JPH05146875A - アーク溶接機のスパツタ発生抑制装置 - Google Patents

アーク溶接機のスパツタ発生抑制装置

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JPH05146875A
JPH05146875A JP3337987A JP33798791A JPH05146875A JP H05146875 A JPH05146875 A JP H05146875A JP 3337987 A JP3337987 A JP 3337987A JP 33798791 A JP33798791 A JP 33798791A JP H05146875 A JPH05146875 A JP H05146875A
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JP
Japan
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magnetic field
welding
current
field generating
welding wire
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Application number
JP3337987A
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English (en)
Inventor
Koichi Hiramatsu
浩一 平松
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Toyota Motor Corp
Original Assignee
Toyota Motor Corp
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Abstract

(57)【要約】 溶接電流の大小に関係なく溶滴に作用するピンチ力を制
御し、スパッタの発生を抑制する。 【構成】 溶接ワイヤ24の先端部の外周に位置するノ
ズル25内に、磁界発生用導体31を放射状に配設し、
溶接電流I1 によって溶接ワイヤ24の回りに生じる磁
界H1 の強さを可変させる電流I2 を磁界発生用電源4
1によって磁界発生用導体31に流し、溶接電流I1
大小に関係なく溶滴24aに作用するピンチ力を制御す
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、アーク溶接時のスパッ
タの発生をピンチ効果を利用して抑制する装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】消耗電極式アーク溶接においては、溶接
中にアーク部から周囲へスパッタが飛散する。スパッタ
の発生は、母材である製品への付着や治具へのかみ込み
等を招き、製品不良や設備停止にもつながるため、その
低減が望まれている。
【0003】図10および図11は、スパッタ発生のメ
カニズムを示している。図10は、短絡によるスパッタ
の発生を示している。図10に示すように、溶接ワイヤ
1の先端に生じた溶滴1aが母材2と短絡し、その直後
に溶接ワイヤ1と母材溶融池3との接触が破れ(ヒュー
ズ断線)、アーク5が再生したときにシールドガスの急
膨張によって溶融した金属の一部がスパッタ4となって
吹飛ばされる。
【0004】図11は、大粒の溶滴によるスパッタの発
生を示している。図11に示すように、アーク5による
熱によって溶接ワイヤ1の先端に生じた大粒の溶滴1a
が母材溶融池3に落下する際には、溶融池3の溶融金属
が溶滴1aとの衝突によって跳ね上がり、それがしぶき
となってスパッタ4を生じさせる。
【0005】溶接ワイヤに生じた溶滴の母材への移行
は、自重による落下によって行なわれるが、これを助長
するものにピンチ効果によるピンチ力がある。図12
は、ピンチ力が生じる状況を示している。図12に示す
ように、通常用いられている逆極性溶接では、溶接電流
1 は溶接ワイヤ10から母材11に向って流れる。こ
の時、溶接ワイヤ10の回りには、右回りの磁界H1
発生する。
【0006】磁界H1 は、溶接電流I1 に対して中心向
きの外力を与えるものであり、溶接ワイヤ10の先端に
生じた溶滴10aを流れる電流に対してもピンチ力が作
用する。アーク溶接中には粘性流体である溶滴10a
は、ピンチ力によって中心に絞られることになり、溶滴
10aの溶接ワイヤ10から離脱が助長される。すなわ
