JPH05146688A - Clean room - Google Patents

Clean room

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JPH05146688A
JPH05146688A JP31099891A JP31099891A JPH05146688A JP H05146688 A JPH05146688 A JP H05146688A JP 31099891 A JP31099891 A JP 31099891A JP 31099891 A JP31099891 A JP 31099891A JP H05146688 A JPH05146688 A JP H05146688A
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room
slab
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clean room
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Nobuo Fujie
信夫 藤江
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Abstract

PURPOSE:To enhance clearness of air in a clean room than a conventional method. CONSTITUTION:Instruments 27a, 27b are provided in the space 40 between the floor face 20a of a clean room 20 and a slab 25. A return duct 42 formed of a stainless plate is formed in the space 40 by being partitioned for the space in which the instruments are provided. A machinery room 41 is relatively formed in the part of the space 40 exclusive of the return duct 42. Many holes are bored in the upper plate part 42c of the return duct 42 and an aperture part 25a is formed in the slab 25. The air passed through the interior 23 is passed through the gap 48 between an assemble floor 24 and the slab 25 and introduced into the return duct 42. The clean room is constituted so that the circulated air is prevented from being brought into contact with the instrument and the pipeline of a backup system 27 in the machinery room 41.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はクリーンルームに係り、
特に半導体製造等に要求されるような清浄度の高いクリ
ーンルームに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a clean room,
In particular, it relates to a clean room having a high degree of cleanliness required for semiconductor manufacturing and the like.

【0002】近年の半導体の高密度、高集積化に伴い、
半導体製造等に使用されるクリーンルームについては、
より清浄度の高い空気を安定的に循環空調させる技術が
必要とされている。
With the recent high density and high integration of semiconductors,
For clean rooms used for semiconductor manufacturing,
There is a need for a technology to stably circulate and air-condition clean air.

【0003】[0003]

【従来の技術】図4は従来のクリーンルームの一例の構
成図を示す。
2. Description of the Related Art FIG. 4 is a block diagram showing an example of a conventional clean room.

【0004】同図中、2は室内3に供給する空気の最終
段階のフィルタ、4は複数のパネルが敷き詰められて構
成され選択的に取り外し可能であるアセッンブルフロ
ア、5は室内3に設置される製造機器6を支持する床板
であるスラブ、7は製造機器6のためのバックアップシ
ステム、8は送風器を内設している空調装置、9はスラ
ブ下空間、10は天井部空間、11a,11b夫々は空
調装置8の入口側および出口側のダクトである。アセッ
ンブルフロア4とスラブ5との間には、複数の製造装置
6間同士、および製造装置6とバックアップシステム7
とを接続する配管、配線を配設するために、ある程度の
隙間が形成されている。また、クリーンルーム1の床面
1a、天井面1b、側面1cおよびスラブ5の裏面5a
夫々は、コンクリートまたは新建材に防塵塗料が塗布さ
れた構成である。
In the figure, 2 is a filter at the final stage of the air supplied to the room 3, 4 is an assemble floor which is constructed by laying a plurality of panels and is selectively removable, and 5 is installed in the room 3. A slab that is a floor plate that supports the manufacturing equipment 6, a backup system for the manufacturing equipment 6, an air conditioner 8 in which a blower is installed, 9 is a space under the slab, 10 is a ceiling space, 11a, 11b are ducts on the inlet side and the outlet side of the air conditioner 8, respectively. Between the assembly floor 4 and the slab 5, a plurality of manufacturing apparatuses 6 are provided, and between the manufacturing apparatus 6 and the backup system 7.
A gap is formed to some extent in order to arrange the pipe and the wiring for connecting the and. The floor surface 1a, the ceiling surface 1b, the side surface 1c, and the back surface 5a of the slab 5 of the clean room 1
Each has a structure in which dustproof paint is applied to concrete or new building material.

