JPH05171464A - Oxidation method - Google Patents

Oxidation method

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JPH05171464A
JPH05171464A JP33212391A JP33212391A JPH05171464A JP H05171464 A JPH05171464 A JP H05171464A JP 33212391 A JP33212391 A JP 33212391A JP 33212391 A JP33212391 A JP 33212391A JP H05171464 A JPH05171464 A JP H05171464A
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JP
Japan
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fine particles
oxidized
oxidation
oxide
oxidation method
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JP33212391A
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Japanese (ja)
Inventor
Akio Mishima
彰生 三島
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To enable the oxidation of a metal combined with a low m.p. material, to shorten the time required to oxidize a material of large volume and to attain a uniform thickness of an oxidized film and a uniform oxidized region by colliding fine particles having heat resistance at above the oxidation temp. of the surface of the material to be oxidized against the surface. CONSTITUTION:Fine particles 2 of 0.1-5mum particle diameter are made collid against the surface 1S of a metal body 1 to be oxidized as shown by an arrow (k). By this collision, the kinetic energy of the fine particles 2 is transformed into heat energy and the surface 1S is instantaneously heated to about >=200 deg.C and oxidized. At this time, the oxidized surface 1S is instantaneously cooled by oxygen-contg. atmospheric gas and the oxidation is carried out while keeping the entire metal at such a relatively low temp. as the room temp.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は被酸化物例えば金属の表
面を酸化する酸化方法に係わり、特に微粒子を衝撃させ
て酸化を行う新規な酸化方法に係わる。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an oxidation method for oxidizing the surface of an oxide such as a metal, and more particularly to a novel oxidation method for bombarding fine particles to perform oxidation.

【0002】[0002]

【従来の技術】金属の表面を酸化させる場合、従来は大
気中で金属の温度を100〜200℃程度以上に加熱す
る方法が採られている。しかしながら、この加熱による
酸化方法においては、次のような問題がある。
2. Description of the Related Art In the case of oxidizing the surface of a metal, a method of heating the temperature of the metal to about 100 to 200 ° C. or more in the atmosphere has been conventionally adopted. However, this oxidation method by heating has the following problems.

【0003】先ず被酸化物が例えば金属とプラスチック
等の低融点材との複合的構造となっている場合、温度を
上げて酸化処理を行うことができないこと、また体積の
大きい被酸化物は、昇温及び降温の際の時間が長くなる
こと、更に被酸化物に温度の差があると、酸化膜厚にば
らつきが生じること、また被酸化物表面に加工歪み、応
力があるとこの部分のみが集中的に表面から深くまで酸
化され易くなり、酸化部分やその酸化膜の膜厚にばらつ
きが生じること、また局部的に酸化させることができな
いこと等の不都合があった。
First, when the oxide to be oxidized has a composite structure of a metal and a low melting point material such as plastic, it is not possible to raise the temperature to perform the oxidation treatment, and the oxide to be oxidized having a large volume is If the time for raising and lowering the temperature is long, and if there is a difference in temperature between the oxides, the oxide film thickness will vary, and if there is processing strain or stress on the surface of the oxides, only this part will occur. However, there is a problem in that it is apt to be intensively oxidized from the surface to a deep depth, variations occur in the thickness of the oxidized portion and its oxide film, and it is not possible to oxidize locally.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上述したよ
うな従来の加熱による酸化方法に対し、全く新規な酸化
方法を提案することによって、上述したような従来の酸
化方法における問題を解決して、即ち低融点材との複合
構成の金属に対する酸化を可能にし、体積の大きい材料
に対する酸化時間の短縮をはかり、酸化膜厚や酸化領域
のばらつきを回避し、また必要に応じて局部的に酸化す
ることができるようにする。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention solves the above-mentioned problems in the conventional oxidation method by proposing a completely new oxidation method to the conventional heating oxidation method as described above. That is, it enables oxidation of a metal having a composite structure with a low-melting-point material, shortens the oxidation time for a material with a large volume, avoids variations in oxide film thickness and oxidation region, and locally as necessary. Be able to oxidize.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明酸化方法は、その
一例の略線的な説明図を図1に示すように、被酸化物1
の被酸化面1Sに対して、酸化温度以上の耐熱性を有す
る微粒子2を衝撃させて酸化させる。
The oxidation method according to the present invention is as shown in FIG.
The fine particles 2 having heat resistance equal to or higher than the oxidation temperature are bombarded and oxidized on the surface 1S to be oxidized.

【0006】また本発明の他の一による酸化方法は、上
述の酸化方法において、微粒子2の粒径を0.1〜5μ
mとする。
Further, according to another oxidation method of the present invention, in the above-mentioned oxidation method, the particle diameter of the fine particles 2 is 0.1 to 5 μm.
m.

【0007】更にまた本発明の他の一による酸化方法
は、上述の酸化方法において、微粒子2の衝撃を酸素を
含む雰囲気中で行う。
Still another oxidation method according to another aspect of the present invention is the above-mentioned oxidation method, in which the fine particles 2 are bombarded in an atmosphere containing oxygen.

【0008】また本発明の他の一による酸化方法は、上
述の酸化方法において、微粒子2として酸素原子を含む
粒子を用いる。
Further, another oxidation method according to another aspect of the present invention uses particles containing oxygen atoms as the fine particles 2 in the above-mentioned oxidation method.

【0009】更にまた本発明の他の一による酸化方法
は、微粒子2の衝撃速度を10〜100m/secとす
る。
Furthermore, according to another oxidation method of the present invention, the impact velocity of the fine particles 2 is set to 10 to 100 m / sec.

【0010】[0010]

【作用】上述したように、本発明による酸化方法におい
ては、被酸化物を加熱するという従来方法とは全く異な
る新規な方法を採るもので、微粒子を被酸化面に衝撃さ
せることによって、被酸化面の酸化を行い得ることを利
用したものである。
As described above, the oxidation method according to the present invention adopts a novel method of heating the oxide to be oxidized, which is completely different from the conventional method. It utilizes that the surface can be oxidized.

