JPH05205326A - Manufacture of optical disk substrate - Google Patents

Manufacture of optical disk substrate

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Publication number
JPH05205326A
JPH05205326A JP4146015A JP14601592A JPH05205326A JP H05205326 A JPH05205326 A JP H05205326A JP 4146015 A JP4146015 A JP 4146015A JP 14601592 A JP14601592 A JP 14601592A JP H05205326 A JPH05205326 A JP H05205326A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
methyl
pentene
optical disk
substrate
copolymer
Prior art date
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Pending
Application number
JP4146015A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazuyuki Yamazaki
崎 和 之 山
Takehiko Kitamura
村 武 彦 北
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsui Petrochemical Industries Ltd
Sumitomo Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Mitsui Petrochemical Industries Ltd
Sumitomo Heavy Industries Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsui Petrochemical Industries Ltd, Sumitomo Heavy Industries Ltd filed Critical Mitsui Petrochemical Industries Ltd
Priority to JP4146015A priority Critical patent/JPH05205326A/en
Publication of JPH05205326A publication Critical patent/JPH05205326A/en
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Abstract

PURPOSE:To provide a manufacturing method of an optical disk substrate using a 4-methyl-1-pentene polymer or a 4-methyl-1-pentene copolymer superior in a transfer property. CONSTITUTION:The optical disk substrate is manufactured by a method that pellets of the 4-methyl-1-pentene polymer or the 4-methyl-1-pentene copolymer whose (a) melt flow rate (MFR) measured, based on ASTM D1238, at 5kg load and 260 deg.C temp. is 240-1200g/10min. and whose (b) m.p. by DSC is 234-240 deg.C, are molded by injection at a temp. of 320-370 deg.C at least at one part of the cylinder and at <=55 deg.C of metallic mold temp.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の技術分野】本発明は、光ディスク用基板の製造
方法に関し、さらに詳しくは転写性に優れた4-メチル-1
-ペンテン重合体または4-メチル-1-ペンテン共重合体か
らなる光ディスク用基板の製造方法に関するものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing an optical disk substrate, and more specifically, 4-methyl-1 having excellent transferability.
The present invention relates to a method for producing an optical disk substrate made of a pentene polymer or a 4-methyl-1-pentene copolymer.

【0002】[0002]

【発明の技術的背景】光ディスクは、記憶容量か大き
く、可搬性があるなどの特徴からCD、LD、追記型光
ディスク、MOディスクなどの録音、録画などの情報記
録分野において多く利用されている。
BACKGROUND OF THE INVENTION Optical discs are widely used in the information recording field such as recording and recording of CDs, LDs, write-once optical discs, MO discs, etc. because of their large storage capacity and portability.

【0003】光ディスクは、スタンパーを射出成形機の
金型に取り付け、射出成形を行い、表面にピットやトラ
ックが転写された光ディスク用基板を作成し、この基板
上に光記録層あるいは光記録層と反射層(金属層)さら
に保護層を形成するか、あるいは射出成形により基板を
成形すると同時に情報ピットを成形し、その上に反射層
さらに必要により保護層を形成することにより製造され
る。そして記録、再生感度の良好な光ディスクを得るた
めには、基板成型時にスタンパーの微細な凹凸を忠実に
再現させることが必要である。また、このような光ディ
スク用基板には、透明性に優れていること、複屈折が少
ないこと、成形時に歪みを生じないこと、寸法安定性に
優れ成形後に反りを生じないこと、金属の蒸着性や有機
膜のぬれ性に優れること、耐熱性、耐湿性に優れること
など様々な特性が要求される。
For an optical disk, a stamper is attached to a mold of an injection molding machine, injection molding is performed, an optical disk substrate having pits or tracks transferred to the surface thereof is prepared, and an optical recording layer or an optical recording layer is formed on the substrate. It is manufactured by forming a reflective layer (metal layer) and a protective layer, or by molding a substrate by injection molding and simultaneously forming information pits, and then forming a reflective layer and, if necessary, a protective layer thereon. Then, in order to obtain an optical disk having good recording and reproducing sensitivity, it is necessary to faithfully reproduce the fine irregularities of the stamper when molding the substrate. In addition, such an optical disk substrate has excellent transparency, low birefringence, no distortion during molding, excellent dimensional stability, no warpage after molding, and metal vapor deposition property. Various properties such as excellent wettability of the organic film and excellent heat resistance and moisture resistance are required.

【0004】近年、光ディスクは記憶容量をさらに大き
くすることが求められており、同一径基板で記憶容量を
増大させるためには、トラックピッチやピットピッチを
狭くするなどして記録密度を高める必要がある。このよ
うな記録密度の高い光ディスクを製造するために、上記
特性を有するとともに転写性にさらに優れた基板成形方
法が求められている。
In recent years, it has been required to further increase the storage capacity of an optical disk, and in order to increase the storage capacity with a substrate having the same diameter, it is necessary to increase the recording density by narrowing the track pitch or the pit pitch. is there. In order to manufacture such an optical disc having a high recording density, there is a demand for a substrate molding method having the above-mentioned characteristics and further excellent in transferability.

【0005】[0005]

【発明の目的】本発明は上記のような従来技術に鑑みて
なされたものであり、4-メチル-1-ペンテン重合体また
は4-メチル-1-ペンテン共重合体からなり、転写性に優
れかつ反りの少ない光ディスク用基板の製造方法を提供
することを目的としている。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned prior art, and is composed of a 4-methyl-1-pentene polymer or a 4-methyl-1-pentene copolymer and is excellent in transferability. Moreover, it is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a substrate for an optical disc with less warpage.

【0006】[0006]

【発明の概要】本発明に係る光ディスク用基板の製造方
法は、(a)荷重5kg、温度260℃において、ASTM
D 1238 に準拠して測定されたメルトフローレイト(M
FR)が、240〜1200g/10分であり、かつ
(b)DSCによる融点が234〜240℃である4-メ
チル-1-ペンテン重合体または4-メチル-1-ペンテン共重
合体のペレットを、シリンダの少なくとも一部の温度が
320〜370℃、金型温度が55℃以下で射出成形す
ることを特徴としている。
SUMMARY OF THE INVENTION A method for manufacturing an optical disk substrate according to the present invention comprises: (a) ASTM 5 load, temperature 260 ° C.
Melt flow rate measured according to D 1238 (M
FR) is 240 to 1200 g / 10 minutes, and (b) the melting point by DSC is 234 to 240 ° C. 4-methyl-1-pentene polymer or 4-methyl-1-pentene copolymer pellets It is characterized in that injection molding is performed at a temperature of at least a part of the cylinder of 320 to 370 ° C. and a mold temperature of 55 ° C. or less.

