JPH05155146A - 赤外線加熱型感熱転写記録用シート - Google Patents
赤外線加熱型感熱転写記録用シートInfo
- Publication number
- JPH05155146A JPH05155146A JP3324864A JP32486491A JPH05155146A JP H05155146 A JPH05155146 A JP H05155146A JP 3324864 A JP3324864 A JP 3324864A JP 32486491 A JP32486491 A JP 32486491A JP H05155146 A JPH05155146 A JP H05155146A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- butyl
- transfer recording
- hydrogen atom
- infrared absorbing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 赤外線半導体レーザー等の赤外線を加熱手段
とした感熱転写記録に於て、光熱変換物質として特定の
赤外線吸収剤を使用する事により、転写感度が良好で、
高画質の記録物を与える事のできる感熱転写記録シート
を提供する。 【構成】 ベースフィルム上に熱移行性色素及び赤外線
吸収物質を含む層を有し、赤外線を加熱手段とする感熱
転写記録に用いるシートであって、該赤外線吸収物質が
下記一般式（Ｉ） （式中、Ｘ及びＹはそれぞれ水素原子）等を、Ｒ1 は置
換若しくは非置換のアルキル基等を、Ｒ2 及びＲ3 はそ
れぞれ水素原子等を、Ｒ4 及びＲ5 はそれぞれ水素原子
等を、Ｚ- は陰イオンを、ｍは１又は２を表わす。）で
示されるナフトラクタム系化合物である赤外線加熱型感
熱転写記録用シート。
とした感熱転写記録に於て、光熱変換物質として特定の
赤外線吸収剤を使用する事により、転写感度が良好で、
高画質の記録物を与える事のできる感熱転写記録シート
を提供する。 【構成】 ベースフィルム上に熱移行性色素及び赤外線
吸収物質を含む層を有し、赤外線を加熱手段とする感熱
転写記録に用いるシートであって、該赤外線吸収物質が
下記一般式（Ｉ） （式中、Ｘ及びＹはそれぞれ水素原子）等を、Ｒ1 は置
換若しくは非置換のアルキル基等を、Ｒ2 及びＲ3 はそ
れぞれ水素原子等を、Ｒ4 及びＲ5 はそれぞれ水素原子
等を、Ｚ- は陰イオンを、ｍは１又は２を表わす。）で
示されるナフトラクタム系化合物である赤外線加熱型感
熱転写記録用シート。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は感熱転写記録、特に色素
転写型感熱転写記録に使用される感熱転写記録用シート
に関する。
転写型感熱転写記録に使用される感熱転写記録用シート
に関する。
【０００２】
【従来の技術】色素転写型感熱転写記録は、ベースフィ
ルム上に熱移行性の色素を含む色材層を有する感熱転写
シートと、色素受容層を表面に有する受像シートを重ね
合わせ、感熱転写シートを加熱する事により感熱転写シ
ート中の色素を受像シートに転写する事により記録を行
う記録方法である。本記録方法は加熱エネルギーの大き
さにより色素の転写量を制御し、階調表現ができるた
め、ビデオプリンターなどフルカラー画像記録用に応用
されている。
ルム上に熱移行性の色素を含む色材層を有する感熱転写
シートと、色素受容層を表面に有する受像シートを重ね
合わせ、感熱転写シートを加熱する事により感熱転写シ
ート中の色素を受像シートに転写する事により記録を行
う記録方法である。本記録方法は加熱エネルギーの大き
さにより色素の転写量を制御し、階調表現ができるた
め、ビデオプリンターなどフルカラー画像記録用に応用
されている。
【０００３】従来、転写シートの加熱手段としては電気
信号に応じて発熱する発熱抵抗体素子を基板上にライン
状に形成したライン型サーマルヘッドが用いられてい
る。しかし、基板上に多数の発熱抵抗体素子を均一に形
成する事が難しいため大きなサーマルヘッドの製造が難
しく、大画面の画像記録が難しい。又、発熱抵抗体素子
の形成密度にも限界があるため、高解像度を要求される
画像記録にも問題がある。
信号に応じて発熱する発熱抵抗体素子を基板上にライン
状に形成したライン型サーマルヘッドが用いられてい
る。しかし、基板上に多数の発熱抵抗体素子を均一に形
成する事が難しいため大きなサーマルヘッドの製造が難
しく、大画面の画像記録が難しい。又、発熱抵抗体素子
の形成密度にも限界があるため、高解像度を要求される
画像記録にも問題がある。
【０００４】これらのサーマルヘッドの問題を解決する
ために、加熱手段としてレーザー光を利用する事が提案
されている。レーザー光としては特に、小型で高エネル
ギーの得られる半導体レーザーが有利である。現在、半
導体レーザーとしては発信波長が６５０〜８５０ｎｍの
赤〜近赤外領域のものがあるが、７５０〜８５０ｎｍの
近赤外領域のものが主に使用されている。これらの半導
体レーザーを加熱手段として転写シートを加熱するため
には、レーザー光を吸収し、吸収した光を熱エネルギー
に変換する光熱変換物質を転写シート中に含有させる事
が必要である。ここで用いられる光熱変換物質は、転写
シートの記録感度を直接左右し、又、記録画像の画質に
も影響を与えるため非常に重要である。この光熱変換物
質としては次の様な特性が要求される。
ために、加熱手段としてレーザー光を利用する事が提案
されている。レーザー光としては特に、小型で高エネル
ギーの得られる半導体レーザーが有利である。現在、半
導体レーザーとしては発信波長が６５０〜８５０ｎｍの
赤〜近赤外領域のものがあるが、７５０〜８５０ｎｍの
近赤外領域のものが主に使用されている。これらの半導
体レーザーを加熱手段として転写シートを加熱するため
には、レーザー光を吸収し、吸収した光を熱エネルギー
に変換する光熱変換物質を転写シート中に含有させる事
が必要である。ここで用いられる光熱変換物質は、転写
シートの記録感度を直接左右し、又、記録画像の画質に
も影響を与えるため非常に重要である。この光熱変換物
質としては次の様な特性が要求される。
【０００５】・レーザー光の吸収効率が良い事 ・吸収光の熱への変換効率が良い事 ・溶剤、又は水に溶解性、又は分散性が良く塗工液の安
定性が良好で、フィルムに塗工しやすい事 ・転写シートの保存時に安定である事、又一緒に使用さ
れる色素に悪影響を与えない事。
定性が良好で、フィルムに塗工しやすい事 ・転写シートの保存時に安定である事、又一緒に使用さ
れる色素に悪影響を与えない事。
【０００６】・熱移行性がない事、又は色素に比べて非
常に小さい事 この目的の光熱変換物質としては、例えば特開昭６３−
３１９１９１、特開昭５８−１６８８８、特開平２−２
０７４、その他にも多数の物が提案されている。しか
し、これらの物は必ずしも上記の特性を全て満足する物
ではなく、更に良好な物が要望されている。
常に小さい事 この目的の光熱変換物質としては、例えば特開昭６３−
３１９１９１、特開昭５８−１６８８８、特開平２−２
０７４、その他にも多数の物が提案されている。しか
し、これらの物は必ずしも上記の特性を全て満足する物
ではなく、更に良好な物が要望されている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、赤外線半導
体レーザー等の赤外線を加熱手段とした感熱転写記録に
於て、特性の優れた光熱変換物質として特定の構造を有
する赤外線吸収剤を使用する事により、転写感度が良好
で、高画質の記録物を与える事のできる感熱転写記録シ
ートを提供する事を目的とする。
体レーザー等の赤外線を加熱手段とした感熱転写記録に