【0011】これは図1に示すように、被酸化物1の被
酸化面1Sに微粒子2を矢印kで示すように当てること
によって、微粒子2の運動エネルギーが熱エネルギーに
変換され、被酸化物1の表面が瞬間的に200℃程度以
上の温度に加熱されて酸化されるものである。このと
き、酸化された被酸化面1Sが雰囲気ガスによって瞬間
的に冷却され、金属全体の温度は室温程度の比較的低い
温度に保たれたまま酸化が行われる。
As shown in FIG. 1, the kinetic energy of the fine particles 2 is converted into thermal energy by applying the fine particles 2 to the surface 1S of the oxide 1 to be oxidized as shown by an arrow k, so that the oxide 2 is oxidized. The surface of No. 1 is instantaneously heated to a temperature of about 200 ° C. or higher to be oxidized. At this time, the oxidized surface 1S that has been oxidized is instantaneously cooled by the atmospheric gas, and oxidation is performed while the temperature of the entire metal is kept at a relatively low temperature of about room temperature.

【0012】この微粒子の粒径を0.1μm未満とする
と、このような酸化がおこりにくくなってその加工時間
が不必要に長引くこととなり、また粒径が5μmを越え
る場合は粒子が大きすぎるために表面に凹凸が形成され
て表面が荒れる恐れがある。本発明の他の一による酸化
方法においてはこの微粒子の粒径を0.1〜5μmとす
ることから、生産性よくまた被酸化面1Sに傷をつける
ことなく酸化させることができる。
When the particle size of the fine particles is less than 0.1 μm, such oxidation is less likely to occur and the processing time is unnecessarily prolonged, and when the particle size exceeds 5 μm, the particles are too large. The surface may be roughened due to unevenness formed on the surface. In the oxidation method according to another aspect of the present invention, since the particle size of the fine particles is set to 0.1 to 5 μm, it is possible to oxidize with good productivity and without damaging the oxidized surface 1S.

【0013】また本発明の他の一による酸化方法におい
ては酸素ガス中で微粒子の衝突を行うものであるが、こ
のようにすることによって例えば図1において矢印mで
示すように、被酸化物1を取り巻く酸素ガス中の酸素分
子が微粒子2の衝突による発熱部分に供給されることに
より、効率よく被酸化物1の被酸化面1Sを酸化させる
ことができる。
Further, in the oxidation method according to another aspect of the present invention, the fine particles are collided in oxygen gas. By doing so, for example, as shown by an arrow m in FIG. Oxygen molecules in the oxygen gas surrounding the are supplied to the heat generating portion due to the collision of the fine particles 2, so that the oxidized surface 1S of the oxide 1 can be efficiently oxidized.

【0014】また更に本発明の他の一による酸化方法で
は、微粒子2として酸素原子を含む粒子を用いることに
より、微粒子2の衝撃による発熱部分に酸素が微粒子2
自体から遊離して被酸化物1の被酸化面1Sを効率よく
酸化させることができる。
Further, in the oxidation method according to another aspect of the present invention, by using particles containing oxygen atoms as the fine particles 2, oxygen is generated in the heat generating portion due to the impact of the fine particles 2.
It is liberated from itself and the oxidized surface 1S of the oxide 1 can be efficiently oxidized.

【0015】更にまた本発明の他の一による酸化方法
は、微粒子2の衝撃速度を10〜100m/secとす
る。これは、衝撃速度が10m/sec未満の場合は微
粒子の衝撃による発熱が殆ど起こらないため、酸化速度
が著しく遅く、また100m/secを越える場合は、
被酸化物1の被酸化面1Sにダメージを与えたり、微粒
子が付着したり埋め込まれたりする等、被酸化面1Sを
汚損する恐れがあることを見い出したことによる。そし
て上述したように衝撃速度を選定することによって、確
実に生産性よく、また汚損等の不都合を生じることなく
酸化することができることを確認した。
Furthermore, according to another oxidation method of the present invention, the impact velocity of the fine particles 2 is set to 10 to 100 m / sec. This is because when the impact velocity is less than 10 m / sec, heat generation due to impact of fine particles hardly occurs, and therefore the oxidation velocity is extremely slow, and when it exceeds 100 m / sec,
This is due to the fact that the surface 1S to be oxidized of the oxide 1 may be damaged, particles may be attached or embedded, and the surface 1S to be oxidized may be contaminated. Then, it was confirmed that by selecting the impact velocity as described above, it is possible to oxidize reliably with good productivity and without causing inconvenience such as stain.

【0016】[0016]

【実施例】以下本発明酸化方法の一例を、これを実施す
る装置と共に詳細に説明する。
EXAMPLES An example of the oxidation method of the present invention will be described in detail below with an apparatus for carrying out the method.

【0017】図2は本発明酸化方法を実施する装置の一
例の略線的構成図で、圧縮空気を供給するエアーコンプ
レッサー101と、このエアーコンプレッサー101よ
り矢印aで示すように送り出された圧縮空気に微粒子を
混合する混合室102と、圧縮空気と共に微粒子を被酸
化物に噴射するためのブラスト室103及びこのブラス
ト室103より微粒子を回収吸引する排風機104とに
より構成されている。
FIG. 2 is a schematic configuration diagram of an example of an apparatus for carrying out the oxidation method of the present invention. An air compressor 101 for supplying compressed air and compressed air sent from the air compressor 101 as indicated by an arrow a. It is composed of a mixing chamber 102 for mixing fine particles, a blast chamber 103 for injecting the fine particles to the oxide together with the compressed air, and an air blower 104 for collecting and sucking the fine particles from the blast chamber 103.

