の光点の像位置をQとする。
非点収差を与えるために、対物レンズ1の後方に
円柱レンズ2を置く。円柱レンズ2による結像位
置をPとすると、PQ間では、PからQに向かう
につれて、光線束の断面は長軸が鉛直な楕円か
ら、長軸が水平な楕円へと変化する。この間Sで
は光線束の断面形状は円となる。S点における光
線束の断面形状は、表面の位置により、図に示し
たように変化するから、これを4分割フオトダイ
オードで光電変換し、演算することにより、表面
位置に対応した出力信号を得ることができる。 第2図にはこの発明の一実施例に係る光学式粗
さ計10が示されている。光学式粗さ計10は被
測定面11を照明するためのレーザ光源12を備
える。レーザ光源12としてはHe−Neレーザ、
半導体レーザ等を使用することができる。 被測定面11とレーザ光源12との間にはコリ
メータレンズ13、偏光ビームスプリツタ15、
(λ/4)板16、及び対物レンズ1を配置する。 偏光ビームスプリツタ15の透過側にはビーム
スプリツタ17を配置し、ビームスプリツタ17
の透過側に円柱レンズ2及び第1の分割受光素子
18を配設する。この円柱レンズ2としては円柱
凸レンズまたは円柱凹レンズのいずれをも使用す
ることができる。またビームスプリツタ17の反
射側には第2の分割受光素子21を配設する。第
1の分割受光素子18及び第2の分割受光素子2
1は等角度で配置された4個の独立した受光面
(第1の分割受光素子18については受光面A1,
A2,A3,A4、第2の分割受光素子21について
は受光面B1,B2,B3,B4)を持つ受光素子で、
このような受光素子としては4分割フオトダイオ
ードを用いることができる。 ビームスプリツタ17と第2の分割受光素子2
1の間には必要に応じてレンズまたは円柱レンズ
22を配設することができる。円柱レンズ22を
配設する場合に、円柱レンズ2と円柱レンズ22
の両方に円柱凸レンズ若しくは円柱凹レンズを使
用する場合は、両円柱レンズの母線方向を90°回
転して配置する必要がある。従つて第13図aに
示す配置のほか、第13図bに示す配置も可能で
ある。このとき両円柱レンズの母線方向はビーム
スプリツタの面の対角線に一致してなくてもよ
い。また、コリメータレンズ13と偏光ビームス
プリツタ17との間に必要に応じてピンホール1
4を配設してもよい。 偏光ビームスプリツタ15とビームスプリツタ
17との間の光路中に必要に応じて反射素子群2
3が配設されている。反射素子群23を構成する
反射素子として、この実施例ではプリズム24、
プリズム25及びプリズム26を使用している。
プリズム24、プリズム25、及びプリズム26
はそれぞれの反射面の角度が、入射光の方向と反
射光の方向とが直角をなすように配置されてい
る。 プリズム24は斜面を反射面とし、偏光ビーム
スプリツタ15からの入射光を斜面上のa点で反
射してプリズム25に入射する。プリズム25は
直交2面を反射面とし、プリズム24からの入射
光を直交面のb点及びc点で2度反射してプリズ
ム26に入射する。プリズム26は直交2面を反
射面とし、プリズム25からの入射光を直交面の
d点及びe点で2度反射してプリズム25に入射
する。プリズム25ではプリズム26からの入射
光を直交面のf点及びg点で2度反射してビーム
スプリツタ17に入射する。従つて、いずれかの
プリズム25または26を入射光及び反射光の方
向が変わらない方向に変位させることによつて、
反射素子群23内の光路長が変化することにな
る。 以上の光学式粗さ計10の構成要素はフレーム2
7に取り付けられているのであるが、特に対物レ
ンズ1はフレーム27に対して取外し可能であ
る。即ちフレーム27には窓28が形成されてお
り、この窓28に雌ねじが形成されている。一
方、対物レンズ1の取付け基部31には雄ねじが
形成されており、対物レンズ1はフレーム27の
窓28に螺着して取付けられている。従つてこの
螺着を解くことによつて、対物レンズは交換可能
である。 コリメータレンズ13はスライドフレーム32
に取付けられており、ボルト39で位置決めさ
れ、スライドフレーム32には光路方向に長孔3
3が形成され、この長孔33に挿通されたボルト
34によつてスライドフレーム32がフレーム2
7に取付けられているので、ボルト34を弛める
ことによつて、コリメータレンズ13を光路方向