【0007】このような光ディスク用基板を構成する重
合体の中では、4-メチル-1-ペンテン単独重合体また
は、4-メチル-1-ペンテンから誘導される繰り返し単位
が94〜99.5重量%であり、α-オレフィン(好まし
くは炭素数4〜24のα-オレフィン)から誘導される
繰り返し単位が6〜0.5重量%からなる4-メチル-1-ペ
ンテン/α-オレフィン共重合体であることが特に好ま
しい。
Among the polymers constituting such a substrate for an optical disk, a homopolymer of 4-methyl-1-pentene or a repeating unit derived from 4-methyl-1-pentene is 94 to 99.5% by weight. %, And the repeating unit derived from α-olefin (preferably α-olefin having 4 to 24 carbon atoms) is 6 to 0.5% by weight, 4-methyl-1-pentene / α-olefin copolymer. Is particularly preferable.

【0008】[0008]

【発明の具体的説明】以下、本発明に係る光ディスク用
基板の製造方法について説明するが、まず本発明で用い
られる4-メチル-1-ペンテン重合体および4-メチル-1-ペ
ンテン共重合体について説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION A method for manufacturing an optical disk substrate according to the present invention will be described below. First, the 4-methyl-1-pentene polymer and the 4-methyl-1-pentene copolymer used in the present invention are described. Will be described.

【0009】本発明で用いられる基板用の樹脂は、4-メ
チル-1-ペンテン重合体または4-メチル-1-ペンテン共重
合体であり、好ましくは4-メチル-1-ペンテン単独重合
体または、4-メチル-1-ペンテンとα-オレフィン(好ま
しくは炭素数4〜24のα-オレフィン)との共重合
体、より好ましくは4-メチル-1-ペンテンから誘導され
る繰り返し単位を94重量%以上含む4-メチル-1-ペン
テンと炭素数4〜24のα-オレフィンとの共重合体で
あるが、本発明の目的である転写性の優れた光ディスク
用基板を得るためには、4-メチル-1-ペンテンから誘導
される繰り返し単位が94〜99.5重量%、特に好ま
しくは96〜99.5重量%であり、炭素数4〜24の
α-オレフィンから誘導される繰り返し単位が6〜0.5
重量%、特に好ましくは4〜0.5重量%からなる4-メ
チル-1-ペンテン/α-オレフィン共重合体が望ましい。
The resin for the substrate used in the present invention is 4-methyl-1-pentene polymer or 4-methyl-1-pentene copolymer, preferably 4-methyl-1-pentene homopolymer or A copolymer of 4-methyl-1-pentene and α-olefin (preferably α-olefin having 4 to 24 carbon atoms), more preferably 94 wt% of repeating unit derived from 4-methyl-1-pentene % Of 4-methyl-1-pentene and α-olefin having 4 to 24 carbon atoms, it is necessary to obtain a substrate for an optical disc having excellent transferability, which is an object of the present invention. The repeating unit derived from -methyl-1-pentene is 94 to 99.5% by weight, particularly preferably 96 to 99.5% by weight, and the repeating unit derived from an α-olefin having 4 to 24 carbon atoms is 6 to 0.5
A 4-methyl-1-pentene / α-olefin copolymer consisting of 4% to 0.5% by weight is particularly desirable.

【0010】本発明において4-メチル-1-ペンテン重合
体とは、4-メチル-1-ペンテン単独重合体および、4-メ
チル-1-ペンテンと少量のα-オレフィン以外のモノマー
との共重合体を意味する。また、本発明において4-メチ
ル-1-ペンテン共重合体(4-メチル-1-ペンテン/α-オ
レフィン共重合体)とは、4-メチル-1-ペンテンとα-オ
レフィンとの共重合体および、4-メチル-1-ペンテンと
α-オレフィンと少量のα-オレフィン以外のモノマーと
の共重合体を意味する。
In the present invention, 4-methyl-1-pentene polymer means 4-methyl-1-pentene homopolymer and copolymerization of 4-methyl-1-pentene with a small amount of a monomer other than α-olefin. Means coalescence. In the present invention, 4-methyl-1-pentene copolymer (4-methyl-1-pentene / α-olefin copolymer) means a copolymer of 4-methyl-1-pentene and α-olefin. And a copolymer of 4-methyl-1-pentene, α-olefin and a small amount of a monomer other than α-olefin.

【0011】上記のα-オレフィン以外のモノマーとし
ては、例えば、ブタジエン、ジシクロペンタジエン、エ
チリデンノルボルネン、メチルアクリレート、メチルメ
タクリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレ
ートなどが挙げられる。
Examples of the monomers other than the above α-olefins include butadiene, dicyclopentadiene, ethylidene norbornene, methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate and ethyl methacrylate.

【0012】4-メチル-1-ペンテンとの共重合に用いら
れるα-オレフィンとしては、炭素数2以上のα-オレフ
ィンが用いられるが、本発明では特に炭素数4〜24の
α-オレフィンが好ましく用いられる。炭素数2以上の
α-オレフィンとしては、エチレン、プロピレン、1-ブ
テン、1-ペンテン、1-ヘキセン、1-ヘプテン、1-オクテ
ン、1-デセン、1-テトラデセン、1-ヘキサデセン、1-オ
クタデセン、1-エイコセンなどが挙げられ、これらのう
ち炭素数4〜24のα-オレフィンが好ましく、炭素数
6〜18のα-オレフィンが更に好ましく、1-デセン、1
-ヘキサデセン、1-オクタデセンが最も好ましい。これ
らのα-オレフィンは単独で用いてもよく、2種以上組
み合わせて用いてもよい。
As the α-olefin used for copolymerization with 4-methyl-1-pentene, an α-olefin having 2 or more carbon atoms is used. In the present invention, an α-olefin having 4 to 24 carbon atoms is particularly preferable. It is preferably used. As the α-olefin having 2 or more carbon atoms, ethylene, propylene, 1-butene, 1-pentene, 1-hexene, 1-heptene, 1-octene, 1-decene, 1-tetradecene, 1-hexadecene, 1-octadecene , 1-eicosene, etc., among them, α-olefins having 4 to 24 carbon atoms are preferable, α-olefins having 6 to 18 carbon atoms are more preferable, 1-decene, 1
Most preferred are -hexadecene and 1-octadecene. These α-olefins may be used alone or in combination of two or more.

