JPH05164709A - 分析装置の光軸調整方法 - Google Patents

分析装置の光軸調整方法

Info

Publication number
JPH05164709A
JPH05164709A JP3327889A JP32788991A JPH05164709A JP H05164709 A JPH05164709 A JP H05164709A JP 3327889 A JP3327889 A JP 3327889A JP 32788991 A JP32788991 A JP 32788991A JP H05164709 A JPH05164709 A JP H05164709A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
optical axis
fluorescent
primary beam
ring
fluorescent plate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP3327889A
Other languages
English (en)
Inventor
Osamu Ishiwatari
統 石渡
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fuji Electric Co Ltd
Original Assignee
Fuji Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Electric Co Ltd filed Critical Fuji Electric Co Ltd
Priority to JP3327889A priority Critical patent/JPH05164709A/ja
Publication of JPH05164709A publication Critical patent/JPH05164709A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】分析計の容易且つ正確な光軸調整方法を得る。 【構成】一次ビームの直径と近似する外径を有するリン
グ状の蛍光体を塗布した蛍光板を用いる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、光,電子,イオンな
どの一次ビームを試料表面に照射して試料からの情報を
検出する分析装置の光軸調整方法に関する。
【0002】
【従来の技術】蛍光体を塗布した蛍光板を用いて光軸を
調整する方法は電子顕微鏡、二次イオン質量分析装置、
X線光電子分光装置、原子間力顕微鏡、オージェ分光装
置などの分析装置において一般的に用いられている。こ
の光軸調整方法は蛍光板に一次ビームを照射し蛍光板に
おける蛍光の輪郭が蛍光板の中心位置にくるように一次
ビームの調整を行うものである。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】電子顕微鏡や二次イオ
ン質量分析装置等においては電子やイオンビームのエネ
ルギを高く且つ高密度にすることができるので蛍光板状
での蛍光の輝度は高く、光軸調整は一般的に容易であ
る。しかしながら半導体レーザや収束の困難なX線など
ではエネルギ密度が比較的低く、特にX線の場合蛍光板
でのビームの輪郭が不明瞭であるため蛍光板を用いて精
度良く光軸調整を行うことは困難であった。図6は従来
の蛍光板による光軸調整の状況を示す原理図である。ビ
ームの輪郭が不明瞭となっている。ここで1は一次ビー
ム源、2は一次ビーム、3は蛍光板、4は蛍光体を示
す。6は蛍光体暗部であり5は蛍光体明部である。
【0004】この発明は上述の点に鑑みてなされ、その
目的は一次ビームを蛍光板に照射したときの蛍光板上で
の蛍光の輝度を利用するようにして分析装置の正確な光
軸調整方法を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】上述の目的はこの発明に
よれば、蛍光板に一次ビームを照射して行う分析装置の
光軸調整方法において、一次ビームの直径と近似する外
径を有するリング状の蛍光体を塗布した蛍光板を用いる
ことにより達成される。
【0006】
【作用】一次ビームの光軸が正しく調整されていない
と、蛍光体であるリングには輝度に偏りを生ずる。リン
グが全体として均一の明るさであるときは光軸が正しく
調整されたことになる。本発明の方法は蛍光の輝度の比
較であるので光軸調整は的確に行われる。
【0007】
【実施例】次にこの発明の実施例を図面に基づいて説明
する。図1はこの発明の実施例に係る蛍光板を光軸調整
方法とともに示す原理図である。図1(a)は一次ビー
ムの光軸に偏りがある場合を示す原理図、図2(b)は
一次ビームの軸が調整された状態を示す原理図である。
蛍光板3にはリング状の蛍光体4が形成されている。一
次ビーム源1より一次ビーム2が蛍光板に照射される。
一次ビームの軸に偏りがある場合には、リング状蛍光体
4に蛍光体明部5と蛍光体暗部6とが発生する(図1
(a))。これに対し一次ビームの軸が正しく調整され
ている場合は、リング状蛍光体4には暗部は発生せず明
部のみとなる(図1(b))。
【0008】図4はX線光電子分光装置を示す配置図で
ある。X線源より発生したX線は超高真空チャンバ内の
試料に照射される。試料から出た光電子はエネルギー分
析器内のアパチャー、静電レンズにより分光されて二次
元検出器に到達する。測定領域はアパチャーを用いて視
野制限される。また光電子は測定領域の静電レンズによ
り光電子像の位置決めがなされる。これは光電子の光軸
調整により行う。この光軸調整は本発明の蛍光板を用い
て容易に行うことができる。蛍光板は二次元検出器の位
置に置かれる。
【0009】図5は光てこ方式の原子間力顕微鏡を示す
原理図である。原子間力顕微鏡は先端曲率半径の小さな
探針を持つ板バネ状のカンチレバー部とこのレバーの変
位を測定する系から構成されている。探針と試料間に作
用する力によりカンチレバーは変位する。レーザ光をそ
のカンチレバーに当てて反射光の位置を感知しカンチレ
バーの変位を検出する。この反射光の光軸調整に本発明
の蛍光板が用いられる。
【0010】蛍光板に対する蛍光体の塗布は以下のよう
にして行われる。蛍光体PI−GI(極光蛍光体,色調
グリーン,大日本塗料KK)を2%のコロジオン液に容
量で1/20の割合で分散させ、次いで100×100
mmの金属板にスクリーン印刷する。
【0011】図2はこの発明の異なる実施例に係る蛍光
板をその光軸調整方法とともに示す原理図である。蛍光
板7にはその中央に貫通孔が設けられ、この貫通孔を通
過したビーム8が試料9に当たる。この蛍光板を用いる
と、一次ビームの光軸調整と試料の測定とを同時に行う
ことができる。図3はこの発明のさらに異なる実施例に
係る蛍光体を示す平面図である。回転板10には種々の
直径のリングが形成されており、回転板10の回転によ
りリングを切り換えて任意のビーム径の光軸調整に対応
することができる。
【0012】
【発明の効果】この発明によれば蛍光板に一次ビームを
照射して行う分析装置の光軸調整方法において、一次ビ
ームの直径と近似する外径を有するリング状の蛍光体を
塗布した蛍光板を用いるので、一次ビームの光軸が正し
く調整されていないと、蛍光体であるリングには輝度に
偏りを生じ、リングが全体として均一の明るさであると
きは光軸が正しく調整される。このようにして分析計の
光軸調整を容易且つ正確に行うことができる、分析装置
の性能を最大限に引き出すことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の実施例に係る蛍光板を光軸調整方法
とともに示す原理図。図1(a)は一次ビームの光軸に
偏りがある場合を示す原理図、図1(b)は一次ビーム
の軸が調整された状態を示す原理図
【図2】この発明の異なる実施例に係る蛍光板をその光
軸調整方法とともに示す原理図
【図3】この発明のさらに異なる実施例に係る蛍光体を
示す平面図
【図4】X線光電子分光装置を示す配置図
【図5】光てこ方式の原子間力顕微鏡を示す原理図
【図6】従来の蛍光板による光軸調整の状況を示す原理
【符号の説明】
1 一次ビーム源 2 一次ピーム 3 蛍光板 4 蛍光体 5 蛍光体明部 6 蛍光体暗部 7 蛍光板 8 貫通孔を通過したビーム 9 試料 10 回転板