に変位させることができる。また、プリズム26
はスライドフレーム35に取付けられており、ス
ライドフレーム35には光路方向に長孔36が形
成され、この長孔36に挿通されたボルト37に
よつてスライドフレーム35がフレーム27に取
付けられているので、ボルト37を弛めることに
よつて、プリズム26を光路方向に変位させ、光
路長を変位させることができる。 また、第1の分割受光素子18及び第2の分割
受光素子21はそれぞれフレーム27の窓41,
42の枠49にボルト43,44によつて取付け
られており、ボルト43,44を弛めることによ
つて交換可能である。 [作用] このように構成された光学式粗さ計10におい
て被測定面11の粗さを測定する場合には、レー
ザ光源12からのレーザ光をプリズム45によつ
て光路変更したのちコリメータレンズ13を通
し、偏光ビームスプリツタ15で反射させ、
(λ/4)板16及び対物レンズ1を通して被測
定面11を照明し、かつ被測定面11からの反射
光を対物レンズ1、(λ/4)板16、偏光ビー
ムスプリツタ15、反射素子群23に入射する。
反射素子群23に入射した光束はa点、b点、c
点、e点、f点及びg点で順次反射して、ビーム
スプリツタ17に入射する。ビームスプリツタ1
7では入射光線束を2分割し、一方の光線束20
aを円柱レンズ2を通して第1の分割受光素子1
8に入射する。第1の分割受光素子18では被測
定面11の凹凸に応じて、第1図に示す原理によ
つて、受光面A1〜A4の受光量、従つて出力が異
なることとなり、被測定面11の粗さを測定する
ことができる。 ただし、被測定面11が旋削面などのように傾
斜の比較的大きな断面曲線や、鋭いエツヂを持つ
段差の測定時には、回折像の影響により第1の分
割受光素子18の特定の受光面に非常に強度の大
きい光が入射するために、断面曲線の振幅が実線
より数倍〜十数倍大きく測定される。そこで、こ
の発明ではビームスプリツタ17で光路を2分割
し、第2の分割受光素子21にも被測定面11か
らの反射光20bを入れ、第1の分割受光素子1
8の出力を第2の分割受光素子21の出力で補正
し、回折光の影響を除去する。従つて、被測定面
11の断面曲線に対応する信号は、Ai,Biを分割
受光素子の各受光面からの出力信号として、 Sg={(A1+A3)−(A2+A4)}/4 〓i=1 Ai−{(B1+B3)−(B2+B4)}/4 〓i=1 Bi ……(1) で与えられる。 または4 〓i=1 Ai,4 〓i=1 Biをフイードバツクしてレー
ザ光源12の出力を変えて Sg=(A1+A3)−(A2+A4) −(B1+B3)+(B2+B4) ……(2) で与えられる。 但し、この実施例ではビームスプリツタ17の
透過側を検出側とし、反対側を補正側としている
が、これとは反対に、透過側を補正側とし、反射
側を検出側として利用してもよい。 光学式粗さ計の測定感度をかえる場合には、対
物レンズ1を交換し、または、必要に応じて円柱
レンズ2と第1の分割受光素子18との距離及び
円柱レンズ22と第2の分割受光素子21との距
離を変化させ、または、円柱レンズ2を交換し、
または対物レンズ1と再結像点Qの間の光路長を
変化させる。 対物レンズ1を交換するには対物レンズ1とフ
レーム27との螺着を解き、フレーム27に倍率
の異なる他の対物レンズを螺着する。 円柱レンズ2と第1の分割受光素子18との距
離を変化させるときは、ボルト43を弛めて第1
の分割受光素子18の位置を調整する。円柱レン
ズ22と第2の分割受光素子21との距離を変化
させるときは、ボルト44を弛めて第2の分割受
光素子21の位置を調整する。 対物レンズ1と再結像点Qの間の光路長さを変
化させる場合には、ボルト37を弛めプリズム2
6をボルト37及び長孔36を案内として光路方
向の位置を変位させる。 〔実施例〕 測定表面の変位に対する出力電圧の特性を第7
図に示す。第7図より、合焦位置(出力OV)か
ら±10μmの範囲で出力特性はほぼ直線的に変化
していると見ることができる。 第8図は、圧電素子を用いて測定表面を微小振
幅で振動させ、その間における表面の変位を静電
容量式変位計(ADE3016A)と本測定装置によ
り同時に測定した結果を示したものである。測定
表面の振動振幅は0.02μmであるから、出力信号