【0018】そしてエアーコンプレッサー101から
は、空気供給パイプ55が導出され、この空気供給パイ
プ55は、更に第1の供給パイプ56と第2の供給パイ
プ57とに分岐され、それぞれ混合室102に接続され
ている。尚、前記空気供給パイプ55の中途部には、混
合室102へ供給される圧縮空気の圧力を調整する調整
弁58及び混合室102への圧縮空気の供給を制御する
電磁弁59が設けられ、また第2の供給パイプ57の中
途部には、この第2の供給パイプ57への圧縮空気の流
量を調整する調整弁60が設けられている。
An air supply pipe 55 is led out from the air compressor 101, and the air supply pipe 55 is further branched into a first supply pipe 56 and a second supply pipe 57, which are connected to the mixing chamber 102, respectively. Has been done. An adjusting valve 58 for adjusting the pressure of the compressed air supplied to the mixing chamber 102 and an electromagnetic valve 59 for controlling the supply of the compressed air to the mixing chamber 102 are provided in the middle of the air supply pipe 55. An adjusting valve 60 that adjusts the flow rate of the compressed air to the second supply pipe 57 is provided in the middle of the second supply pipe 57.

【0019】一方混合室102の上部には、微粒子2の
供給部11が設けられており、この供給部11の蓋体1
2を開蓋して微粒子2を供給するようになされている。
そしてこの供給部11の底部は、円錐形状斜面とされ、
中央部には混合室102への投入口11aが設けられる
と共に、この投入口11aに嵌合する円錐形状の供給弁
13が設けられている。この供給弁13は、前述の蓋体
12の中央部を貫通して配設されており、その基端部に
設けられた係止部13aと蓋体12の間にコイルバネ1
4を介在せしめることで図2中上方に付勢されている。
従って、通常は円錐部13bの周面が前記投入口11a
に密着することで閉塞するようにされており、必要に応
じて前述のコイルバネ14に抗して供給弁13を押圧操
作することで円錐部13bの投入口11aへの密着状態
が解除され、供給部11内の微粒子2が混合室102内
に落下せしめるようになされている。
On the other hand, a supply unit 11 for the fine particles 2 is provided above the mixing chamber 102, and the lid body 1 of the supply unit 11 is provided.
2 is opened to supply the fine particles 2.
The bottom of the supply unit 11 has a conical slope,
An inlet 11a to the mixing chamber 102 is provided in the central portion, and a conical supply valve 13 that fits into the inlet 11a is provided. The supply valve 13 is provided so as to penetrate through the central portion of the lid body 12 described above, and the coil spring 1 is provided between the lid portion 12 and the locking portion 13 a provided at the base end portion thereof.
4 is urged upward in FIG.
Therefore, normally, the peripheral surface of the conical portion 13b is the inlet port 11a.
When the supply valve 13 is pressed against the above-mentioned coil spring 14 as necessary, the conical portion 13b is released from the close contact state with the inlet 11a, and the supply The fine particles 2 in the portion 11 are made to fall into the mixing chamber 102.

【0020】この混合室102は、円筒状容器として構
成されて内部に微粒子2が収容される。そしてその底部
は底面に向かって円錐状に傾斜するようになされ、この
底面には円板状のフィルター16、たとえば金属粉を焼
結して形成される無数の微細孔を有する多孔質板いわゆ
るサーメットが設けられる。そしてエアーコンプレッサ
ー101の第1の供給パイプ56に矢印bで示すように
供給される圧縮空気は、フィルター16を介して混合室
102内の微粒子2間に導入される。
The mixing chamber 102 is constructed as a cylindrical container in which the fine particles 2 are stored. The bottom portion thereof is conically inclined toward the bottom surface, and the bottom surface has a disk-shaped filter 16, for example, a porous plate having innumerable fine pores formed by sintering metal powder, a so-called cermet. Is provided. Then, the compressed air supplied to the first supply pipe 56 of the air compressor 101 as shown by the arrow b is introduced between the fine particles 2 in the mixing chamber 102 via the filter 16.

【0021】また上述のフィルター16の周囲の円錐状
斜面には、複数の振動手段17が設けられている。この
振動手段17は、例えば上下一対の圧電素子と電極とか
ら構成され、いわゆるバイモルフより成り、その自由端
がフィルター16の上方に臨むように円環状に配置さ
れ、基端部が混合室102の円錐状の斜面に固定されて
いる。この振動手段17は、例えば所定の交流電圧を印
加することによりその自由端を上下方向に振動させるこ
とができ、微粒子2を矢印dで示すように機械的に分散
させながらフィルター16からの圧縮空気と撹拌混合す
るエアーバイブレータ効果を付与することができる。
尚、印加する交流電圧の周波数は、例えば200〜40
0Hz程度の高周波であってよく、バイモルフの共振周
波数とほぼ等しくすることが望ましい。更に、隣り合う
振動手段17の振動の位相を逆相とすると一層効果的で
ある。
A plurality of vibrating means 17 are provided on the conical slope around the filter 16 described above. The vibrating means 17 is composed of, for example, a pair of upper and lower piezoelectric elements and electrodes, is composed of a so-called bimorph, is arranged in an annular shape so that its free end faces above the filter 16, and the base end portion of the mixing chamber 102. It is fixed to a conical slope. The vibrating means 17 can vibrate its free end in the vertical direction by applying a predetermined AC voltage, for example, and mechanically disperse the fine particles 2 as indicated by an arrow d, while compressing air from the filter 16. An air vibrator effect of stirring and mixing can be added.
The frequency of the applied AC voltage is, for example, 200 to 40.
A high frequency of about 0 Hz may be used, and it is desirable that the resonance frequency be substantially equal to the resonance frequency of the bimorph. Furthermore, it is more effective if the phases of the vibrations of the vibrating means 17 adjacent to each other are reversed.

【0022】尚この例では、前述の振動手段17の基端
側半分を覆ってゴムシート18が貼着されており、この
振動手段17の下側に微粒子2が入り込んで振動を阻害
するのを防ぐようにしている。
In this example, a rubber sheet 18 is attached to cover the half of the vibrating means 17 on the proximal end side, and the fine particles 2 enter below the vibrating means 17 to prevent vibration. I try to prevent it.

