JPH05174586A - Electrically erasable nonvolatile memory - Google Patents

Electrically erasable nonvolatile memory

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JPH05174586A
JPH05174586A JP33921391A JP33921391A JPH05174586A JP H05174586 A JPH05174586 A JP H05174586A JP 33921391 A JP33921391 A JP 33921391A JP 33921391 A JP33921391 A JP 33921391A JP H05174586 A JPH05174586 A JP H05174586A
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JP
Japan
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current
state
memory cell
memory
voltage
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP33921391A
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Japanese (ja)
Inventor
Izumi Hayashibara
泉 林原
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JFE Steel Corp
Original Assignee
Kawasaki Steel Corp
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Publication date
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Withdrawn legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To remarkably increase the number of rewriting times and a life by obtaining a threshold value corresponding to a predetermined current flowing to a sample cell and deciding '0' or '1'. CONSTITUTION:Sample cells 20, 22 are provided. When a predetermined gate voltage is applied to the cells 20, 22 of a writing state, a first current flowing in the cells is obtained. When a predetermined gate current is applied to the cells 20, 22 of an erased state, a second current flowing in the cells is obtained. A threshold value corresponding to an intermediate current value between the first current of the writing state and the second current of the erasing state is obtained, and '0' or '1' is decided by using the threshold value. Thus, a threshold value is varied in the memory cell as a time is elapsed. When this change with time is compensated, the number of rewriting times can be remarkably increased from 10<6> or less to 10<7> times or more.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、例えばMNOS,MO
NOS等と呼ばれる電気的消去可能な不揮発性メモリセ
ルを用いたメモリに関する。
The present invention relates to, for example, MNOS, MO.
The present invention relates to a memory using an electrically erasable non-volatile memory cell called NOS or the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、例えばMNOS,MONOS
等と呼ばれる、電気的に消去可能な不揮発性メモリセル
(E2 PROM,フラッシュEPROM等)が従来より
広く用いられている。このメモリセルは、電気的に絶縁
された薄膜あるいはゲート極に電子を注入し(これを
「書込み」と呼ぶ)、あるいは、該薄膜あるいはゲート
極から電子を引き出す(これを「消去」と呼ぶ)ことに
より、その記憶素子がオフ状態からオン状態に移行する
ゲートのスレショルド電圧が上下し、これを利用して情
報の記録を行なうものである。
2. Description of the Related Art Conventionally, for example, MNOS, MONOS
Electrically erasable non-volatile memory cells (E 2 PROM, flash EPROM, etc.) called “etc.” have been widely used. This memory cell injects electrons into an electrically insulated thin film or gate electrode (called "writing") or draws electrons from the thin film or gate electrode (called "erase"). As a result, the threshold voltage of the gate at which the memory element shifts from the off state to the on state rises and falls, and information is recorded by utilizing this.

【0003】図3は、MNOS,NOMOSのスレショ
ルド電圧の、書込み時間、消去時間の依存性の一例を示
したグラフである。このグラフにみるように、例えば1
msecの書込み、消去を行なうと、そのスレショルド
電圧はそれぞれ約+2V,−2Vとなる。一方、このメ
モリセルから情報を読み出す場合、電子が注入された状
態(書込み状態;ここではこの状態を’0’とする)の
スレショルド電圧と電子が引き出された状態(消去状
態;ここではこの状態を’1’とする)のスレショルド
電圧の差(メモリウインドウ)をみることによって’
0’か’1’かが認識される。
FIG. 3 is a graph showing an example of dependence of threshold voltages of MNOS and NOMOS on write time and erase time. As shown in this graph, for example, 1
When writing and erasing for msec, the threshold voltages become about + 2V and -2V, respectively. On the other hand, when reading information from this memory cell, a threshold voltage in a state where electrons are injected (writing state; here, this state is set to '0') and a state where electrons are extracted (erasing state; here, this state) By setting the threshold voltage difference (memory window) to "1".
Whether 0'or '1' is recognized.