に重畳した50Hzの電気的雑音成分を考慮しても、
測定分割能は、変位計としての特性でみる限り、
0.01μm以上であることがわる。 第9図は約0.9μmの段差のある表面粗さ計校正
用標準片を測定対象とした実験結果である。第9
図のa),b)に示した波形は4分割フオトダイ
オードA及びBの出力信号である。両信号の差に
相当するのが、(1)式で与えられる測定信号であ
り、c)で示されている。段差に対する測定値は
およそ0.96μmとなつており、実際の値とよく一
致しているが、段差の両端部で測定誤差が生じて
いる。これは表面の傾斜が急激に変化する段差の
端部で生ずる回折像の影響を第2図に示したよう
に、ビームスプリツタにより分割した2つの光学
系で除去しているのであるが、光学系のアライメ
ントの調整が十分でないために、これを完全にと
り除くことができなかつたことによる。 次に第10図に示す光学系において、対物レン
ズ1の倍率(近似的には焦点距離f1の短いものが
倍率が高いと考えられる。)、円柱レンズ2と第1
の分割受光素子の間の距離m、円柱レンズ2の焦
点距離f2、及び対物レンズ1と再結像点Qの間の
距離(b1=l+k、これは位置可変プリズムによ
り変化できる)を変えることにより、測定感度の
変化を計算をしてみた。 以下の式に示すように、第1の分割受光素子の
位置での像形状で(第11図)、楕円像の長軸、
短軸の比R=rx/ryの測定面の微小移動に対する
変化率が感度の大小に対応する。従つて、以下の
式におけるdR/da1が大なるほど、感度が高いこ
とになる。 (ry/rp)={(k−m)/k} (rx/rp)={−(m−b2)}/b2 R=(rx/ry) ={−k(m−b2)}/{b2(k−m)} ここで k={(a1f1)/(a1−f1)}−l b1=(a1f1)/(a1−f1) b2=(kf2)/(k+f2) R={−(a1f1−a1l+f1l) ×mk+mf2−kf2)} /〔kf2・{a1f1−(l+m) ×(a1−f1)}〕 ={a1(f1−l)+f1l} ×(kf2−km−f2m) /〔kf2・{a1(f1−l−m) +lf1+mf1}〕 像が円となるセンサ位置ではR=−1である。 (dR)/(da1)=(B−C)/A ここで A=k2f2 2{a1(f1−l−m) +lf1+mf1}2 B=(f1−l)(kf2−km−f2m) ×kf2{a1(f1−l−m) +lf1+mf1} C=−{(a1(f1−l)+f1l} ×(kf2−km−f2m) ×kf2(f1−l−m) R=−1とするための条件 {a1(f1−l)+f1l}(kf2−km −f2m)=−kf2{a1(f1−l−m) +lf1+mf1} kf2{a1(f1−l)+f1l} −m(k+f2){a1(f1−l)+f1l} =−kf2{a1(f1−l)+f1l} −mkf2(f1−a1) m=〔−2kf2{a1(f1−l)+lf1}〕 /〔kf2(f1−a1)−(k+f2) ×{a1(f1−l)+f1l}〕 [例] f1=5 f2=40 l=100 b1=150の場合 a1=5.1724 k=50 b2=22.222 m=30.769 R
=−1である。 このときの位置関係を第12図に示す。 r1:対物レンズの口径(半径) rp:シリンドリカルレンズの入射光の半径位置 (rp/r1)={k/(l+k)} ry={(k−m)/k}rp ={(k−m)/(l+k)}/r1 像が円形となるとセンサ位置ではrx=ryであ
る。 次に以上の式による感度の計算結果を示す。
定するための光学式粗さ計に関するものである。 工作物の表面の粗さは、寸法精度、形状精度と
ともに、機械加工の特性を評価するための重要な
因子である。表面品位の良否は単に外見的な問題
にとどまらず、加工部品の機能とも密接に関連し
ている。個々の部品に要求される表面粗さの程度
を満たすように機械加工を行うことは、加工能率
並びに、使用工具や工作機械の状態とも関連して
くるため、品質管理の一端として表面粗さに注目
することが、機械加工の高度の自動化を達成する
うえで、益々重要な課題になつてきている。 [従来の技術] 表面粗さ測定法としては、従来より触針式表面
粗さ測定法が広く用いられている。 [発明が解決しようとする問題点] しかるに触針式表面粗さ測定法は、信頼性が高
く、測定精度の面でも優れているが、測定測定が