【0005】空調装置8である程度の大きさの粒子の埃
塵類が除去されると共に温度、湿度が調整された空気
は、ダクト11b、天井部空間10を通ってフィルタ2
に入り、フィルタ2で細かい粒子の埃塵類が除去されて
室内3に供給される。供給された空気は室内3を下方に
向けて流れ、通気孔が多数穿設されているアセッンブル
フロア4、および配管12等のための開口部5bが多数
設けられているスラブ5を通過して、上記バックアップ
システム7が設けられているスラブ下空間9に入り、ダ
クト11aを通って再び空調装置8に戻る。このような
循環経路により室内3は常に細かい粒子の埃塵類が除去
された空気で充満されている。
The air whose temperature and humidity have been adjusted as well as the particles and dust of a certain size being removed by the air conditioner 8 passes through the duct 11b and the ceiling space 10 and the filter 2
Then, fine particles of dust are removed by the filter 2 and supplied to the room 3. The supplied air flows downward in the room 3 and passes through the assemble floor 4 having a large number of ventilation holes and the slab 5 having a large number of openings 5b for the pipes 12 and the like. , Enters the space 9 below the slab in which the backup system 7 is provided, and returns to the air conditioner 8 again through the duct 11a. With such a circulation path, the room 3 is always filled with air from which fine particles of dust are removed.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】上記構成の従来のクリ
ーンルーム1の場合、バックアップシステム7の各機器
がスラブ下空間9内に設けられているため、各機器の表
面に塗布された塗料や液剤から揮発する、例えばフタル
酸エステル等の空気の清浄に悪影響を及ぼす有害ガスが
スラブ下空間9内を通過する空気に混入したり、バック
アップシステム7の各機器から発生する埃塵類や各機器
の表面に溜まった埃塵類が空気に混入するという問題が
あった。また、スラブ下空間9についても同様に、壁面
の防塵塗料から揮発した上記有害ガスがスラブ下空間9
において循環する空気に混入したり、表面粗度が粗いコ
ンクリートまたは新建材の表面に溜まった埃塵類が空気
に混入するという問題があった。このように、従来のク
リーンルーム1の構成では、空気の清浄度の向上に限界
があり、現在要求されている高い清浄度に対応すること
が困難であった。
In the case of the conventional clean room 1 having the above-mentioned structure, since each device of the backup system 7 is provided in the space 9 under the slab, the paint or the liquid agent applied to the surface of each device is removed. A harmful gas that volatilizes, such as phthalic acid ester, which adversely affects the cleaning of the air is mixed into the air passing through the space 9 below the slab, dust generated from each device of the backup system 7, and the surface of each device. There was a problem that dust and dirt collected in the air would get mixed into the air. Similarly, in the space 9 under the slab, the harmful gas volatilized from the dust-proof paint on the wall surface is also stored in the space 9 under the slab.
In the above, there is a problem in that it mixes with the circulating air or dust and dirt accumulated on the surface of the concrete or the new building material having a rough surface is mixed with the air. As described above, in the configuration of the conventional clean room 1, there is a limit to the improvement of the cleanliness of air, and it has been difficult to meet the high cleanliness currently required.

【0007】そこで本発明は上記課題に鑑みなされたも
ので、スラブ下空間の構成を改善することにより空気の
清浄度をより向上させたクリーンルームを提供すること
を目的とする。
Therefore, the present invention has been made in view of the above problems, and an object thereof is to provide a clean room in which the cleanliness of air is further improved by improving the structure of the space under the slab.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明は、床面から所定高さ寸法の位置に床板である
スラブを敷設してなり、かつ、前記床面と前記スラブと
の間の空間に、室内で行われる作業に必要な機器が設置
されたダウンフロー方式のクリーンルームにおいて、前
記空間に、前記室内を通った空気を集めて該空気を送風
器入口側へ戻すリターンダクトを設けると共に、前記リ
ターンダクトの内面を高清浄な構成とした。
In order to achieve the above object, the present invention comprises a slab, which is a floor plate, laid at a position of a predetermined height from the floor, and the floor and the slab are In a downflow type clean room in which equipment necessary for indoor operations is installed in the space between, a return duct that collects the air that has passed through the room and returns the air to the blower inlet side is provided in the space. The inner surface of the return duct is made highly clean while being provided.

【0009】[0009]

【作用】本発明において、床面とスラブの間の空間にリ
ターンダクトを設けることにより、空間内に機器が設置
されて空気が流通しない区画が相対的に構成される。こ
のため、室内を通った空気は区画内の機器と接触するこ
となく送風器入口側へ戻され、従来の如く、機器と接触
することにより有害ガスおよび埃塵類が空気に混入して
しまうことが防止される。
In the present invention, by providing the return duct in the space between the floor surface and the slab, the equipment is installed in the space and the section through which air does not flow is relatively configured. For this reason, the air that has passed through the room is returned to the blower inlet side without contacting the equipment in the compartment, and harmful gas and dust are mixed into the air by contacting the equipment as in the past. Is prevented.

【0010】また、リターンダクトの内面を高清浄とす
ることにより、リターンダクト内面から有害ガスが揮発
することがなくなり、従来の如く有害ガスが空気へ混入
してしまうことが防止される。また、リターンダクト内
面に埃塵類が溜まることがなくなり、リターンダクト内
において埃塵類が空気へ混入してしまうことが防止され
る。
Further, by making the inner surface of the return duct highly clean, the harmful gas is prevented from volatilizing from the inner surface of the return duct, and the harmful gas is prevented from being mixed into the air as in the conventional case. In addition, dust and dirt are not collected on the inner surface of the return duct, and dust and dirt are prevented from being mixed into the air in the return duct.

