JPH0515243B2 - - Google Patents
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- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 claims description 23
- 239000000835 fiber Substances 0.000 claims description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 12
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 claims description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical group O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 claims description 3
- 238000007765 extrusion coating Methods 0.000 claims description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 2
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 14
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 8
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 8
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 6
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 6
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 6
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 6
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 4
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 3
- 238000005253 cladding Methods 0.000 description 2
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 2
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000011437 continuous method Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 239000006223 plastic coating Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
- Surface Treatment Of Glass Fibres Or Filaments (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
この発明は、短距離通信や光RANなどに用い
て好適なシリコーン樹脂クラツドフアイバの製造
方法に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of Industrial Application) The present invention relates to a method of manufacturing a silicone resin clad fiber suitable for use in short-range communications, optical RAN, and the like.
(従来技術)
短距離通信や光RAN等に使用される光フアイ
バとしては、必ずしも低損失であることが要求さ
れないためコスト的にも安いプラスチツクフアイ
バが見直されるようになつてきている。この種の
光フアイバとして石英ガラスコア上にシリコーン
樹脂クラツド層を設けた光フアイバにナイロンな
どの熱可塑性樹脂を押出被覆したものである。(Prior Art) As optical fibers used in short-distance communications, optical RAN, etc., low loss is not necessarily required, and therefore plastic fibers, which are inexpensive, are being reconsidered. This type of optical fiber is made by extrusion coating a thermoplastic resin such as nylon onto an optical fiber in which a silicone resin cladding layer is provided on a quartz glass core.
(発明が解決しようとする問題点)
この種の光フアイバによると、クラツド層を形
成するシリコーン樹脂が接着性に乏しいため、高
温下におかれたり、ヒートサイクルがかかるとシ
リコーン樹脂とナイロンとが剥離しフアイバ端面
においてフアイバ先端がナイロン端面より突出す
るといういわゆるつきだし現象が生じる。この現
象を避けるためにシリコーン樹脂表面に接着剤を
塗布してその上にナイロンを押出被覆するという
ことが行われているが接着剤の塗布スピードが遅
いため生産性が低い。また接着剤は必ずしも均一
に塗布できないためその上に熱可塑性樹脂を被覆
するとその被覆厚が不均一となつてその固化時に
フアイバに不均一な収縮力をかけることとなり損
失増を発生させる等の問題があつた。(Problems to be Solved by the Invention) According to this type of optical fiber, the silicone resin that forms the cladding layer has poor adhesion, so when exposed to high temperatures or subjected to heat cycles, the silicone resin and nylon bond. A so-called protrusion phenomenon occurs in which the fiber tip protrudes from the nylon end surface at the peeled fiber end surface. In order to avoid this phenomenon, an adhesive is applied to the silicone resin surface and nylon is extrusion coated on the adhesive, but productivity is low because the adhesive application speed is slow. In addition, since adhesives cannot always be applied uniformly, if a thermoplastic resin is coated on top of it, the thickness of the coating will be uneven, and when it solidifies, uneven shrinkage force will be applied to the fiber, resulting in increased loss. It was hot.
(問題点を解決するための手段)
この発明は、以上の観点からシリコーン樹脂と
プラステツク被覆層間の接着を接着剤を用いるこ
となく強固にする方法を提供するもので、シリコ
ーン樹脂表面をドライエツチングすることによ
り、その表面を凹凸にして表面積を増加させ、そ
の上に熱可塑性樹脂を押出被覆するようにしたも
のである。(Means for Solving the Problems) In view of the above, the present invention provides a method for strengthening the adhesion between a silicone resin and a plastic coating layer without using an adhesive. As a result, the surface is made uneven to increase the surface area, and a thermoplastic resin is extruded and coated thereon.
なお、この発明でいうところのドライエツチン
グ法とは、プラズマエツチング、反応性イオンエ
ツチング、反応性イオンビームエツチングなどの
乾式法をいうもので、この方法は弗化水素酸など
の水溶液を用いた浸漬法による場合に生じるコア
ガラスの侵食といつた問題がなく好適である。 The dry etching method referred to in this invention refers to dry methods such as plasma etching, reactive ion etching, and reactive ion beam etching. This method is suitable because it does not cause problems such as erosion of the core glass that occurs when using the method.
以下、この発明方法を図面に基づいて説明す
る。 The method of this invention will be explained below based on the drawings.
図面は、この発明方法に用いられるプラズマエ
ツチング装置を示すもので、まずその構成につい
て説明する。 The drawing shows a plasma etching apparatus used in the method of the present invention, and its configuration will first be explained.