低いこと、被測定物を測定装置に取付けることが
必要なこと、軟質金属に対しては表面を傷つける
可能性があること等が難点となつている。一方、
本件発明の発明者の一人らは、加工サイクル中に
おいて非接触で表面粗さを測定するための方法を
開発し、切削中における測定、加工後ではある
が、オンマシンでの測定の可能性を示すととも
に、開発の目的の一つである工作機械の振動と表
面粗さの関連を明らかにするための実験に適用
し、多くの知見を得た。 しかし、機械加工部品が多様化している現在、
超精密加工や研削加工における、上に述べたよう
な課題に対処するためにはより高速、高精度な測
定をインプロセスで行い得るとともに、測定対象
である機械加工部品の種類に応じて精度と測定範
囲を選択し得る粗さ計の開発が必要になつてきて
いる。 この発明は上記の如き事情に鑑みてなされたも
のであつて、被測定面に対して非接触で、従つ
て、被測定面を傷つけることがなく、高速、高精
度でインプロセス測定が可能であり、かつ、測定
対象である機械加工部品の種類に応じて精度と測
定範囲を選択し得る粗さ計を提供することを目的
とするものである。 (ロ) 発明の構成 [問題を解決するための手段] この目的に対応して、この発明の光学式粗さ計
は、少なくとも、光源とビームスプリツタと一方
の円柱レンズと他方の円柱レンズと対物レンズと
一方の分割受光素子と及び他方の分割受光素子と
をフレームに取付けて備え、両円柱レンズは母線
方向が直交するように配置され、両分割受光素子
のそれぞれの2本の交差線は母線方向と45°をな
す方向に伸びており、光源からの光線束を被測定
面上で反射させ、反射した光線束をビームスプリ
ツタで2分割し、分割された一方の光線束を円柱
レンズを通して一方の分割受光素子上に入射し、
分割された他方の光線束を他方の円柱レンズを通
して他方の分割受光素子上に入射し、一方の分割
受光素子の出力と他方の分割受光素子の出力との
差動出力を出力として取り出すように構成し、か
つ、対物レンズをフレームに着脱可能に取付けて
なることを特徴としている。 以下、この発明の詳細を一実施例を示す図面に
ついて説明する。 まず、この発明の光学式粗さ計による表面粗さ
の測定原理を第1図について説明する。 光により非接触で測定物表面の断面形状を求め
る方法は幾つか発表されているが、レンズにより
測定物表面に結像した光点の焦点位置からのずれ
を知ることにより断面形状を推定する方法が、測
定精度、装置の小型化の可能性などの面から有力
である。光点の変動の検出方法には数種類あり、
すでに非接触の表面粗さ、ないし平面度の測定に
応用されているものもある。本発明ではこれらの
うち、円柱レンズで非点収差を与えることにより
焦点ずれを検知する方式を採用して、インプロセ
ス粗さ測定を行うこととしている。 第1図が測定の原理図である。対物レンズ1に
より結像される表面の光点の像位置をQとする。
非点収差を与えるために、対物レンズ1の後方に
円柱レンズ2を置く。円柱レンズ2による結像位
置をPとすると、PQ間では、PからQに向かう
につれて、光線束の断面は長軸が鉛直な楕円か
ら、長軸が水平な楕円へと変化する。この間Sで
は光線束の断面形状は円となる。S点における光
線束の断面形状は、表面の位置により、図に示し
たように変化するから、これを4分割フオトダイ
オードで光電変換し、演算することにより、表面
位置に対応した出力信号を得ることができる。 第2図にはこの発明の一実施例に係る光学式粗
さ計10が示されている。光学式粗さ計10は被
測定面11を照明するためのレーザ光源12を備
える。レーザ光源12としてはHe−Neレーザ、
半導体レーザ等を使用することができる。 被測定面11とレーザ光源12との間にはコリ
メータレンズ13、偏光ビームスプリツタ15、
(λ/4)板16、及び対物レンズ1を配置する。 偏光ビームスプリツタ15の透過側にはビーム
スプリツタ17を配置し、ビームスプリツタ17
の透過側に円柱レンズ2及び第1の分割受光素子
18を配設する。この円柱レンズ2としては円柱
凸レンズまたは円柱凹レンズのいずれをも使用す
ることができる。またビームスプリツタ17の反
射側には第2の分割受光素子21を配設する。第
1の分割受光素子18及び第2の分割受光素子2
1は等角度で配置された4個の独立した受光面