【0013】上記のような4-メチル-1-ペンテン重合体
または4-メチル-1-ペンテン共重合体は、たとえば従来
公知の以下のような触媒および方法を用いて製造され
る。(A)高活性チタン触媒成分、(B)有機金属化合
物触媒成分、および(C)下記一般式で表される有機ケ
イ素化合物触媒成分 RnSi(OR')4-n (式中、RおよびR' は炭化水素基であり、0<n<4
である。)から形成される重合用触媒の存在下に、約2
0〜100℃の温度で、4-メチル-1-ペンテンを重合さ
せるか、または4-メチル-1-ペンテンと前記α-オレフィ
ンとを共重合させることによって得られる。この際に
は、例えば上記したα-オレフィン以外のモノマーを少
量共重合させてもよい。
The above-mentioned 4-methyl-1-pentene polymer or 4-methyl-1-pentene copolymer is produced, for example, by using the following conventionally known catalysts and methods. (A) a highly active titanium catalyst component, (B) an organometallic compound catalyst component, and (C) an organosilicon compound catalyst component represented by the following general formula R n Si (OR ') in 4-n (wherein, R and R'is a hydrocarbon group, and 0 <n <4
Is. 2) in the presence of a polymerization catalyst formed from
It is obtained by polymerizing 4-methyl-1-pentene or copolymerizing 4-methyl-1-pentene with the α-olefin at a temperature of 0 to 100 ° C. In this case, for example, a small amount of a monomer other than the above α-olefin may be copolymerized.

【0014】また本発明では、上記の4-メチル-1-ペン
テン重合体または4-メチル-1-ペンテン共重合体とし
て、4-メチル-1-ペンテン重合体または4-メチル-1-ペン
テン共重合体を、一部熱分解等により減成したものを用
いてもよい。また4-メチル-1-ペンテン重合体と4-メチ
ル-1-ペンテン共重合体とをブレンドした組成物を用い
ることもできる。
In the present invention, the 4-methyl-1-pentene polymer or the 4-methyl-1-pentene copolymer is a 4-methyl-1-pentene polymer or a 4-methyl-1-pentene copolymer. A polymer obtained by partially decomposing it by thermal decomposition or the like may be used. It is also possible to use a composition in which a 4-methyl-1-pentene polymer and a 4-methyl-1-pentene copolymer are blended.

【0015】4-メチル-1-ペンテン重合体と4-メチル-1-
ペンテン共重合体とをブレンドする際には、4-メチル-1
-ペンテン重合体と4-メチル-1-ペンテン共重合体との合
計量に対し、4-メチル-1-ペンテン共重合体が0.5重量
%以上、好ましくは30重量%以上、特に好ましくは4
0重量%以上の量で混合され、4-メチル-1-ペンテン重
合体が99.5重量%以下、好ましくは70重量%以
下、特に好ましくは60重量%以下の量でブレンドする
ことが好ましい。
4-methyl-1-pentene polymer and 4-methyl-1-
When blending with the pentene copolymer, 4-methyl-1
With respect to the total amount of the -pentene polymer and the 4-methyl-1-pentene copolymer, the content of the 4-methyl-1-pentene copolymer is 0.5% by weight or more, preferably 30% by weight or more, particularly preferably Four
It is preferable to mix in an amount of 0% by weight or more and to blend 4-methyl-1-pentene polymer in an amount of 99.5% by weight or less, preferably 70% by weight or less, particularly preferably 60% by weight or less.

【0016】このような本発明において用いる4-メチル
-1-ペンテン重合体または4-メチル-1-ペンテン共重合体
(4-メチル-1-ペンテン/α-オレフィン共重合体)のペ
レットは、荷重5kg、温度260℃において、ASTM D
1238に準拠して測定されたメルトフローレイト(MF
R)が、240〜1200g/10分、好ましくは24
0〜1000g/10分、より好ましくは300〜95
0g/10分、最も好ましくは350〜900g/10
分の範囲であり、DSCによる融点が234〜240
℃、好ましくは235〜239℃の範囲にある。本発明
において用いる4-メチル-1-ペンテン重合体または4-メ
チル-1-ペンテン共重合体の密度は0.830〜0.83
5g/cm3 、特に好ましくは0.831〜0.834g
/cm3 の範囲であることが望ましい。また、本発明に
おいて用いる4-メチル-1-ペンテン重合体または4-メチ
ル-1-ペンテン共重合体の数平均分子量(Mn)は15
000〜100000の範囲であることが望ましく、ゲ
ルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC、溶
媒:o-ジクロルベンゼン、140℃、ポリスチレン換
算)で測定した分子量分布(Mw/Mn)は2.3〜5.
0の範囲であることが望ましい。
4-methyl used in the present invention
Pellets of -1-pentene polymer or 4-methyl-1-pentene copolymer (4-methyl-1-pentene / α-olefin copolymer) were subjected to ASTM D at a load of 5 kg and a temperature of 260 ° C.
Melt flow rate measured according to 1238 (MF
R) is 240 to 1200 g / 10 minutes, preferably 24
0 to 1000 g / 10 minutes, more preferably 300 to 95
0 g / 10 minutes, most preferably 350-900 g / 10
The melting point by DSC is 234 to 240.
C., preferably in the range of 235 to 239.degree. The density of the 4-methyl-1-pentene polymer or 4-methyl-1-pentene copolymer used in the present invention is 0.830 to 0.83.
5 g / cm 3 , particularly preferably 0.831 to 0.834 g
It is preferably in the range of / cm 3 . The number average molecular weight (Mn) of the 4-methyl-1-pentene polymer or 4-methyl-1-pentene copolymer used in the present invention is 15
The molecular weight distribution (Mw / Mn) measured by gel permeation chromatography (GPC, solvent: o-dichlorobenzene, 140 ° C., polystyrene conversion) is preferably 2.3 to 5.
A range of 0 is desirable.