【0011】[0011]

【実施例】図1は本発明になるクリーンルームの一実施
例の構成断面図、図2は図1中、II−II線に沿う断面
図、図3は図1中、 III−III 線に沿う断面図を示す。
尚、図1は図2中、I−I線に沿う断面部分を示してい
る。また、本実施例のクリーンルーム20は、半導体の
製造工程において使用されるクリーンルームの一実施例
である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 is a sectional view showing the construction of an embodiment of the clean room according to the present invention, FIG. 2 is a sectional view taken along line II-II in FIG. 1, and FIG. 3 is taken along line III-III in FIG. A sectional view is shown.
Note that FIG. 1 shows a cross-sectional portion taken along the line II in FIG. The clean room 20 of this embodiment is an example of a clean room used in the semiconductor manufacturing process.

【0012】各図中、22はHEPA(High Efficienc
y Particulate Air-filter)フィルタと称される室内2
3に供給する空気の最終段階の超高性能のフィルタ、2
4は複数のパネルが敷き詰められて構成され選択的に取
り外し可能であるアセッンブルフロア、25は室内23
に設置される半導体製造のための製造機器26を支持す
る床板であるスラブ、27は製造機器26のためのバッ
クアップシステム、28は送風器28aを内設する空調
装置、29は埃塵類を吸着する吸着剤入りフィルタであ
る。尚、上記バックアップシステム27は真空ポンプ2
7aやその他の複数の機器27bおよび配管、配線等に
より構成されている。また、室内23には複数の製造機
器26が設置されているが、図示の便宜上、図1,2に
おいては代表して1つの製造機器26のみを図示する。
In each figure, 22 is a HEPA (High Efficienc
y Particulate Air-filter) Indoor 2 called a filter
Ultra-high-performance filter in the final stage of air supplied to 3
4 is an assemble floor that is constructed by laying a plurality of panels and is selectively removable, and 25 is an interior 23
A slab that is a floor plate that supports the manufacturing equipment 26 for semiconductor manufacturing installed in the device, 27 is a backup system for the manufacturing equipment 26, 28 is an air conditioner having a blower 28a installed therein, and 29 is a suction device for absorbing dust. It is a filter containing an adsorbent. The backup system 27 is the vacuum pump 2
7a and a plurality of other devices 27b, piping, wiring, and the like. Although a plurality of manufacturing equipments 26 are installed in the room 23, only one manufacturing equipment 26 is shown as a representative in FIGS. 1 and 2 for convenience of illustration.

【0013】スラブ25は防塵処理されたコンクリート
板よりなり、支柱30によりクリーンルーム20の床面
20aから所定の高さ位置に支持されて敷設されてい
る。またアセッンブルフロア24は、各パネルに空気を
通すための孔が多数形成されており、支柱31によりス
ラブ25との間に隙間48を形成して、平面上、製造機
器26の配置されていない部分に敷設されている。アセ
ッンブルフロア24とスラブ25との間の隙間48は、
上述したように複数の製造装置26間同士、または製造
装置26とバックアップシステム27とを接続する配管
および配線を配設するために設けられている。また、H
EPAフィルタ22はクリーンルーム20の天井面20
bから吊り金具(図示せず)により支持されている。
The slab 25 is made of a dustproof concrete plate, and is laid by being supported at a predetermined height position from the floor surface 20a of the clean room 20 by the columns 30. Further, the assemble floor 24 has a large number of holes for allowing air to pass through each panel, and a gap 48 is formed between the struts 31 and the slab 25 so that the manufacturing equipment 26 is not arranged on a plane. It is laid in the part. The gap 48 between the assembly floor 24 and the slab 25 is
As described above, it is provided for arranging the pipes and wirings for connecting between the plurality of manufacturing apparatuses 26 or for connecting the manufacturing apparatus 26 and the backup system 27. Also, H
The EPA filter 22 is the ceiling surface 20 of the clean room 20.
It is supported from b by hanging metal fittings (not shown).