於て、特性の優れた光熱変換物質として特定の構造を有
する赤外線吸収剤を使用する事により、転写感度が良好
で、高画質の記録物を与える事のできる感熱転写記録シ
ートを提供する事を目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の感熱転写記録用
シートはベースフィルム上に熱移行性色素及び赤外線吸
収物質を含む層を有するものであって、赤外線吸収物質
が下記一般式（Ｉ）
シートはベースフィルム上に熱移行性色素及び赤外線吸
収物質を含む層を有するものであって、赤外線吸収物質
が下記一般式（Ｉ）
【０００９】
【化２】
【００１０】（式中、Ｘ及びＹはそれぞれ水素原子、ハ
ロゲン原子、アルキル基、アシルアミノ基又はアルコキ
シ基を表わし、Ｒ1 は置換若しくは非置換のアルキル
基、シクロアルキル基、アリール基又はアリル基を表わ
し、Ｒ2 及びＲ3 はそれぞれ水素原子、置換若しくは非
置換のアルキル基、アリール基、アリル基又はシクロア
ルキル基を表わし、Ｒ4 及びＲ5 はそれぞれ水素原子、
又はハロゲン原子、アルコキシ基、又はアミノ基を表わ
し、Ｚ- は陰イオンを表わし、ｍは１又は２を表わ
す。）で示されるナフトラクタム系化合物である事を特
徴とするものである。
ロゲン原子、アルキル基、アシルアミノ基又はアルコキ
シ基を表わし、Ｒ1 は置換若しくは非置換のアルキル
基、シクロアルキル基、アリール基又はアリル基を表わ
し、Ｒ2 及びＲ3 はそれぞれ水素原子、置換若しくは非
置換のアルキル基、アリール基、アリル基又はシクロア
ルキル基を表わし、Ｒ4 及びＲ5 はそれぞれ水素原子、
又はハロゲン原子、アルコキシ基、又はアミノ基を表わ
し、Ｚ- は陰イオンを表わし、ｍは１又は２を表わ
す。）で示されるナフトラクタム系化合物である事を特
徴とするものである。
【００１１】以下本発明の内容について詳しく説明す
る。先ず一般式（Ｉ）で表わされる赤外線吸収剤につい
て説明する。前記一般式（Ｉ）で表わされる赤外線吸収
剤の具体的な物としては、以下に示されるものが挙げら
れるが、これらの物は公知の物質であり特開昭６２−１
２４９８８、６２−１３２６８１、６２−２１６７９３
などに記載されている。
る。先ず一般式（Ｉ）で表わされる赤外線吸収剤につい
て説明する。前記一般式（Ｉ）で表わされる赤外線吸収
剤の具体的な物としては、以下に示されるものが挙げら
れるが、これらの物は公知の物質であり特開昭６２−１
２４９８８、６２−１３２６８１、６２−２１６７９３
などに記載されている。
【００１２】これらの化合物は６５０〜９００ｎｍの波
長帯域に極大波長の分子吸光係数が１０4 〜１０5 ｃｍ
-1ｍｏｌ-1の大きな吸収帯を有するため、赤外線レーザ
ー光の吸収効率が良好で又、吸収光の熱交換効率も良好
であることが知られていた。ところで、本発明者らがこ
れらの化合物を該記録用シートの赤外線吸収剤として採
用してみると、感熱転写記録用シートに用いる溶剤に対
する溶解度が大きいため塗工液が調製しやすく、特に色
素に対する悪影響がなく、塗工液、転写シートの保存安
定性も良好であり、更に色素に比べ熱転写性が非常に小
さく、高い熱エネルギーを印加する高速記録に於ても、
それ自身受像紙に転写される事がなく記録画質を劣化さ
せる事もないことを見出して本発明に至った。
長帯域に極大波長の分子吸光係数が１０4 〜１０5 ｃｍ
-1ｍｏｌ-1の大きな吸収帯を有するため、赤外線レーザ
ー光の吸収効率が良好で又、吸収光の熱交換効率も良好
であることが知られていた。ところで、本発明者らがこ
れらの化合物を該記録用シートの赤外線吸収剤として採
用してみると、感熱転写記録用シートに用いる溶剤に対
する溶解度が大きいため塗工液が調製しやすく、特に色
素に対する悪影響がなく、塗工液、転写シートの保存安
定性も良好であり、更に色素に比べ熱転写性が非常に小
さく、高い熱エネルギーを印加する高速記録に於ても、
それ自身受像紙に転写される事がなく記録画質を劣化さ
せる事もないことを見出して本発明に至った。
【００１３】なお、以下の例示においてＲ4 、Ｒ5 、
Ｘ、Ｙの置換位置は下記の番号で表示
Ｘ、Ｙの置換位置は下記の番号で表示
【００１４】
【化３】
【００１５】し、特記ない限りＲ4 は３−ブロモ基を、
又Ｘは７−メチル基をそれぞれ表わし、又Ｒ5 とＹは特
記ない限り水素原子を表わすものとする。Ｒ1 、Ｒ2 、
Ｒ3 については特記ない限りエチル基を表わし、Ｚ- に
ついては特記ない限りＣｌＯ4 - を表わすものとする。
又Ｘは７−メチル基をそれぞれ表わし、又Ｒ5 とＹは特
記ない限り水素原子を表わすものとする。Ｒ1 、Ｒ2 、
Ｒ3 については特記ない限りエチル基を表わし、Ｚ- に
ついては特記ない限りＣｌＯ4 - を表わすものとする。
【００１６】又Ｚ- が下記のチオ−ニッケル系錯体であ
る場合は
る場合は
【００１７】
【化４】
【００１８】単に「Ｎｉ錯体」と表現し、かつ両末端の
ベンゼン環に置換基がある場合、その位置は上記の番号
で表示する。（例えば２−メチル Ｎｉ錯体等） 更に以下の化合物Ｎｏ．２−８１のＺ- をＮｉ−ＳＯ錯
体と表示したが、これは次の構造式の化合物を意味す
る。
ベンゼン環に置換基がある場合、その位置は上記の番号
で表示する。（例えば２−メチル Ｎｉ錯体等） 更に以下の化合物Ｎｏ．２−８１のＺ- をＮｉ−ＳＯ錯
体と表示したが、これは次の構造式の化合物を意味す
る。
【００１９】
【化５】
【００２０】＊頭注 以下の化合物Ｎｏ．１−３４及び
Ｎｏ．２−３４におけるＸ、Ｒ2 、Ｒ3 は置換基Ｘ、Ｙ
が結合すべきベンゼン環を含めた構造が次の場合を表示
するものとする。
Ｎｏ．２−３４におけるＸ、Ｒ2 、Ｒ3 は置換基Ｘ、Ｙ
が結合すべきベンゼン環を含めた構造が次の場合を表示
するものとする。
【００２１】
【化６】
【００２２】
【表１】１ ｍ＝１の場合 化合物Ｎｏ． １−１ Ｒ2 及びＲ3 ：メチル １−２ Ｒ2 及びＲ3 ：ｎ−ブチル １−３ Ｒ2 及びＲ3 ：ｎ−プロピル １−４ Ｒ3 ：ｎ−ブチル １−５ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：メトキシエチル １−６ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：アセチルオキシエ
チル １−７ Ｒ2 ：ｎ−ブチル Ｒ3 ：クロロエチル １−８ Ｒ2 ：ｎ−ブチル Ｒ3 ：メトキシカルボニ
ルオキシエチル １−９ Ｒ2 ：ｎ−ブチル Ｒ3 ：エトキシカルボニ
ルエチル １−１０ Ｒ2 ：ｎ−ブチル Ｒ3 ：シアノエチル １−１１ Ｒ2 ：ｎ−ブチル Ｒ3 ：メトキシエトキシ
エチル １−１２ Ｒ2 ：ｎ−ブチル Ｒ3 ：フェノキシエチル １−１３ 特記なし １−１４ Ｒ4 ：Ｈ、Ｒ2 及びＲ3 ：ｎ−ブチル、
Ｚ- ：Ｉ- １−１５ Ｒ1 ：シアノエチル、Ｒ4 ：Ｈ、Ｚ- ：ＢＦ
4 - １−１６ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：フェニルエチル １−１７ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：ベンジル １−１８ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：ヒドロキシエチル １−１９ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：ｐ−ニトロフェノ
キシエチル １−２０ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：テトラヒドロフル