1は送出しドラム、2は送出しドラムから送出
されたシリコーン樹脂クラツドフアイバ、3は円
筒上状のプラズマエツチング部で、高周波コイル
4を収容するとともに、プラズマ発生ガス供給口
5、および真空排気口6を備えている。7,8は
プラズマエツチング部3の上下にプラズマエツチ
ング部3と連通して設けられた小径部。9,10
は、この小径部内に設けられたスリツトで、シリ
コーン樹脂クラツドフアイバ2を通すだけの大き
さの開口を形成し、プラズマエツチング部3内の
減圧を可能にしている。なお、11,12は小径
部7,8に設けられたシーリングガス供給口1
3,14は、小径部9,10に設けられたシーリ
ングガス出口、15はシリコーン樹脂クラツドフ
アイバ用巻取りドラムである。 1 is a delivery drum, 2 is a silicone resin clad fiber sent out from the delivery drum, and 3 is a cylindrical plasma etching part which accommodates a high frequency coil 4, a plasma generating gas supply port 5, and a vacuum exhaust port 6. It is equipped with 7 and 8 are small diameter portions provided above and below the plasma etching portion 3 in communication with the plasma etching portion 3; 9,10
is a slit provided in this small diameter portion to form an opening large enough to pass the silicone resin clad fiber 2 through, thereby making it possible to reduce the pressure within the plasma etched portion 3. Note that 11 and 12 are sealing gas supply ports 1 provided in the small diameter portions 7 and 8.
3 and 14 are sealing gas outlets provided in the small diameter portions 9 and 10, and 15 is a winding drum for the silicone resin clad fiber.
以上の構成において、プラズマエツチング部3
の真空排気口6を排気管を介して真空ポンプ(図
示せず)と接続して強制排気して内部を10〜
10-2Torr程度の減圧に維持する。また高周波コ
イル4に400kHz〜13.65MHz、0.2〜5kWを印加し
てプラズマガス供給口5からのArガスなどの不
活性ガスをイオン化する。一方送り出しドラム1
からプラズマエツチング部3内にシリコーン樹脂
クラツドフアイバ2を送りこむ。かくしてシリコ
ーンクラツドフアイバ2がプラズマエツチング部
3内を通過する間にシリコーン樹脂表面にArイ
オンが衝突して表面のシリコーン樹脂は分解され
凹凸面が形成される。この表面凹凸となつたシリ
コーン樹脂クラツドフアイバ2をドラム15に巻
取る。 In the above configuration, the plasma etching section 3
The vacuum exhaust port 6 of the is connected to a vacuum pump (not shown) via an exhaust pipe and the inside is forcibly evacuated.
Maintain reduced pressure around 10 -2 Torr. Further, 400 kHz to 13.65 MHz and 0.2 to 5 kW are applied to the high frequency coil 4 to ionize inert gas such as Ar gas from the plasma gas supply port 5. On the other hand, delivery drum 1
Then, the silicone resin clad fiber 2 is fed into the plasma etching section 3. Thus, while the silicone clad fiber 2 passes through the plasma etching section 3, Ar ions collide with the silicone resin surface, decomposing the silicone resin on the surface and forming an uneven surface. The silicone resin clad fiber 2 with the uneven surface is wound around a drum 15.
なお次の工程で表面が凹凸になされたシリコー
ン樹脂上に熱可塑性樹脂が押出被覆される。 In the next step, a thermoplastic resin is extruded and coated onto the silicone resin whose surface has been made uneven.
(実施例)
直径150μmの純粋石英ガラスコア上に外径
320μmとなるようにシリコーン樹脂(信越化学
社製商品名RTV103)を塗布硬化させてシリコー
ン樹脂クラツド光フアイバ2となし、プラズマエ
ツチング部3内を線速5m/分で通過させた。な
おその際プラズマエツチング部3内を0.02Torr
に維持し、かく高周波コイル(長さ400mm、径150
mm)4に13.65MHz、600Wを印加するとともにプ
ラズマ発生用ガス供給口5からArガスを3c.c./
分の流量で供給した。プラズマエツチング部3を
通過したシリコーン樹脂クラツドフアイバ2を巻
取りドラム15に巻取つた。次いでこのシリコー
ン樹脂クラツドフアイバ2を押出装置に通しその
上にナイロンを被覆し外径0.6mmとした。かくし
てえられたこの発明方法によるシリコーン樹脂ク
ラツド光フアイバと従来の何ら処理を施すことの
ないフアイバとのシリコーン樹脂とナイロンとの
付着強度を測定したところ本方法のものは0.6
Kg/cm2、従来のものは0.1Kg/cm2であつた。また
この発明方法を線速5m/分で4回繰返したもの
は1Kg/cm2と処理時間の増加とともに付着強度が
増大した。(Example) On a pure silica glass core with a diameter of 150 μm
Silicone resin (trade name: RTV103, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was coated and cured to a thickness of 320 μm to form a silicone resin-clad optical fiber 2, which was passed through the plasma etching section 3 at a linear speed of 5 m/min. At this time, the inside of the plasma etching part 3 is set at 0.02 Torr.
