JPH05150251A - Card-shaped liquid crystal recording medium and production thereof - Google Patents
Card-shaped liquid crystal recording medium and production thereofInfo
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- JPH05150251A JPH05150251A JP31787991A JP31787991A JPH05150251A JP H05150251 A JPH05150251 A JP H05150251A JP 31787991 A JP31787991 A JP 31787991A JP 31787991 A JP31787991 A JP 31787991A JP H05150251 A JPH05150251 A JP H05150251A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明はカード型液晶記録媒体、
及び該記録媒体の作製方法に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to a card type liquid crystal recording medium,
And a method for manufacturing the recording medium.
【０００２】[0002]
【従来の技術】樹脂体中に液晶を分散させた情報記録層
を有する画像記録媒体を用い、電圧印加露光により液晶
の配向を変調して画像記録することが提案されている。
このような画像記録は、透明支持体、透明導電層、光導
電層からなる感光体と、樹脂体中に液晶を分散させた情
報記録層、透明導電層、透明支持体からなる記録媒体と
を対向配置し、感光体と記録媒体の透明導電層間に電圧
を印加した状態で感光体側、あるいは記録媒体側から画
像露光すると、光導電層の露光部が導電性になって感光
体と記録媒体の間で放電が生じて情報記録層に強電界が
加わり、その結果、樹脂体中に分散している液晶の配向
が変化し、可視像として記録されるものである。この場
合、樹脂体中に分散される液晶がスメクティック液晶の
場合には特にメモリ性が大きく、電界を取り去っても変
調を受けた配向はそのまま維持され、長期間放置しても
画像読取りが可能である。この可視化像は液晶の等方相
転移付近の温度にまで加熱することにより消去されるの
で、再使用が可能である。2. Description of the Related Art It has been proposed to use an image recording medium having an information recording layer in which a liquid crystal is dispersed in a resin body and modulate the orientation of the liquid crystal by voltage application exposure to record an image.
In such image recording, a photosensitive member including a transparent support, a transparent conductive layer, and a photoconductive layer, and an information recording layer in which liquid crystal is dispersed in a resin body, a transparent conductive layer, and a recording medium including a transparent support are used. When image exposure is performed from the photoconductor side or the recording medium side with a voltage applied between the photoconductor and the transparent conductive layer between the photoconductor and the recording medium, the exposed portions of the photoconductive layer become conductive and the photoconductive layer and the recording medium are exposed. A discharge is generated between them and a strong electric field is applied to the information recording layer, and as a result, the orientation of the liquid crystal dispersed in the resin body changes, and a visible image is recorded. In this case, particularly when the liquid crystal dispersed in the resin body is a smectic liquid crystal, the memory property is particularly large, the modulated orientation is maintained even if the electric field is removed, and the image can be read even if left for a long time. is there. This visualized image is erased by heating it to a temperature near the isotropic phase transition of the liquid crystal, so that it can be reused.
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】このような液晶を用い
た記録媒体において感光体と対向させて電圧印加露光に
より情報記録層に記録した場合、情報記録層表面に液晶
の滲み出し現象が起こり、情報記録に際してノイズにな
るという問題があり、また感光体と記録媒体との間隔を
一定に保持するのが困難であるという問題がある。When a recording medium using such a liquid crystal is recorded on the information recording layer by voltage application exposure while facing the photoconductor, a bleeding phenomenon of the liquid crystal occurs on the surface of the information recording layer, There is a problem that noise is generated during information recording, and it is difficult to maintain a constant distance between the photoconductor and the recording medium.
【０００４】ところで、液晶記録媒体は光学的に容易に
読み取りができるのでカードとして利用するのに適して
いるが、その場合には感光体と液晶記録媒体とを一体に
形成して両者の間隔を固定してしまうのが望ましい。し
かし、このようなカード型液晶記録媒体とした場合に
は、情報記録層上に透明電極等を形成する必要がある
が、樹脂体中に液晶を分散させた情報記録層は柔らか
く、このような情報記録層上への電極形成は困難である
とともに、傷つき易く、また前述の液晶の滲み出しも問
題になる。特にカードのように人手に触れるなど過酷な
環境下に置かれる場合は傷の発生や変形が生じ易く、こ
れがノイズとなってデータの信頼性に影響するので、カ
ードとして使用するためには、このようなノイズ原因の
除去は極めて重要である。By the way, the liquid crystal recording medium is suitable for use as a card because it can be optically read easily. In that case, the photosensitive member and the liquid crystal recording medium are integrally formed so that the distance between them can be reduced. It is desirable to fix it. However, in the case of such a card type liquid crystal recording medium, it is necessary to form a transparent electrode or the like on the information recording layer, but the information recording layer in which the liquid crystal is dispersed in the resin body is soft and It is difficult to form electrodes on the information recording layer, they are easily scratched, and the exudation of the liquid crystal described above poses a problem. Especially when placed in a harsh environment such as touching with a hand like a card, scratches and deformation easily occur, and this becomes noise and affects the reliability of the data. The removal of such noise sources is extremely important.
【０００５】本発明は上記課題を解決するためのもの
で、液晶の滲み出し、電極のひび割れ、傷、変形等の発
生を防止可能なカード型液晶記録媒体及び該記録媒体の
作製方法を提供することを目的とする。The present invention is intended to solve the above problems, and provides a card type liquid crystal recording medium capable of preventing the exudation of liquid crystal, the cracking of electrodes, the generation of scratches, the deformation and the like, and a method for producing the recording medium. The purpose is to
【０００６】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明のカード型液晶記
録媒体は、透明基板上に、順次、複数の帯状透明電極か
らなるエリア選択電極、光導電層、透明絶縁層、樹脂体
中に液晶相を分散固定した情報記録層、透明共通電極が
積層されたことを特徴とする。また、本発明のカード型
液晶記録媒体は、情報記録層を形成する樹脂が紫外線硬
化型樹脂であること、透明基板にはスルーホール電極が
形成され、エリア選択電極、透明共通電極はスルーホー
ル電極を通して透明基板裏面側へ接続されていることを
特徴とする。A card type liquid crystal recording medium of the present invention comprises a transparent substrate, an area selection electrode consisting of a plurality of strip-shaped transparent electrodes, a photoconductive layer, a transparent insulating layer, and a liquid crystal in a resin body. An information recording layer in which phases are dispersed and fixed, and a transparent common electrode are laminated. Further, in the card-type liquid crystal recording medium of the present invention, the resin forming the information recording layer is an ultraviolet curable resin, through-hole electrodes are formed on the transparent substrate, and area selection electrodes and transparent common electrodes are through-hole electrodes. It is characterized in that it is connected to the back surface side of the transparent substrate through.