【0017】なお、DSCによる融点は示差走査熱量計
を用いて以下の手順で行なう。すなわち、パーキンエル
マー社製DSCII型を使用し、試料約3mgを4mm×
4mm、厚さ0.2mmのアルミニウム板に巻回すこと
により試料の配向方法に拘束する。次いで、このアルミ
ニウム板に巻回した試料をアルミパンの中に封入し、こ
れを測定用試料とする。また、比較用試料であるリファ
レンスホルダに入れる通常空のアルミパンには、前記試
料に使用したものと同じアルミニウム板を封入し、両者
の熱バランスを取る。そして、試料を30℃で約1分間
保持した後、10℃/分の昇温速度で250℃まで昇温
する。この測定による最大吸熱ピーク位置を試料の融点
とする。
The melting point by DSC is measured by the following procedure using a differential scanning calorimeter. That is, using DSCII type manufactured by Perkin Elmer Co., Ltd., about 3 mg of the sample was 4 mm ×
The orientation method of the sample is restricted by winding the aluminum plate having a thickness of 4 mm and a thickness of 0.2 mm. Next, the sample wound around this aluminum plate is enclosed in an aluminum pan and used as a measurement sample. In addition, the same aluminum plate as that used for the sample is enclosed in a normally empty aluminum pan to be placed in a reference holder, which is a sample for comparison, to balance the heat of both. Then, after holding the sample at 30 ° C. for about 1 minute, the temperature is raised to 250 ° C. at a heating rate of 10 ° C./min. The maximum endothermic peak position determined by this measurement is the melting point of the sample.

【0018】本発明により得られた4-メチル-1-ペンテ
ン重合体または4-メチル-1-ペンテン共重合体からなる
光ディスク基板は、その密度が0.830〜0.835g
/cm 3 、好ましくは0.831〜0.834g/cm3
であり、ASTM D 1238 に準拠して測定されたメルトフロ
ーレート(MFR)が300〜3000g/10分、特
に好ましくは350〜2000g/10分であることが
望ましい。また、本発明により得られた4-メチル-1-ペ
ンテン重合体または4-メチル-1-ペンテン共重合体から
なる光ディスク基板は、数平均分子量(Mn)が100
00〜80000であり、ゲルパーミエーションクロマ
トグラフィー(GPC、溶媒:o-ジクロルベンゼン、1
40℃、ポリスチレン換算)で測定した分子量分布(M
w/Mn)が2〜5であることが望ましい。
4-methyl-1-pente obtained according to the invention
Consisting of a 4-methyl-1-pentene copolymer
The density of the optical disk substrate is 0.830 to 0.835g
/ Cm 3, Preferably 0.831 to 0.834 g / cm3
And the melt flow measured according to ASTM D 1238.
-Rate (MFR) is 300-3000g / 10min.
And preferably 350 to 2000 g / 10 minutes
desirable. In addition, 4-methyl-1-peptone obtained by the present invention
From 4-methyl-1-pentene copolymer
The optical disc substrate has a number average molecular weight (Mn) of 100.
The gel permeation chroma is between 0 and 80,000.
Tography (GPC, solvent: o-dichlorobenzene, 1
Molecular weight distribution (M in terms of polystyrene) at 40 ° C
It is desirable that w / Mn) is 2 to 5.

【0019】このような4-メチル-1-ペンテン重合体ま
たは4-メチル-1-ペンテン共重合体は耐熱性、透明性に
優れ、かつ溶融流動特性、精密成形加工性に優れ、しか
も成形加工時に歪みを生じ難いなどの特性を有してい
る。
Such a 4-methyl-1-pentene polymer or a 4-methyl-1-pentene copolymer is excellent in heat resistance and transparency, and also has excellent melt flow characteristics and precision molding processability, and further has a molding process. It has characteristics such that it is difficult for distortion to occur.

【0020】上記共重合体または組成物は、必要に応じ
て耐熱安定剤、耐候安定剤、塩酸吸収剤、帯電防止剤な
どの各種添加剤が配合されていてもよい。本発明では、
上記のような共重合体または組成物から光ディスク用基
板を成形する。
The above-mentioned copolymer or composition may optionally contain various additives such as a heat resistance stabilizer, a weather resistance stabilizer, a hydrochloric acid absorbent and an antistatic agent. In the present invention,
A substrate for an optical disc is molded from the above copolymer or composition.

【0021】本発明に係る光ディスク用基板は、上記の
ような重合体または共重合体あるいは組成物を用いて、
シリンダの少なくとも一部の温度が、通常320〜37
0℃、好ましくは330〜355℃、さらに好ましくは
330〜350℃、最も好ましくは335〜350℃、
金型温度が55℃以下、好ましくは10〜50℃の条件
で射出成形する。
The optical disk substrate according to the present invention is prepared by using the above-described polymer or copolymer or composition.
The temperature of at least part of the cylinder is usually 320-37.
0 ° C., preferably 330-355 ° C., more preferably 330-350 ° C., most preferably 335-350 ° C.,
Injection molding is performed under the condition that the mold temperature is 55 ° C. or lower, preferably 10 to 50 ° C.

【0022】また、射出成形の際の冷却時間は、好まし
くは5.0〜11秒、より好ましくは6.0〜8.0秒で
あり、成形サイクルは、好ましくは10.0〜18.0
秒、より好ましくは12.0〜18.0秒、特に好ましく
は13.0〜15.0秒であることが望ましい。
The cooling time during injection molding is preferably 5.0 to 11 seconds, more preferably 6.0 to 8.0 seconds, and the molding cycle is preferably 10.0 to 18.0.
Seconds, more preferably 12.0 to 18.0 seconds, particularly preferably 13.0 to 15.0 seconds.

【0023】このようにして得られる光ディスク用基板
の厚さは、通常0.1〜5mm、好ましくは0.5〜1.
5mmであることが望ましい。本発明により得られた光
ディスク用基板を用いて光ディスクを製造するには、例
えば基板上に、Fe-Co-Tb 層、Fe-Co-Gd 層などの
3d遷移金属と希土類金属とを含む光磁気記録層、ある
いはTe-C-H層、Te-Cr 層などの追記型の光記録層
を形成し、その上に必要に応じて反射層、保護層を形成
するか、あるいは基板上に成形と同時に情報ピットを成
形し、その上に必要に応じて反射層、または反射層と保
護層を形成すればよい。(例えば、再生専用光ディス
ク)反射層としては特に制限はないがAl、Cr、A
u、Ag、Cuなどの金属からなる層あるいはこれらの
金属を含む合金からなる層などが例示さる。このような
反射層の層厚は500〜1000Å、より好ましくは8
00〜1000Åであることが望ましい。
The thickness of the optical disk substrate thus obtained is usually 0.1 to 5 mm, preferably 0.5 to 1.
It is preferably 5 mm. In order to manufacture an optical disk using the optical disk substrate obtained by the present invention, for example, a magneto-optical element containing a 3d transition metal such as Fe-Co-Tb layer or Fe-Co-Gd layer and a rare earth metal on the substrate. A recording layer or a write-once type optical recording layer such as a Te-C-H layer or a Te-Cr layer is formed, and a reflective layer or a protective layer is formed on the recording layer as required, or a recording layer is formed on a substrate. At the same time, information pits may be formed, and a reflective layer, or a reflective layer and a protective layer may be formed thereon, if necessary. (For example, a read-only optical disk) The reflective layer is not particularly limited, but Al, Cr, A
Examples thereof include a layer made of a metal such as u, Ag, Cu or a layer made of an alloy containing these metals. The thickness of such a reflective layer is 500 to 1000Å, more preferably 8
It is desirable that it is 00 to 1000Å.