(第1の分割受光素子18については受光面A1,
A2,A3,A4、第2の分割受光素子21について
は受光面B1,B2,B3,B4)を持つ受光素子で、
このような受光素子としては4分割フオトダイオ
ードを用いることができる。 ビームスプリツタ17と第2の分割受光素子2
1の間には必要に応じてレンズまたは円柱レンズ
22を配設することができる。円柱レンズ22を
配設する場合に、円柱レンズ2と円柱レンズ22
の両方に円柱凸レンズ若しくは円柱凹レンズを使
用する場合は、両円柱レンズの母線方向を90°回
転して配置する必要がある。従つて第13図aに
示す配置のほか、第13図bに示す配置も可能で
ある。このとき両円柱レンズの母線方向はビーム
スプリツタの面の対角線に一致してなくてもよ
い。また、コリメータレンズ13と偏光ビームス
プリツタ17との間に必要に応じてピンホール1
4を配設してもよい。 偏光ビームスプリツタ15とビームスプリツタ
17との間の光路中に必要に応じて反射素子群2
3が配設されている。反射素子群23を構成する
反射素子として、この実施例ではプリズム24、
プリズム25及びプリズム26を使用している。
プリズム24、プリズム25、及びプリズム26
はそれぞれの反射面の角度が、入射光の方向と反
射光の方向とが直角をなすように配置されてい
る。 プリズム24は斜面を反射面とし、偏光ビーム
スプリツタ15からの入射光を斜面上のa点で反
射してプリズム25に入射する。プリズム25は
直交2面を反射面とし、プリズム24からの入射
光を直交面のb点及びc点で2度反射してプリズ
ム26に入射する。プリズム26は直交2面を反
射面とし、プリズム25からの入射光を直交面の
d点及びe点で2度反射してプリズム25に入射
する。プリズム25ではプリズム26からの入射
光を直交面のf点及びg点で2度反射してビーム
スプリツタ17に入射する。従つて、いずれかの
プリズム25または26を入射光及び反射光の方
向が変わらない方向に変位させることによつて、
反射素子群23内の光路長が変化することにな
る。 以上の光学式粗さ計10の構成要素はフレーム2
7に取り付けられているのであるが、特に対物レ
ンズ1はフレーム27に対して取外し可能であ
る。即ちフレーム27には窓28が形成されてお
り、この窓28に雌ねじが形成されている。一
方、対物レンズ1の取付け基部31には雄ねじが
形成されており、対物レンズ1はフレーム27の
窓28に螺着して取付けられている。従つてこの
螺着を解くことによつて、対物レンズは交換可能
である。 コリメータレンズ13はスライドフレーム32
に取付けられており、ボルト39で位置決めさ
れ、スライドフレーム32には光路方向に長孔3
3が形成され、この長孔33に挿通されたボルト
34によつてスライドフレーム32がフレーム2
7に取付けられているので、ボルト34を弛める
ことによつて、コリメータレンズ13を光路方向
に変位させることができる。また、プリズム26
はスライドフレーム35に取付けられており、ス
ライドフレーム35には光路方向に長孔36が形
成され、この長孔36に挿通されたボルト37に
よつてスライドフレーム35がフレーム27に取
付けられているので、ボルト37を弛めることに
よつて、プリズム26を光路方向に変位させ、光
路長を変位させることができる。 また、第1の分割受光素子18及び第2の分割
受光素子21はそれぞれフレーム27の窓41,
42の枠49にボルト43,44によつて取付け
られており、ボルト43,44を弛めることによ
つて交換可能である。 [作用] このように構成された光学式粗さ計10におい
て被測定面11の粗さを測定する場合には、レー
ザ光源12からのレーザ光をプリズム45によつ
て光路変更したのちコリメータレンズ13を通
し、偏光ビームスプリツタ15で反射させ、
(λ/4)板16及び対物レンズ1を通して被測
定面11を照明し、かつ被測定面11からの反射
光を対物レンズ1、(λ/4)板16、偏光ビー
ムスプリツタ15、反射素子群23に入射する。
反射素子群23に入射した光束はa点、b点、c
点、e点、f点及びg点で順次反射して、ビーム
スプリツタ17に入射する。ビームスプリツタ1
7では入射光線束を2分割し、一方の光線束20
aを円柱レンズ2を通して第1の分割受光素子1
8に入射する。第1の分割受光素子18では被測