ち、重力およびピンチ力による離脱力が溶滴10aの表
面張力に打勝つことにより、溶滴10aの離脱が助長さ
れる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来で
は図12に示すように溶接電流I1 が低い場合は、ピン
チ力を増加させることができず、溶滴をスパッタの発生
が抑えられる大きさまで小径化するこはできない。ま
た、ピンチ力は溶接電流の変化によって増減する力であ
り、従来装置では溶接電流の大小に関係なくピンチ力を
制御することはできない。
【0008】なお、特開昭63−149081号公報
は、溶接トーチノズルの周囲に高周波コイルを配設し、
高周波コイルに高周波電流を通電して電磁誘導により、
溶接ノズルの内壁に付着したスパッタを除去する技術を
開示している。しかし、この技術はスパッタがノズルの
内壁に付着した後の除去についてのものであり、スパッ
タの発生自体を抑制することはできない。
【0009】本発明は、溶接電流の大小に関係なく溶滴
に作用するピンチ力を制御し、スパッタの発生を抑制す
ることが可能なアーク溶接機のスパッタ発生抑制装置を
提供することを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】この目的に沿う本発明に
係るアーク溶接機のスパッタ発生抑制装置は、溶接ワイ
ヤの先端部の外周に位置するノズルと、前記ノズル内に
放射状に配設される磁界発生用導体と、溶接電流により
前記溶接ワイヤの回りに生じる磁界の強さを可変させる
電流を前記磁界発生用導体に流す磁界発生用電源と、を
具備したものから成る。
【0011】
【作用】このように構成されたアーク溶接機のスパッタ
発生抑制装置においては、磁界発生用電源によって磁界
発生用導体に電流が流され、この電流によって磁界発生
用導体のまわりには磁界が生じる。磁界発生用電源から
の電流により磁界発生用導体のまわりに生じた磁界は、
溶接電流によって溶接ワイヤの回りに生じる磁界の強さ
を高めるように作用する。
【0012】溶接ワイヤの回りに生じる磁界の強さが高
められるのは、磁界発生用導体の回りに生じる磁界によ
る磁束が溶接ワイヤの回りに生じる磁界による磁束と合
流するからである。つまり、溶接ワイヤの外周において
は、溶接電流による磁界の向きと磁界発生用導体を流れ
る電流による磁界の向きが同じになるからである。した
がって、溶接電流による磁界の強さが高められたと同じ
結果となり、溶滴に作用するピンチ力を著しく増加させ
ることが可能となる。
【0013】また、溶接ワイヤのまわりに生じる磁界の
強さは、磁界発生用電源による電流の大きさや電流の向
きを変えることにより可変させることが可能となるの
で、溶滴に作用する最適のピンチ力を得ることができ
る。これにより、溶滴をスパッタの発生が抑制可能な大
きさまで小径化することができ、スパッタの発生を十分
に抑制することができる。
【0014】
【実施例】以下に、本発明に係るアーク溶接機のスパッ
タ発生抑制装置の望ましい実施例を、図面を参照して説
明する。
【0015】図1ないし図9は、本発明の一実施例を示
しており、たとえばCO2 アーク溶接機に適用した場合
を示している。図1において、21はアーク溶接機のト
ーチ本体を示している。トーチ本体21の中心部には、
チップホルダ22が配置されている。チップホルダ22
の先端部には、コンタクトチップ23が取付けられてい
る。チップホルダ22およびコンタクトチップ23に
は、溶接ワイヤ24が挿通されており、溶接ワイヤ24
はコンタクトチップ23の先端から母材15に向けて送
給されるようになっている。
【0016】溶接ワイヤ24の先端部の外周には、非導
電性のノズル25が配置されている。ノズル25の上端
部は、トーチ本体21の下端部に装着されている。ノズ
ル25は上部が円筒状に形成され、下部がテーパ状に形
成されている。チップホルダ22およびコンタクトチッ
プ23とノズル25の内面との間の空間部には、トーチ
本体21に形成されたシールドガス孔21aからのシー
ルドガス(CO2 ガス)が噴出されるようになってい
る。
【0017】チップホルダ22には、溶接電源20の正
極(プラス極)が接続されており、母材15には溶接電
源20の負極(マイナス極)が接続されている。これに
より、溶接電流I1 はワイヤ24側から母材15側に流
れるようになっている。
【0018】図1ないし図4に示すように、ノズル25
内には、複数の磁界発生用導体31が放射状に配設され
ている。各磁界発生用導体31は、図1に示すように、
略U字状に形成されノズル25の周壁に沿って上下方向