【0004】図4はメモリセルに記憶された内容が’
0’か’1’かを認識する、従来の読出回路の一例を示
した図、図5は図4に示す読出回路の説明図である。多
数備えられた各メモリセル10,12,…のソースと、
グランドとの間には各トランジスタ11,13,…が接
続されており、またこれらのメモリセル10,12,…
のドレインは読出し線14に接続されている。
FIG. 4 shows the contents stored in the memory cell.
FIG. 5 is a diagram showing an example of a conventional read circuit for recognizing 0'or '1', and FIG. 5 is an explanatory diagram of the read circuit shown in FIG. Sources of a large number of memory cells 10, 12, ...
The respective transistors 11, 13, ... Are connected to the ground, and these memory cells 10, 12 ,.
Is connected to the read line 14.

【0005】ここで今メモリセル10に接続されたトラ
ンジスタ11のゲートに正の電圧V ccが印加され、これ
とともに他のメモリセル12,…に接続されたトランジ
スタ13,…のゲートがグランド電位に保持されること
によりメモリセル10が選択された場合において、図5
に示すようにメモリセル10のゲートにスレショルド電
圧よりやや高電圧の所定のゲート電圧Vg が印加される
とそのゲート電圧Vgとスレショルド電圧との差に応じ
た電流が流れる。
Here, the transistor connected to the memory cell 10 now
The positive voltage V is applied to the gate of the transistor 11. ccIs applied, this
Together with the other memory cells 12, ...
The gates of the star 13, ... Must be kept at the ground potential.
When the memory cell 10 is selected by
As shown in, the threshold voltage is applied to the gate of the memory cell 10.
Predetermined gate voltage V that is slightly higher than the voltageg Is applied
And its gate voltage VgAnd the threshold voltage
Current flows.

【0006】ここでメモリセル10が書込み状態’0’
にあった場合のスレショルド電圧をVwrite ,消去状
態’1’にあった場合のスレショルド電圧をVerase
したとき、メモリセル10が’0’か’1’かに応じて
図5に示すI1 又はI2 がビット線14に流れる。そこ
でこの電流が電流電圧変換回路16で電圧信号に変換さ
れ、この電圧信号がコンパレータ18に入力され、あら
かじめ定められた参照電圧Vref と比較され、これによ
りメモリセル10に記憶された内容が’0’か’1’か
判別される。尚、参照電圧Vref はあらかじめ定められ
た定電圧であるため、コンパレータ18を特に独立して
設ける必要はなく、電流電圧変換回路と一体化されてい
る場合もある。
Here, the memory cell 10 is in the write state "0".
When the threshold voltage when the memory cell 10 is "1" is V write and the threshold voltage when the erased state is "1" is V erase , I shown in FIG. 5 depending on whether the memory cell 10 is "0" or "1". 1 or I 2 flows to the bit line 14. Then, this current is converted into a voltage signal by the current-voltage conversion circuit 16, and this voltage signal is input to the comparator 18 and compared with a predetermined reference voltage V ref , whereby the contents stored in the memory cell 10 are stored. It is determined whether it is 0'or '1'. Since the reference voltage V ref is a predetermined constant voltage, it is not necessary to provide the comparator 18 independently, and it may be integrated with the current-voltage conversion circuit.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】ここで、上記メモリセ
ルは、経過時間とともにスレショルド電圧が変化し、し
かもこのスレショルドの変化の仕方はメモリセルの書込
み、消去の回数によっても異なるという問題がある。図
6は、MNOSと呼ばれるメモリセルの規定回数(1
回,105 〜107 回)書込み、消去を繰り返した後の
電荷保持特性の例を示したグラフである。
However, there is a problem in that the threshold voltage of the memory cell changes with the lapse of time, and the method of changing the threshold varies depending on the number of times of writing and erasing of the memory cell. FIG. 6 shows a prescribed number of memory cells called MNOS (1
Times, 10 5 to 10 7 times) write is a graph showing an example of the charge retention characteristics after repeated erasure.