定面11の凹凸に応じて、第1図に示す原理によ
つて、受光面A1〜A4の受光量、従つて出力が異
なることとなり、被測定面11の粗さを測定する
ことができる。 ただし、被測定面11が旋削面などのように傾
斜の比較的大きな断面曲線や、鋭いエツヂを持つ
段差の測定時には、回折像の影響により第1の分
割受光素子18の特定の受光面に非常に強度の大
きい光が入射するために、断面曲線の振幅が実線
より数倍〜十数倍大きく測定される。そこで、こ
の発明ではビームスプリツタ17で光路を2分割
し、第2の分割受光素子21にも被測定面11か
らの反射光20bを入れ、第1の分割受光素子1
8の出力を第2の分割受光素子21の出力で補正
し、回折光の影響を除去する。従つて、被測定面
11の断面曲線に対応する信号は、Ai,Biを分割
受光素子の各受光面からの出力信号として、 Sg={(A1+A3)−(A2+A4)}/4 〓i=1 Ai−{(B1+B3)−(B2+B4)}/4 〓i=1 Bi ……(1) で与えられる。 または4 〓i=1 Ai,4 〓i=1 Biをフイードバツクしてレー
ザ光源12の出力を変えて Sg=(A1+A3)−(A2+A4) −(B1+B3)+(B2+B4) ……(2) で与えられる。 但し、この実施例ではビームスプリツタ17の
透過側を検出側とし、反対側を補正側としている
が、これとは反対に、透過側を補正側とし、反射
側を検出側として利用してもよい。 光学式粗さ計の測定感度をかえる場合には、対
物レンズ1を交換し、または、必要に応じて円柱
レンズ2と第1の分割受光素子18との距離及び
円柱レンズ22と第2の分割受光素子21との距
離を変化させ、または、円柱レンズ2を交換し、
または対物レンズ1と再結像点Qの間の光路長を
変化させる。 対物レンズ1を交換するには対物レンズ1とフ
レーム27との螺着を解き、フレーム27に倍率
の異なる他の対物レンズを螺着する。 円柱レンズ2と第1の分割受光素子18との距
離を変化させるときは、ボルト43を弛めて第1
の分割受光素子18の位置を調整する。円柱レン
ズ22と第2の分割受光素子21との距離を変化
させるときは、ボルト44を弛めて第2の分割受
光素子21の位置を調整する。 対物レンズ1と再結像点Qの間の光路長さを変
化させる場合には、ボルト37を弛めプリズム2
6をボルト37及び長孔36を案内として光路方
向の位置を変位させる。 〔実施例〕 測定表面の変位に対する出力電圧の特性を第7
図に示す。第7図より、合焦位置(出力OV)か
ら±10μmの範囲で出力特性はほぼ直線的に変化
していると見ることができる。 第8図は、圧電素子を用いて測定表面を微小振
幅で振動させ、その間における表面の変位を静電
容量式変位計(ADE3016A)と本測定装置によ
り同時に測定した結果を示したものである。測定
表面の振動振幅は0.02μmであるから、出力信号
に重畳した50Hzの電気的雑音成分を考慮しても、
測定分割能は、変位計としての特性でみる限り、
0.01μm以上であることがわる。 第9図は約0.9μmの段差のある表面粗さ計校正
用標準片を測定対象とした実験結果である。第9
図のa),b)に示した波形は4分割フオトダイ
オードA及びBの出力信号である。両信号の差に
相当するのが、(1)式で与えられる測定信号であ
り、c)で示されている。段差に対する測定値は
およそ0.96μmとなつており、実際の値とよく一
致しているが、段差の両端部で測定誤差が生じて
いる。これは表面の傾斜が急激に変化する段差の
端部で生ずる回折像の影響を第2図に示したよう
に、ビームスプリツタにより分割した2つの光学
系で除去しているのであるが、光学系のアライメ
ントの調整が十分でないために、これを完全にと
り除くことができなかつたことによる。 次に第10図に示す光学系において、対物レン
ズ1の倍率(近似的には焦点距離f1の短いものが
倍率が高いと考えられる。)、円柱レンズ2と第1
の分割受光素子の間の距離m、円柱レンズ2の焦
点距離f2、及び対物レンズ1と再結像点Qの間の
距離(b1=l+k、これは位置可変プリズムによ
り変化できる)を変えることにより、測定感度の
変化を計算をしてみた。 以下の式に示すように、第1の分割受光素子の
位置での像形状で(第11図)、楕円像の長軸、
短軸の比R=rx/ryの測定面の微小移動に対する