【０００７】本発明のカード型液晶記録媒体の作製方法
は、カード状透明基板の対向する２辺の一方の辺に沿っ
て複数の、他方の辺に沿って少なくとも１つ以上のスル
ーホール電極を形成する段階、一方の辺に沿う複数のス
ルーホール電極をそれぞれ覆うとともに、他方の辺に向
かって延びる複数の帯状透明電極からなるエリア選択電
極を透明基板の表面側に形成する段階、エリア選択電極
を覆って全面に光導電層、透明絶縁層、樹脂体中に液晶
相を分散固定した情報記録層を順次積層する段階、前記
他方の辺に沿うスルーホール電極上の各層を除去して該
スルーホール電極を露出させる段階、露出したスルーホ
ール電極を含んで表面側全面に透明共通電極を形成する
とともに、該透明共通電極上に保護層を形成する段階か
らなり、透明基板裏面側に露出したスルーホール電極よ
りエリア選択電極、透明共通電極を取り出すようにした
ことを特徴とする。According to the method for producing a card type liquid crystal recording medium of the present invention, a plurality of through-hole electrodes are provided along one of two opposing sides of the card-shaped transparent substrate and at least one through-hole electrode is provided along the other side. Forming step, covering the plurality of through-hole electrodes along one side, and forming an area selection electrode consisting of a plurality of band-shaped transparent electrodes extending toward the other side on the surface side of the transparent substrate, area selection electrode A step of sequentially laminating a photoconductive layer, a transparent insulating layer, and an information recording layer in which a liquid crystal phase is dispersed and fixed in a resin body on the entire surface, and removing each layer on the through-hole electrode along the other side to remove the through layer. The transparent substrate includes a step of exposing the hole electrode, a step of forming a transparent common electrode on the entire front surface side including the exposed through-hole electrode, and a step of forming a protective layer on the transparent common electrode. Through-hole electrodes from the area selection electrode exposed on the side, characterized in that they were taken out of the transparent common electrode.
【０００８】また、本発明のカード型液晶記録媒体の作
製方法は、スルーホール電極の形成は、透明基板の対向
する一方の辺に沿う複数領域を除いてパターン状にレジ
スト印刷する段階、前記複数領域内に孔開け加工する段
階、スルーホールメッキする段階からなること、エリア
選択電極の形成は、前記他方の辺に沿うスルーホール電
極を含む帯状領域を除いてレジスト印刷する段階、全面
にＩＴＯをスパッタリングする段階、レジスト除去する
段階からなること、透明基板裏面にハードコート層を設
ける段階を含むこと、さらに、透明基板裏面側を覆う保
護フィルムを貼付したことを特徴とする。According to the method of manufacturing a card type liquid crystal recording medium of the present invention, the through-hole electrodes are formed by resist printing in a pattern except for a plurality of regions along one side of the transparent substrate, The step of forming a hole in the area and the step of through-hole plating, the area selection electrode is formed by resist printing except for the strip-shaped area including the through-hole electrode along the other side, and ITO is formed on the entire surface. The method is characterized by comprising a step of sputtering and a step of removing the resist, a step of providing a hard coat layer on the back surface of the transparent substrate, and a protective film attached to cover the back surface side of the transparent substrate.
【０００９】[0009]
【作用】本発明は、樹脂体中に液晶相を分散固定した情
報記録層を含む記録媒体と感光体とをカード状にして一
体形成することにより、液晶の滲み出し等がなく、スペ
ーサを省略するとともに、透明基板上にエリア選択電極
を、情報記録層上に透明共通電極を形成し、各電極をス
ルーホール電極を通して透明基板裏面側から取り出せる
ようにしたので、カード型記録媒体の情報記録層上に形
成した透明電極を傷つけることがなく、また変形を生ず
ることを防止することができ、カードとしての使用に十
分耐えることが可能となる。In the present invention, the recording medium including the information recording layer in which the liquid crystal phase is dispersed and fixed in the resin body and the photosensitive member are integrally formed in the form of a card so that the liquid crystal does not seep out and the spacer is omitted. In addition, the area selection electrode is formed on the transparent substrate and the transparent common electrode is formed on the information recording layer so that each electrode can be taken out from the back side of the transparent substrate through the through-hole electrode. It is possible to prevent the transparent electrode formed above from being damaged and prevent the transparent electrode from being deformed, and it is possible to sufficiently endure the use as a card.
【００１０】[0010]
【実施例】まず、図１により本発明のカード型液晶記録
媒体の基本的構成について説明する。図１（ａ）は平面
図、図１（ｂ）は図１（ａ）のＡ−Ａ断面図であり、１
は透明基板、２はエリア選択電極（ＩＴＯ電極）、３は
光導電層、３ａは電荷発生層、３ｂは電荷輸送層、５は
透明絶縁層、６は情報記録層、７は透明共通電極（ＩＴ
Ｏ電極）、８は保護層である。First, the basic structure of a card type liquid crystal recording medium of the present invention will be described with reference to FIG. 1A is a plan view, and FIG. 1B is a sectional view taken along the line AA of FIG.
Is a transparent substrate, 2 is an area selection electrode (ITO electrode), 3 is a photoconductive layer, 3a is a charge generation layer, 3b is a charge transport layer, 5 is a transparent insulating layer, 6 is an information recording layer, and 7 is a transparent common electrode ( IT
O electrodes) and 8 are protective layers.
【００１１】プラスチック、ガラス等からなる透明基板
１上にスパッタ等で全面にＩＴＯを形成し、例えば、塩
化ビニールシート等を用いて帯状に、かつ領域９を露出
させてマスキングし、塩酸と硝酸の混合液でエッチング
して複数の帯状ＩＴＯからなるエリア選択電極２を形成
する。この電極上に領域１０の電極部分が露出するよう
に、順次、電荷発生層３ａ、電荷輸送層３ｂからなる光
導電層３をコーティングした後、透明絶縁層５、情報記
録層６を形成する。領域１０の電極部分の露出は、全面
に各層を形成した後、端部を削りとって行うようにして
もよい。透明絶縁層５は含フッ素ポリマーからなる光導
電層と情報記録層とのバリアであり、電圧ロスを少なく
するために薄く形成し、可能であればない方が望まし
い。次いで、情報記録層６の全面にＩＴＯ電極７を形成
するが、情報記録層は柔らかく、この上に形成されるＩ
ＴＯ電極７は傷つき易いので保護層８を形成する。ITO is formed on the entire surface by sputtering or the like on a transparent substrate 1 made of plastic, glass, etc., and is masked by exposing it to a strip shape using a vinyl chloride sheet, etc. The area selection electrode 2 made of a plurality of strip ITO is formed by etching with the mixed solution. A photoconductive layer 3 including a charge generation layer 3a and a charge transport layer 3b is sequentially coated so that the electrode portion of the region 10 is exposed on this electrode, and then a transparent insulating layer 5 and an information recording layer 6 are formed. The electrode portion of the region 10 may be exposed by forming the layers on the entire surface and then scraping off the end portion. The transparent insulating layer 5 is a barrier between the photoconductive layer made of a fluorine-containing polymer and the information recording layer, and is preferably thinly formed in order to reduce voltage loss. Next, the ITO electrode 7 is formed on the entire surface of the information recording layer 6, but the information recording layer is soft and I formed on the ITO electrode 7.