【0023】上述のフィルター16の中央部には、混合
室102の底部を貫通する送り出しパイプ19がその先
端部19aをこの混合室102内に開口するように植立
されており、混合室102で圧縮空気により撹拌分散さ
れた微粒子2を送り出すようになっている。この送り出
しパイプ19の中途部には、上述の第2の供給パイプ5
7の先端部7aが挿入されており、この第2の供給パイ
プ57により矢印eで示すように供給される圧縮空気の
空気流によって生じる負圧によって、この送り出しパイ
プ19内に微粒子2が吸い込まれ、圧縮空気と混合して
送り出される。また、この送り出しパイプ19は、ブラ
スト室103まで延在されて成るチューブ状の送り出し
パイプ20に連結されて成り、ブラスト室103側の端
部にノズル20aが設けられると共にその中途部には振
動手段21が設けられ、送り出される微粒子2がこの送
り出しパイプ20の中途部に堆積することを防止するよ
うになされており、矢印f,gで示すように微粒子2が
圧縮空気と共に滑らかに送り出される
At the center of the above-mentioned filter 16, a delivery pipe 19 penetrating the bottom of the mixing chamber 102 is erected so that its tip end 19a opens into the mixing chamber 102. The fine particles 2 which are agitated and dispersed by compressed air are sent out. The second supply pipe 5 described above is provided in the middle of the delivery pipe 19.
The tip portion 7a of 7 is inserted, and the negative pressure generated by the air flow of the compressed air supplied by the second supply pipe 57 as indicated by the arrow e sucks the fine particles 2 into the delivery pipe 19. , Mixed with compressed air and sent out. The delivery pipe 19 is connected to a tubular delivery pipe 20 that extends to the blast chamber 103. A nozzle 20a is provided at the end of the blast chamber 103 and a vibration means is provided in the middle thereof. 21 is provided to prevent the discharged fine particles 2 from accumulating in the middle of the discharge pipe 20, and the fine particles 2 are smoothly discharged together with the compressed air as shown by arrows f and g.

【0024】送り出しパイプ20は、例えばウレタンチ
ューブ、ナイロンチューブ、ビニールチューブ等の可撓
性チューブにより構成され、急激に曲げることは避けて
緩やかに曲げるように配置されている。またこのパイプ
19及び20の連結部は、段差等を避けて空気だまりが
できないような構造とされており、微粒子の体積による
目詰まりを未然に防止するようにしている。
The delivery pipe 20 is made of, for example, a flexible tube such as a urethane tube, a nylon tube, and a vinyl tube, and is arranged so as to be gently bent while avoiding sharp bending. Further, the connecting portion of the pipes 19 and 20 has a structure that prevents air from being trapped by avoiding a step or the like, so that clogging due to the volume of fine particles is prevented.

【0025】また、混合室102の底面において、前記
送り出しパイプ19の周囲には、空気吹き出し口22が
穿設されており、第1の供給パイプ56から供給される
圧縮空気の一部がこの空気吹き出し口22から噴出し、
送り出しパイプ19の入り口即ち先端部19a近傍で、
矢印dで示すように乱気流を生ぜしめ、微粒子2を強力
に撹拌するようになされている。
On the bottom surface of the mixing chamber 102, an air outlet 22 is formed around the delivery pipe 19, and a part of the compressed air supplied from the first supply pipe 56 is the air. Gush from the outlet 22
At the entrance of the delivery pipe 19, that is, near the tip portion 19a,
As shown by the arrow d, a turbulent air flow is generated and the fine particles 2 are strongly stirred.

【0026】更にまた混合室102内には、上記供給弁
13の底面に回動軸23が固定される撹拌機構24が設
けられている。この撹拌機構24は、回動軸23から延
長されるアーム部24aと、金属細線いわゆる針金等か
ら成る枠体24bと、この枠体24bの下側縁に沿って
設けられるブラシ24cとより構成され、回動軸23を
駆動することで混合室102内で凝集した微粒子2の固
まりを粉砕する機能を有している。
Furthermore, inside the mixing chamber 102, there is provided a stirring mechanism 24 in which a rotating shaft 23 is fixed to the bottom surface of the supply valve 13. The stirring mechanism 24 is composed of an arm portion 24a extending from the rotating shaft 23, a frame body 24b made of a thin metal wire, so-called wire, etc., and a brush 24c provided along the lower edge of the frame body 24b. By driving the rotating shaft 23, it has a function of crushing the aggregate of the fine particles 2 aggregated in the mixing chamber 102.

【0027】また、混合室102の上記送り出しパイプ
19の上方位置には、集粉器25が設けられており、こ
の集粉器25の底部には、送り出しパイプ19の先端部
19aと対向して断面台形状に集粉凹部25aが設けら
れている。この集粉器25の上半分には、多孔質体から
成るフィルター25bが設けられ、導出パイプ26を介
して排風機104に接続されている。この導出パイプ2
6の中途部には、廃棄の流れや量を調整する電磁弁27
及び排気量調整弁28が設けられている。
A dust collector 25 is provided above the delivery pipe 19 in the mixing chamber 102, and a bottom portion of the dust collector 25 faces the tip portion 19a of the delivery pipe 19. The powder collecting recess 25a is provided in a trapezoidal cross section. A filter 25b made of a porous material is provided in the upper half of the dust collector 25, and is connected to the exhaust fan 104 via the outlet pipe 26. This derivation pipe 2
A solenoid valve 27 for adjusting the flow and amount of waste is provided in the middle of 6.
Also, an exhaust amount adjusting valve 28 is provided.