【0008】このグラフに見るように書込み状態では時
間の経過とともにそのスレショルド電圧が低下し、消去
状態では時間の経過とともにそのスレショルド電圧が上
昇し、これらの両状態におけるスレショルド電圧の差が
縮まり、また、書込み、消去を何回行ったかによっても
そのスレショルド電圧の変化状態は異なる。また、この
グラフにはベース電位を0Vとしたときの弁別不能範囲
が示されている。書込み状態のスレショルド電圧がこの
弁別不能範囲に入ると’0’,’1’の識別が不能とな
り、したがってこの弁別不能範囲内に入るまでの時間
が、このメモリの寿命となる。この弁別不能範囲は主と
して読出し系の回路によって種々に変化するが、例えば
図6に示す例では、107 回書換えが行われた場合は、
約106 秒(約11日)以下で消去状態のスレショルド
電圧が弁別不能範囲に入り、したがってこれがこのメモ
リの寿命となる。このようなスレショルド電圧の変化は
MNOSに限られず、MONOS等についても同様であ
り、MONOSの場合は一例として107 回書換後の寿
命は約10年である。
As can be seen from this graph, the threshold voltage decreases with the passage of time in the written state, and the threshold voltage rises with the passage of time in the erased state, and the difference between the threshold voltages in these two states shrinks. The change state of the threshold voltage varies depending on how many times writing, erasing and writing are performed. In addition, this graph shows the non-discriminating range when the base potential is 0V. When the threshold voltage in the written state falls within the non-discriminating range, it is impossible to discriminate between "0" and "1". Therefore, the time until the threshold voltage falls within the non-discriminating range is the life of the memory. This non-discriminating range changes variously mainly depending on the circuit of the read system. For example, in the example shown in FIG. 6, when rewriting is performed 10 7 times,
In less than about 10 6 seconds (about 11 days), the erased threshold voltage is in the non-discriminating range and is therefore the life of this memory. Such a change in the threshold voltage is not limited to MNOS and is the same for MONOS and the like. In the case of MONOS, the life after rewriting 10 7 times is about 10 years as an example.

【0009】ここでNMOSやMONOSといった電気
的消去可能な不揮発性メモリセルの場合、書換可能回数
をどこまで増やして寿命をどこまで延ばすことができる
かが重要な特性の一つとして挙げられている。本発明
は、上記事情に鑑み、読出回路を工夫することによって
メモリセルの書換回数、寿命を延ばすことを目的とす
る。
Here, in the case of electrically erasable nonvolatile memory cells such as NMOS and MONOS, one of the important characteristics is how much the number of rewritable times can be increased and how long the life can be extended. In view of the above circumstances, it is an object of the present invention to extend the number of times of rewriting and the life of a memory cell by devising a read circuit.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の本発明の電気的消去可能な不揮発性メモリは、多数の
メモリセル、該多数のメモリセルそれぞれへの書込み、
消去の回数を代表する回数だけ書込み、消去されるサン
プルセル、および書込み状態のサンプルセルに所定のゲ
ート電圧を印加したときに該サンプルセルに流れる第1
の電流と、消去状態のサンプルセルに所定のゲート電圧
を印加したときに該サンプルセルに流れる第2の電流と
に基づいて、メモリセルに所定のベース電圧を印加する
読出し時に該メモリセルに流れる第3の電流の電流値に
対応する信号値と対比して該メモリセルが書込み状態に
あるか消去状態にあるかを弁別するための、前記第1の
電流の電流値と前記第2の電流の電流値との中間的な電
流値に対応するしきい値を出力するしきい値演算回路を
備えたことを特徴とするものである。
An electrically erasable non-volatile memory according to the present invention for achieving the above object comprises a large number of memory cells, writing to each of the plurality of memory cells,
A first sample which is written and erased a number of times representative of the number of erases, and a first cell which flows to the sample cell in the written state when a predetermined gate voltage is applied to the sample cell.
And a second current flowing through the sample cell in the erased state when a predetermined gate voltage is applied to the sample cell in the erased state. The current value of the first current and the second current for discriminating whether the memory cell is in the written state or the erased state by comparing with the signal value corresponding to the current value of the third current. The present invention is characterized by comprising a threshold value calculation circuit that outputs a threshold value corresponding to an intermediate current value with the current value of.