に延びている。各磁界発生用導体31の一端は、ノズル
25内に配置された導電リング32と接続されている。
各磁界発生用導体31の他端は、ノズル25内に配置さ
れた集電リング33と接続されている。ノズル25の外
側面には、端子台34が取付けられている。端子台34
には、端子35、36が取付けられている。
【0019】端子35には、一方の集電リング32が接
続されている。端子36には、他方の集電リング33が
接続されている。端子35と端子36には、ケーブル3
7を介して磁界発生用電源41が接続されている。磁界
発生用電源41は、溶接ワイヤ24の先端部と対向する
磁界発生用導体31の垂直部31aによって生じる磁界
の向きが溶接電流によって溶接ワイヤ24の回りに生じ
る磁界の向きに対して逆回りとなる電流を磁界発生用導
体31に流すことが可能になっている。すなわち、磁界
発生用導体31の垂直部31aには、下方から上方に向
って電流が流れるようになっている。
【0020】磁界発生用電源41は、図6ないし図8に
示すように、パルス状の電流I2 を周期的に出力する機
能を有している。パルス状の電流I2 は、その周期に応
じて溶滴を溶接ワイヤ24から離脱させる機能を有して
いる。これにより溶滴24aを母材15側へスプレー移
行させることが可能となっている。
【0021】つぎに、アーク溶接機のスパッタ発生抑制
装置における作用について説明する。溶接電源20によ
ってチップホルダ22と母材15との間に電圧が印加さ
れると、溶接ワイヤ24と母材15との間にアーク16
が生じる。これにより、溶接ワイヤ24の先端部が溶融
し、溶滴24aとなって母材15に落下する。この状態
では、図5に示すように、溶接ワイヤ24を流れる溶接
電流I1 により溶接ワイヤ24の周りに磁界H1 が生じ
る。
【0022】溶接時には、磁界発生用電源41によって
磁界発生用導体31にパルス状の電流が流され、磁界発
生用導体31の垂直部31aの回りには磁界H2 が生じ
る。垂直部31aの回りに生じた磁界H2 の向きは、溶
接電流I1 によって溶接ワイヤ24の回りに生じる磁界
1の向きに対して逆回りとなる。この状態では、図5
に示すように、溶接ワイヤ24の先端部の外周における
溶接電流I1 による磁界H1 の向きと磁界発生用導体3
1を流れる電流I2 による磁界H2の向きは同じにな
る。
【0023】磁界H1 と磁界H2 の向きが同じである場
合は、溶接電流I1 による磁界H1 の強さが高められた
と同じ結果となり、溶滴24aに作用するピンチ力は著
しく高められる。磁界発生用電源41による電流I
2 が、図6に示すように周期的なパルス状であるとき
は、その周期に応じて溶滴24aにピンチ力を与えるこ
とが可能となり、パルスの周期に同期させて溶滴24a
を溶接ワイヤ24から離脱させることが可能となる。
【0024】磁界発生用導体31に流れる電流I2 は、
磁界発生用電源41によって変化させることが可能であ
るため、磁界発生用導体31の垂直部31aの回りに発
生する磁界H2 の強さは自由に可変される。磁界H2
強さを可変することにより、溶滴24aの直径を制御す
ることができ、小径の溶滴24aの母材15側への移
行、または溶滴24aをスプレー状にした状態での母材
15側への移行が可能となる。このように、磁界発生用
電源41による電流I2 の発生周期および強弱を制御す
ることにより、溶接電流I1 の大きさにかかわらず溶滴
24aの移行を調整することができる。
【0025】図7に示す電流特性は、一定周期を除いて
磁界発生用導体31の垂直部31aに溶接電流I1 と同
方向の電流I2 が流れる場合を示している。つまり、溶
滴24aの成長時には、垂直部31aの回りに生じた磁
界H2 の向きは、図5の2点鎖線で示すように、溶接電
流I1 によって溶接ワイヤ24の回りに生じる磁界H1
の向きと同じになる。これにより、磁界H1 が磁界H2
により打消され、溶滴24aの成長時には溶滴24aに
生じるピンチ力は著しく小となるか、またはピンチ力は
全く生じなくなる。このような制御は、溶接ワイヤの径
が太く大粒の溶滴24aが生じる場合に有効である。
【0026】図8は、図6の特性と図7の特性を組合せ
た特性であり、溶滴24aの成長初期には磁界発生用電
源41からの電流I2 はゼロとされる。溶滴24aの成
長後期には磁界発生用電源41からの電流I2 の流れが
逆になり、図7の特性と同様に、磁界H1 が磁界H2
よって打消される。これは、溶滴24aが成長し溶接ワ
イヤ24から離脱しやすくなるのを防止するためであ