【0024】また保護層としては紫外線硬化樹脂、エポ
キシ樹脂、メタクリル樹脂、窒化珪素(SiNx)、炭
化硅素(SiCx)、窒化アルミニウム(AlN)など
からなる層が例示できる。このような保護層の層厚は3
〜7μm、より好ましくは5〜7μmであることが望ま
しい。
Examples of the protective layer include layers made of ultraviolet curable resin, epoxy resin, methacrylic resin, silicon nitride (SiNx), silicon carbide (SiCx), aluminum nitride (AlN) and the like. The thickness of such a protective layer is 3
It is desirable that the thickness is ˜7 μm, more preferably 5 to 7 μm.

【0025】これらの記録層、反射層、保護層は例えば
蒸着法、スパッタリング法、スピンコート法など従来知
られた方法で形成することができる。本発明に係る光デ
ィスクの製造方法によれば、シリンダで高温に溶融され
た低粘度の4-メチル-1-ペンテン重合体または4-メチル-
1-ペンテン共重合体が、短時間で低温に保持され金型に
充填されるため、グルーブ溝深さがディスク半径に拘ら
ず均一に深く入り、転写性が特に良好である。また、金
型温度が低い場合には成形サイクルを短くすることがで
きるので、生産性を向上させることができる。さらに、
樹脂のシリンダ内での滞留時間を短くすることができる
ので、4-メチル-1-ペンテン重合体または4-メチル-1-ペ
ンテン共重合体の熱劣化を防ぐことができ、しかも得ら
れる光ディスクは反りが生じ難く寸法安定性に優れてい
る。
These recording layer, reflective layer and protective layer can be formed by a conventionally known method such as vapor deposition, sputtering and spin coating. According to the optical disk manufacturing method of the present invention, a low-viscosity 4-methyl-1-pentene polymer or 4-methyl-melted in a cylinder at high temperature is used.
The 1-pentene copolymer is kept at a low temperature for a short time and is filled in the mold, so that the groove groove depth is uniformly deep regardless of the disc radius, and the transferability is particularly good. Further, when the mold temperature is low, the molding cycle can be shortened, so that the productivity can be improved. further,
Since the residence time of the resin in the cylinder can be shortened, it is possible to prevent thermal degradation of the 4-methyl-1-pentene polymer or 4-methyl-1-pentene copolymer, and the resulting optical disc is It does not warp easily and has excellent dimensional stability.

【0026】[0026]

【発明の効果】本発明に係る光ディスク用基板の製造方
法では、4-メチル-1-ペンテン重合体または4-メチル-1-
ペンテン共重合体、好適には4-メチル-1-ペンテン単独
重合体または4-メチル-1-ペンテンから誘導される繰り
返し単位が94〜100重量%、好ましくは94〜9
9.5重量%、特に好ましくは96〜99.5重量%であ
り、炭素数4〜24のα-オレフィンから誘導される繰
り返し単位が6〜0重量%、好ましくは6〜0.5重量
%、特に好ましくは4〜0.5重量%からなる4-メチル-
1-ペンテン共重合体であって、荷重5kg、温度260
℃において、ASTM D1238 に準拠して測定されたメルト
フローレイト(MFR)が、240〜1200g/10
分であり、DSCによる融点が234〜240℃である
4-メチル-1-ペンテン重合体または4-メチル-1-ペンテン
共重合体のペレットを原料樹脂ペレットとして用い、か
つ、シリンダの少なくとも一部の温度が320〜370
℃、金型温度55℃以下で射出成形して形成するので、
得られた光ディスク基板はその転写性が特に良好であ
る。また、このような製造方法により成形された光ディ
スクの基板は、反りが生じ難く、寸法安定性、耐熱性に
優れ、しかもフローマークが発生せず、透明性に優れ、
複屈折が小さい。
EFFECT OF THE INVENTION In the method of manufacturing an optical disk substrate according to the present invention, 4-methyl-1-pentene polymer or 4-methyl-1-pentene polymer is used.
A pentene copolymer, preferably 4-methyl-1-pentene homopolymer or 94-100% by weight of repeating units derived from 4-methyl-1-pentene, preferably 94-9.
9.5% by weight, particularly preferably 96 to 99.5% by weight, and 6 to 0% by weight, preferably 6 to 0.5% by weight, of a repeating unit derived from an α-olefin having 4 to 24 carbon atoms. , Particularly preferably 4-0.5% by weight of 4-methyl-
1-pentene copolymer, load 5 kg, temperature 260
Melt flow rate (MFR) measured according to ASTM D1238 at 240 ° C. is 240 to 1200 g / 10
And the melting point by DSC is 234 to 240 ° C.
A pellet of 4-methyl-1-pentene polymer or 4-methyl-1-pentene copolymer is used as a raw material resin pellet, and the temperature of at least a part of the cylinder is 320 to 370.
Since it is formed by injection molding at ℃ and mold temperature of 55 ℃ or less,
The transferability of the obtained optical disk substrate is particularly good. Further, the substrate of the optical disc molded by such a manufacturing method is less likely to warp, has excellent dimensional stability and heat resistance, does not generate flow marks, and has excellent transparency.
Birefringence is small.

【0027】本発明に係る光ディスク用基板の製造方法
は、CD、MD、CD-ROM、LD、MOディスク、
追記型ディスクなどの透明基板の製造方法として、広く
利用することができる。
A method of manufacturing an optical disk substrate according to the present invention is a CD, MD, CD-ROM, LD, MO disk,
It can be widely used as a method for manufacturing a transparent substrate such as a write-once disc.