【0011】ここで、サンプルセルは1つだけ備え、こ
のサンプルセルに書込み、消去を行った際に、それぞれ
上記第1の電流、第2の電流を測定することとし、これ
らの第1の電流、第2の電流のうちの少なくとも一方を
記憶しておいてそれらの中間的な電流値に対応するしき
い値を出力するように構成してもよいが、複数のサンプ
ルセルを備え、一方を書込み状態用、他方を消去状態と
して用いてもよい。
Here, only one sample cell is provided, and when writing and erasing to this sample cell, the first current and the second current are respectively measured, and these first currents are measured. , At least one of the second currents may be stored and a threshold value corresponding to an intermediate current value thereof may be output, but a plurality of sample cells are provided and one of The write state may be used and the other may be used as the erased state.

【0012】また上記「電流値に対応する信号値」と
は、その電流値そのものであってもよく、その電流値を
電圧値に変換したものであってもよく、その電流値に対
応する信号であればどのようなものであってもよいこと
を意味している。また、上記本発明の電気的消去可能な
不揮発性メモリにおいて、前記しきい値演算回路が、前
記メモリセルが書込み状態にあるか消去状態にあるかの
弁別が不能な電流範囲の書込み状態側の境界の電流値と
前記メモリセルが書込み状態にあるときの前記第3の電
流の電流値との差、および前記電流範囲の消去状態側の
境界の電流値と前記メモリセルが消去状態にあるときの
前記第3の電流の電流値との差が互いに略均等となるよ
うな前記しきい値を出力するものであることが好まし
い。
The "signal value corresponding to the current value" may be the current value itself or the current value converted into a voltage value, and the signal corresponding to the current value. It means that it can be anything. In the electrically erasable non-volatile memory of the present invention, the threshold value calculation circuit is arranged on a write state side of a current range in which it is impossible to distinguish whether the memory cell is in the write state or the erase state. When the difference between the current value at the boundary and the current value of the third current when the memory cell is in the written state, and the current value at the boundary on the erased state side of the current range and the memory cell is in the erased state It is preferable that the threshold value is output such that the difference between the third current and the current value is substantially equal to each other.

【0013】[0013]

【作用】上記本発明の電気的消去可能な不揮発性メモリ
は、メモリセルへの書込み、消去と同様な回数だけ書込
み、消去されるサンプルセルを備え、書込み状態におけ
る上記第一の電流と消去状態における上記第2の電流と
の中間的な電流値に対応するしきい値を求め、このしき
い値を用いて’0’,’1’を判定するようにしたた
め、例えば図6に示す107 回書換えの場合、従来の1
6 回以下から10 7 回以上にまで飛躍的にその寿命を
延ばすことができる。
The above-mentioned electrically erasable non-volatile memory of the present invention
Write the same number of times as writing and erasing to the memory cell
Only the sample cell to be erased
And the second current in the erased state
The threshold value corresponding to the intermediate current value of
'0' and '1' are determined by using a certain value
Therefore, for example, 10 shown in FIG.7 In case of rewriting, the conventional 1
06 10 times or less 7 Lifespan dramatically more than once
It can be postponed.

【0014】また、上記中間的な電流値を求めるにあた
り、その読出回路によって定まる弁別不能範囲の境界の
電流値を考慮して書込み状態側と消去状態側とに略均等
なマージンをもつようにそのしきい値を求めると、一層
その寿命を延ばすことができることとなる。
Further, in obtaining the intermediate current value, the current value at the boundary of the non-discriminating range determined by the read circuit is taken into consideration so that the write state side and the erase state side have substantially equal margins. By obtaining the threshold value, the life can be further extended.

【0015】[0015]

【実施例】以下、本発明の実施例について説明する。
尚、ここでは特徴的な部分のみを図示、説明することと
し、不揮発性メモリを構成するために自明な回路、例え
ば、消去、書込み用の回路、昇圧回路、センスアンプ等
の図示、説明は省略されている。
EXAMPLES Examples of the present invention will be described below.
It should be noted that only characteristic parts will be shown and described here, and circuits that are obvious for configuring the non-volatile memory, such as erase and write circuits, booster circuits, and sense amplifiers, are not shown and described. Has been done.