Since the TO electrode 7 is easily damaged, the protective layer 8 is formed.
【００１２】図１に示す情報記録層６は低分子の液晶材
料を樹脂体中に分散固定させた液晶ー高分子複合膜であ
り、液晶材料としてはスメクチック液晶、ネマチック液
晶、コレステリック液晶あるいはこれらの混合物を使用
することができるが、液晶の配向性を保持し、情報を永
続的に保持させる、所謂、メモリー性の観点からはスメ
クチック液晶を使用するのが好ましい。The information recording layer 6 shown in FIG. 1 is a liquid crystal-polymer composite film in which a low molecular weight liquid crystal material is dispersed and fixed in a resin body, and as the liquid crystal material, a smectic liquid crystal, a nematic liquid crystal, a cholesteric liquid crystal or a liquid crystal material thereof is used. A mixture can be used, but it is preferable to use a smectic liquid crystal from the viewpoint of so-called memory property that retains the orientation of the liquid crystal and permanently retains information.
【００１３】スメクチック液晶としては、液晶性を呈す
る物質の末端基の炭素鎖が長いシアノビフェニル系、シ
アノターフェニル系、フェニルエステル系、更に弗素系
等のスメクチックＡ相を呈する液晶物質、強誘電性液晶
として用いられるスメクチックＣ相を呈する液晶物質、
或いはスメクチックＨ、Ｇ、Ｅ、Ｆ等を呈する液晶物質
等が挙げられる。As the smectic liquid crystal, a liquid crystal substance exhibiting a smectic A phase such as a cyanobiphenyl type, a cyanoterphenyl type, a phenyl ester type having a long carbon chain at the terminal group of a substance exhibiting liquid crystallinity, or a fluorine type, a ferroelectric substance A liquid crystal substance exhibiting a smectic C phase used as a liquid crystal,
Alternatively, a liquid crystal substance exhibiting smectic H, G, E, F or the like can be given.
【００１４】又、ネマチック液晶を使用してもよく、ス
メクチック或いはコレステリック液晶と混合することに
よりメモリー性を向上させることができ、例えば、シッ
フ塩基系、アゾキシ系、アゾ系、安息香酸フェニルエス
テル系、シクロヘキシル酸フェニルエステル系、ビフェ
ニル系、ターフェニル系、フェニルシクロヘキサン系、
フェニルピリジン系、フェニルオキサジン系、多環エタ
ン系、フェニルシクロヘキセン系、シクロヘキシルピリ
ミジン系、フェニル系、トラン系等の公知のネマチック
液晶を使用できる。A nematic liquid crystal may be used, and the memory property can be improved by mixing it with a smectic or cholesteric liquid crystal. For example, a Schiff base type, an azoxy type, an azo type, a benzoic acid phenyl ester type, Cyclohexyl acid phenyl ester type, biphenyl type, terphenyl type, phenylcyclohexane type,
Known nematic liquid crystals such as phenylpyridine type, phenyloxazine type, polycyclic ethane type, phenylcyclohexene type, cyclohexylpyrimidine type, phenyl type and tolan type can be used.
【００１５】尚、液晶材料を選ぶ際には、屈折率の異方
向性の大きい材料の方がコントラストがとれるので好ま
しい。When selecting a liquid crystal material, it is preferable to use a material having a large refractive index anisotropy because the contrast can be obtained.
【００１６】樹脂体としては、液晶材料と共通の溶媒に
相溶性を有する溶媒可溶型の樹脂、例えばメタクリル樹
脂、ポリエステル樹脂、ポリスチレン樹脂、及びこれら
を主体とした共重合体等、或いはモノマー、オリゴマー
の状態で液晶材料と相溶性を有する或いは共通の溶媒に
相溶性を有する放射線硬化型樹脂、例えばアクリル酸エ
ステル、メタクリル酸エステル等、更に熱硬化型樹脂、
例えばエポキシ樹脂、シリコン樹脂等を挙げることがで
きるが、特に紫外線硬化型樹脂を使用すると液晶を多く
含有させても液晶の滲み出し等の現象が抑制され、表面
への液晶の滲み出しによる画像ムラや、情報記録層表面
に積層される透明電極層のひび割れ等の発生による導電
性の低下を防止することができる。As the resin body, a solvent-soluble type resin having compatibility with a solvent common to the liquid crystal material, for example, methacrylic resin, polyester resin, polystyrene resin, and a copolymer mainly composed of these, or a monomer, Radiation-curable resins that are compatible with the liquid crystal material in the state of oligomers or with common solvents, such as acrylic acid esters and methacrylic acid esters, and further thermosetting resins,
For example, epoxy resin, silicone resin, etc. can be mentioned, but especially when an ultraviolet curable resin is used, phenomena such as liquid crystal bleeding are suppressed even if a large amount of liquid crystal is contained, and image unevenness due to liquid crystal bleeding on the surface Also, it is possible to prevent a decrease in conductivity due to cracking or the like of the transparent electrode layer laminated on the surface of the information recording layer.
【００１７】このような紫外線硬化型樹脂としては、モ
ノマー、オリゴマーの状態で、例えばジペンタエリスリ
トールヘキサアクリレート、トリメチロールプロパント
リアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレー
ト、ポリプロピレングリコールジアクリレート、イソシ
アヌール酸（エチレンオキサイド変性）トリアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペ
ンタエリスリトールテトラアクリレート、ネオペンチル
グリコールジアクリレート、ヘキサンジオールジアクリ
レート等の多官能性モノマー或いは多官能性ウレタン
系、エステル系オリゴマー、更にノニルフェノール変性
アクリレート、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン、２−ヒド
ロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート等の単官
能性モノマー或いはオリゴマー等が挙げられる。Examples of such UV-curable resin in the state of monomer or oligomer include, for example, dipentaerythritol hexaacrylate, trimethylolpropane triacrylate, polyethylene glycol diacrylate, polypropylene glycol diacrylate, isocyanuric acid (ethylene oxide modified). ) Polyfunctional monomers such as triacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate, neopentyl glycol diacrylate, hexanediol diacrylate, etc. or polyfunctional urethane-based, ester-based oligomers, further nonylphenol-modified acrylates, N- Monofunctional monomers such as vinyl-2-pyrrolidone and 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, or Oligomer, and the like.
【００１８】紫外線硬化型樹脂を用いて架橋構造とする
ことで、液晶の滲み出しが防止でき、かつスパッタ法等
により直接ＩＴＯ電極を設けることができる。。By forming a crosslinked structure using an ultraviolet curable resin, it is possible to prevent the liquid crystal from seeping out and to directly provide the ITO electrode by a sputtering method or the like. .
【００１９】又、ポリビニルアルコール等と液晶材料を
混合してマイクロカプセル化したものも使用できる。It is also possible to use a mixture of polyvinyl alcohol or the like and a liquid crystal material, which is microencapsulated.