【0014】上記床面20aとスラブ25との間の空間
40には、室内23を通った空気を集めてその空気を空
調装置28側へ流すリターンダクト42,43が設けて
ある。そしてこのリターンダクト42,43を設けるこ
とにより、空間40には上記バックアップシステム2
7、およびクリーンルーム20の外部からバックアップ
システム27または製造機器26へ接続される配管3
2、配線33等が配設された前記区画に該当する機器室
41が相対的に独立して構成される。ここでリターンダ
クト42,43はステンレスプレートにより細長ダクト
状に形成される。従って、図1,2に示すように空間4
0のスラブ25直下の部分にステンレスプレートでリタ
ーンダクト42,43を形成することにより、空間40
は、ステンレスプレートでリターンダクト42,43の
部分と、リターンダク42,43以外の機器室41の部
分とに分離区分けされる。
In a space 40 between the floor surface 20a and the slab 25, return ducts 42 and 43 for collecting the air passing through the room 23 and flowing the air to the air conditioner 28 side are provided. By providing the return ducts 42 and 43, the backup system 2 is provided in the space 40.
7 and piping 3 connected to the backup system 27 or the manufacturing equipment 26 from the outside of the clean room 20
2, the equipment room 41 corresponding to the section in which the wiring 33 and the like are arranged is relatively independently configured. Here, the return ducts 42 and 43 are formed of stainless steel plates into elongated duct shapes. Therefore, as shown in FIGS.
The space 40 is formed by forming return ducts 42 and 43 with a stainless plate in a portion directly below the slab 25 of 0.
Are separated and separated by a stainless plate into the return ducts 42 and 43 and the equipment chamber 41 other than the return ducts 42 and 43.

【0015】リターンダクト42,43の四方の側板部
42a,43aと底板部42b,43bはダクト内面側
の表面粗度を滑らかに処理したステンレスプレートが使
用されており、また上板部42c,43cはダクト内面
側の表面粗度を滑らかに処理した上記ステンレスプレー
トに更に小径の孔を多数穿設したステンレスプレートが
使用されている。また、リターンダクト42,43が配
設される部分のスラブ25には、リターンダクト42,
43の形状に対応した細長状の大きな開口部25aが形
成されており、従ってその開口部25aにはリターンダ
クト42,43の上記上板部42c,43cが露出して
いる。このため、スラブ25の上部の空気は開口部25
aと上板部42c,43cに設けられた多数の孔を通っ
てリターンダクト42,43内に入り込むことが可能と
された構造となっている。
The four side plates 42a, 43a and the bottom plates 42b, 43b of the return ducts 42, 43 are made of stainless steel plates having smooth surface roughness on the inner surface of the duct, and the upper plates 42c, 43c. Uses a stainless steel plate in which a large number of holes having smaller diameters are formed in addition to the above-mentioned stainless steel plate whose surface roughness on the inner surface side of the duct is smoothly processed. In addition, the return ducts 42,
A slender large opening 25a corresponding to the shape of 43 is formed, so that the upper plate portions 42c, 43c of the return ducts 42, 43 are exposed in the opening 25a. For this reason, the air above the slab 25 is
The structure is such that it can be inserted into the return ducts 42 and 43 through a and a large number of holes provided in the upper plate portions 42c and 43c.

【0016】リターンダクト42,43の出口側部分夫
々には、通過流量調整用のダンパ44,45が駆動装置
44a,45aを備えて設けられており、リターンダク
ト42,43夫々に入り込む空気の量を調整することに
より、室内23の清浄状態を所望の状態とすることがで
きる。例えば、リターンダクト43側に高い清浄度を必
要とする製造機器26が集中している場合には、ダンパ
44を閉側、ダンパ45を開側とすることにより室内2
3を効率的な清浄度の分布とすることができる。
At the outlet side portions of the return ducts 42, 43, dampers 44, 45 for adjusting the passage flow rate are provided with drive devices 44a, 45a, respectively, and the amount of air entering the return ducts 42, 43 respectively. By adjusting, the clean state of the room 23 can be set to a desired state. For example, when the manufacturing equipments 26 that require high cleanliness are concentrated on the return duct 43 side, the damper 44 is set to the closed side and the damper 45 is set to the open side so that the room 2
3 can be an efficient cleanliness distribution.

【0017】上記吸着剤入りフィルタ29および空調装
置28は、リターンダクト42,43に個々に1つづつ
設けられている。従って、リターンダクト42,43夫
々の出口部と2つの吸着剤入りフィルタ29との間に
は、若干の垂直方向のダクト46aが夫々設けられ、ま
た、2つの空調装置28の出口側には、垂直方向に沿う
ダクト46bが2つの空調装置28の出口部に接続され
て設けられている。更に、上記天井面20bとHEPA
フィルタ22との間には空気が流通する天井部空間47
が設けられている。従って、空調装置28出口側のダク
ト46bは、2つの空調装置28からの空気を合流させ
て上記天井部空間47に一様に流す構造となっている。
The adsorbent-containing filter 29 and the air conditioner 28 are individually provided in the return ducts 42 and 43, respectively. Therefore, some vertical ducts 46a are respectively provided between the outlets of the return ducts 42 and 43 and the two adsorbent-containing filters 29, and the outlet sides of the two air conditioners 28 are A duct 46b extending in the vertical direction is provided so as to be connected to the outlets of the two air conditioners 28. Furthermore, the ceiling surface 20b and the HEPA
A ceiling space 47 in which air flows between the filter 22 and the filter 22.
Is provided. Therefore, the duct 46b on the outlet side of the air conditioner 28 has a structure in which the air from the two air conditioners 28 is merged and uniformly flowed into the ceiling space 47.