【0028】[0028]

【実施例】以下、実施例に基づいて本発明の光ディスク
用基板の製造方法をさらに具体的に説明するが、本発明
はこれら実施例に限定されるものではない。
EXAMPLES The method for producing a substrate for an optical disk of the present invention will be described in more detail below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0029】なお、本発明において光ディスクの反りお
よび転写性は以下のようにして評価される。 [反 り]図1に示すように、光ディスクの凹面側の周
縁部に接する面と基板の中心との距離(n)を測定し、
光ディスクの反り(mm)とした。 [転写性]光ディスクの変調度(I3/ITopおよびI11
/ITop)を測定することにより、光ディスク基板の転
写性を評価した。
In the present invention, the warp and transferability of the optical disk are evaluated as follows. [Warping] As shown in FIG. 1, the distance (n) between the surface in contact with the peripheral edge on the concave side of the optical disk and the center of the substrate was measured,
The warp (mm) of the optical disk was used. [Transferability] Modulation degree of the optical disc (I 3 / I Top and I 11
/ I Top ) to evaluate the transferability of the optical disk substrate.

【0030】すなわちピットが転写された光ディスク用
基板に、反射層、保護層を順次形成し、得られた光ディ
スクについて、再生レーザー光を照射したときに、光デ
ィスクのピットのないところで反射されて戻ってくるレ
ーザー光の光量(ITop)と、ピット長が最短のピット
で反射されて戻ってくるレーザー光の光量(I3)と、
ピット長が最長のピットで反射されて戻ってくるレーザ
ー光の光量(I11)とをそれぞれ測定し、I3/ITop
よびI11/ITopを求めた。I3およびI11は、転写性が
良いほど値が高くなるため、I3/ITopおよびI11/I
Topは、値が大きいほど転写性に優れることになる。
That is, a reflective layer and a protective layer are sequentially formed on an optical disk substrate to which pits have been transferred, and when the obtained optical disk is irradiated with a reproducing laser beam, it is reflected back at a pit-free area of the optical disk. The amount of incoming laser light (I Top ) and the amount of laser light (I 3 ) that returns after being reflected by the pit with the shortest pit length,
The light amount (I 11 ) of the laser light reflected and returned by the pit having the longest pit length was measured, and I 3 / I Top and I 11 / I Top were obtained. I 3 and I 11, because the value as a good transferability is high, I 3 / I Top and I 11 / I
The higher the value of Top , the better the transferability.

【0031】なお一般に、I3/ITopは40%程度であ
り、I11/ITopは60%程度である。
Generally, I 3 / I Top is about 40% and I 11 / I Top is about 60%.

【0032】[0032]

【実施例1】4-メチル-1-ペンテン98重量%、n-デセ
ン(1-デセン)2重量%からなる4-メチル-1-ペンテン
/α-オレフィン重合体[MFR:400g/10分(A
STM D1238 に準拠、温度260℃)、DSCによる融点
235℃、数平均分子量(Mn):47000、GPC
(溶媒:o-ジクロルベンゼン、140℃)による分子量
分布(Mw/Mn):2.38]を射出成形機(住友−
ネスタール DISK5 M III住友重機械工業(株)製)にて
シリンダ最高温度350℃、金型温度40℃、冷却時間
5秒、スクリュー回転数200rpm、成形サイクル1
3秒の条件で成形し、厚さ1.2mm、直径120mm
φのCD用基板を製造した。
Example 1 A 4-methyl-1-pentene / α-olefin polymer [MFR: 400 g / 10 min (comprising 98% by weight of 4-methyl-1-pentene and 2% by weight of n-decene (1-decene)] A
STM D1238 compliant, temperature 260 ° C), melting point 235 ° C by DSC, number average molecular weight (Mn): 47,000, GPC
(Solvent: o-dichlorobenzene, 140 ° C.) molecular weight distribution (Mw / Mn): 2.38] by injection molding machine (Sumitomo-
With Nestal DISK5 M III Sumitomo Heavy Industries, Ltd., maximum cylinder temperature 350 ° C, mold temperature 40 ° C, cooling time 5 seconds, screw rotation speed 200 rpm, molding cycle 1
Molded under the condition of 3 seconds, thickness 1.2mm, diameter 120mm
A φ substrate for CD was manufactured.

【0033】得られた基板にスパッタリング法でAlを
700Åの厚みで蒸着し、次いでAl層上にアクリル型
紫外線硬化樹脂(ダキュアクリアSD-17 ;大日本インキ
化学工業(株)製)の保護層をスピンコートで7μmの
厚みで形成した。このようにして得られた光ディスクの
特性を測定した。結果を表1に示す。
Al was vapor-deposited on the obtained substrate to a thickness of 700Å by a sputtering method, and then a protective layer of an acrylic UV-curable resin (Dacure Clear SD-17; manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) was formed on the Al layer. It was formed by spin coating to have a thickness of 7 μm. The characteristics of the optical disk thus obtained were measured. The results are shown in Table 1.

【0034】[0034]

【実施例2】4-メチル-1-ペンテン98.5重量%、n-ヘ
キサデセン(1-ヘキサデセン)1.5重量%からなる4-
メチル-1-ペンテン/α-オレフィン重合体[MFR:4
20g/10分(ASTM D 1238 に準拠、温度260
℃)、DSCによる融点235℃]を射出成形機(住友
−ネスタール DISK5 M III住友重機械工業(株)製)に
てシリンダ最高温度345℃、金型温度50℃、冷却時
間5秒、スクリュー回転数200rpm、成形サイクル
10秒の条件で成形し、厚さ1.2mm、直径120m
mφのCD用基板を製造した。
Example 2 4-Methyl-1-pentene 98.5% by weight and n-hexadecene (1-hexadecene) 1.5% by weight 4-
Methyl-1-pentene / α-olefin polymer [MFR: 4
20 g / 10 minutes (conforms to ASTM D 1238, temperature 260
℃), melting point 235 ℃ by DSC] with an injection molding machine (Sumitomo-Nestal DISK5 M III Sumitomo Heavy Industries, Ltd.), maximum cylinder temperature 345 ℃, mold temperature 50 ℃, cooling time 5 seconds, screw rotation Molded under conditions of several 200 rpm and molding cycle of 10 seconds, thickness 1.2 mm, diameter 120 m
An mφ CD substrate was manufactured.

【0035】得られた基板にスパッタリング法でAlを
700Åの厚みで蒸着し、次いでAl層上にアクリル型
紫外線硬化樹脂(ダキュアクリアSD-17 ;大日本インキ
化学工業(株)製)の保護層をスピンコートで7μmの
厚みで形成した。このようにして得られた光ディスクの
特性を測定した。結果を表1に示す。
Al was vapor-deposited on the obtained substrate to a thickness of 700 Å by a sputtering method, and then a protective layer of an acrylic UV curable resin (Dacure Clear SD-17; Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) was formed on the Al layer. It was formed by spin coating to have a thickness of 7 μm. The characteristics of the optical disk thus obtained were measured. The results are shown in Table 1.