【００２０】液晶材料と樹脂体との混合比は、液晶材料
の含有量が１０重量％〜９０重量％、好ましくは４０重
量％〜８０重量％となるように配合するとよく、１０重
量％未満であると情報記録して液晶相が配向しても透過
性が低く、また９０重量％を越えると液晶の滲み出し等
の現象が生じるので好ましくない。液晶は樹脂中に多く
含有させることにより、コントラスト比を向上させ、動
作電圧を低くすることができる。The mixing ratio of the liquid crystal material and the resin body is preferably such that the content of the liquid crystal material is 10% by weight to 90% by weight, preferably 40% by weight to 80% by weight. Even if information is recorded and the liquid crystal phase is aligned, the transmittance is low, and if it exceeds 90% by weight, phenomena such as liquid crystal bleeding occur, which is not preferable. By including a large amount of liquid crystal in the resin, the contrast ratio can be improved and the operating voltage can be lowered.
【００２１】情報記録層の形成方法は、溶媒可溶型の場
合には樹脂体と液晶材料を溶媒に溶解し、その溶液を光
導電層上又は後述する透明絶縁層上にブレードコータ
ー、ロールコーター、或いはスピンコーター等の一般的
なコーターによりコーティングし、溶媒を乾燥除去して
形成されるが、紫外線硬化型樹脂の場合には更に紫外線
照射して硬化させることにより形成される。必要に応じ
てコーティング適性を上げる或いは表面性を良くするた
めにレベリング剤を添加するとよい。又、コーティング
法により情報記録層を形成することにより、情報記録層
の膜厚を均一に制御することができる。ラミネート法に
よると、溶媒の使用が難しく、又、ギャップの均一性を
得るのが難しい。均一にするにはスペーサを介する必要
がありノイズの原因となるからである。In the case of a solvent-soluble type, the information recording layer is formed by dissolving a resin body and a liquid crystal material in a solvent, and then applying the solution onto a photoconductive layer or a transparent insulating layer described later with a blade coater or a roll coater. Alternatively, it is formed by coating with a general coater such as a spin coater and drying and removing the solvent. In the case of an ultraviolet curable resin, it is formed by further irradiating with an ultraviolet ray to cure it. If necessary, a leveling agent may be added to improve coating suitability or surface properties. Further, by forming the information recording layer by the coating method, the thickness of the information recording layer can be controlled uniformly. According to the laminating method, it is difficult to use a solvent and it is difficult to obtain a uniform gap. This is because it is necessary to interpose a spacer to make it uniform, which causes noise.
【００２２】膜厚は解像性に影響を与えるが、乾燥後膜
厚０．１μｍ〜１０μｍ、好ましくは３μｍ〜８μｍと
すると高解像性を維持しつつ、動作電圧も低くすること
ができる。膜厚が薄すぎると情報記録部のコントラスト
が低く、又、厚すぎると動作電圧が高くなるので好まし
くない。The film thickness affects the resolution, but when the film thickness after drying is 0.1 μm to 10 μm, preferably 3 μm to 8 μm, the operating voltage can be lowered while maintaining high resolution. If the film thickness is too thin, the contrast of the information recording portion will be low, and if it is too thick, the operating voltage will be high, such being undesirable.
【００２３】光導電層３は、光が照射されると照射部分
で光キャリア（電子、正孔）が発生し、それらのキャリ
アが層幅を移動することができる導電性層であり、特に
電界が存在する場合にその効果が顕著である層である。
以下、光導電材料及び光導電層の形成方法について説明
する。The photoconductive layer 3 is a conductive layer in which photocarriers (electrons, holes) are generated in the irradiated portion when light is irradiated, and these carriers can move in the layer width. Is a layer in which the effect is significant when present.
Hereinafter, a method for forming the photoconductive material and the photoconductive layer will be described.
【００２４】（Ａ） シリコン光導電層としては、(1)
シリコン単体、(2) 不純物をドーピングしたもの（Ｂ、
Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｔｌ等をドーピングによりＰ型（ホ
−ル輸送型）にしたもの、Ｐ、Ａｇ、Ｓｂ、Ｂｉ等をド
ーピングによりＮ型（電子輸送型）にしたもの）があ
り、形成方法としては、シランガス、不純物ガスを水素
ガスなどと共に低真空中に導入し（１０-2〜１Torr）、
グロー放電により加熱、或いは加熱しない電極基板上に
堆積して成膜するか、単に加熱した電極基板上に熱化学
的に反応形成するか、或いは固体原料を蒸着、スパッタ
ー法により成膜し、単層、或いは積層で使用する。膜厚
は１〜５０μｍである。(A) As the silicon photoconductive layer, (1)
Silicon simple substance, (2) Impurity-doped (B,
There are P-type (hole transport type) made by doping Al, Ga, In, Tl etc., and N-type (electron transport type) made by doping P, Ag, Sb, Bi etc. As a method, silane gas and impurity gas are introduced into a low vacuum together with hydrogen gas (10 -2 to 1 Torr),
Either depositing a film on an electrode substrate that is heated or not heated by glow discharge to form a film, or simply thermochemically reacting to form a film on a heated electrode substrate, or depositing a solid raw material by vapor deposition or a sputtering method. Used in layers or layers. The film thickness is 1 to 50 μm.
【００２５】（Ｂ）セレン光導電層としては、(1) セレ
ン単体、(2) セレンテルル、(3) ひ素セレン化合物（As
2Se3) 、(4) ひ素セレン化合物＋Te等があり、蒸着、ス
パッター法により作製する。又、これら(1) 〜(4) を組
み合わせ、積層型光導電層としてもよい。膜厚はシリコ
ン光導電層と同様である。(B) Selenium photoconductive layer includes (1) selenium alone, (2) selenium tellurium, (3) arsenic selenium compound (As
2 Se 3 ), (4) Arsenic selenium compound + Te, etc. are available, and are produced by vapor deposition and sputtering. Further, these (1) to (4) may be combined to form a laminated photoconductive layer. The film thickness is similar to that of the silicon photoconductive layer.
【００２６】（Ｃ）硫化カドミウム (CdS ）光導電層と
しては、コーティング、蒸着、スパッタリング法により
作製する。蒸着の場合はCdS の固体粒をタングステンボ
ードにのせ、抵抗加熱により蒸着するか、ＥＢ（エレク
トロンビーム）蒸着により行う。またスパッタリングの
場合はCdS ターゲットを用いてアルゴンプラズマ中で基
板上に堆積させる。この場合、通常はアモルファス状態
でCdS が堆積されるが、スパッタリング条件を選択する
ことにより結晶性の配向膜（膜厚方向に配向）を得るこ
ともできる。コーティングの場合は、CdS 粒子（粒径１
〜１００μｍ）をバインダー中に分散させ、溶媒を添加
して基板上にコーティングするとよい。。The (C) cadmium sulfide (CdS) photoconductive layer is prepared by coating, vapor deposition and sputtering. In the case of vapor deposition, solid particles of CdS are placed on a tungsten board and vapor-deposited by resistance heating or EB (electron beam) vapor deposition. In the case of sputtering, a CdS target is used and deposited on the substrate in argon plasma. In this case, CdS is usually deposited in an amorphous state, but a crystalline orientation film (oriented in the film thickness direction) can be obtained by selecting the sputtering conditions. For coating, CdS particles (particle size 1
˜100 μm) is dispersed in a binder, and a solvent may be added to coat the substrate. .