【0016】図1は、本発明の一実施例の電気的消去可
能な不揮発性メモリに備えられた2つのサンプルセルと
その読出回路を示した回路図である。多数のメモリセル
(この図1には示されていない)と同一構造の2つのサ
ンプルセル20,22の各ソースとグランドとの間には
トランジスタ21,23が備えられている。
FIG. 1 is a circuit diagram showing two sample cells included in an electrically erasable non-volatile memory according to one embodiment of the present invention and a read circuit for reading the two sample cells. Transistors 21 and 23 are provided between the sources of two sample cells 20 and 22 having the same structure as a large number of memory cells (not shown in FIG. 1) and the ground.

【0017】多数のメモリセルに書込み、消去が行われ
ると、それら多数のメモリセルのそれぞれに平均1回ず
つ書込み、消去が行われる毎に、2つのサンプルセル2
0,22のうちサンプルセル20については先ず消去、
次に書込みが行われ、サンプルセル22については先ず
書込み、次に消去が行われる。尚フラッシュEPROM
と呼ばれるメモリの場合は、特に多数のメモリセルが一
括消去されるためサンプルセルと通常のメモリセルの書
込み,消去回数は完全に一致する。この書込み、消去の
回路については広く知られた技術であるため、ここでは
その図示、説明は省略する。
When writing and erasing are performed on a large number of memory cells, two sample cells 2 are written each time writing and erasing are performed on average once for each of the large number of memory cells.
Of the 0 and 22, the sample cell 20 is erased first,
Next, writing is performed, and the sample cell 22 is first written and then erased. A flash EPROM
In the case of a memory referred to as, particularly, a large number of memory cells are collectively erased, so that the number of times of writing and erasing of the sample cell and the normal memory cell are completely the same. Since this writing and erasing circuit is a widely known technique, its illustration and description are omitted here.

【0018】次に、読出しに先だって、トランジスタ2
1,23に正の電圧Vccが印加されてこれらトランジス
タ21,23がオン状態とされ、またサンプルセル2
0,22に所定のゲート電圧Vg が印加され、これによ
り、サンプルセル20,22には、上記所定のゲート電
圧Vg と経年変化等により変化した書込み側、消去側の
スレショルド電圧との差に対応する各電流が流れる。こ
れらの各電流は、各電流電圧変換回路24,26により
各電圧信号V1,V2に変換され、平均電圧出力回路2
8に入力される。この平均電圧出力回路28では入力さ
れた各電圧信号V1,V2に基づいて、これら各電圧信
号V1,V2の平均電圧が演算され参照信号Vref とし
て出力される。
Next, prior to reading, the transistor 2
A positive voltage V cc is applied to the transistors 1 and 23 to turn on these transistors 21 and 23, and the sample cell 2
A predetermined gate voltage V g is applied to 0 and 22. As a result, in the sample cells 20 and 22, the difference between the predetermined gate voltage V g and the threshold voltages on the writing side and the erasing side that have changed due to aging and the like. Each current corresponding to flows. These respective currents are converted into respective voltage signals V1 and V2 by the respective current / voltage conversion circuits 24 and 26, and the average voltage output circuit 2
8 is input. The average voltage output circuit 28 calculates the average voltage of the voltage signals V1 and V2 based on the input voltage signals V1 and V2, and outputs the calculated average voltage as the reference signal Vref .