【0028】排風機104は、内部にフィルター29及
び吸引ファン30によってフィルター29を介して導出
パイプ26より空気を吸引し、排気口31より排気する
ものである。従って、混合室102内からの排気はこの
フィルター29によって清浄化されて外部に排出され
る。尚、フィルター29によって取り除かれた微粒子
は、このフィルター29の下方に設けられる集塵溜まり
部32内に収容される。
The blower 104 has a filter 29 and a suction fan 30 inside which sucks air from the outlet pipe 26 through the filter 29 and exhausts it from an exhaust port 31. Therefore, the exhaust gas from the inside of the mixing chamber 102 is cleaned by the filter 29 and discharged to the outside. The fine particles removed by the filter 29 are stored in the dust collecting portion 32 provided below the filter 29.

【0029】また混合室102の上部には、シリカゲル
等の吸湿手段33及びヒータ等の加熱手段34が設けら
れており、更に混合室102の周囲にもヒータ等の加熱
手段35が例えば巻回されて設けられ、混合室102内
の微粒子2を乾燥状態に保ち凝集を防止するようになさ
れている。
Further, a moisture absorbing means 33 such as silica gel and a heating means 34 such as a heater are provided above the mixing chamber 102, and a heating means 35 such as a heater is wound around the mixing chamber 102, for example. The fine particles 2 in the mixing chamber 102 are kept dry to prevent agglomeration.

【0030】一方、ブラスト室103には、前述のノズ
ル20aと対向して被酸化物36を載置する回転テーブ
ル37が設けられている。この回転テーブル37は、モ
ータ38により回転されるようになされ、また矢印hで
示すように噴射される微粒子がこのテーブル37で反射
することにより例えば被酸化物36の側面等が不用意に
加工されるのを防止するためにメッシュ状とされてい
る。
On the other hand, the blast chamber 103 is provided with a rotary table 37 on which the oxide 36 is placed so as to face the nozzle 20a. The rotary table 37 is rotated by a motor 38, and the fine particles ejected as shown by an arrow h are reflected by the table 37 so that, for example, the side surface of the oxide 36 is carelessly processed. It has a mesh shape in order to prevent it from falling.

【0031】回転テーブル37の周囲は、吸気ボックス
39によって覆われており、ブラスト室103内への微
粒子の散乱を防止するようになされている。ブラスト室
103内に微粒子が散乱すると、例えば作業者がブラス
ト室103を開放したときに微粒子が外部に漏れる恐れ
があり、また微粒子の回収効率も低下する。
The periphery of the turntable 37 is covered with an intake box 39 so as to prevent scattering of fine particles into the blast chamber 103. If the fine particles are scattered in the blast chamber 103, the fine particles may leak to the outside when, for example, an operator opens the blast chamber 103, and the efficiency of collecting the fine particles is reduced.

【0032】このブラスト室103の底部もまた円錐状
とされると共に、返送パイプ40が設けられ、回収され
た微粒子が前述の供給部11へ送られるように、例えば
供給部11の蓋体12の一端部に連結されている。吸気
ボックス39も同様にその底部が円錐状とされ、返送パ
イプ41が設けられてここからの微粒子が供給部11へ
送られるように、返送パイプ40の中途部に連結されて
いる。また、ブラスト室103の底部には、上述の混合
室102と同様にバイモルフ等より成る振動手段42が
設けられて、落下する微粒子をエアーバイブレーション
によって速やかに排出するようになされている。
The bottom of the blast chamber 103 is also conical, and a return pipe 40 is provided so that the collected fine particles are sent to the above-mentioned supply unit 11, for example, the lid 12 of the supply unit 11. It is connected to one end. Similarly, the intake box 39 also has a conical bottom portion, is provided with a return pipe 41, and is connected to a midway portion of the return pipe 40 so that fine particles from the return pipe 41 are sent to the supply unit 11. Further, the vibrating means 42 made of a bimorph or the like is provided at the bottom of the blast chamber 103, as in the above-mentioned mixing chamber 102, so that the falling fine particles are quickly discharged by air vibration.

【0033】蓋体12の他端部、即ち返送パイプ40が
連結される一端部とは供給弁13を挟んで反対側の端部
には、排気パイプ43が設けられ、排気の流れを制御す
る電磁弁45を介して排風機104に連結されている。
また蓋体12の内側には、円筒状の仕切り板44が垂下
されており、返送パイプ40、41を介してブラスト室
103から供給部11へ回収された微粒子は、この仕切
り板44による迂回路を経由することで、サイクロンと
同様の原理により大まかに分級され、前述の供給部11
内に収容される。不要な空気は、排気パイプ43を通し
て排風機104から排出される。
An exhaust pipe 43 is provided at the other end of the lid body 12, that is, at the end opposite to the one end to which the return pipe 40 is connected with the supply valve 13 interposed therebetween to control the flow of exhaust gas. It is connected to the blower 104 via the electromagnetic valve 45.
Further, a cylindrical partition plate 44 is hung inside the lid body 12, and the fine particles collected from the blast chamber 103 to the supply unit 11 via the return pipes 40 and 41 are bypassed by the partition plate 44. By passing through the same, it is roughly classified according to the same principle as the cyclone,
Housed inside. The unnecessary air is discharged from the air blower 104 through the exhaust pipe 43.

【0034】以上の構成による酸化装置の動作態様につ
いて説明する。
The operation mode of the oxidizing device having the above-mentioned structure will be described.

【0035】先ず、エアーコンプレッサー101から送
り出された圧縮空気は、第1の供給パイプ56と第2の
供給パイプ57とに分流され、第1の供給パイプ56に
分流された圧縮空気はフィルター16或いは空気吹き出
し口22から混合室102内へ流入される。この際、圧
縮空気が微粒子2の中を通ることにより、いわゆるエア
ーバイブレーター効果によって微粒子2が撹拌され、そ
の一部が集粉器25の集粉凹部25aによって送り出し
パイプ19の入口即ち先端部19a付近に集められる。
First, the compressed air sent from the air compressor 101 is divided into the first supply pipe 56 and the second supply pipe 57, and the compressed air divided into the first supply pipe 56 is supplied to the filter 16 or. It flows into the mixing chamber 102 from the air outlet 22. At this time, when the compressed air passes through the fine particles 2, the fine particles 2 are agitated by a so-called air vibrator effect, and a part of the fine particles 2 is fed by the dust collecting recess 25a of the dust collector 25 and the vicinity of the inlet or tip portion 19a of the pipe 19. Collected in.