【００２７】（Ｄ）酸化亜鉛（Zn O）光導電層は、コー
ティング法或いはＣＶＤ法で作製される。コーティング
法としては、ZnS 粒子（粒径１〜１００μｍ）をバイン
ダー中に分散させ、溶媒を添加して基板上にコーティン
グを行って得られる。またＣＶＤ法としては、ジエチル
亜鉛、ジメチル亜鉛等の有機金属と酸素ガスを低真空中
（１０-2〜１Torr）で混合し、加熱した電極基板（１５
０〜４００℃）上で化学反応させ、酸化亜鉛膜として堆
積させる。この場合も膜厚方向に配向した膜が得られ
る。The zinc oxide (ZnO) photoconductive layer (D) is formed by a coating method or a CVD method. As a coating method, ZnS particles (particle diameter 1 to 100 μm) are dispersed in a binder, a solvent is added, and coating is performed on a substrate. As the CVD method, an organic metal such as diethyl zinc or dimethyl zinc and oxygen gas are mixed in a low vacuum (10 -2 to 1 Torr), and the electrode substrate (15) is heated.
(0 to 400 ° C.), and a zinc oxide film is deposited. Also in this case, a film oriented in the film thickness direction can be obtained.
【００２８】（Ｅ）有機光導電層としては、単層系光導
電層、機能分離型光導電層とがある。 （イ）単層系光導電層は、下記の電荷発生物質と電荷輸
送物質の混合物からなっている。The organic photoconductive layer (E) includes a single-layer type photoconductive layer and a function-separated type photoconductive layer. (A) The single-layer photoconductive layer comprises a mixture of the following charge generating substance and charge transporting substance.
【００２９】〈電荷発生物質〉光を吸収して電荷を生じ
易い物質であり、例えば、アゾ系顔料、ジスアゾ系顔
料、トリスアゾ系顔料、フタロシアニン系顔料、ペリレ
ン系顔料、ピリリウム系染料、シアニン系染料、メチン
系染料が使用される。<Charge Generating Substance> A substance which easily absorbs light to generate an electric charge, for example, azo pigment, disazo pigment, trisazo pigment, phthalocyanine pigment, perylene pigment, pyrylium dye, cyanine dye. , Methine dyes are used.
【００３０】〈電荷輸送物質系〉電離した電荷の輸送特
性がよい物質であり、例えばヒドラゾン系、ピラゾリン
系、ポリビニルカルバゾール系、カルバゾール系、スチ
ルベン系、アントラセン系、ナフタレン系、トリジフェ
ニルメタン系、アジン系、アミン系、芳香族アミン系等
がある。<Charge-transporting substance type> A substance having a good property of transporting ionized charges, for example, hydrazone type, pyrazoline type, polyvinylcarbazole type, carbazole type, stilbene type, anthracene type, naphthalene type, tridiphenylmethane type, azine type. , Amine-based, aromatic amine-based, etc.
【００３１】また、電荷発生系物質と電荷輸送系物質に
より錯体を形成させ、電荷移動錯体としてもよい。Further, a charge transfer complex may be formed by forming a complex with a charge generating substance and a charge transporting substance.
【００３２】通常、光導電層は電荷発生物質の光吸収特
性で決まる感光特性を有するが、電荷発生物質と電荷輸
送物質とを混ぜて錯体をつくると、光吸収特性が変わ
り、例えばポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）は紫外域
でしか感ぜず、トリニトロフルオレノン (ＴＮＦ）は４
００ｎｍ波長近傍しか感じないが、ＰＶＫーＴＮＦ錯体
は６５０ｎｍ波長域まで感じるようになる。Usually, the photoconductive layer has photosensitivity determined by the light absorption property of the charge generating substance. However, when the charge generating substance and the charge transporting substance are mixed to form a complex, the light absorbing property is changed, and for example, polyvinylcarbazole ( PVK) can only be detected in the ultraviolet range, and trinitrofluorenone (TNF) is 4
The PVK-TNF complex feels up to the wavelength range of 650 nm, although it feels only near the wavelength of 00 nm.
【００３３】このような単層系光導電層の膜厚は、１０
〜５０μｍが好ましい。The thickness of such a single-layer photoconductive layer is 10
˜50 μm is preferred.
【００３４】（ロ）機能分離型光導電層 電荷発生物質は光を吸収し易いが、光をトラップする性
質があり、一方、電荷輸送物質は電荷の輸送特性はよい
が、光吸収特性はよくない。そのため両者を分離し、そ
れぞれの特性を十分に発揮させようとするものであり、
以下の電荷発生層と電荷輸送層を積層したタイプであ
る。(B) Function-separated type photoconductive layer The charge generating substance easily absorbs light but has a property of trapping light. On the other hand, the charge transporting substance has good charge transporting property but good light absorbing property. Absent. Therefore, it is intended to separate the two and fully exert their respective characteristics.
It is a type in which the following charge generation layer and charge transport layer are laminated.
【００３５】〈電荷発生層〉電荷発生層３ａを形成する
物質としては、例えばアゾ系、ビスアゾ系、トリスアゾ
系、フタロシアニン系、酸性ザンセン染料系、シアニン
系、スチリル色素系、ピリリウム色素系、ペリレン系、
メチン系、ａ-Se 、ａ-Si 、アズレニウム塩系、スクア
リウム塩系等がある。<Charge Generating Layer> As the material for forming the charge generating layer 3a, for example, azo type, bisazo type, trisazo type, phthalocyanine type, acidic xanthene dye type, cyanine type, styryl dye type, pyrylium dye type, perylene type are used. ,
Methine type, a-Se, a-Si, azurenium salt type, squalium salt type and the like are available.
【００３６】〈電荷輸送層〉電荷輸送層３ｂを形成する
物質としては、例えばヒドラゾン系、ピラゾリン系、Ｐ
ＶＫ系、カルバゾール系、オキサゾール系、トリアゾー
ル系、芳香族アミン系、アミン系、トリフェニルメタン
系、多環芳香族化合物系等がある。<Charge Transport Layer> Examples of the substance forming the charge transport layer 3b include hydrazone type, pyrazoline type, and P type.
There are VK type, carbazole type, oxazole type, triazole type, aromatic amine type, amine type, triphenylmethane type, polycyclic aromatic compound type and the like.
【００３７】機能分離型光導電層の作製方法としては、
まず電荷発生物質を溶剤に溶かして電極上に塗布し、次
に電荷輸送層を溶剤に溶かして電荷輸送層に塗布し、電
荷発生層を０．１〜１０μｍ、電荷輸送層を１０〜５０
μｍの膜厚とするとよい。As a method of producing the function-separated photoconductive layer,
First, the charge generating substance is dissolved in a solvent and applied onto the electrode, then the charge transport layer is dissolved in a solvent and applied onto the charge transporting layer, the charge generating layer is 0.1 to 10 μm, and the charge transporting layer is 10 to 50 μm.