る。溶滴24aの成長が終了すると、磁界発生用電源4
1からの電流I2 の流れが図5の実線と同じになり、磁
界H1 の強さは磁界H2 によって増加され、溶滴24a
に与えるピンチ力は大となる。
【0027】図9は、溶接トーチを分解した状態を示し
ている。2点鎖線で示したノズル18は従来品を示して
おり、ノズル18はトーチ本体21に装着可能となって
いる。従来のノズル18は単なるシールドガスを溶接部
分に導くフードとして機能する。本発明のノズル25
は、トーチ本体21に装着可能となっており、従来ノズ
ル18と本発明のノズル25とは、構造的に互換性を有
している。これにより、従来の溶接トーチに本発明のノ
ズル25を組込むことが可能となり、ノズル25の交換
作業は著しく容易となる。
【0028】
【発明の効果】本発明によれば、溶接ワイヤの先端部の
外周に位置するノズル内に、磁界発生用導体を放射状に
配設し、溶接電流によって溶接ワイヤの回りに生じる磁
界の強さを可変させる電流を磁界発生用電源によって磁
界発生用導体に流すようにしたので、溶接電流の大小に
関係なく溶滴に作用するピンチ力を制御することができ
る。
【0029】したがって、溶滴を外周から絞り込むこと
ができるとともに、スパッタの発生が抑制可能な大きさ
まで小径化することができ、スパッタの発生を十分に抑
制することができる。また、磁界発生用導体に流す電流
を制御することにより、溶滴の母材側への移行を調整す
ることができ、スパッタ発生の抑制に有効なスプレー移
行も可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のアーク溶接機のスパッタ発生抑制装置
の概略構成図である。
【図2】図1のA−A線に沿う断面図である。
【図3】図1のB−B線に沿う断面図である。
【図4】図1のC−C線に沿う断面図である。
【図5】図1の装置における溶接ワイヤ近傍の磁界の発
生状態を示す断面図である。
【図6】図1の装置の磁界発生用導体に流れる電流の一
例を示す波形図である。
【図7】図1の装置の磁界発生用導体に流れる電流の別
の例を示す波形図である。
【図8】図1の装置の磁界発生用導体に流れる電流のさ
らに別の例を示す波形図である。
【図9】図1の装置におけるトーチ本体およびノズルの
分解斜視図である。
【図10】短絡によるスパッタの発生状況を示す正面図
である。
【図11】大粒溶滴の落下によるスパッタの発生状況を
示す正面図である。
【図12】溶接電流により溶接ワイヤの外周に生じる磁
界の発生状況を示す拡大正面図である。
【符号の説明】
15 母材 20 溶接電源 21 トーチ本体 24 溶接ワイヤ 24a 溶滴 25 ノズル 31 磁界発生用導体 31a 垂直部 41 磁界発生用電源 I1 溶接電流 I2 磁界発生用導体に流れる電流 H1 溶接電流により生じる磁界 H2 磁界発生用導体に流れる電流により生じる磁界

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 溶接ワイヤの先端部の外周に位置するノ
    ズルと、 前記ノズル内に放射状に配設される磁界発生用導体と、 溶接電流により前記溶接ワイヤの回りに生じる磁界の強
    さを可変させる電流を前記磁界発生用導体に流す磁界発
    生用電源と、を具備したことを特徴とするアーク溶接機
    のスパッタ発生抑制装置。
JP3337987A 1991-11-28 1991-11-28 アーク溶接機のスパツタ発生抑制装置 Pending JPH05146875A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9061364B2 (en) 2011-02-09 2015-06-23 Denso Corporation TIG welding method and apparatus
CN110449699A (zh) * 2019-08-15 2019-11-15 广东省智能制造研究所 一种多层尖角磁控焊接发生装置及焊枪

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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US9061364B2 (en) 2011-02-09 2015-06-23 Denso Corporation TIG welding method and apparatus
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