【0019】図2は本発明の一実施例の不揮発性メモリ
の、メモリセルの読出回路を示した回路図である。この
図において、前述した図4と同一の部分には同一の番号
を付して示し、相違点のみ説明する。ここでは、電流電
圧変換回路16とは独立して、参照電圧Vref が入力さ
れるコンパレータ18が備えられており、しかも従来の
場合とは異なり参照電圧Vre f は常に一定の電圧ではな
く、図1に示す回路で求められた、書込み側のサンプル
セル20、消去側のサンプルセル22の各スレショルド
電圧の経年的変化が考慮されたものであり、これによ
り、従来と比べこの不揮発性メモリの寿命が大幅に延び
ることとなる。
FIG. 2 is a circuit diagram showing a read circuit of the memory cell of the nonvolatile memory according to the embodiment of the present invention. In this figure, the same parts as those in FIG. 4 described above are designated by the same reference numerals, and only different points will be described. Here, independent of the current-voltage conversion circuit 16, the reference voltage V ref is provided with a comparator 18 to be input, yet the reference voltage V re f unlike the conventional case not always constant voltage, The change over time of each threshold voltage of the write-side sample cell 20 and the erase-side sample cell 22 obtained by the circuit shown in FIG. 1 is taken into consideration. The life will be greatly extended.

【0020】尚、上記実施例では図1に示す平均電圧出
力回路28は、電圧信号V1,V2の平均値を求め、こ
の平均値を参照電圧を求めることに代え、前述した弁別
不能範囲を考慮して、各スレッショルド電圧と弁別不能
範囲の各境界の電圧との差(「マージン」と呼ぶ)を書
込み側と消去側とに同程度にとるように最適化された電
圧を求めてこれを参照信号Vref として用いるように構
成すると、その寿命を一層引き延ばすことができること
となる。
In the above embodiment, the average voltage output circuit 28 shown in FIG. 1 obtains the average value of the voltage signals V1 and V2, and instead of obtaining the reference voltage, the average value is taken into consideration in the non-discriminable range. Then, find the voltage optimized so that the difference between each threshold voltage and the voltage at each boundary of the non-discriminating range (called "margin") is approximately the same on the write side and erase side, and refer to this. If it is configured to be used as the signal V ref , its life can be further extended.

【0021】さらに上記実施例では書込み状態と消去状
態の2つのサンプルセル20,22を備えたが、サンプ
ルセルの数は2つである必要はなく、さらに多数備えて
いてもよく、もしくはサンプルセルを1つだけ備え交互
に書込み状態と消去状態とを作り出し、それらの状態に
おけるサンプルセルを流れる電流の少なくとも一方を記
憶しておいて参照電圧Vref を求めるようにしてもよ
い。
Further, in the above embodiment, the two sample cells 20 and 22 in the written state and the erased state are provided, but the number of the sample cells does not have to be two, and more sample cells may be provided, or the sample cells may be provided. Alternatively, the write state and the erase state may be created alternately, and at least one of the currents flowing through the sample cells in those states may be stored to obtain the reference voltage V ref .

【0022】[0022]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の電気的消
去可能な不揮発性メモリは、サンプルセルを備え、書込
み状態のサンプルセルを流れる第1の電流と消去状態の
サンプルセルを流れる第2の電流とに基づいてこれら第
1及び第の電流の中間的な電流に対応するしきい値を求
めて’0’,’1’を判定するようにしたため、メモリ
セルのスレショルド電圧の経時変化が補償され書換可能
回数、寿命が大幅に延長される。
As described above, the electrically erasable nonvolatile memory of the present invention includes the sample cell, and the first current flowing through the sample cell in the written state and the second current flowing in the sample cell in the erased state. Since the threshold value corresponding to an intermediate current between the first and second currents is obtained based on the current of 1 and the judgment of '0' or '1' is made, the threshold voltage of the memory cell changes with time. It is compensated and the number of rewritable times and the service life are greatly extended.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例の電気的消去可能な不揮発性
メモリに備えられた2つのサンプルセルとその読出回路
を示した回路図である。
FIG. 1 is a circuit diagram showing two sample cells included in an electrically erasable nonvolatile memory according to an embodiment of the present invention and a read circuit thereof.

【図2】本発明の一実施例の不揮発性メモリの、メモリ
セルの読出回路を示した回路図である。
FIG. 2 is a circuit diagram showing a read circuit of a memory cell in the nonvolatile memory according to the embodiment of the present invention.

【図3】MNOS,MONOSのスレショルド電圧の、
書込み時間、消去時間の依存性の一例を示したグラフで
ある。
FIG. 3 shows threshold voltages of MNOS and MONOS,
6 is a graph showing an example of the dependence of the writing time and the erasing time.