【0018】また、図1中、上記ダクト46aには、循
環空気系に新しい外気を導入する外気導入部51が先端
部にフィルタ51aを備えて設けられており、また、ク
リーンルーム20の外気導入部51の反対側には空気排
出部52が設けられている。循環空気に少しづつ外気を
導入することにより、循環空気の汚染の進行をある一定
のところで抑えることができる。
Further, in FIG. 1, the duct 46a is provided with an outside air introducing portion 51 for introducing new outside air into the circulating air system with a filter 51a at the tip portion thereof, and the outside air introducing portion of the clean room 20. An air discharge portion 52 is provided on the opposite side of 51. By introducing the outside air little by little to the circulating air, the progress of pollution of the circulating air can be suppressed at a certain point.

【0019】次に上記構成のクリーンルーム20におけ
る空気の流通経路について説明する。
Next, the flow path of air in the clean room 20 having the above structure will be described.

【0020】空調装置28が運転されると装置内の送風
器28aによりクリーンルーム20内の空気が循環す
る。先ず吸着剤入りフィルタ29で微粒子状の埃塵類が
ある程度吸着除去された空気は、空調装置28内で温度
および湿度が所定値に調整されてダクト46bに送り出
される。ここで、2つの空調装置28から送り出された
空気は、上記の如くダクト46bで合流して天井部空間
47に流れる(矢印A)。そして、空気はHEPAフィ
ルタ22を通過することにより、粒径0.3μm程度ま
でのかなり細かい微粒子が除去されて清浄度が高めら
れ、室内23に送られる(矢印B)。室内23ではHE
PAフィルタ22から上記アセッンブルフロア24が設
けられている下方へ向けて流れる(ダウンフロー方
式)。このダウンフローにより室内23に存在する埃塵
類が室内23内に浮遊してしまうことが防止される。
When the air conditioner 28 is operated, the air in the clean room 20 is circulated by the blower 28a in the device. First, the air in which the particulate dust is adsorbed and removed to some extent by the adsorbent-containing filter 29 is adjusted in temperature and humidity to a predetermined value in the air conditioner 28, and is sent to the duct 46b. Here, the air sent from the two air conditioners 28 merges in the duct 46b as described above and flows into the ceiling space 47 (arrow A). Then, the air passes through the HEPA filter 22 to remove considerably fine particles up to a particle size of about 0.3 μm to improve the cleanliness, and is sent to the room 23 (arrow B). HE in room 23
Flows downward from the PA filter 22 where the assemble floor 24 is provided (downflow method). This downflow prevents dust and the like existing in the room 23 from floating in the room 23.

【0021】アセッンブルフロア24に到達した空気
は、アセッンブルフロア24に多数穿設されている孔を
通過してアセッンブルフロア24とスラブ25との間の
隙間48内に入り込む(矢印C)。そして、大略最短距
離にあるリターンダクト42,43に向けて隙間48内
を水平方向に流れる(矢印D)。隙間48内を流れてリ
ターンダクト42,43に到達した空気は、上述したよ
うにスラブ25の開口部25aおよびリターンダクト4
2,43の上板部42c,43cに多数穿設されている
上記孔を通ってリターンダクト42,43内に入り込む
(矢印E)。ここで、スラブ25には上記開口部25a
の他に、製造機器26と機器室41とを結ぶ配管、配線
を挿通するための開口部25bが多数設けられている
が、機器室41には開口部25b以外の開口部は一切設
けられていないため、また、リターンダクト42,43
内の圧力は送風器28aに引かれて機器室41内の圧力
よりも低い状態であるため、隙間48を流れる空気は開
口部25bから機器室41内に流入することはなく、そ
の全量がリターンダクト42,43内に流れ込む。
The air that has reached the assemble floor 24 passes through a large number of holes formed in the assemble floor 24 and enters the gap 48 between the assemble floor 24 and the slab 25 (arrow C). Then, the liquid flows horizontally in the gap 48 toward the return ducts 42 and 43 which are located at the substantially shortest distance (arrow D). The air that has flowed through the gap 48 and reached the return ducts 42 and 43 is, as described above, the opening 25 a of the slab 25 and the return duct 4.
It passes through the holes formed in the upper plate portions 42c, 43c of the reference numerals 2, 43, and enters the return ducts 42, 43 (arrow E). Here, the opening 25a is formed in the slab 25.
In addition, a large number of openings 25b for inserting pipes and wirings connecting the manufacturing equipment 26 and the equipment room 41 are provided, but the equipment room 41 is provided with no openings other than the opening 25b. Since there is no return duct 42, 43
Since the internal pressure is pulled by the blower 28a and is lower than the internal pressure of the equipment chamber 41, the air flowing through the gap 48 does not flow into the equipment chamber 41 from the opening 25b, and the entire amount returns. It flows into the ducts 42 and 43.