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】蛍光板に一次ビームを照射して行う分析装
    置の光軸調整方法において、一次ビームの直径と近似す
    る外径を有するリング状の蛍光体を塗布した蛍光板を用
    いることを特徴とする分析装置の光軸調整方法。
  2. 【請求項2】請求項1記載の光軸調整方法において、蛍
    光板のリング状蛍光体の内側は貫通孔であることを特徴
    とする分析装置の光軸調整方法。
  3. 【請求項3】請求項1記載の光軸調整方法において、分
    析装置はX線光電子分析装置であることを特徴とする分
    析装置の光軸調整方法。
  4. 【請求項4】請求項1記載の光軸調整方法において、分
    析装置は原子間力顕微鏡であることを特徴とする分析装
    置の光軸調整方法。
JP3327889A 1991-12-12 1991-12-12 分析装置の光軸調整方法 Pending JPH05164709A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3327889A JPH05164709A (ja) 1991-12-12 1991-12-12 分析装置の光軸調整方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3327889A JPH05164709A (ja) 1991-12-12 1991-12-12 分析装置の光軸調整方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH05164709A true JPH05164709A (ja) 1993-06-29

Family

ID=18204118

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP3327889A Pending JPH05164709A (ja) 1991-12-12 1991-12-12 分析装置の光軸調整方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH05164709A (ja)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH07325052A (ja) 走査及び高分解能電子分光及び撮像装置
US5008537A (en) Composite apparatus with secondary ion mass spectrometry instrument and scanning electron microscope
US4085329A (en) Hard X-ray and fluorescent X-ray detection of alignment marks for precision mask alignment
Unwin Phase contrast and interference microscopy with the electron microscope
US5591971A (en) Shielding device for improving measurement accuracy and speed in scanning electron microscopy
US20030080292A1 (en) System and method for depth profiling
US4633085A (en) Transmission-type electron microscope
US10937626B2 (en) Holder and charged particle beam apparatus
JPH07110310A (ja) 電子線マイクロアナライザ
JPS62114226A (ja) イオンビ−ム露光装置
JP2000208079A (ja) 電子線の強度分布を測定するピンホ―ル検出器
JP4590590B2 (ja) 位置感度の高い検出器による透過オペレーションに対するsem
JPH05164709A (ja) 分析装置の光軸調整方法
JPH08313244A (ja) 薄膜の膜厚測定方法
US6992287B2 (en) Apparatus and method for image optimization of samples in a scanning electron microscope
JP3266814B2 (ja) 微小部分析装置
JP2000304712A (ja) 電子線分析・観察装置および電子線マイクロアナライザ
US4806754A (en) High luminosity spherical analyzer for charged particles
JP2004178980A (ja) 電子顕微鏡
JP2000329716A (ja) オージェ電子分光装置および深さ方向分析方法
JP3353488B2 (ja) イオン散乱分光装置
JPH0692946B2 (ja) 隔膜表面の構造を検査する方法及び装置
JP3535187B2 (ja) エネルギー分析装置
JP2000097889A (ja) 試料分析方法および試料分析装置
JPH0351881Y2 (ja)