フリル １−２１ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：ｐ−クロロフェノ
キシエチル １−２２ Ｙ：９−メトキシ １−２３ Ｘ：７−アセトアミド １−２４ Ｘ：７−アセトアミド、Ｙ：９−クロロ １−２５ Ｘ：７−アセトアミド、Ｙ：９−メトキシ １−２６ Ｘ：７−メトキシ、Ｙ：９−メチル １−２７ Ｘ：７−クロロ、Ｒ2 及びＲ3 ：ｎ−ヘキシ
ル １−２８ Ｘ：Ｈ、Ｒ2 及びＲ3 ：ｎ−ブチル １−２９ Ｒ3 ：ジエチルアミノエチル １−３０ Ｒ3 ：アミノエチル
チル １−７ Ｒ2 ：ｎ−ブチル Ｒ3 ：クロロエチル １−８ Ｒ2 ：ｎ−ブチル Ｒ3 ：メトキシカルボニ
ルオキシエチル １−９ Ｒ2 ：ｎ−ブチル Ｒ3 ：エトキシカルボニ
ルエチル １−１０ Ｒ2 ：ｎ−ブチル Ｒ3 ：シアノエチル １−１１ Ｒ2 ：ｎ−ブチル Ｒ3 ：メトキシエトキシ
エチル １−１２ Ｒ2 ：ｎ−ブチル Ｒ3 ：フェノキシエチル １−１３ 特記なし １−１４ Ｒ4 ：Ｈ、Ｒ2 及びＲ3 ：ｎ−ブチル、
Ｚ- ：Ｉ- １−１５ Ｒ1 ：シアノエチル、Ｒ4 ：Ｈ、Ｚ- ：ＢＦ
4 - １−１６ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：フェニルエチル １−１７ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：ベンジル １−１８ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：ヒドロキシエチル １−１９ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：ｐ−ニトロフェノ
キシエチル １−２０ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：テトラヒドロフル
フリル １−２１ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：ｐ−クロロフェノ
キシエチル １−２２ Ｙ：９−メトキシ １−２３ Ｘ：７−アセトアミド １−２４ Ｘ：７−アセトアミド、Ｙ：９−クロロ １−２５ Ｘ：７−アセトアミド、Ｙ：９−メトキシ １−２６ Ｘ：７−メトキシ、Ｙ：９−メチル １−２７ Ｘ：７−クロロ、Ｒ2 及びＲ3 ：ｎ−ヘキシ
ル １−２８ Ｘ：Ｈ、Ｒ2 及びＲ3 ：ｎ−ブチル １−２９ Ｒ3 ：ジエチルアミノエチル １−３０ Ｒ3 ：アミノエチル
【００２３】
【化７】
【００２４】
【表２】１−３２ Ｘ：Ｈ、Ｒ3 ：フェニル、Ｚ- ：Ｂ
ｒ- １−３３ Ｒ3 ：ｐ−メトキシフェニル、Ｚ- ：Ｂｒ- １−３４ Ｘ，Ｒ2 ，Ｒ3 ：＊頭注参照、Ｚ-：Ｂｒ- １−３５ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：シクロヘキシル、
Ｚ- ：Ｂｒ- １−３６ Ｒ2 及びＲ3 ：ｎ−オクチル、Ｚ-：Ｂｒ- １−３７ Ｒ2 ：イソプロピル、Ｚ- ：Ｂｒ- １−３８ Ｘ：アセチルオキシアミノ、Ｚ- ：Ｂｒ- １−３９ Ｘ：７−メチルスルフォニルアミノ、Ｚ- ：
ＢＦ4 - １−４０ Ｒ1 ：ｎ−プロピル、Ｚ- ：ＢＦ4 - １−４１ Ｒ1 ：ｎ−ペンチル、Ｚ- ：ＢＦ4 - １−４２ Ｒ1 ：ベンジル、Ｚ- ：ＢＦ4 - １−４３ Ｒ1 ：フエニル、Ｚ- ：ＢＦ4 - １−４４ Ｒ1 ：メトキシエチル、Ｚ- ：ＢＦ4 - １−４５ Ｒ1 ：メトキシプロピル、Ｚ- ：ＢＦ4 - １−４６ Ｒ1 ：フエニルプロピル、Ｚ- ：ベンゼンス
ルフォン酸アニオン １−４７ Ｒ1 ：フエノキシエチル、Ｚ- ：ベンゼンス
ルフォン酸アニオン １−４８ Ｒ1 ：メトキシエトキシエチル、Ｚ- ：ベン
ゼンスルフォン酸アニオン １−４９ Ｒ1 ：メトキシエトキシエトキシエチル、Ｚ
- ：ベンゼンスルフォン酸アニオン １−５０ Ｒ1 ：アリルオキシエチル、Ｚ- ：ベンゼン
スルフォン酸アニオン １−５１ Ｒ1 ：アリル、Ｚ- ：ベンゼンスルフォン酸
アニオン １−５２ Ｒ1 ：シクロヘキシル、Ｚ- ：ベンゼンスル
フォン酸アニオン １−５３ Ｒ1 ：アリルオキシエチル １−５４ Ｒ1 ：ヒドロキシエチル １−５５ Ｒ1 ：クロロエチル、Ｚ- ：ＳＣＮ- １−５６ Ｒ1 ：テトラヒドロフルフリル、Ｚ- ：ＳＣ
Ｎ- １−５７ Ｒ1 ：シアノエチル、Ｚ- ：ＳＣＮ- １−５８ Ｒ1 ：シアノエチル、Ｒ4 ：Ｈ、Ｚ- ：ＳＣ
Ｎ- １−５９ Ｒ1 ：シアノエチル、Ｒ4 ：３−ジメチルア
ミノ、Ｚ- ：ＳＣＮ- １−６０ Ｒ1 ：シアノエチル、Ｒ4 ：Ｈ、Ｒ2 及びＲ
3 ：ｎ−ブチル １−６１ Ｒ1 ：シアノエチル、Ｒ4 ：Ｈ、Ｒ2 及びＲ
3 ：ｎ−ペンチル １−６２ Ｒ4 ：３−ジメチルアミノ、Ｘ：Ｈ、Ｚ- ：
ｐ−トルエンスルフォン酸アニオン １−６３ Ｒ4 ：３−クロロ、Ｚ- ：ベンゼンスルフォ
ン酸アニオン １−６４ Ｒ5 ：１−ブロモ、 Ｚ- ：１−ナフタレン
スルフォン酸アニオン １−６５ Ｒ4 ：３−メトキシ、Ｚ- ：１−ナフタレン
スルフォン酸アニオン １−６６ Ｒ4 ：３−メチルアミノ、Ｚ- ：１−ナフタ
レンスルフォン酸アニオン １−６７ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：アリル １−６８ Ｙ：９−メトキシ、Ｒ2 及びＲ3 ：ｎ−ブチ
ル、Ｚ- ：１，３−ジメチルＮｉ錯体 １−６９ Ｒ2 及びＲ3 ：ｎ−ブチル、Ｚ- ：２，７−
ジメチルＮｉ錯体 １−７０ Ｒ1 ：シアノエチル、Ｒ4 ：Ｈ、Ｚ- ：２，
７−ジメチルＮｉ錯体 １−７１ Ｒ2 及びＲ3 ：ジメチル、Ｚ- ：２，７−ジ
メチルＮｉ錯体 １−７２ Ｒ2 及びＲ3 ：ｉ−ブチル、Ｚ- ：２，７−
ジメチルＮｉ錯体 １−７３ Ｒ2 及びＲ3 ：ｎ−プロピル、Ｚ-：２，７
−ジメチルＮｉ錯体 １−７４ Ｒ3 ：ｎ−ブチル、Ｚ- ：２，７−ジメチル
Ｎｉ錯体 １−７５ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：メトキシエチル、
Ｚ- ：２，７−ジメチルＮｉ錯体 １−７６ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：アセチルオキシエ
チル、Ｚ- ：２，７−ジメチルＮｉ錯体 １−７７ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：クロロエチル、Ｚ
- ：２，７−ジメチルＮｉ錯体 １−７８ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：メトキシカルボニ
ルオキシエチル、Ｚ- ：２，７−ジメチルＮｉ錯体 １−７９ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：エトキシカルボニ
ルエチル、Ｚ- ：２，７−ジメチルＮｉ錯体
ｒ- １−３３ Ｒ3 ：ｐ−メトキシフェニル、Ｚ- ：Ｂｒ- １−３４ Ｘ，Ｒ2 ，Ｒ3 ：＊頭注参照、Ｚ-：Ｂｒ- １−３５ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：シクロヘキシル、
Ｚ- ：Ｂｒ- １−３６ Ｒ2 及びＲ3 ：ｎ−オクチル、Ｚ-：Ｂｒ- １−３７ Ｒ2 ：イソプロピル、Ｚ- ：Ｂｒ- １−３８ Ｘ：アセチルオキシアミノ、Ｚ- ：Ｂｒ- １−３９ Ｘ：７−メチルスルフォニルアミノ、Ｚ- ：
ＢＦ4 - １−４０ Ｒ1 ：ｎ−プロピル、Ｚ- ：ＢＦ4 - １−４１ Ｒ1 ：ｎ−ペンチル、Ｚ- ：ＢＦ4 - １−４２ Ｒ1 ：ベンジル、Ｚ- ：ＢＦ4 - １−４３ Ｒ1 ：フエニル、Ｚ- ：ＢＦ4 - １−４４ Ｒ1 ：メトキシエチル、Ｚ- ：ＢＦ4 - １−４５ Ｒ1 ：メトキシプロピル、Ｚ- ：ＢＦ4 - １−４６ Ｒ1 ：フエニルプロピル、Ｚ- ：ベンゼンス