【0036】この撹拌に際しては、振動手段17による
機械的な分散も行われ、上述のエアーバイブレーター効
果が効果的に持続される。また集粉器25に接続される
導出パイプ26の中途部に設けられる電磁弁27と、供
給部11の蓋体12に接続される排気パイプ43の中途
部に設けられる電磁弁45は、一定の周期で互いに開閉
状態が逆になるように制御され、これらの開閉操作によ
る圧力差によって混合室102内の微粒子2が一層撹乱
されるようになっている。尚、このとき排気量調整弁2
8によって混合室102内からの排気量をある一定量ま
で減らすと上述の圧力差が小さくなり、周期的な開閉操
作を行っても微粒子2はほぼ一定に噴射されるようにな
る。
During this stirring, mechanical dispersion is also performed by the vibrating means 17, and the above-mentioned air vibrator effect is effectively maintained. Further, the electromagnetic valve 27 provided in the middle portion of the outlet pipe 26 connected to the dust collector 25 and the electromagnetic valve 45 provided in the middle portion of the exhaust pipe 43 connected to the lid 12 of the supply unit 11 are fixed. The opening and closing states are controlled so as to be opposite to each other in a cycle, and the fine particles 2 in the mixing chamber 102 are further disturbed by the pressure difference due to these opening and closing operations. At this time, the displacement control valve 2
When the amount of exhaust gas from the inside of the mixing chamber 102 is reduced by 8 to a certain amount, the above-mentioned pressure difference becomes small, and the fine particles 2 are almost constantly injected even if a periodic opening / closing operation is performed.

【0037】一方第2の供給パイプ57によって分流さ
れた圧縮空気は、送り出しパイプ19にストレートに送
り込まれ、その空気流によって負圧となることによって
先端部19a付近に集められた微粒子2が吸い込まれ、
送り出しパイプ19内で圧縮空気と混合される。
On the other hand, the compressed air diverted by the second supply pipe 57 is sent straight to the sending-out pipe 19, and a negative pressure is generated by the air flow, so that the fine particles 2 collected near the tip portion 19a are sucked in. ,
In the delivery pipe 19, it is mixed with compressed air.

【0038】そして、この圧縮空気と微粒子の混合物が
送り出しパイプ19及び20を通ってノズル20aより
噴射され、被酸化物36の被酸化面に吹きつけられて酸
化が行われる。使用済みの微粒子は、返送パイプ40、
41を介して供給部11に戻され、再使用に供される。
Then, this mixture of compressed air and fine particles is jetted from the nozzle 20a through the delivery pipes 19 and 20, and is sprayed on the surface to be oxidized of the oxide 36 to be oxidized. The used fine particles are the return pipe 40,
It is returned to the supply unit 11 via 41 and reused.

【0039】上述の装置を用いて被酸化物1として金属
を用いてその酸化を行った。このときの被酸化物1の表
面状態の変化を図3A〜Dの各略線的拡大断面図に示
す。
Oxidation was performed using a metal as the oxide 1 using the above-mentioned apparatus. Changes in the surface state of the oxide 1 at this time are shown in the schematic linear enlarged cross-sectional views of FIGS.

【0040】先ず図3Aに示すように、被酸化物1の被
酸化面1S上の酸化を行わない部分にフォトリソグラフ
ィ等の適用によってレジスト3を所要のパターンにパタ
ーニングする。
First, as shown in FIG. 3A, the resist 3 is patterned into a desired pattern by applying photolithography or the like to a portion on the surface 1S to be oxidized of the oxide 1 which is not oxidized.

【0041】そしてこの被酸化物1の被酸化面1Sに上
述の装置によって、粒径が0.1〜5μmの例えば1μ
mで、アルミナ、炭化珪素、炭化ボロン、窒化ボロン等
より成るセラミックス、或いは石英ガラス、ソーダガラ
ス、鉛ガラス等のガラス、或いは鉄、ステンレス、クロ
ム等の金属より成り、被酸化物1に対して、酸化温度以
上の耐熱性を有する材料、例えばこの場合炭化珪素より
成る微粒子2を矢印iで示すように衝撃させる。このと
きの衝撃速度は10〜100m/secの例えば50m
/secとした。微粒子2が当たった被酸化面1Sは酸
化され、同時に微粒子2の衝撃により結晶構造に微小な
乱れが生じて、図3Bに示すように、数百Å〜1000
Å程度の高さのわずかな盛り上がりによる凸部4が形成
される。
On the surface 1S to be oxidized of the oxide 1 to be oxidized by the above-mentioned device, for example, 1 μm having a particle size of 0.1 to 5 μm.
m is ceramics made of alumina, silicon carbide, boron carbide, boron nitride, etc., or glass such as quartz glass, soda glass, lead glass, etc., or metal such as iron, stainless steel, chromium, etc. A material having heat resistance equal to or higher than the oxidation temperature, for example, fine particles 2 made of silicon carbide in this case is bombarded as shown by an arrow i. The impact velocity at this time is 10 to 100 m / sec, for example, 50 m.
/ Sec. Oxidized surface 1S contacted with fine particles 2 is oxidized, and at the same time, microscopic disturbance occurs in the crystal structure due to the impact of fine particles 2, and as shown in FIG. 3B, several hundred Å to 1000
The convex portion 4 is formed by a slight bulge having a height of about Å.

【0042】そして微粒子2の衝撃を続けると、次第に
この凸部4が削られて図3Cに示すように、被酸化面1
Sが平坦化される。
Then, when the impact of the fine particles 2 is continued, the convex portions 4 are gradually scraped off, and as shown in FIG.
S is flattened.