【0022】そして、リターンダクト42,43内をダ
クト46a側の出口側に向けて流れ(矢印F)、最後に
リターンダクト42,43の出口部からダクト46aを
通って夫々の吸着剤入りフィルタ29および空調装置2
8に再び吸入される(矢印G)。
Then, the inside of the return ducts 42 and 43 flows toward the outlet side on the side of the duct 46a (arrow F), and finally the outlets of the return ducts 42 and 43 pass through the ducts 46a and the respective adsorbent-containing filters 29. And air conditioner 2
8 is inhaled again (arrow G).

【0023】室内23からアセッンブルフロア24下部
の隙間48内に入った空気の一部は、空気排出部52か
らクリーンルーム20の外部に排出され(矢印H)、ま
た、空気がダクト46aを通過する時に、排出された分
の外気が外気導入部51から導入される(矢印I)。
尚、外気導入部51または空気排出部52のいづれかに
ダンパを設け、そのダンパにより循環空気系への外気導
入量を調整する構成としてもよい。
Part of the air that has entered the space 48 below the assemble floor 24 from the room 23 is discharged from the air discharge portion 52 to the outside of the clean room 20 (arrow H), and the air passes through the duct 46a. Sometimes, the discharged outside air is introduced from the outside air introduction part 51 (arrow I).
A damper may be provided in either the outside air introducing portion 51 or the air discharging portion 52, and the amount of outside air introduced into the circulating air system may be adjusted by the damper.

【0024】以上のように本実施例のクリーンルーム2
0においては、室内23を通った空気が機器室41に流
入することなく、その全量がリターンダクト42,43
を通って再び空調装置28側に排出される。即ち、従来
のように循環する空気がバックアップシステム27の各
機器と接触することが防止されるため、各機器の表面に
塗布された塗料や液剤から揮発する空気の清浄に悪影響
を及ぼす有害ガスが循環空気に混入したり、また、バッ
クアップシステム27の各機器から発生する埃塵類や各
機器の表面に溜まった埃塵類が循環空気に混入してしま
うことが防止される。
As described above, the clean room 2 of this embodiment
In 0, the air that has passed through the room 23 does not flow into the equipment room 41, and all of the air is returned to the return ducts 42 and 43.
And is discharged again to the air conditioner 28 side. That is, since the circulating air is prevented from coming into contact with each device of the backup system 27 as in the conventional case, harmful gas that adversely affects the cleaning of the air volatilized from the paint or liquid applied to the surface of each device is generated. It is prevented that the circulating air is mixed, and that the dust and dust generated from each device of the backup system 27 and the dust and dust collected on the surface of each device are mixed into the circulating air.

【0025】また、リターンダクト42,43は、上記
の如く内面の表面粗度を滑らかに処理したステンレスプ
レートで構成されると共に、その表面には塗料等が一切
塗布されていない高清浄な内面を有して構成されてい
る。このため、従来のようにスラブ下空間9の塗装され
た壁面から有害ガスが揮発して循環空気に混入したり、
スラブ下空間9の壁面に埃塵類が溜まってその埃塵類が
循環空気に混入することが防止される。
The return ducts 42 and 43 are made of a stainless steel plate whose surface has a smooth surface roughness as described above, and have a highly clean inner surface on which no paint or the like is applied. It is configured to have. Therefore, as in the conventional case, harmful gas is volatilized from the painted wall surface of the slab lower space 9 and mixed into the circulating air,
Dust and dust are prevented from collecting on the wall surface of the space 9 below the slab and mixed into the circulating air.