ルフォン酸アニオン １−４７ Ｒ1 ：フエノキシエチル、Ｚ- ：ベンゼンス
ルフォン酸アニオン １−４８ Ｒ1 ：メトキシエトキシエチル、Ｚ- ：ベン
ゼンスルフォン酸アニオン １−４９ Ｒ1 ：メトキシエトキシエトキシエチル、Ｚ
- ：ベンゼンスルフォン酸アニオン １−５０ Ｒ1 ：アリルオキシエチル、Ｚ- ：ベンゼン
スルフォン酸アニオン １−５１ Ｒ1 ：アリル、Ｚ- ：ベンゼンスルフォン酸
アニオン １−５２ Ｒ1 ：シクロヘキシル、Ｚ- ：ベンゼンスル
フォン酸アニオン １−５３ Ｒ1 ：アリルオキシエチル １−５４ Ｒ1 ：ヒドロキシエチル １−５５ Ｒ1 ：クロロエチル、Ｚ- ：ＳＣＮ- １−５６ Ｒ1 ：テトラヒドロフルフリル、Ｚ- ：ＳＣ
Ｎ- １−５７ Ｒ1 ：シアノエチル、Ｚ- ：ＳＣＮ- １−５８ Ｒ1 ：シアノエチル、Ｒ4 ：Ｈ、Ｚ- ：ＳＣ
Ｎ- １−５９ Ｒ1 ：シアノエチル、Ｒ4 ：３−ジメチルア
ミノ、Ｚ- ：ＳＣＮ- １−６０ Ｒ1 ：シアノエチル、Ｒ4 ：Ｈ、Ｒ2 及びＲ
3 ：ｎ−ブチル １−６１ Ｒ1 ：シアノエチル、Ｒ4 ：Ｈ、Ｒ2 及びＲ
3 ：ｎ−ペンチル １−６２ Ｒ4 ：３−ジメチルアミノ、Ｘ：Ｈ、Ｚ- ：
ｐ−トルエンスルフォン酸アニオン １−６３ Ｒ4 ：３−クロロ、Ｚ- ：ベンゼンスルフォ
ン酸アニオン １−６４ Ｒ5 ：１−ブロモ、 Ｚ- ：１−ナフタレン
スルフォン酸アニオン １−６５ Ｒ4 ：３−メトキシ、Ｚ- ：１−ナフタレン
スルフォン酸アニオン １−６６ Ｒ4 ：３−メチルアミノ、Ｚ- ：１−ナフタ
レンスルフォン酸アニオン １−６７ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：アリル １−６８ Ｙ：９−メトキシ、Ｒ2 及びＲ3 ：ｎ−ブチ
ル、Ｚ- ：１，３−ジメチルＮｉ錯体 １−６９ Ｒ2 及びＲ3 ：ｎ−ブチル、Ｚ- ：２，７−
ジメチルＮｉ錯体 １−７０ Ｒ1 ：シアノエチル、Ｒ4 ：Ｈ、Ｚ- ：２，
７−ジメチルＮｉ錯体 １−７１ Ｒ2 及びＲ3 ：ジメチル、Ｚ- ：２，７−ジ
メチルＮｉ錯体 １−７２ Ｒ2 及びＲ3 ：ｉ−ブチル、Ｚ- ：２，７−
ジメチルＮｉ錯体 １−７３ Ｒ2 及びＲ3 ：ｎ−プロピル、Ｚ-：２，７
−ジメチルＮｉ錯体 １−７４ Ｒ3 ：ｎ−ブチル、Ｚ- ：２，７−ジメチル
Ｎｉ錯体 １−７５ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：メトキシエチル、
Ｚ- ：２，７−ジメチルＮｉ錯体 １−７６ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：アセチルオキシエ
チル、Ｚ- ：２，７−ジメチルＮｉ錯体 １−７７ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：クロロエチル、Ｚ
- ：２，７−ジメチルＮｉ錯体 １−７８ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：メトキシカルボニ
ルオキシエチル、Ｚ- ：２，７−ジメチルＮｉ錯体 １−７９ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：エトキシカルボニ
ルエチル、Ｚ- ：２，７−ジメチルＮｉ錯体
【００２５】
【表３】２ ｍ＝２の場合（この場合のみ、Ｘは特記な
い限り水素原子を表わすものとする。） ２−１ Ｒ2 及びＲ3 ：メチル ２−２ Ｒ1 ：メトキシエチル、Ｒ4 ：Ｈ、Ｒ3 ：メ
トキシエチル、Ｚ- ：ＢＦ4 - ２−３ Ｒ1 ：シアノエチル、Ｒ4 ：Ｈ、Ｒ2 及びＲ
3 ：メチル、Ｚ- ：ｐ−トルエンスルフォン酸アニオン ２−４ 特記なし ２−５ Ｒ2 及びＲ3 ：ｎ−ブチル ２−６ Ｒ2 及びＲ3 ：ｎ−プロピル ２−７ Ｒ3 ：ｎ−ブチル ２−８ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：メトキシエチル ２−９ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：メトキシカルボニ
ルオキシエチル ２−１０ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：クロロエチル ２−１１ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：メトキシカルボニ
ルオキシエチル ２−１２ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：エトキシカルボニ
ルエチル ２−１３ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：シアノエチル ２−１４ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：メトキシエトキシ
エチル ２−１５ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：フェノキシエチル ２−１６ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：フェニルエチル ２−１７ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：ベンジル ２−１８ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：ヒドロキシエチル ２−１９ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：ｐ−ニトロフェノ
キシエチル ２−２０ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：テトラヒドロフル
フリル ２−２１ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：ｐ−クロロフェノ
キシエチル ２−２２ Ｘ：７−メチル、 ２−２３ Ｘ：７−メチル、Ｒ3 ：メチル ２−２４ Ｘ：７−メチル、Ｒ2 及びＲ3 ：ｎ−ブチル ２−２５ Ｘ：７−アセトアミド、Ｙ：９−メトキシ、
Ｚ- ：Ｉ- ２−２６ Ｘ：７−メトキシ、Ｙ：９−メチル、Ｚ- ：
Ｉ- ２−２７ Ｘ：７−クロロ、Ｒ2 及びＲ3 ：ｎ−ヘキシ
ル、Ｚ- ：Ｉ- ２−２８ Ｒ2 及びＲ3 ：ｎ−ブチル、Ｚ- ：Ｉ- ２−２９ Ｒ3 ：ジエチルアミノエチル、Ｚ- ：Ｉ- ２−３０ Ｒ3 ：アミノエチル、Ｚ- ：Ｉ-
い限り水素原子を表わすものとする。） ２−１ Ｒ2 及びＲ3 ：メチル ２−２ Ｒ1 ：メトキシエチル、Ｒ4 ：Ｈ、Ｒ3 ：メ
トキシエチル、Ｚ- ：ＢＦ4 - ２−３ Ｒ1 ：シアノエチル、Ｒ4 ：Ｈ、Ｒ2 及びＲ
3 ：メチル、Ｚ- ：ｐ−トルエンスルフォン酸アニオン ２−４ 特記なし ２−５ Ｒ2 及びＲ3 ：ｎ−ブチル ２−６ Ｒ2 及びＲ3 ：ｎ−プロピル ２−７ Ｒ3 ：ｎ−ブチル ２−８ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：メトキシエチル ２−９ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：メトキシカルボニ
ルオキシエチル ２−１０ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：クロロエチル ２−１１ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：メトキシカルボニ