【0043】更に微粒子2の衝撃を続けると、図3Dに
示すように、酸化表面が削られて凹部5が形成されてし
まう。従って、酸化処理は、上述の図3Bまたは図3C
の状態で微粒子2の衝撃を止めることとする。
When the impact of the fine particles 2 is further continued, as shown in FIG. 3D, the oxidized surface is shaved and the recess 5 is formed. Therefore, the oxidation treatment is performed in the above-mentioned FIG. 3B or FIG.
In this state, the impact of the fine particles 2 is stopped.

【0044】またこのとき雰囲気ガスとして空気を用い
たが、例えばN2 、Ar等の不活性ガス中で微粒子2の
衝撃を行ってもよく、またO2 ガスを所要の割合でこの
不活性ガス中に混入し、この混入比を調整することによ
って、容易に酸化膜の膜厚を制御することができる。ま
た、不活性ガスのみの雰囲気中において微粒子の衝突を
行うことによって、被酸化面1Sの汚れを除去しながら
酸化を行うことができる。
Although air was used as the atmosphere gas at this time, the fine particles 2 may be bombarded in an inert gas such as N 2 or Ar, and O 2 gas may be used at a required ratio. It is possible to easily control the film thickness of the oxide film by mixing it in the inside and adjusting the mixing ratio. Further, by colliding the fine particles in the atmosphere of only the inert gas, it is possible to perform the oxidation while removing the dirt on the surface 1S to be oxidized.

【0045】次に、このような方法により被酸化物を酸
化したときの、酸化前と酸化後の表面分析を行った結果
を図4及び図5に示す。各図共に、AES(オージェ電
子分光法)による分析結果で、横軸は被酸化面からの深
さを示す。この場合被酸化物としてNiPを用い、直径
2.5インチの同一のロットから切り出した未処理のN
iPと、酸化処理を行った後のNiPについて測定を行
った。図4及び図5において、実線oは酸素、実線m1
はNi、実線m2 はPの相対強度を示す。図4は未処理
の表面、図5は上述の条件によって、即ち粒径1μmの
炭化珪素より成る微粒子を、50m/secの速度で1
分間衝撃させて酸化処理を行った後の被酸化面を示す。
Next, FIGS. 4 and 5 show the results of surface analysis before and after oxidation of the oxide to be oxidized by such a method. In each of the figures, the analysis results by AES (Auger electron spectroscopy) are shown, and the horizontal axis shows the depth from the surface to be oxidized. In this case, NiP was used as the oxide to be treated, and untreated N cut out from the same lot with a diameter of 2.5 inches was used.
The iP and the NiP after the oxidation treatment were measured. 4 and 5, the solid line o is oxygen, and the solid line m 1
Indicates the relative intensity of Ni, and the solid line m 2 indicates the relative intensity of P. FIG. 4 shows an untreated surface, and FIG. 5 shows the above-mentioned conditions, that is, fine particles of silicon carbide having a particle size of 1 μm, at a speed of 50 m / sec.
The surface to be oxidized after being subjected to an oxidation treatment by being impacted for a minute is shown.

【0046】図4からわかるように、酸化前の被酸化物
試料の表面には、自然発生的に生じる酸化膜が見られる
ものの、ある程度以上の深さになると酸素成分がほとん
ど見られなくなる。これに対し、図5に示す酸化処理後
の被酸化物は、酸素成分がかなりの深さにまで一定量見
られ、確実に酸化されていることがわかる。
As can be seen from FIG. 4, although a spontaneously-generated oxide film can be seen on the surface of the sample to be oxidized before oxidation, almost no oxygen component can be seen at a certain depth or more. On the other hand, in the oxide to be oxidized after the oxidation treatment shown in FIG. 5, a certain amount of oxygen component is seen up to a considerable depth, and it can be seen that the oxide is certainly oxidized.

【0047】このように、本発明酸化方法によって、被
酸化面に確実に所定の深さまで酸化を行うことができ
る。そしてこのとき、従来方法のように加熱を行わない
ため、室温のままで、酸化することができ、また所要の
マスク層を設けることによって局部的に所要部分のみを
酸化することができる。
As described above, according to the oxidation method of the present invention, the surface to be oxidized can be surely oxidized to a predetermined depth. At this time, since heating is not performed unlike the conventional method, it is possible to oxidize at room temperature, and it is possible to locally oxidize only a required portion by providing a required mask layer.

【0048】尚、本実施例においては、金属より成る被
酸化物に対する酸化処理について説明したが、その他例
えば金属とプラスチックとの低融点材料との複合材料に
対しても、この低融点材料の露出する部分を所要のマス
ク層で覆うなどして、微粒子を衝撃させることによっ
て、所定部分のみを酸化処理することができ、その他種
々の材料の被酸化物に対する酸化方法に本発明を適用す
ることができる。
In the present embodiment, the oxidation treatment of the oxide to be made of the metal has been described. However, the exposure of the low melting point material to other composite materials such as the metal and the low melting point material is also exposed. It is possible to oxidize only a predetermined portion by bombarding fine particles such as by covering the portion to be covered with a required mask layer, and it is possible to apply the present invention to an oxidizing method for oxidization of various other materials. it can.

【0049】また、比較的体積の大きい金属等、熱容量
の大なる被酸化物に対して酸化を行う場合にも、本発明
方法においてはその表面のみを局部的に加熱するため、
比較的短い処理時間で酸化を行うことができる。
Also, when oxidizing an oxide having a large heat capacity, such as a metal having a relatively large volume, only the surface of the oxide is locally heated in the method of the present invention.
Oxidation can be performed in a relatively short processing time.