【0026】以上のように本実施例の構成によれば、室
内23を流れた空気が空調装置28に戻される流通経路
において循環空気への有害ガスや埃塵類の混入を防止す
ることができ、クリーンルーム20の空気清浄度を従来
に比べて安定的に向上させることができる。特に揮発す
る有害ガスの空気への混入を防止することにより、従
来、空気中の微粒子除去に止まっていた空気清浄を分子
レベルの清浄とすることができ、これにより本実施例に
おける空気清浄度は従来に比べて格段に向上する。そし
て、上記の如く空気清浄度が安定的に向上した結果、室
内23で行われる半導体製造の効率が向上する。更に、
上記吸着剤入りフィルタ29が吸着すべき埃塵類の量が
低減するため、吸着剤の寿命が長くなりクリーンルーム
20のランニングコストの低減にも寄与するところが大
きい。
As described above, according to the configuration of the present embodiment, it is possible to prevent harmful gas and dust from being mixed into the circulating air in the circulation path through which the air flowing in the room 23 is returned to the air conditioner 28. Therefore, the air cleanliness of the clean room 20 can be improved more stably than in the conventional case. In particular, by preventing the volatilization of harmful gas into the air, it is possible to make the air cleaning which has conventionally been limited to the removal of fine particles in the air to be a molecular level cleaning. It is significantly improved compared to the past. As a result of the stable improvement of the air cleanliness as described above, the efficiency of semiconductor manufacturing performed in the room 23 is improved. Furthermore,
Since the amount of dust and dust to be adsorbed by the adsorbent-containing filter 29 is reduced, the life of the adsorbent is extended and the running cost of the clean room 20 is greatly reduced.

【0027】また、本実施例のリターンダクト42,4
3は、上板部42c,43cが他の側板部42a,43
aおよび底板部42b,43bで構成される部分から容
易に取り外しできる構造とされている。このため、上板
部42c,43cを取り外して定期的にリターンダクト
42,43の内面を清掃することによりダクト内面が高
清浄に維持され、上述した空気清浄度の向上の効果を長
期間継続することができる。
The return ducts 42 and 4 of this embodiment are also provided.
3, the upper plate portions 42c, 43c are the other side plate portions 42a, 43c.
It has a structure that can be easily removed from the portion formed by a and the bottom plate portions 42b and 43b. Therefore, by removing the upper plate portions 42c and 43c and regularly cleaning the inner surfaces of the return ducts 42 and 43, the inner surfaces of the ducts are kept highly clean, and the above-described effect of improving the air cleanliness is continued for a long time. be able to.

【0028】更に、循環する空気が機器室41内を流通
しないことから、機械室41を構成する床面20aおよ
び側面20cの大部分、更に機器室41内のバックアッ
プシステム27、配管32、配線33等の表面について
防塵処理が不要となる。このため、クリーンルーム20
の建造に際しては、建造コストの低減を図ることができ
る。
Further, since the circulating air does not flow in the equipment room 41, most of the floor surface 20a and the side surface 20c constituting the machine room 41, the backup system 27 in the equipment room 41, the piping 32, and the wiring 33 are further provided. Dust-proofing is not required on the surface of such as. Therefore, the clean room 20
When constructing, the construction cost can be reduced.

【0029】また、本実施例では図1、図2に示すよう
に、リターンダクト42,43の下部を、クリーンルー
ム20の外部とバックアップシステム27および製造機
器26とを結ぶ配管32、配線33等の配管ゾーンとし
た。このため、機器室41は、リターンダクト42,4
3の長手方向に沿う配管が集約されて配設され、図3に
示すように平面上、バックアップシステム27の各機器
27bと配管ゾーンへ向かう配管、配線35を主体とし
て配置することができる。従って、機器室41のスペー
スを有効に利用することができる。
In this embodiment, as shown in FIGS. 1 and 2, the lower portions of the return ducts 42 and 43 are connected to the outside of the clean room 20 and the backup system 27 and the manufacturing equipment 26 such as piping 32 and wiring 33. It was used as a piping zone. Therefore, the equipment room 41 has the return ducts 42, 4
The pipes along the longitudinal direction of 3 are collectively arranged, and as shown in FIG. 3, each device 27b of the backup system 27, the pipes toward the pipe zone, and the wiring 35 can be mainly arranged. Therefore, the space of the equipment room 41 can be effectively used.