ルオキシエチル ２−１２ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：エトキシカルボニ
ルエチル ２−１３ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：シアノエチル ２−１４ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：メトキシエトキシ
エチル ２−１５ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：フェノキシエチル ２−１６ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：フェニルエチル ２−１７ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：ベンジル ２−１８ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：ヒドロキシエチル ２−１９ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：ｐ−ニトロフェノ
キシエチル ２−２０ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：テトラヒドロフル
フリル ２−２１ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：ｐ−クロロフェノ
キシエチル ２−２２ Ｘ：７−メチル、 ２−２３ Ｘ：７−メチル、Ｒ3 ：メチル ２−２４ Ｘ：７−メチル、Ｒ2 及びＲ3 ：ｎ−ブチル ２−２５ Ｘ：７−アセトアミド、Ｙ：９−メトキシ、
Ｚ- ：Ｉ- ２−２６ Ｘ：７−メトキシ、Ｙ：９−メチル、Ｚ- ：
Ｉ- ２−２７ Ｘ：７−クロロ、Ｒ2 及びＲ3 ：ｎ−ヘキシ
ル、Ｚ- ：Ｉ- ２−２８ Ｒ2 及びＲ3 ：ｎ−ブチル、Ｚ- ：Ｉ- ２−２９ Ｒ3 ：ジエチルアミノエチル、Ｚ- ：Ｉ- ２−３０ Ｒ3 ：アミノエチル、Ｚ- ：Ｉ-
【００２６】
【化８】
【００２７】
【表４】２−３２ Ｒ3 ：フエニル、Ｚ- ：Ｂｒ- ２−３３ Ｒ3 ：ｐ−メトキシフェニル、Ｚ- ：Ｂｒ- ２−３４ Ｘ，Ｒ2 ，Ｒ3 ：＊頭注参照、Ｚ-：Ｂｒ- ２−３５ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：シクロヘキシル、
Ｚ- ：Ｂｒ- ２−３６ Ｒ2 及びＲ3 ：ｎ−オクチル、Ｚ-：Ｂｒ- ２−３７ Ｒ3 ：ｉ−プロピル、Ｚ- ：Ｂｒ- ２−３８ Ｘ：７−メトキシカルボニルアミノ、Ｚ- ：
Ｂｒ- ２−３９ Ｘ：７−メチルスルフォニルアミノ、Ｚ- ：
ＢＦ4 - ２−４０ Ｒ1 ：ｎ−プロピル、Ｚ- ：ＢＦ4 - ２−４１ Ｒ1 ：ｎ−ペンチル、Ｚ- ：ＢＦ4 - ２−４２ Ｒ1 ：ベンジル、Ｚ- ：ＢＦ4 - ２−４３ Ｒ1 ：フエニル、Ｚ- ：ＢＦ4 - ２−４４ Ｒ1 ：メトキシエチル、Ｚ- ：ＢＦ4 - ２−４５ Ｒ1 ：メトキシプロピル、Ｚ- ：ＢＦ4 - ２−４６ Ｒ1 ：フエニルプロピル、Ｚ- ：ベンゼンス
ルフォン酸アニオン ２−４７ Ｒ1 ：フエノキシエチル、Ｚ- ：ベンゼンス
ルフォン酸アニオン ２−４８ Ｒ1 ：メトキシエトキシエチル、Ｚ- ：ベン
ゼンスルフォン酸アニオン ２−４９ Ｒ1 ：メトキシエトキシエトキシエチル、Ｚ
- ：ベンゼンスルフォン酸アニオン ２−５０ Ｒ1 ：アリルオキシエチル、Ｚ- ：ベンゼン
スルフォン酸アニオン ２−５１ Ｒ1 ：アリル、Ｚ- ：ベンゼンスルフォン酸
アニオン ２−５２ Ｒ1 ：シクロヘキシル、Ｚ- ：ベンゼンスル
フォン酸アニオン ２−５３ Ｒ1 ：アリルオキシエチル、 ２−５４ Ｒ1 ：ヒドロキシエチル、 ２−５５ Ｒ1 ：クロロエチル、Ｚ- ：ＳＣＮ- ２−５６ Ｒ1 ：テトラヒドロフルフリル、Ｚ- ：ＳＣ
Ｎ- ２−５７ Ｒ1 ：シアノエチル、Ｚ- ：ＳＣＮ- ２−５８ Ｒ1 ：シアノエチル、Ｒ4 ：Ｈ、Ｚ- ：ＳＣ
Ｎ- ２−５９ Ｒ1 ：シアノエチル、Ｒ4 ：３−ジメチルア
ミノ、Ｚ- ：ＳＣＮ- ２−６０ Ｒ1 ：シアノエチル、Ｒ4 ：Ｈ、Ｒ2 及びＲ
3 ：ｎ−ブチル ２−６１ Ｒ1 ：シアノエチル、Ｒ4 ：Ｈ、Ｒ2 及びＲ
3 ：ｎ−ペンチル ２−６２ Ｒ4 ：ジメチルアミノ、Ｚ- ：ｐ−トルエン
スルフォン酸アニオン ２−６３ Ｒ4 ：３−クロロ、Ｚ- ：ベンゼンスルフォ
ン酸アニオン ２−６４ Ｒ5 ：１−ブロモ、Ｚ- ：１−ナフタレンス
ルフォン酸アニオン ２−６５ Ｒ4 ：３−メトキシ、Ｚ- ：１−ナフタレン
スルフォン酸アニオン ２−６６ Ｒ4 ：３−メチルアミノ、Ｚ- ：１−ナフタ
レンスルフォン酸アニオン ２−６７ Ｒ2 及びＲ3 ：メチル、Ｚ- ：Ｎｉ錯体 ２−６８ Ｚ- ：２，７−ジメチルＮｉ錯体 ２−６９ Ｒ2 及びＲ3 ：ｎ−ブチル、Ｚ- ：２，７−
ジメチルＮｉ錯体 ２−７０ Ｒ2 及びＲ3 ：ｎ−ペンチル、Ｚ-：２，７
−ジメチルＮｉ錯体 ２−７１ Ｒ3 ：ｎ−ブチル、Ｚ- ：２，７−ジメチル
Ｎｉ錯体 ２−７２ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：メトキシエチル、
Ｚ- ：２，７−ジメチルＮｉ錯体 ２−７３ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：アセチルオキシエ
チル、Ｚ- ：２，７−ジメチルＮｉ錯体 ２−７４ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：クロロエチル、Ｚ
- ：２，７−ジメチルＮｉ錯体 ２−７５ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：エトキシカルボニ
ルオキシエチル、Ｚ- ：２，３，６，７−テトラクロロ
Ｎｉ錯体 ２−７６ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：エトキシカルボニ
ルエチル、Ｚ- ：２，７−ジクロロＮｉ錯体 ２−７７ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：シアノエチル、Ｚ
- ：２，３，４，５，６，７，−ヘキサクロロＮｉ錯体 ２−７８ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：メトキシエトキシ
エチル、Ｚ- ：２，３，６，７−テトラメチルＮｉ錯体 ２−７９ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：フェノキシエチ
ル、Ｚ- ：２，３，７−トリメチルＮｉ錯体 ２−８０ Ｒ2 ：ｎブチル、Ｒ3 ：フェニルエチル、Ｚ
- ：２，７−ジ−（ジエチルアミノ）Ｎｉ錯体 ２−８１ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ： フェニルエチ
ル、Ｚ- ：Ｎｉ−ＳＯ錯体 ２−８２ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：ヒドロキシエチ
ル、Ｚ- ：２，７−ジメチルＮｉ錯体 ２−８３ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：アリル、Ｚ- ：
２，７−ジクロロＮｉ錯体
Ｚ- ：Ｂｒ- ２−３６ Ｒ2 及びＲ3 ：ｎ−オクチル、Ｚ-：Ｂｒ- ２−３７ Ｒ3 ：ｉ−プロピル、Ｚ- ：Ｂｒ- ２−３８ Ｘ：７−メトキシカルボニルアミノ、Ｚ- ：