Maintain the high frequency coil (length 400mm, diameter 150mm)
mm) 4 at 13.65MHz and 600W, and Ar gas is supplied from the plasma generation gas supply port 5 at 3c.c./
It was supplied at a flow rate of minutes. The silicone resin clad fiber 2 that had passed through the plasma etching section 3 was wound onto a winding drum 15. Next, this silicone resin clad fiber 2 was passed through an extrusion device and coated with nylon to give an outer diameter of 0.6 mm. When we measured the adhesion strength between the silicone resin and nylon of the silicone resin-clad optical fiber obtained by the method of this invention and the conventional fiber without any treatment, it was 0.6.
Kg/cm 2 , whereas the conventional one was 0.1 Kg/cm 2 . Furthermore, when the method of this invention was repeated four times at a linear velocity of 5 m/min, the bond strength increased to 1 Kg/cm 2 as the treatment time increased.
なお本発明の実施例においては、シリコーン樹
脂クラツド光フアイバをえる工程と、ドライエツ
チング工程とを別工程で行つた場合について説明
したが、石英ガラスロツドを溶融紡糸した直後に
シリコーン樹脂を塗布硬化させ、次いで連続して
シリコーン樹脂表面をドライエツチングする連続
法を採用すればさらに生産性をあげることができ
る。 In the embodiments of the present invention, a case has been described in which the step of obtaining a silicone resin-clad optical fiber and the dry etching step are performed in separate steps. If a continuous method is then adopted in which the surface of the silicone resin is continuously dry etched, productivity can be further increased.
(効果)
この発明方法によると、コアガラスへ影響を与
えることなくシリコーン樹脂表面を凹凸になしう
るためその表面積を増大することが可能となり、
その上に施される熱可塑性樹脂との接着力を高め
ることができ以つて光フアイバ端面におけるつき
だし現象を防止できる。(Effects) According to the method of this invention, the surface of the silicone resin can be made uneven without affecting the core glass, so it is possible to increase the surface area.
It is possible to increase the adhesive force with the thermoplastic resin applied thereon, and to prevent the protrusion phenomenon at the end face of the optical fiber.
図面は、この発明方法に用いられるプラズマエ
ツチング装置の概略図を示す。
図において、3:プラズマエツチング部、4:
高周波コイル、5:プラズマガス供給口。
The drawing shows a schematic diagram of a plasma etching apparatus used in the method of the invention. In the figure, 3: plasma etching part, 4:
High frequency coil, 5: Plasma gas supply port.
Claims (1)
ド層を形成し、このシリコーン樹脂クラツド層表
面をドライエツチングし、その上に熱可塑性樹脂
を押出被覆することを特徴とするシリコーン樹脂
クラツドフアイバの製造方法。1. A method for manufacturing a silicone resin clad fiber, which comprises forming a silicone resin clad layer on a quartz glass core, dry etching the surface of the silicone resin clad layer, and extrusion coating a thermoplastic resin thereon.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60047849A JPS61208005A (en) | 1985-03-11 | 1985-03-11 | Production of silicone resin clad fiber |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60047849A JPS61208005A (en) | 1985-03-11 | 1985-03-11 | Production of silicone resin clad fiber |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61208005A JPS61208005A (en) | 1986-09-16 |
JPH0515243B2 true JPH0515243B2 (en) | 1993-03-01 |
Family
ID=12786812
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60047849A Granted JPS61208005A (en) | 1985-03-11 | 1985-03-11 | Production of silicone resin clad fiber |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61208005A (en) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5243011B2 (en) * | 2007-12-17 | 2013-07-24 | 三菱レイヨン株式会社 | Manufacturing method of plastic optical fiber cable |
US20120006468A1 (en) * | 2010-07-07 | 2012-01-12 | Schlumberger Technology Corporation | Inline plasma treatment of an optical fiber cable structure |
-
1985
- 1985-03-11 JP JP60047849A patent/JPS61208005A/en active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS61208005A (en) | 1986-09-16 |
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