The film thickness is preferably μm.
【００３８】なお、単層系、機能分離型の何れの場合に
も、バインダーとしてシリコーン樹脂、スチレン−ブタ
ジエン共重合体樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、飽
和又は不飽和ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹
脂、ポリビニルアセタール樹脂、フェノール樹脂、ポリ
メチルメタアクリレート（ＰＭＭＡ）樹脂、メラミン樹
脂、ポリイミド樹脂等を電荷発生材料と電荷輸送材料各
１部に対し、０．１〜１０部添加して付着し易いように
する。コーティング法としては、ディッピング法、蒸着
法、スパッター法等を使用することができる。In any of the single-layer type and the function-separated type, as a binder, a silicone resin, a styrene-butadiene copolymer resin, an epoxy resin, an acrylic resin, a saturated or unsaturated polyester resin, a polycarbonate resin, a polyvinyl acetal are used. Resin, phenol resin, polymethylmethacrylate (PMMA) resin, melamine resin, polyimide resin or the like is added to 0.1 to 10 parts of each of the charge generating material and the charge transporting material to facilitate adhesion. As the coating method, a dipping method, a vapor deposition method, a sputtering method or the like can be used.
【００３９】透明電極層は、比抵抗値が１０6 Ω・cm以
下であれば、特に材質は限定されず、金属薄膜導電膜、
無機金属酸化物導電膜、四級アンモニウム塩等の有機導
電膜等である。このような電極は支持体上に蒸着、スパ
ッタリング、ＣＶＤ、コーティング、メッキ、ディッピ
ング、電解重合等の方法により形成される。またその膜
厚は電極を構成する材料の電気特性、および情報記録の
際の印加電圧により変化させる必要があるが、例えばＩ
ＴＯ膜では１００〜３０００Å程度である。The transparent electrode layer is not particularly limited in material as long as it has a specific resistance value of 10 6 Ω · cm or less.
Examples thereof include an inorganic metal oxide conductive film and an organic conductive film such as a quaternary ammonium salt. Such an electrode is formed on the support by a method such as vapor deposition, sputtering, CVD, coating, plating, dipping, and electrolytic polymerization. The film thickness needs to be changed depending on the electrical characteristics of the material forming the electrodes and the applied voltage at the time of recording information.
The TO film has a thickness of about 100 to 3000 liters.
【００４０】透明基板１は、カード型液晶記録媒体を強
度的に支持するものであり、情報記録層を支持すること
ができるある程度の強度を有していれば、その材質、厚
みは特に制限がなく、ガラス、プラスチックシート等の
剛体が使用される。なお、透明基板において透明電極層
が設けられる面の他方の面には、必要に応じて反射防止
効果を有する層を積層するか、また反射防止効果を発現
しうる膜厚に透明基板を調整するか、更に両者を組み合
わせることにより反射防止性を付与してもよい。The transparent substrate 1 strongly supports the card type liquid crystal recording medium, and its material and thickness are not particularly limited as long as it has a certain strength capable of supporting the information recording layer. Instead, rigid bodies such as glass and plastic sheets are used. Incidentally, a layer having an antireflection effect is laminated on the other surface of the transparent substrate on which the transparent electrode layer is provided, or the transparent substrate is adjusted to a film thickness capable of exhibiting the antireflection effect. Alternatively, the antireflection property may be imparted by further combining them.
【００４１】透明絶縁層６は、光導電層が溶媒を使用し
て形成される有機感光層の場合に特に適しており、光導
電層と情報記録層の相互作用により液晶が溶出したり、
又液晶の溶媒により光導電材料が溶出することにより画
像ムラが生じるのを防止することを目的として設けられ
るものである。The transparent insulating layer 6 is particularly suitable when the photoconductive layer is an organic photosensitive layer formed by using a solvent, and the liquid crystal is eluted by the interaction between the photoconductive layer and the information recording layer,
Further, it is provided for the purpose of preventing image unevenness due to elution of the photoconductive material by the solvent of the liquid crystal.
【００４２】従って、透明絶縁層は有機光導電層形成材
料、情報記録層形成材料のいずれに対しても相溶性を有
しないことが必要であり、また導電性を有する場合には
空間電荷の拡散が生じ、解像度の劣化が生じることから
絶縁性が要求される。また透明絶縁層は情報記録層にか
かる分配電圧を低下させる、或いは解像性を悪化させる
ので、その膜厚は薄い方が好ましく１μｍ以下とすると
よい。Therefore, it is necessary that the transparent insulating layer is incompatible with both the organic photoconductive layer forming material and the information recording layer forming material, and in the case of having conductivity, diffusion of space charge. Occurs, and the deterioration of resolution occurs, so insulation is required. Further, since the transparent insulating layer lowers the distribution voltage applied to the information recording layer or deteriorates the resolution, it is preferable that the transparent insulating layer has a thin film thickness, preferably 1 μm or less.
【００４３】但し、薄くすることにより、経時的な相互
作用による画像ノイズの発生ばかりでなく、積層塗布す
る時にピンホール等の欠陥による浸透の問題が生じる。
浸透性は積層塗布する材料の固形分比率、溶媒の種類、
粘度により異なることから、積層塗布されるものについ
てその膜厚は適宜設定される。またこれらの問題を防止
するために下記材料を積層して用いることもできる。
又、各層に掛かる電圧分配を考慮した場合、薄膜化と共
に誘電率の高い材料が好ましい。However, the thinning causes not only the generation of image noise due to the interaction over time, but also the problem of penetration due to defects such as pinholes when the layers are coated.
Permeability depends on the solid content ratio of the material to be laminated, the type of solvent,
Since the thickness varies depending on the viscosity, the film thickness of the laminated coating is appropriately set. Further, in order to prevent these problems, the following materials may be laminated and used.
Further, in consideration of voltage distribution applied to each layer, it is preferable to use a material having a thin film and a high dielectric constant.
【００４４】このような透明絶縁層は、無機材料として
SiO2 、TiO2、CeO2、Al2O3 、GeO2、Si3N4 、AlN 、Ti
N 等を使用し、蒸着法、スパッタ法により積層するとよ
く、また有機溶剤に対して相溶性の少ない水溶性樹脂と
してポリビニルアルコール、水系ポリウレタン、水ガラ
ス等の水溶液を使用し、スピンコート法、ブレードコー
ト法、ロールコート法等により積層してもよく、更に塗
布可能な弗素樹脂、例えば環状エーテル構造を有するパ
ーフルオロ樹脂を弗素系溶剤に溶解し、スピンコート法
により塗布するか、またブレードコート法、ロールコー
ト法等により積層してもよい。Such a transparent insulating layer is made of an inorganic material.