Ｂｒ- ２−３９ Ｘ：７−メチルスルフォニルアミノ、Ｚ- ：
ＢＦ4 - ２−４０ Ｒ1 ：ｎ−プロピル、Ｚ- ：ＢＦ4 - ２−４１ Ｒ1 ：ｎ−ペンチル、Ｚ- ：ＢＦ4 - ２−４２ Ｒ1 ：ベンジル、Ｚ- ：ＢＦ4 - ２−４３ Ｒ1 ：フエニル、Ｚ- ：ＢＦ4 - ２−４４ Ｒ1 ：メトキシエチル、Ｚ- ：ＢＦ4 - ２−４５ Ｒ1 ：メトキシプロピル、Ｚ- ：ＢＦ4 - ２−４６ Ｒ1 ：フエニルプロピル、Ｚ- ：ベンゼンス
ルフォン酸アニオン ２−４７ Ｒ1 ：フエノキシエチル、Ｚ- ：ベンゼンス
ルフォン酸アニオン ２−４８ Ｒ1 ：メトキシエトキシエチル、Ｚ- ：ベン
ゼンスルフォン酸アニオン ２−４９ Ｒ1 ：メトキシエトキシエトキシエチル、Ｚ
- ：ベンゼンスルフォン酸アニオン ２−５０ Ｒ1 ：アリルオキシエチル、Ｚ- ：ベンゼン
スルフォン酸アニオン ２−５１ Ｒ1 ：アリル、Ｚ- ：ベンゼンスルフォン酸
アニオン ２−５２ Ｒ1 ：シクロヘキシル、Ｚ- ：ベンゼンスル
フォン酸アニオン ２−５３ Ｒ1 ：アリルオキシエチル、 ２−５４ Ｒ1 ：ヒドロキシエチル、 ２−５５ Ｒ1 ：クロロエチル、Ｚ- ：ＳＣＮ- ２−５６ Ｒ1 ：テトラヒドロフルフリル、Ｚ- ：ＳＣ
Ｎ- ２−５７ Ｒ1 ：シアノエチル、Ｚ- ：ＳＣＮ- ２−５８ Ｒ1 ：シアノエチル、Ｒ4 ：Ｈ、Ｚ- ：ＳＣ
Ｎ- ２−５９ Ｒ1 ：シアノエチル、Ｒ4 ：３−ジメチルア
ミノ、Ｚ- ：ＳＣＮ- ２−６０ Ｒ1 ：シアノエチル、Ｒ4 ：Ｈ、Ｒ2 及びＲ
3 ：ｎ−ブチル ２−６１ Ｒ1 ：シアノエチル、Ｒ4 ：Ｈ、Ｒ2 及びＲ
3 ：ｎ−ペンチル ２−６２ Ｒ4 ：ジメチルアミノ、Ｚ- ：ｐ−トルエン
スルフォン酸アニオン ２−６３ Ｒ4 ：３−クロロ、Ｚ- ：ベンゼンスルフォ
ン酸アニオン ２−６４ Ｒ5 ：１−ブロモ、Ｚ- ：１−ナフタレンス
ルフォン酸アニオン ２−６５ Ｒ4 ：３−メトキシ、Ｚ- ：１−ナフタレン
スルフォン酸アニオン ２−６６ Ｒ4 ：３−メチルアミノ、Ｚ- ：１−ナフタ
レンスルフォン酸アニオン ２−６７ Ｒ2 及びＲ3 ：メチル、Ｚ- ：Ｎｉ錯体 ２−６８ Ｚ- ：２，７−ジメチルＮｉ錯体 ２−６９ Ｒ2 及びＲ3 ：ｎ−ブチル、Ｚ- ：２，７−
ジメチルＮｉ錯体 ２−７０ Ｒ2 及びＲ3 ：ｎ−ペンチル、Ｚ-：２，７
−ジメチルＮｉ錯体 ２−７１ Ｒ3 ：ｎ−ブチル、Ｚ- ：２，７−ジメチル
Ｎｉ錯体 ２−７２ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：メトキシエチル、
Ｚ- ：２，７−ジメチルＮｉ錯体 ２−７３ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：アセチルオキシエ
チル、Ｚ- ：２，７−ジメチルＮｉ錯体 ２−７４ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：クロロエチル、Ｚ
- ：２，７−ジメチルＮｉ錯体 ２−７５ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：エトキシカルボニ
ルオキシエチル、Ｚ- ：２，３，６，７−テトラクロロ
Ｎｉ錯体 ２−７６ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：エトキシカルボニ
ルエチル、Ｚ- ：２，７−ジクロロＮｉ錯体 ２−７７ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：シアノエチル、Ｚ
- ：２，３，４，５，６，７，−ヘキサクロロＮｉ錯体 ２−７８ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：メトキシエトキシ
エチル、Ｚ- ：２，３，６，７−テトラメチルＮｉ錯体 ２−７９ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：フェノキシエチ
ル、Ｚ- ：２，３，７−トリメチルＮｉ錯体 ２−８０ Ｒ2 ：ｎブチル、Ｒ3 ：フェニルエチル、Ｚ
- ：２，７−ジ−（ジエチルアミノ）Ｎｉ錯体 ２−８１ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ： フェニルエチ
ル、Ｚ- ：Ｎｉ−ＳＯ錯体 ２−８２ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：ヒドロキシエチ
ル、Ｚ- ：２，７−ジメチルＮｉ錯体 ２−８３ Ｒ2 ：ｎ−ブチル、Ｒ3 ：アリル、Ｚ- ：
２，７−ジクロロＮｉ錯体
【００２８】次に本発明の転写シートについて説明す
る。本発明の転写シートに於て、上記の赤外線吸収物質
を含む層は、ベースフィルムのいずれの位置に形成され
ても良いが、熱転写性の色素を含む色材層と同じ側に形
成されるのが有利であり、色材層中に色素と混合して用
いるのが更に有利である。赤外線吸収物質を色材層中に
含んだ色材層を形成する場合、赤外線吸収物質を色素及
び結着剤とともに媒体中に溶解あるいは微粒子状に分散
させる事によりインクを調製し、該インクをベースフィ
ルムに塗布、乾燥する事により実施する事ができる。
る。本発明の転写シートに於て、上記の赤外線吸収物質
を含む層は、ベースフィルムのいずれの位置に形成され
ても良いが、熱転写性の色素を含む色材層と同じ側に形
成されるのが有利であり、色材層中に色素と混合して用
いるのが更に有利である。赤外線吸収物質を色材層中に
含んだ色材層を形成する場合、赤外線吸収物質を色素及
び結着剤とともに媒体中に溶解あるいは微粒子状に分散
させる事によりインクを調製し、該インクをベースフィ
ルムに塗布、乾燥する事により実施する事ができる。
【００２９】インクの調製のための結着剤としては、セ
ルロース系、アクリル酸系、澱粉系、エポキシ系などの
水溶性樹脂及びアクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリス
チレン、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテ
ルスルホン、ポリビニルブチラール、エチルセルロー
ス、アセチルセルロース、ポリエステル、ＡＳ樹脂、フ
ェノキシ樹脂などの有機溶剤に可溶性の樹脂を挙げる事
ができる。
ルロース系、アクリル酸系、澱粉系、エポキシ系などの
水溶性樹脂及びアクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリス
チレン、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテ
ルスルホン、ポリビニルブチラール、エチルセルロー
ス、アセチルセルロース、ポリエステル、ＡＳ樹脂、フ
ェノキシ樹脂などの有機溶剤に可溶性の樹脂を挙げる事
ができる。
【００３０】インク調製のための媒体としては水の他
に、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピ
ルアルコール、イソブチルアルコールなどのアルコール
類、メチルセロソルブ、エチルセロソルブなどのセロソ
ルブ類、トリエン、キシレン、クロロベンゼンなどの芳
香族類、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル類、ア
セントン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、シクロヘキサノンなどのケトン類、塩化メチレン、
クロロホルム、トリクロロエチレンなどの塩素系溶剤、
テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン
などの有機溶剤を挙げる事ができる。
に、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピ
ルアルコール、イソブチルアルコールなどのアルコール
類、メチルセロソルブ、エチルセロソルブなどのセロソ
ルブ類、トリエン、キシレン、クロロベンゼンなどの芳
香族類、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル類、ア
セントン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、シクロヘキサノンなどのケトン類、塩化メチレン、
クロロホルム、トリクロロエチレンなどの塩素系溶剤、
テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン
などの有機溶剤を挙げる事ができる。
【００３１】熱転写性の色素に関しては、熱の作用によ
り受容層に転写可能な物ならばいずれの物でも良く、従
来のサーマルヘッドでの感熱転写シート用に提案されて
いるアゾ系色素、アントラキノン系色素、アゾメチン系
色素、メチン系色素、インドアニリン系色素、キノフタ
ロン系色素などを使用する事ができる。赤外線吸収剤、
色素及び結着剤の使用量としては、赤外線吸収剤は色素
に対して、１〜２００重量％、好ましくは、１０〜１０
０重量％、色素は結着剤に対して、１０〜５００重量
％、好ましくは、５０〜２００重量％が適当である。
り受容層に転写可能な物ならばいずれの物でも良く、従
来のサーマルヘッドでの感熱転写シート用に提案されて
いるアゾ系色素、アントラキノン系色素、アゾメチン系
色素、メチン系色素、インドアニリン系色素、キノフタ
ロン系色素などを使用する事ができる。赤外線吸収剤、
色素及び結着剤の使用量としては、赤外線吸収剤は色素
に対して、１〜２００重量％、好ましくは、１０〜１０
０重量％、色素は結着剤に対して、１０〜５００重量
％、好ましくは、５０〜２００重量％が適当である。
【００３２】上記のインク中には上記の成分の他に必要
に応じて有機、無機の非昇華性微粒子、分散剤、帯電防
止剤、消泡剤、酸化防止剤、粘度調整剤、離型剤などを
添加する事ができる。色材層の厚さは０．１〜１０μｍ
の範囲が適当であり、好ましくは０．５〜５μｍであ
る。
に応じて有機、無機の非昇華性微粒子、分散剤、帯電防
止剤、消泡剤、酸化防止剤、粘度調整剤、離型剤などを
添加する事ができる。色材層の厚さは０．１〜１０μｍ
の範囲が適当であり、好ましくは０．５〜５μｍであ
る。
【００３３】転写シートのベースフィルムとしては、ポ
リエステル、ポリカーボネート、ボリアミド、ポリイミ
ド、ポリアラミドのような耐熱性の良好な透明プラスチ
ックのフィルムが適しているが、それらの厚さとしては
３〜２００μｍの範囲を挙げる事ができる。上記のベー
スフィルムのうちポリエチレンテレフタレートフィルム
が機械的強度、耐溶剤性、経済性などを考慮すると特に
有利である。
リエステル、ポリカーボネート、ボリアミド、ポリイミ
ド、ポリアラミドのような耐熱性の良好な透明プラスチ
ックのフィルムが適しているが、それらの厚さとしては
３〜２００μｍの範囲を挙げる事ができる。上記のベー
スフィルムのうちポリエチレンテレフタレートフィルム
が機械的強度、耐溶剤性、経済性などを考慮すると特に
有利である。
【００３４】本発明の転写シートは上記の色材層の上
に、更に必要に応じて色素透過性の保護層を形成しても
良い。インクをベースフィルムに塗布する方法として
は、グラビアコーター、リバースロールコーター、ロッ
ドコーター、エアドクタコーターなどを使用して実施す
る事ができる。
に、更に必要に応じて色素透過性の保護層を形成しても
良い。インクをベースフィルムに塗布する方法として
は、グラビアコーター、リバースロールコーター、ロッ
ドコーター、エアドクタコーターなどを使用して実施す
る事ができる。
【００３５】
【実施例】以下実施例により本発明を具体的に説明する
が、かかる実施例は本発明を限定するものではない。
が、かかる実施例は本発明を限定するものではない。
【００３６】実施例１
【表５】 ａ）インクの調整 上記赤外線吸収剤：前記Ｎｏ．２−１の化合物 ２ｇ 色素：１，１，２−トリシアノ−２−（ｐ−エチルブチルアミノ ８ｇ フェニル）エチレン 酢酸セルロース １０ｇ （製品名：Ｌ−３０；ダイセル化学株式会社製品） メチルエチルケトン ８０ｇ ────────────────────────────────── 合 計 １００ｇ 上記組成の混合物をペイントコンディショナーで１０分
間処理し、インクの調製を行った。
間処理し、インクの調製を行った。
【００３７】ｂ）転写シートの作製 上記のインクをワイヤバーを用いてポリエチレンテレフ
タレートフィルム（６μｍ厚）上に塗布、乾燥し（乾燥
膜厚約１μｍ）転写シートを得た。
タレートフィルム（６μｍ厚）上に塗布、乾燥し（乾燥
膜厚約１μｍ）転写シートを得た。
【００３８】ｃ）受像体の作製 塩酢ビ樹脂（製品名：ＶＹＨＤ；ユニオンカーバイド製
品）１０部、アミノ変性シリコーン（製品名：ＫＦ−３
９３；信越化学工業株式会社製品）０．５部，メチルエ
チルケトン１５部、キシレン１５部からなる液を合成紙
（製品名：ユポＦＰＧ１５０；王子油化株式会社製品）
にワイヤーバーで塗布、乾燥し（乾燥膜厚約５μｍ）、
更にオーブン中で８０℃で３０分間処理する事により作
製した。
品）１０部、アミノ変性シリコーン（製品名：ＫＦ−３
９３；信越化学工業株式会社製品）０．５部，メチルエ
チルケトン１５部、キシレン１５部からなる液を合成紙
（製品名：ユポＦＰＧ１５０；王子油化株式会社製品）
にワイヤーバーで塗布、乾燥し（乾燥膜厚約５μｍ）、
更にオーブン中で８０℃で３０分間処理する事により作
製した。
【００３９】ｄ）転写記録 上記転写シートのインク塗布面が受像体の受容層面と接
する様に重ね、直径２５０ｍｍのドラムに受像体がドラ
ムに接する様に巻きつけ（ドラムの内側から真空で吸引
し、更に、転写シートの上に２５μｍ厚のポリエチレン
テレフタレートの透明カバーフィルムを貼りつけ転写シ
ートと受像体が良く密着するようにした）、ドラムを回
転させながら、カバーフィルムの上から発信波長８３０
ｎｍの半導体レーザー光を連続的に照射しながら、以下
の条件で転写記録を実施した。
する様に重ね、直径２５０ｍｍのドラムに受像体がドラ
ムに接する様に巻きつけ（ドラムの内側から真空で吸引
し、更に、転写シートの上に２５μｍ厚のポリエチレン
テレフタレートの透明カバーフィルムを貼りつけ転写シ
ートと受像体が良く密着するようにした）、ドラムを回
転させながら、カバーフィルムの上から発信波長８３０
ｎｍの半導体レーザー光を連続的に照射しながら、以下
の条件で転写記録を実施した。
【００４０】使用機器：松下電器産業（株）製、型番号
ＬＮ９８１００ＰＲ ドラム回転速度：５００ｒｐｍ レーザー光出力：８０ｍＷ レーザー光スポット径：４μｍ 記録ライン密度：１００本／ｍｍ 上記の条件での転写記録により均一で鮮明なマゼンタ色
の記録物を得た。記録物の色濃度をマクベス社製デンシ
トメーターＴＲ−９２７型を用いて測定した結果１．２
０であった。
ＬＮ９８１００ＰＲ ドラム回転速度：５００ｒｐｍ レーザー光出力：８０ｍＷ レーザー光スポット径：４μｍ 記録ライン密度：１００本／ｍｍ 上記の条件での転写記録により均一で鮮明なマゼンタ色
の記録物を得た。記録物の色濃度をマクベス社製デンシ
トメーターＴＲ−９２７型を用いて測定した結果１．２
０であった。
【００４１】実施例２ インクの調製に於て実施例１の色素の代りに、色素：
１，１−ジシアノ−２−（ｐ−ジエチルアミノ−ｏ−メ
チルフェニル）エチレン８ｇを用いたほかは実施例１と