【0036】[0036]

【実施例3】4-メチル-1-ペンテン単独重合体[MF
R:490g/10分(ASTM D 1238に準拠、温度26
0℃)、DSCによる融点235℃]を射出成形機(住
友−ネスタール DISK5 M III住友重機械工業(株)製)
にてシリンダ最高温度355℃、金型温度43℃、冷却
時間5秒、スクリュー回転数200rpm、成形サイク
ル13秒の条件で成形し、厚さ1.2mm、直径120
mmφのCD用基板を製造する。
Example 3 4-Methyl-1-pentene homopolymer [MF
R: 490 g / 10 minutes (according to ASTM D 1238, temperature 26
0 ℃), melting point 235 ℃ by DSC] injection molding machine (Sumitomo-Nestal DISK5 M III Sumitomo Heavy Industries, Ltd.)
At a cylinder maximum temperature of 355 ° C., mold temperature of 43 ° C., cooling time of 5 seconds, screw rotation speed of 200 rpm, molding cycle of 13 seconds, thickness 1.2 mm, diameter 120
A mm substrate for CD is manufactured.

【0037】得られる基板にスパッタリング法でAlを
700Åの厚みで蒸着し、次いでAl層上にアクリル型
紫外線硬化樹脂(ダキュアクリアSD-17 ;大日本インキ
化学工業(株)製)の保護層をスピンコートで7μmの
厚みで形成する。このようにして得られた光ディスクの
特性を測定する。結果を表1に示す。
Al was vapor-deposited on the obtained substrate to a thickness of 700Å by a sputtering method, and then a protective layer of an acrylic UV-curable resin (Dacure Clear SD-17; manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) was spun on the Al layer. It is formed with a coat to a thickness of 7 μm. The characteristics of the optical disc thus obtained are measured. The results are shown in Table 1.

【0038】[0038]

【実施例4】4-メチル-1-ペンテン98重量%、n-デセ
ン(1-デセン)2重量%からなる4-メチル-1-ペンテン
/α-オレフィン重合体[MFR:800g/10分(A
STM D1238 に準拠、温度260℃)、DSCによる融点
235℃]を射出成形機(住友−ネスタール DISK5 M I
II住友重機械工業(株)製)にてシリンダ最高温度35
0℃、金型温度40℃、冷却時間5秒、スクリュー回転
数200rpm、成形サイクル18秒の条件で成形し、
厚さ1.2mm、直径120mmφのCD用基板を製造
した。
Example 4 4-Methyl-1-pentene / α-olefin polymer [MFR: 800 g / 10 minutes (98% by weight of 4-methyl-1-pentene and 2% by weight of n-decene (1-decene)] A
STM D1238 compliant, temperature 260 ℃, melting point 235 ℃ by DSC] injection molding machine (Sumitomo-Nestal DISK5 MI
II Sumitomo Heavy Industries, Ltd.) maximum cylinder temperature 35
Molded under the conditions of 0 ° C., mold temperature 40 ° C., cooling time 5 seconds, screw rotation speed 200 rpm, molding cycle 18 seconds,
A CD substrate having a thickness of 1.2 mm and a diameter of 120 mmφ was manufactured.

【0039】得られた基板にスパッタリング法でAlを
700Åの厚みで蒸着し、次いでAl層上にアクリル型
紫外線硬化樹脂(ダキュアクリアSD-17 ;大日本インキ
化学工業(株)製)の保護層をスピンコートで7μmの
厚みで形成した。このようにして得られた光ディスクの
特性を測定した。結果を表1に示す。
Al was vapor-deposited on the obtained substrate to a thickness of 700Å by a sputtering method, and then a protective layer of an acrylic UV curable resin (Dacure Clear SD-17; manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) was formed on the Al layer. It was formed by spin coating to have a thickness of 7 μm. The characteristics of the optical disk thus obtained were measured. The results are shown in Table 1.

【0040】[0040]

【比較例1】4-メチル-1-ペンテン樹脂[三井石油化学
工業(株)製TPX-RT18、MFR:26g/10分、DS
Cによる融点231℃]を、実施例1で用いたものと同
様の射出成形機を用い、シリンダ温度300℃、金型温
度60℃とした以外は実施例1と同様にして成形し、厚
さ1.2mm、直径120mmφのCD用基板を製造し
た。
[Comparative Example 1] 4-methyl-1-pentene resin [TPX-RT18 manufactured by Mitsui Petrochemical Co., Ltd., MFR: 26 g / 10 min, DS
[Melting point 231 ° C. by C] was molded in the same manner as in Example 1 except that the cylinder temperature was 300 ° C. and the mold temperature was 60 ° C. using the same injection molding machine as that used in Example 1, and the thickness was A CD substrate having a diameter of 1.2 mm and a diameter of 120 mm was manufactured.

【0041】得られた基板に実施例1と同様に反射層、
保護層を被着させ光ディスクの特性を測定した。樹脂の
MFRが小さいため反りの発生が大きく、光ディスクと
して使用できなかった。結果を表1に示す。
A reflective layer was formed on the obtained substrate in the same manner as in Example 1.
A protective layer was applied and the characteristics of the optical disc were measured. Since the MFR of the resin is small, warpage is large and it cannot be used as an optical disc. The results are shown in Table 1.

【0042】[0042]

【比較例2】ディスク用ポリカーボネート[MFR;5
2g/10分]を、実施例1で用いたものと同様の射出
成形機を用い、シリンダ温度335℃、金型温度85
℃、冷却時間5秒、スクリュー回転数200rpm、成
形サイクル9秒で成形し、実施例1と同様に反射層、保
護層を被着させて光ディスクの特性を測定した。結果を
表1に示す。
[Comparative Example 2] Polycarbonate for disc [MFR; 5
2 g / 10 min] using an injection molding machine similar to that used in Example 1, cylinder temperature 335 ° C., mold temperature 85.
Molding was carried out at a temperature of 5 ° C., a cooling time of 5 seconds, a screw rotation speed of 200 rpm, and a molding cycle of 9 seconds, and a reflective layer and a protective layer were applied in the same manner as in Example 1 to measure the characteristics of the optical disc. The results are shown in Table 1.