SiO 2 , TiO 2 , CeO 2 , Al 2 O 3 , GeO 2 , Si 3 N 4 , AlN, Ti
It is recommended to use N 2 or the like and stack them by a vapor deposition method or a sputtering method.In addition, an aqueous solution of polyvinyl alcohol, water-based polyurethane, water glass or the like may be used as a water-soluble resin having a low compatibility with an organic solvent. They may be laminated by a coating method, a roll coating method or the like, and further, a coatable fluororesin, for example, a perfluororesin having a cyclic ether structure is dissolved in a fluorine-based solvent and applied by a spin coating method, or a blade coating method. Alternatively, they may be laminated by a roll coating method or the like.
【００４５】塗布型の透明絶縁材料を選択する際には、
その溶媒が光導電層を溶解しない、且つ情報記録層を塗
布形成する際に情報記録層を構成する材料に溶解しな
い、或いは塗布する際の溶媒に溶解しないことが必要で
ある。When selecting a coating type transparent insulating material,
It is necessary that the solvent does not dissolve the photoconductive layer, and does not dissolve in the material forming the information recording layer when the information recording layer is formed by coating, or does not dissolve in the solvent used during coating.
【００４６】尚、光導電層が無機材料より形成される場
合には、情報記録層との液晶滲み出し等の相互作用がな
い場合には、透明絶縁層を設ける必要はない。When the photoconductive layer is made of an inorganic material, it is not necessary to provide a transparent insulating layer if there is no interaction such as liquid crystal seepage with the information recording layer.
【００４７】図１に示す構成の記録媒体においては、共
通電極とどのエリア選択電極に電圧を印加するかにより
記憶領域を選択し、ある領域にはカラー画像、他の領域
にはモノクロ画像、また他の領域にはデジィタルデータ
というように領域を選んで情報の書込みができるので、
カードしての利用性を高めることができる。In the recording medium having the structure shown in FIG. 1, a storage area is selected depending on which voltage is applied to the common electrode and which area selection electrode, and a color image is provided in one area, a monochrome image is provided in another area, and In other areas, you can write information by selecting areas like digital data.
The card can be used more effectively.
【００４８】次に、図２、図３により本発明のカード型
液晶記録媒体の作製方法について説明する。図２（ａ）
において、例えば幅５４ｍｍ、長さ８６ｍｍ、厚み１８
８μｍのＰＥＴ基板１１を用意し、その裏面に必要に応
じて基板の傷つき防止のためのハードコート層１２を形
成する。この基板の両面に、図２（ｂ）に示すように、
スクリーン印刷法等によりレジスト１３、１４をパター
ン状に印刷し、基板の表裏両面の両側の縁部には、図２
（ｃ）の平面図に示すように、レジストのない領域１
５、ｌ６を形成し、次いで、領域１５、１６の部分にド
リル、ポンチ、レーザ加工等により、例えば３ｍｍφ程
度の孔を開ける（図２（ｄ））。この状態で両面からス
ルーホールメッキ１８を施した後（図２（ｅ））、レジ
ストを除去してスルーホール電極１９ａ、１９ｂを形成
するとともに、ハードコートを形成した側に必要に応じ
て弱粘着性ポリプロピレンからなる保護フィルム２０を
貼付する（図２（ｆ））。次いで、図２（ｇ）断面図、
図２（ｈ）平面図に示すように、感光層、情報記録層等
を積層する側において、一方のスルーホール電極１９ａ
を覆って帯状にレジスト２１を印刷した後、全面にＩＴ
Ｏをスパッタにより形成する（図２（ｉ））。そして溶
剤で溶かしてレジストを除去し、スルーホール電極１９
ｂに接続された複数の帯状のＩＴＯからなるエリア選択
電極２２を形成する（図３（ｊ））。次いで、エリア選
択電極２２を覆って全面に電荷発生層２３、電荷輸送層
２４をコーティングして光導電層を形成した後、さらに
透明絶縁層２５、情報記録層２６をコーティング形成す
る（図３（ｋ））。次いで、図３（ｍ）平面図で示す領
域２７をジクロルメタン、アセトンで２回程拭き取り、
図３（ｌ）に示すように電極１９ａを露出させた後、全
面にＩＯＴをスパッタして透明共通電極２８を形成す
る。次いで、フッ素系溶剤で溶かすことのできる含フッ
素ポリマーからなる保護層２９をフッ素系溶剤でコーテ
ィングする（図３（ｏ））。フッ素系溶剤はＬＣＰＣ層
を溶かさないので保護層として含フッ素ポリマーは特に
適している。Next, a method of manufacturing the card type liquid crystal recording medium of the present invention will be described with reference to FIGS. Figure 2 (a)
In, for example, width 54 mm, length 86 mm, thickness 18
An 8 μm PET substrate 11 is prepared, and a hard coat layer 12 for preventing scratches on the substrate is formed on the back surface of the PET substrate 11, if necessary. On both sides of this substrate, as shown in FIG.
The resists 13 and 14 are printed in a pattern by a screen printing method or the like.
As shown in the plan view of (c), the resist-free region 1
5 and 16 are formed, and then a hole of, for example, about 3 mmφ is made in the regions 15 and 16 by drilling, punching, laser processing, or the like (FIG. 2D). In this state, after performing through-hole plating 18 on both sides (FIG. 2 (e)), the resist is removed to form the through-hole electrodes 19a and 19b, and if necessary, weak adhesion is applied to the side on which the hard coat is formed. A protective film 20 made of flexible polypropylene is attached (FIG. 2 (f)). Then, FIG. 2 (g) is a sectional view,
As shown in the plan view of FIG. 2H, one of the through-hole electrodes 19a is provided on the side where the photosensitive layer, the information recording layer and the like are laminated.
After printing the resist 21 in a strip shape covering the
O is formed by sputtering (FIG. 2 (i)). Then, the resist is removed by dissolving with a solvent, and the through-hole electrode 19
The area selection electrodes 22 made of a plurality of strips of ITO connected to b are formed (FIG. 3 (j)). Then, after covering the area selection electrode 22, the charge generation layer 23 and the charge transport layer 24 are coated on the entire surface to form a photoconductive layer, and then a transparent insulating layer 25 and an information recording layer 26 are further formed by coating (FIG. 3 ( k)). Next, the region 27 shown in the plan view of FIG. 3 (m) is wiped off with dichloromethane twice and acetone about twice.
After the electrode 19a is exposed as shown in FIG. 3L, a transparent common electrode 28 is formed by sputtering IOT on the entire surface. Next, a protective layer 29 made of a fluoropolymer that can be dissolved in a fluorine-based solvent is coated with the fluorine-based solvent (FIG. 3 (o)). Since a fluorine-based solvent does not dissolve the LCPC layer, a fluoropolymer is particularly suitable as the protective layer.
【００４９】なお、透明共通電極側のスルーホールは複
数でなく１つでもよく、その場合には図２（ｂ）におけ
るパターン状レジスト印刷、図２（ｃ）の孔開け加工の
段階で１つになるようにすればよい。The number of through holes on the transparent common electrode side may be one instead of plural, and in that case, one through hole is formed at the pattern resist printing in FIG. 2 (b) and the punching process in FIG. 2 (c). It should be.