同様の方法によりインクの調製、転写シートの作製、受
像体の作製及び転写記録を行ない色濃度１．３０の均一
で鮮明なイエロー色の記録物を得た。
１，１−ジシアノ−２−（ｐ−ジエチルアミノ−ｏ−メ
チルフェニル）エチレン８ｇを用いたほかは実施例１と
同様の方法によりインクの調製、転写シートの作製、受
像体の作製及び転写記録を行ない色濃度１．３０の均一
で鮮明なイエロー色の記録物を得た。
【００４２】実施例３ インクの調製に於て実施例１の色素の代りに、色素：ｏ
−アセトアミド−Ｎ−（ｐ−ジエチルアミノ−ｏ−メチ
ルフェニル）ｐ−キノンイミン〔アセトアミドはキノン
の酸素原子に結合した炭素原子からみたオルソ位置〕８
ｇを用いたほかは実施例１と同様の方法によりインクの
調製、転写シートの作製、受像体の作製及び転写記録を
行ない色濃度１．１５の均一で鮮明なシアン色の記録物
を得た。
−アセトアミド−Ｎ−（ｐ−ジエチルアミノ−ｏ−メチ
ルフェニル）ｐ−キノンイミン〔アセトアミドはキノン
の酸素原子に結合した炭素原子からみたオルソ位置〕８
ｇを用いたほかは実施例１と同様の方法によりインクの
調製、転写シートの作製、受像体の作製及び転写記録を
行ない色濃度１．１５の均一で鮮明なシアン色の記録物
を得た。
【００４３】実施例４ インクの調製に於て実施例１の成分の他に、更に真球状
シリコン樹脂粒子（平均径２μｍ）を０．２ｇ添加しイ
ンクを調製し、転写シートの作製、受像体の作製及び転
写記録は実施例１と同様の方法で行い、色濃度１．１０
の均一で鮮明なマゼンタ色の記録物を得た。
シリコン樹脂粒子（平均径２μｍ）を０．２ｇ添加しイ
ンクを調製し、転写シートの作製、受像体の作製及び転
写記録は実施例１と同様の方法で行い、色濃度１．１０
の均一で鮮明なマゼンタ色の記録物を得た。
【００４４】実施例５ 実施例１で作製した転写シートの色材層の上に、更にポ
リビニルアルコールの水溶液を塗工し約０．１μｍの保
護層を形成し転写シートを作製した。この転写シートを
用いて、転写記録を実施例１と同様の方法で行い、色濃
度１．０の均一で鮮明なマゼンタ色の記録物を得た。
リビニルアルコールの水溶液を塗工し約０．１μｍの保
護層を形成し転写シートを作製した。この転写シートを
用いて、転写記録を実施例１と同様の方法で行い、色濃
度１．０の均一で鮮明なマゼンタ色の記録物を得た。
【００４５】実施例６ インクの調製に於て実施例１の赤外線吸収剤の代りに、
表１に示す赤外線吸収剤２ｇを用いたほかは実施例１と
同様の方法によりインクの調製、転写シートの作製、受
像体の作製及び転写記録を行ない表１に示す色濃度の鮮
明なマゼンタ色の記録物を得た。
表１に示す赤外線吸収剤２ｇを用いたほかは実施例１と
同様の方法によりインクの調製、転写シートの作製、受
像体の作製及び転写記録を行ない表１に示す色濃度の鮮
明なマゼンタ色の記録物を得た。
【００４６】比較例 インクの調製に於て実施例１の赤外線吸収剤の代りに、
表１に示す赤外線吸収剤２ｇを用いたほかは実施例１と
同様の方法によりインクの調製、転写シートの作製、受
像体の作製及び転写記録を行ない表１に示す結果を得
た。
表１に示す赤外線吸収剤２ｇを用いたほかは実施例１と
同様の方法によりインクの調製、転写シートの作製、受
像体の作製及び転写記録を行ない表１に示す結果を得
た。
【００４７】
【表６】 表 １ 実施例及び 比較例Ｎｏ． 赤外線吸収剤 記録濃度 実施例６−１ 前記Ｎｏ．２−２の化合物 １．１５ 実施例６−２ 前記Ｎｏ．２−３の化合物 １．１２ 実施例６−３ 前記Ｎｏ．２−６７の化合物 １．２５ 実施例６−４ 前記Ｎｏ．１−２５の化合物 １．０５ 実施例６−５ 前記Ｎｏ．１−６９の化合物 １．１０ 実施例６−６ 前記Ｎｏ．２−２７の化合物 １．１５ 実施例６−７ 前記Ｎｏ．２−４３の化合物 １．１５ 実施例６−８ 前記Ｎｏ．２−５１の化合物 １．１５ 実施例６−９ 前記Ｎｏ．２−５２の化合物 １．１７ 実施例６−１０ 前記Ｎｏ．２−３２の化合物 １．１０ 実施例６−１１ 前記Ｎｏ．２−３５の化合物 １．１８ 実施例６−１２ 前記Ｎｏ．２−８３の化合物 １．２１ 実施例６−１３ 前記Ｎｏ．２−６の化合物 １．１８ 実施例６−１４ 前記Ｎｏ．２−５の化合物 １．１６ 実施例６−１５ 前記Ｎｏ．２−２２の化合物 １．１８ 比較例１ なし ＜０．０５ 比較例２ フタロシアニンＰｂ錯体＊１ ０．３５ 比較例３ Ｎｉ−チオ化合物 ＊２ ０．３８ ──────────────────────────────────── ＊１ 特開昭６３−３１９１９１の実施例１に記載の化
合物 ＊２ 同特開昭の実施例３に記載の化合物
合物 ＊２ 同特開昭の実施例３に記載の化合物
【００４８】
【化９】
【００４９】
【発明の作用及び効果】本発明の感熱転写シートを用い
た場合、赤外線レーザーを加熱手段とし、高い濃度の鮮
明な記録物を得る事ができる。
た場合、赤外線レーザーを加熱手段とし、高い濃度の鮮
明な記録物を得る事ができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 前田 修一 神奈川県横浜市緑区鴨志田町1000番地 三 菱化成株式会社総合研究所内
Claims (1)
- 【請求項１】 ベースフィルム上に熱移行性色素及び赤
外線吸収物質を含む層を有し、赤外線を加熱手段とする
感熱転写記録に用いるシートであって、該赤外線吸収物
質が下記一般式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ｘ及びＹはそれぞれ水素原子、ハロゲン原子、
アルキル基、アシルアミノ基又はアルコキシ基を表わ
し、Ｒ1 は置換若しくは非置換のアルキル基、シクロア
ルキル基、アリール基又はアリル基を表わし、Ｒ2 及び
Ｒ3 はそれぞれ水素原子、置換若しくは非置換のアルキ
ル基、アリール基、アリル基又はシクロアルキル基を表
わし、Ｒ4 及びＲ5 はそれぞれ水素原子、又はハロゲン
原子、アルコキシ基、又はアミノ基を表わし、Ｚ- は陰
イオンを表わし、ｍは１又は２を表わす。）で示される
ナフトラクタム系化合物であることを特徴とする赤外線
加熱型感熱転写記録用シート。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3324864A JPH05155146A (ja) | 1991-12-09 | 1991-12-09 | 赤外線加熱型感熱転写記録用シート |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3324864A JPH05155146A (ja) | 1991-12-09 | 1991-12-09 | 赤外線加熱型感熱転写記録用シート |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05155146A true JPH05155146A (ja) | 1993-06-22 |
Family
ID=18170500
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3324864A Pending JPH05155146A (ja) | 1991-12-09 | 1991-12-09 | 赤外線加熱型感熱転写記録用シート |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05155146A (ja) |
-
1991
- 1991-12-09 JP JP3324864A patent/JPH05155146A/ja active Pending
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