【0030】尚、上記実施例においては、スラブ25の
開口部25bと配管および配線との間に隙間が形成され
ているが、本発明は上記実施例に限定されるものではな
く、上記隙間を塞ぐ構成としてもよい。この場合、アセ
ッンブルフロア24とスラブ25間の隙間48と、機器
室41内とが完全に分離されるため、上述した循環空気
とバックアップシステム27の接触防止による効果をよ
り効果的とすることができる。また、スラブ25の上面
全体にも表面粗度を滑らかに処理したステンレスプレー
トを敷設することにより、循環空気はアセッンブルフロ
ア48を通過してからリターンダクト42,43に到る
までの間においても上記有害ガスおよび埃塵類の混入が
防止され、空気清浄度を更に向上させることができる。
Although a gap is formed between the opening 25b of the slab 25 and the pipe and wiring in the above-mentioned embodiment, the present invention is not limited to the above-mentioned embodiment, and the above-mentioned gap is formed. It may be closed. In this case, since the gap 48 between the assemble floor 24 and the slab 25 and the inside of the equipment chamber 41 are completely separated, the effect of preventing the contact between the circulating air and the backup system 27 described above can be made more effective. it can. Further, by laying a stainless steel plate having a smooth surface roughness on the entire upper surface of the slab 25, the circulating air can pass between the assembly floor 48 and the return ducts 42, 43. It is possible to prevent the harmful gas and dust from being mixed, and further improve the air cleanliness.

【0031】[0031]

【発明の効果】上述の如く、本発明によれば、室内を通
った空気は、床板とスラブとの間の空間内に設置された
機器と接触することなく高清浄の内面を有するリターン
ダクトを通って循環されるため、従来の如くスラブ下の
空間において揮発した空気清浄に有害なガスおよび埃塵
類が空気へ混入することを防止でき、クリーンルームの
空気の清浄度を従来に比べて格段に向上させることがで
きる。
As described above, according to the present invention, the air that has passed through the room does not come into contact with the equipment installed in the space between the floor plate and the slab and the return duct having a highly clean inner surface is provided. Since it circulates through, it is possible to prevent gas and dust that are harmful to the air cleaning that have volatilized in the space below the slab from mixing into the air as in the conventional case, and the cleanliness of the air in the clean room is markedly improved compared to the conventional case. Can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明になるクリーンルームの一実施例の構成
断面図である。
FIG. 1 is a sectional view showing the configuration of an embodiment of a clean room according to the present invention.

【図2】図1中、II−II線に沿う断面図である。FIG. 2 is a sectional view taken along the line II-II in FIG.

【図3】図1中、 III−III 線に沿う断面図である。FIG. 3 is a sectional view taken along line III-III in FIG.

【図4】従来のクリーンルームの一例の構成図である。FIG. 4 is a configuration diagram of an example of a conventional clean room.

【符号の説明】 20 クリーンルーム 20a 床面 20b 天井面 22 HEPAフィルタ 23 室内 24 アセッンブルフロア 25 スラブ 25a,25b 開口部 26 製造装置 27 バックアップシステム 27a 真空ポンプ 27b 機器 28 空調装置 28a 送風器 29 吸着剤入りフィルタ 30,31 支柱 40 空間 41 機器室 42,43,46,47 リターンダクト 42a,43a 側板部 42b,43b 底板部 42c,43c 上板部 44,45 ダンパ 46a,46b ダクト 47 天井部空間 48 隙間[Explanation of Codes] 20 Clean Room 20a Floor Surface 20b Ceiling Surface 22 HEPA Filter 23 Indoor Room 24 Assemble Floor 25 Slab 25a, 25b Opening 26 Manufacturing Equipment 27 Backup System 27a Vacuum Pump 27b Equipment 28 Air Conditioner 28a Blower 29 With Adsorbent Filter 30, 31 Strut 40 Space 41 Equipment room 42, 43, 46, 47 Return duct 42a, 43a Side plate 42b, 43b Bottom plate 42c, 43c Upper plate 44, 45 Damper 46a, 46b Duct 47 Ceiling space 48 Gap

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 床面(20a)から所定高さ寸法の位置
に床板であるスラブ(25)を敷設してなり、かつ、該
床面(20a)と該スラブ(25)との間の空間(4
0)に、室内(23)で行われる作業に必要な機器(2
7)が設置されたダウンフロー方式のクリーンルームに
おいて、 前記空間(40)に、前記室内(23)を通った空気を
集めて該空気を送風器(28a)入口側へ戻すリターン
ダクト(42,43)を設けると共に、 該リターンダクト(42,43)の内面を高清浄な構成
としたことを特徴とするクリーンルーム。
1. A slab (25), which is a floor plate, is laid at a position having a predetermined height from the floor surface (20a), and a space between the floor surface (20a) and the slab (25). (4
0) equipment (2) necessary for the work performed in the room (23)
In a downflow type clean room in which 7) is installed, a return duct (42, 43) that collects air that has passed through the room (23) and returns the air to the inlet side of the blower (28a) in the space (40). ) Is provided and the inner surfaces of the return ducts (42, 43) are made highly clean.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN105675325A (en) * 2016-01-22 2016-06-15 广州澳企实验室技术股份有限公司 Aerosol tank for detecting air purifier

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