変化率が感度の大小に対応する。従つて、以下の
式におけるdR/da1が大なるほど、感度が高いこ
とになる。 (ry/rp)={(k−m)/k} (rx/rp)={−(m−b2)}/b2 R=(rx/ry) ={−k(m−b2)}/{b2(k−m)} ここで k={(a1f1)/(a1−f1)}−l b1=(a1f1)/(a1−f1) b2=(kf2)/(k+f2) R={−(a1f1−a1l+f1l) ×mk+mf2−kf2)} /〔kf2・{a1f1−(l+m) ×(a1−f1)}〕 ={a1(f1−l)+f1l} ×(kf2−km−f2m) /〔kf2・{a1(f1−l−m) +lf1+mf1}〕 像が円となるセンサ位置ではR=−1である。 (dR)/(da1)=(B−C)/A ここで A=k2f2 2{a1(f1−l−m) +lf1+mf1}2 B=(f1−l)(kf2−km−f2m) ×kf2{a1(f1−l−m) +lf1+mf1} C=−{(a1(f1−l)+f1l} ×(kf2−km−f2m) ×kf2(f1−l−m) R=−1とするための条件 {a1(f1−l)+f1l}(kf2−km −f2m)=−kf2{a1(f1−l−m) +lf1+mf1} kf2{a1(f1−l)+f1l} −m(k+f2){a1(f1−l)+f1l} =−kf2{a1(f1−l)+f1l} −mkf2(f1−a1) m=〔−2kf2{a1(f1−l)+lf1}〕 /〔kf2(f1−a1)−(k+f2) ×{a1(f1−l)+f1l}〕 [例] f1=5 f2=40 l=100 b1=150の場合 a1=5.1724 k=50 b2=22.222 m=30.769 R
=−1である。 このときの位置関係を第12図に示す。 r1:対物レンズの口径(半径) rp:シリンドリカルレンズの入射光の半径位置 (rp/r1)={k/(l+k)} ry={(k−m)/k}rp ={(k−m)/(l+k)}/r1 像が円形となるとセンサ位置ではrx=ryであ
る。 次に以上の式による感度の計算結果を示す。
【表】
この計算結果から以下の結論が得られる。
対物レンズの倍率が大きいほど感度が高い。
円柱レンズ2と第1の分割受光素子との間の
距離が短い方が感度が高い。 円柱レンズ2の焦点距離が長い方が感度が高
い。 対物レンズ1と再結像点Qの間の距離が長い
方が感度が高い。 特に対物レンズの倍率(近似的には焦点距離f1
の短いものが倍率が高いと考える)が測定感度
dR/da1に及ぼす影響が大きいので、光学式粗さ
計の測定感度を選択するためには、対物レンズが
交換可能であることが有効であることがわかる。 (ハ) 発明の効果 以上の説明から明らかな通り、この発明の光学
式粗さ計は、被測定面の光学的測定を可能にし、
被測定面を傷つけることなく高速、高精度、かつ
高信頼性の測定を可能にするとともに、被測定物
の工作機械等にとりつけたまま測定することがで
きるので、インプロセス粗さ測定が可能になる。
しかも、対物レンズを交換するだけで測定精度を
変えることができるから、測定精度の選択がきわ
めて容易である。
距離が短い方が感度が高い。 円柱レンズ2の焦点距離が長い方が感度が高
い。 対物レンズ1と再結像点Qの間の距離が長い
方が感度が高い。 特に対物レンズの倍率(近似的には焦点距離f1
の短いものが倍率が高いと考える)が測定感度
dR/da1に及ぼす影響が大きいので、光学式粗さ
計の測定感度を選択するためには、対物レンズが
交換可能であることが有効であることがわかる。 (ハ) 発明の効果 以上の説明から明らかな通り、この発明の光学
式粗さ計は、被測定面の光学的測定を可能にし、
被測定面を傷つけることなく高速、高精度、かつ
高信頼性の測定を可能にするとともに、被測定物
の工作機械等にとりつけたまま測定することがで
きるので、インプロセス粗さ測定が可能になる。
しかも、対物レンズを交換するだけで測定精度を
変えることができるから、測定精度の選択がきわ
めて容易である。
第1図は粗さの測定原理を示す構成説明図、第
2図から第6図はこの発明の一実施例に係る光学
粗さ計を示すもので、第2図は横断面図、第3図
は側面図、第4図は第2図における−部断面
図、第5図は第2図における−部断面図、第
6図は第2図における−部断面図、第7図
は、変位−出力特性を示すグラフ、第8図は微小