【0043】[0043]

【表1】 [Table 1]

【0044】表1から明らかなように、本発明の製造方
法により得られた基板を有する光ディスクは、I3 /I
Top 値、I11/ITop 値が共に高く、したがって本発明
の基板製造法は転写性に優れることが判る。
As is apparent from Table 1, the optical disk having the substrate obtained by the manufacturing method of the present invention is I 3 / I
Since both the Top value and I 11 / I Top value are high, it can be seen that the substrate manufacturing method of the present invention is excellent in transferability.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】光ディスクの反りの測定法を示す説明図であ
る。
FIG. 1 is an explanatory diagram showing a method for measuring a warp of an optical disc.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 光ディスク 1 optical disc

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─────────────────────────────────────────────────── ───

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成4年6月15日[Submission date] June 15, 1992

【手続補正1】[Procedure Amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0033[Correction target item name] 0033

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0033】得られた基板にスパッタリング法でAlを
700Åの厚みで蒸着し、次いでAl層上にアクリル型
紫外線硬化樹脂(ダキュアクリアSD-17 ;大日本イン
キ化学工業(株)製)の保護層をスピンコートで7μm
の厚みで形成した。このようにして得られた光ディスク
の特性を測定した。結果を表1に示す。
The resultant of 700Å of Al by sputtering on the substrate was deposited in a thickness, and then an acrylic type ultraviolet curing resin on the Al layer (dialog Cure Clear SD-17; produced by Dainippon Ink & Chemicals Co., Ltd.) of Protective layer is 7μm by spin coating
It was formed with a thickness of. The characteristics of the optical disk thus obtained were measured. The results are shown in Table 1.

【手続補正2】[Procedure Amendment 2]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0035[Correction target item name] 0035

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0035】得られた基板にスパッタリング法でAlを
700Åの厚みで蒸着し、次いでAl層上にアクリル型
紫外線硬化樹脂(ダキュアクリアSD-17 ;大日本イン
キ化学工業(株)製)の保護層をスピンコートで7μm
の厚みで形成した。このようにして得られた光ディスク
の特性を測定した。結果を表1に示す。
The resulting Al was deposited to a thickness of 700Å by sputtering on the substrate, and then an acrylic type ultraviolet curing resin on the Al layer (dialog Cure Clear SD-17; produced by Dainippon Ink & Chemicals Co., Ltd.) of Protective layer is 7μm by spin coating
It was formed with a thickness of. The characteristics of the optical disk thus obtained were measured. The results are shown in Table 1.

【手続補正3】[Procedure 3]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0037[Name of item to be corrected] 0037

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0037】得られる基板にスパッタリング法でAlを
700Åの厚みで蒸着し、次いでAl層上にアクリル型
紫外線硬化樹脂(ダキュアクリアSD-17 ;大日本イン
キ化学工業(株)製)の保護層をスピンコートで7μm
の厚みで形成する。このようにして得られた光ディスク
の特性を測定する。結果を表1に示す。
The Al is evaporated at a thickness of 700Å by sputtering substrate obtained, then an acrylic type ultraviolet curing resin on the Al layer; Protection (dialog Cure Clear SD-17 manufactured by Dainippon Ink &) Layer 7 μm by spin coating
It is formed with the thickness of. The characteristics of the optical disc thus obtained are measured. The results are shown in Table 1.

【手続補正4】[Procedure amendment 4]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0039[Correction target item name] 0039

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0039】得られた基板にスパッタリング法でAlを
700Åの厚みで蒸着し、次いでAl層上にアクリル型
紫外線硬化樹脂(ダキュアクリアSD-17 ;大日本イン
キ化学工業(株)製)の保護層をスピンコートで7μm
の厚みで形成した。このようにして得られた光ディスク
の特性を測定した。結果を表1に示す。
The resultant of 700Å of Al by sputtering on the substrate was deposited in a thickness, and then an acrylic type ultraviolet curing resin on the Al layer (dialog Cure Clear SD-17; produced by Dainippon Ink & Chemicals Co., Ltd.) of Protective layer is 7μm by spin coating
It was formed with a thickness of. The characteristics of the optical disk thus obtained were measured. The results are shown in Table 1.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】(a)荷重5kg、温度260℃におい
て、ASTM D 1238 に準拠して測定されたメルトフローレ
イト(MFR)が、240〜1200g/10分であ
り、かつ(b)DSCによる融点が234〜240℃で
ある4-メチル-1-ペンテン重合体または4-メチル-1-ペン
テン共重合体のペレットを、 シリンダの少なくとも一部の温度が320〜370℃、
金型温度が55℃以下で射出成形することを特徴とする
光ディスク用基板の製造方法。
1. A melt flow rate (MFR) measured according to ASTM D 1238 at a load of 5 kg and a temperature of 260 ° C. of 240 to 1200 g / 10 minutes, and (b) a melting point by DSC. Of 4-methyl-1-pentene polymer or 4-methyl-1-pentene copolymer having a temperature of 234 to 240 ° C., the temperature of at least a part of the cylinder being 320 to 370 ° C.,
A method for manufacturing a substrate for an optical disk, characterized by performing injection molding at a mold temperature of 55 ° C. or lower.
【請求項2】上記4-メチル-1-ペンテン重合体が、4-メ
チル-1-ペンテン単独重合体である請求項1に記載の光
ディスク用基板の製造方法。
2. The method for producing an optical disk substrate according to claim 1, wherein the 4-methyl-1-pentene polymer is a 4-methyl-1-pentene homopolymer.
【請求項3】上記4-メチル-1-ペンテン共重合体が、4-
メチル-1-ペンテンと炭素数4〜24のα-オレフィンと
の共重合体であり、 4-メチル-1-ペンテンから誘導される繰り返し単位が9
4〜99.5重量%であり、炭素数4〜24のα-オレフ
ィンから誘導される繰り返し単位が6〜0.5重量%で
ある請求項1に記載の光ディスク用基板の製造方法。
3. The 4-methyl-1-pentene copolymer is
It is a copolymer of methyl-1-pentene and an α-olefin having 4 to 24 carbon atoms and has 9 repeating units derived from 4-methyl-1-pentene.
The method for producing a substrate for an optical disk according to claim 1, wherein the repeating unit is 4 to 99.5% by weight, and the repeating unit derived from an α-olefin having 4 to 24 carbon atoms is 6 to 0.5% by weight.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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US6835440B1 (en) 1998-12-07 2004-12-28 Nippon Zeon Co., Ltd. Light transmitting plate
US7125593B2 (en) 2003-05-29 2006-10-24 Tdk Corporation Optical recording medium

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