【００５０】こうしてカード型に形成した液晶記録媒体
は、保護フィルム２０を剥がすか、一部を除去すること
により、基板裏面側からスルーホール電極１９ａ、１９
ｂにより電極取り出しがができるので、情報記録層上に
形成された強度的に弱いＩＴＯには触れずにすみ、過酷
な条件下においてもＩＴＯに傷をつけないようにするこ
とができ、また、電極取り出し部分には大きな力が加わ
る場合があっても、基板上であるので電極の変形を防ぐ
ことができる。In the liquid crystal recording medium thus formed into a card type, the protective film 20 is peeled off or a part of the protective film 20 is removed to form through-hole electrodes 19a, 19 from the rear surface side of the substrate.
Since the electrode can be taken out by b, it is possible to avoid touching the weakly strength ITO formed on the information recording layer and prevent the ITO from being damaged even under severe conditions. Even if a large force may be applied to the electrode extraction portion, the electrode is prevented from being deformed because it is on the substrate.
【００５１】[0051]
【発明の効果】以上のように本発明によれば、液晶の滲
み出し、情報記録層上に形成されるＩＴＯ電極の傷つ
き、変形等を防止することができ、強度的にも十分カー
ドとして耐えることが可能なカード型液晶記録媒体を得
ることができる。As described above, according to the present invention, it is possible to prevent the liquid crystal from seeping out and the ITO electrode formed on the information recording layer from being scratched or deformed. It is possible to obtain a card-type liquid crystal recording medium that can be used.
【図１】 本発明のカード型液晶記録媒体の基本的構成
を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing a basic configuration of a card type liquid crystal recording medium of the present invention.
【図２】 カード型液晶記録媒体の作製方法を説明する
図である。FIG. 2 is a diagram illustrating a method of manufacturing a card type liquid crystal recording medium.
【図３】 カード型液晶記録媒体の作製方法を説明する
図である。FIG. 3 is a diagram illustrating a method of manufacturing a card-type liquid crystal recording medium.
１…透明基板、２…エリア選択電極、３…光導電層、３
ａ…電荷発生層、３ｂ…電荷輸送層、５…透明絶縁層、
６…情報記録層、７…透明共通電極、８は保護層。1 ... Transparent substrate, 2 ... Area selection electrode, 3 ... Photoconductive layer, 3
a ... Charge generation layer, 3b ... Charge transport layer, 5 ... Transparent insulating layer,
6 ... Information recording layer, 7 ... Transparent common electrode, 8 is a protective layer.
Claims (8)
極からなるエリア選択電極、光導電層、透明絶縁層、樹
脂体中に液晶相を分散固定した情報記録層、透明共通電
極が積層されたカード型液晶記録媒体。1. A transparent substrate is sequentially laminated with an area selection electrode composed of a plurality of strip-shaped transparent electrodes, a photoconductive layer, a transparent insulating layer, an information recording layer in which a liquid crystal phase is dispersed and fixed in a resin body, and a transparent common electrode. Card type liquid crystal recording medium.
線硬化型樹脂であることを特徴とする請求項１記載のカ
ード型液晶記録媒体。2. The card type liquid crystal recording medium according to claim 1, wherein the resin forming the information recording layer is an ultraviolet curable resin.
基板にはスルーホール電極が形成され、エリア選択電
極、透明共通電極はスルーホール電極を通して透明基板
裏面側へ接続されていることを特徴とするカード型液晶
記録媒体。3. The recording medium according to claim 1, wherein a through hole electrode is formed on the transparent substrate, and the area selection electrode and the transparent common electrode are connected to the transparent substrate rear surface side through the through hole electrode. Card type liquid crystal recording medium.
の辺に沿って複数の、他方の辺に沿って少なくとも１つ
以上のスルーホール電極を形成する段階、一方の辺に沿
う複数のスルーホール電極をそれぞれ覆うとともに、他
方の辺に向かって延びる複数の帯状透明電極からなるエ
リア選択電極を透明基板の表面側に形成する段階、エリ
ア選択電極を覆って全面に光導電層、透明絶縁層、樹脂
体中に液晶相を分散固定した情報記録層を順次積層する
段階、前記他方の辺に沿うスルーホール電極上の各層を
除去して該スルーホール電極を露出させる段階、露出し
たスルーホール電極を含んで表面側全面に透明共通電極
を形成するとともに、該透明共通電極上に保護層を形成
する段階からなり、透明基板裏面側に露出したスルーホ
ール電極よりエリア選択電極、透明共通電極を取り出す
ようにしたことを特徴とするカード型液晶記録媒体の作
製方法。4. A step of forming a plurality of through-hole electrodes along one side of two opposite sides of a card-shaped transparent substrate, and at least one or more through-hole electrodes along the other side, and a plurality of steps along one side. A step of forming an area selection electrode composed of a plurality of band-shaped transparent electrodes extending on the other side while covering the through-hole electrodes on the front surface side of the transparent substrate, and covering the area selection electrode with a photoconductive layer and transparent insulation Layers, a step of sequentially laminating information recording layers in which a liquid crystal phase is dispersed and fixed in a resin body, a step of removing each layer on the through hole electrode along the other side to expose the through hole electrode, an exposed through hole A transparent common electrode is formed on the entire surface including the electrodes, and a protective layer is formed on the transparent common electrode. A method for producing a card-type liquid crystal recording medium, characterized in that a selection electrode and a transparent common electrode are taken out.
板の対向する一方の辺に沿う複数領域を除いてパターン
状にレジスト印刷する段階、前記複数領域内に孔開け加
工する段階、スルーホールメッキする段階からなる請求
項４記載のカード型液晶記録媒体の作製方法。5. The through-hole electrode is formed by resist printing in a pattern except a plurality of regions along one side of the transparent substrate facing each other, forming holes in the plurality of regions, and through-hole plating. The method for producing a card type liquid crystal recording medium according to claim 4, which comprises the step of:
に沿うスルーホール電極を含む帯状領域を除いてレジス
ト印刷する段階、全面にＩＴＯをスパッタリングする段
階、レジスト除去する段階からなる請求項４記載のカー
ド型液晶記録媒体の作製方法。6. The area selection electrode is formed by a step of resist printing except a strip-shaped area including a through-hole electrode along the other side, a step of sputtering ITO on the entire surface, and a step of removing the resist. A method for producing the card-type liquid crystal recording medium described.
段階を含む請求項４記載のカード型液晶記録媒体の作製
方法。7. The method for producing a card-type liquid crystal recording medium according to claim 4, including the step of providing a hard coat layer on the back surface of the transparent substrate.
ルムを貼付したことを特徴とする請求項４記載のカード
型液晶記録媒体の作製方法。8. The method for producing a card-type liquid crystal recording medium according to claim 4, further comprising a protective film attached to cover the rear surface side of the transparent substrate.
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