【図4】メモリセルに記憶された内容が’0’か’1’
かを認識する、従来の読出回路の一例を示した図であ
る。
[FIG. 4] Content stored in a memory cell is “0” or “1”
It is the figure which showed an example of the conventional read circuit which recognizes whether it is.

【図5】図4に示す読出回路の説明図である。5 is an explanatory diagram of a read circuit shown in FIG.

【図6】MNOSと呼ばれるメモリセルの、規定回数
(1回,105 〜107 回)書込み、消去を繰り返した
後の電荷保持特性の例を示したグラフである。
FIG. 6 is a graph showing an example of charge retention characteristics of a memory cell called MNOS after repeating writing and erasing a prescribed number of times (1 time, 10 5 to 10 7 times).

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10,12 メモリセル 16 電流電圧変換回路 18 コンパレータ 20,22 サンプルセル 24,26 電流電圧変換回路 28 平均電圧出力回路 10, 12 Memory cell 16 Current-voltage conversion circuit 18 Comparator 20, 22 Sample cell 24, 26 Current-voltage conversion circuit 28 Average voltage output circuit

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 多数のメモリセル、 該多数のメモリセルそれぞれへの書込み、消去の回数を
代表する回数だけ書込み、消去されるサンプルセル、お
よび書込み状態の前記サンプルセルに所定のゲート電圧
を印加したときに該サンプルセルに流れる第1の電流
と、消去状態の前記サンプルセルに所定のゲート電圧を
印加したときに該サンプルセルに流れる第2の電流とに
基づいて、前記メモリセルに所定のベース電圧を印加す
る読出し時に該メモリセルに流れる第3の電流の電流値
に対応する信号値と対比して該メモリセルが書込み状態
にあるか消去状態にあるかを弁別するための、前記第1
の電流の電流値と前記第2の電流の電流値との中間的な
電流値に対応するしきい値を出力するしきい値演算回路
を備えたことを特徴とする電気的消去可能な不揮発性メ
モリ。
1. A plurality of memory cells, a sample cell to be written and erased a number of times representative of the number of times of writing and erasing to each of the plurality of memory cells, and a predetermined gate voltage is applied to the sample cell in the written state. A predetermined current flowing through the sample cell and a second current flowing through the sample cell when a predetermined gate voltage is applied to the sample cell in the erased state. A second value for discriminating whether the memory cell is in a written state or an erased state by comparing with a signal value corresponding to a current value of a third current flowing in the memory cell at the time of reading by applying a base voltage; 1
Electrically erasable non-volatile, which comprises a threshold value calculation circuit for outputting a threshold value corresponding to an intermediate current value between the current value of the current and the current value of the second current. memory.
【請求項2】 前記しきい値演算回路が、前記メモリセ
ルが書込み状態にあるか消去状態にあるかの弁別が不能
な電流範囲の書込み状態側の境界の電流値と前記メモリ
セルが書込み状態にあるときの前記第3の電流の電流値
との差、および前記電流範囲の消去状態側の境界の電流
値と前記メモリセルが消去状態にあるときの前記第3の
電流の電流値との差が互いに略均等となるような前記し
きい値を出力するものであることを特徴とする電気的消
去可能な不揮発性メモリ。
2. The threshold value operation circuit can distinguish whether the memory cell is in the written state or the erased state, and the current value at the boundary on the written state side of the current range where the memory cell is in the written state and the memory cell is in the written state. Of the third current when the memory cell is in the erased state, and the current value at the boundary of the current range on the erased side and the current value of the third current when the memory cell is in the erased state. An electrically erasable non-volatile memory, which outputs the threshold values so that the differences are substantially equal to each other.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004199836A (en) * 2002-12-20 2004-07-15 Fujitsu Ltd Control method of nonvolatile memory, and nonvolatile memory
JP2008071483A (en) * 2007-10-03 2008-03-27 Renesas Technology Corp Nonvolatile semiconductor memory device
JP2011108357A (en) * 2004-05-27 2011-06-02 Renesas Electronics Corp Semiconductor memory device

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