【0050】更に、被酸化物上に多少の温度差が生じて
いる場合においても、酸化膜厚がほとんど一定で、また
被酸化物が金属試料でその表面に加工歪みや応力がある
場合においても、この部分を集中的に酸化させることな
く、ほぼ一定の膜厚で酸化処理を行うことができる。例
えば従来方法においては、表面から数μm程度の深さに
加工歪みが生じている場合、この部分のみが数μmの深
さにわたって酸化されてしまうが、本発明による酸化方
法においては、このような加工歪みが生じている被酸化
面に対しても、一様な膜厚をもって酸化膜を形成するこ
とができた。
Further, even when there is a slight temperature difference on the oxide, the oxide film thickness is almost constant, and when the oxide is a metal sample and the surface thereof has a processing strain or stress. The oxidation treatment can be performed with a substantially constant film thickness without intensively oxidizing this portion. For example, in the conventional method, when processing strain occurs at a depth of about several μm from the surface, only this portion is oxidized over a depth of several μm. It was possible to form an oxide film with a uniform film thickness even on the surface to be oxidized where processing strain occurred.

【0051】そして、上述の実施例に限ることなく、微
粒子の粒径、衝撃速度、衝撃時間を適切に制御すること
によって、被酸化物の酸化膜の厚さをコントロールする
ことができ、また雰囲気ガス中の酸素濃度を変えること
によっても、この酸化膜の厚さを制御することができ、
従来方法に比して膜厚の制御が簡単で、かつ均一な膜厚
とすることができるという利点を有する。
The thickness of the oxide film to be oxidized can be controlled by properly controlling the particle size of the fine particles, the impact velocity, and the impact time without being limited to the above-mentioned embodiment, and the atmosphere can be controlled. The thickness of this oxide film can also be controlled by changing the oxygen concentration in the gas.
Compared with the conventional method, there is an advantage that the film thickness can be controlled easily and the film thickness can be made uniform.

【0052】[0052]

【発明の効果】上述したように、本発明酸化方法によれ
ば、従来にない全く新規な方法によって、確実に均一な
膜厚の酸化膜を、室温でかつ所要部分のみに局部的に形
成することができる。
As described above, according to the oxidation method of the present invention, an oxide film having a uniform film thickness can be reliably formed locally at a required portion only at a room temperature by a completely new method which has never been used. be able to.

【0053】そして、局部的に酸化処理を行うことがで
きるため、低融点材料との複合材料に対しても酸化処理
を施すことができ、また熱容量の大なる被酸化物に対し
て酸化を行う場合にも、比較的短い処理時間で酸化を行
うことができる。
Since the oxidation treatment can be locally performed, the oxidation treatment can be performed on the composite material with the low melting point material, and the oxide to be oxidized having a large heat capacity can be oxidized. Also in this case, the oxidation can be performed in a relatively short treatment time.

【0054】更に、被酸化物上に多少の温度差が生じて
いる場合においても、酸化膜厚がほとんど一定で、また
被酸化物が金属試料でその表面に加工歪みや応力がある
場合においても、この部分を集中的に酸化させることな
く、ほぼ一定の膜厚で酸化処理を行うことができる。
Further, even when there is a slight temperature difference on the oxide to be oxidized, the oxide film thickness is almost constant, and when the oxide is a metal sample and there is processing strain or stress on its surface. The oxidation treatment can be performed with a substantially constant film thickness without intensively oxidizing this portion.

【0055】また、微粒子の粒径、衝撃速度、衝撃時
間、または雰囲気ガス中の酸素濃度を変えることによっ
て、被酸化物表面の酸化膜の厚さを制御することがで
き、従来方法に比して膜厚の制御が簡単で、かつ均一な
膜厚とすることができるという利点を有する。
Further, the thickness of the oxide film on the surface of the oxide can be controlled by changing the particle size of the fine particles, the impact velocity, the impact time, or the oxygen concentration in the atmosphere gas, which is in comparison with the conventional method. Thus, the film thickness can be easily controlled and the film thickness can be made uniform.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明酸化方法の一例の略線的説明図である。FIG. 1 is a schematic diagram illustrating an example of an oxidation method of the present invention.

【図2】本発明を実施するための装置の一例の略線的構
成図である。
FIG. 2 is a schematic diagram showing an example of an apparatus for carrying out the present invention.

【図3】被酸化物の表面状態の変化を示す略線的断面図
である。
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing a change in the surface state of an oxide to be oxidized.

【図4】酸化処理前の試料のオージェ電子分光法による
分析結果を示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing an analysis result of a sample before oxidation treatment by Auger electron spectroscopy.

【図5】本発明酸化方法による酸化処理後の試料のオー
ジェ電子分光法による分析結果を示す図である。
FIG. 5 is a diagram showing an analysis result by Auger electron spectroscopy of a sample after an oxidation treatment by the oxidation method of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 被酸化物 1S 被酸化面 2 微粒子 1 Oxidized 1S Oxidized surface 2 Fine particles

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 被酸化面に対して、酸化温度以上の耐熱
性を有する微粒子を衝撃させて酸化させることを特徴と
する酸化方法。
1. A method for oxidizing, characterized in that fine particles having heat resistance equal to or higher than an oxidation temperature are bombarded against an oxidized surface to oxidize the surface.
【請求項2】 上記微粒子の粒径を0.1〜5μmとす
ることを特徴とする上記請求項1に記載の酸化方法。
2. The oxidation method according to claim 1, wherein the particle size of the fine particles is 0.1 to 5 μm.
【請求項3】 上記微粒子の衝撃を酸素を含む雰囲気中
で行うことを特徴とする上記請求項1に記載の酸化方
法。
3. The oxidation method according to claim 1, wherein the impact of the fine particles is performed in an atmosphere containing oxygen.
【請求項4】 上記微粒子として酸素原子を含む粒子を
用いることを特徴とする上記請求項1に記載の酸化方
法。
4. The oxidation method according to claim 1, wherein particles containing oxygen atoms are used as the fine particles.
【請求項5】 上記微粒子の衝撃速度を10〜100m
/secとすることを特徴とする上記請求項1に記載の
酸化方法。
5. The impact velocity of the fine particles is 10 to 100 m.
/ Sec is set, The oxidation method of Claim 1 characterized by the above-mentioned.
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