変位に対する検出特性を示すグラフ、第9図は段
差測定結果を示す粗さ計の出力を示すグラフ、第
10図は光学素子の位置を示す構成説明図、第1
1図は第1の分割受光素子の受光面上の像形状を
示す説明図、第12図は光学素子の他の位置を示
す説明図、及び第13図はビームスプリツタにお
ける円柱レンズの位置を示す斜視説明図である。 1……対物レンズ、2……円柱レンズ、10…
…光学式粗さ計、11……被測定面、12……レ
ーザ光源、15……偏光ビームスプリツタ、17
……ビームスプリツタ、18……第1の分割受光
素子、21……第2の分割受光素子、26……プ
リズム、27……フレーム。
2図から第6図はこの発明の一実施例に係る光学
粗さ計を示すもので、第2図は横断面図、第3図
は側面図、第4図は第2図における−部断面
図、第5図は第2図における−部断面図、第
6図は第2図における−部断面図、第7図
は、変位−出力特性を示すグラフ、第8図は微小
変位に対する検出特性を示すグラフ、第9図は段
差測定結果を示す粗さ計の出力を示すグラフ、第
10図は光学素子の位置を示す構成説明図、第1
1図は第1の分割受光素子の受光面上の像形状を
示す説明図、第12図は光学素子の他の位置を示
す説明図、及び第13図はビームスプリツタにお
ける円柱レンズの位置を示す斜視説明図である。 1……対物レンズ、2……円柱レンズ、10…
…光学式粗さ計、11……被測定面、12……レ
ーザ光源、15……偏光ビームスプリツタ、17
……ビームスプリツタ、18……第1の分割受光
素子、21……第2の分割受光素子、26……プ
リズム、27……フレーム。
Claims (1)
- 1 少なくとも、光源とビームスプリツタと一方
の円柱レンズと他方の円柱レンズと対物レンズと
一方の分割受光素子と及び他方の分割受光素子と
をフレームに取付けて備え、前記両円柱レンズは
母線方向が直交するように配置され、前記両分割
受光素子のそれぞれの2本の交差線は前記母線方
向と45°をなす方向に伸びており、前記光源から
の光線束を被測定面上で反射させ、前記反射した
光線束を前記ビームスプリツタで2分割し、前記
分割された一方の光線束を前記円柱レンズを通し
て前記一方の分割受光素子上に入射し、前記分割
された他方の光線束を前記他方の円柱レンズを通
して前記他方の分割受光素子上に入射し、前記一
方の分割受光素子の出力と前記他方の分割受光素
子の出力との差動出力を出力として取り出すよう
に構成し、かつ、前記対物レンズを前記フレーム
に着脱可能に取付けてなることを特徴とする光学
式粗さ計。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14179585A JPS622109A (ja) | 1985-06-28 | 1985-06-28 | 光学式粗さ計 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14179585A JPS622109A (ja) | 1985-06-28 | 1985-06-28 | 光学式粗さ計 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS622109A JPS622109A (ja) | 1987-01-08 |
JPH0521404B2 true JPH0521404B2 (ja) | 1993-03-24 |
Family
ID=15300315
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14179585A Granted JPS622109A (ja) | 1985-06-28 | 1985-06-28 | 光学式粗さ計 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS622109A (ja) |
-
1985
- 1985-06-28 JP JP14179585A patent/JPS622109A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS622109A (ja) | 1987-01-08 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |