JPH05135690A - シヤドウマスクの製造方法 - Google Patents
シヤドウマスクの製造方法Info
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- JPH05135690A JPH05135690A JP29946391A JP29946391A JPH05135690A JP H05135690 A JPH05135690 A JP H05135690A JP 29946391 A JP29946391 A JP 29946391A JP 29946391 A JP29946391 A JP 29946391A JP H05135690 A JPH05135690 A JP H05135690A
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- photosensitive film
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 シャドウマスク素材20に感光剤を塗布し乾燥
して感光膜21を形成したのち、順次露光、現像、バーニ
ング、エッチング工程を経てシャドウマスク素材に多数
の電子ビーム通過孔8 を形成するシャドウマスクの製造
方法において、感光膜の膜厚を５．０〜６．０μm と
し、現像工程で液圧１kg/cm 2 以下、液流量１．５l/mi
n 以下のスプレーにより膜厚の変化の少ないソフト現像
をおこなうようにした。 【効果】 現像工程での部分的な感光膜の膜厚の減少を
軽減かつ未感光部の溶出量を少なくして、孔径のばらつ
きに基づく孔むらや孔形状の劣化を軽減できる。
して感光膜21を形成したのち、順次露光、現像、バーニ
ング、エッチング工程を経てシャドウマスク素材に多数
の電子ビーム通過孔8 を形成するシャドウマスクの製造
方法において、感光膜の膜厚を５．０〜６．０μm と
し、現像工程で液圧１kg/cm 2 以下、液流量１．５l/mi
n 以下のスプレーにより膜厚の変化の少ないソフト現像
をおこなうようにした。 【効果】 現像工程での部分的な感光膜の膜厚の減少を
軽減かつ未感光部の溶出量を少なくして、孔径のばらつ
きに基づく孔むらや孔形状の劣化を軽減できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、カラーブラウン管用
シャドウマスクの製造方法に係り、特に高精細ディスプ
レイ管などに好適なシャドウマスクの製造方法に関す
る。
シャドウマスクの製造方法に係り、特に高精細ディスプ
レイ管などに好適なシャドウマスクの製造方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】一般にカラーブラウン管は、図３に示す
ように、パネル1 およびこのパネル1に一体に接合され
たファンネル2 からなる外囲器を有し、そのパネル1 内
面に形成された青、緑、赤に発光する３色蛍光体層から
なる蛍光体スクリーン3 に対向して、その内側にシャド
ウマスク4 が装着されている。
ように、パネル1 およびこのパネル1に一体に接合され
たファンネル2 からなる外囲器を有し、そのパネル1 内
面に形成された青、緑、赤に発光する３色蛍光体層から
なる蛍光体スクリーン3 に対向して、その内側にシャド
ウマスク4 が装着されている。
【０００３】このシャドウマスク4 は、ファンネル2 の
ネック5内に配置された電子銃6 から放出される３電子
ビーム7B，7G，7Rを選別して上記３色蛍光体層に正しく
ランディングさせるためのものであり、その蛍光体スク
リーン3 と対向する板面には、３色蛍光体層に対応して
多数の電子ビーム通過孔8 が所定の配列で形成されてい
る。一般にこの電子ビーム通過孔8 は、図４に示すよう
に、板状のシャドウマスク素材の一方の面、すなわち蛍
光体スクリーンと対向する面に形成された大孔9 と、他
方の面すなわち電子銃側となる面に形成された小孔10と
からなり、その他方の面に近い位置に電子ビーム通過孔
8 の孔径を規制する最小径部11をもつ形状に形成されて
いる。
ネック5内に配置された電子銃6 から放出される３電子
ビーム7B，7G，7Rを選別して上記３色蛍光体層に正しく
ランディングさせるためのものであり、その蛍光体スク
リーン3 と対向する板面には、３色蛍光体層に対応して
多数の電子ビーム通過孔8 が所定の配列で形成されてい
る。一般にこの電子ビーム通過孔8 は、図４に示すよう
に、板状のシャドウマスク素材の一方の面、すなわち蛍
光体スクリーンと対向する面に形成された大孔9 と、他
方の面すなわち電子銃側となる面に形成された小孔10と
からなり、その他方の面に近い位置に電子ビーム通過孔
8 の孔径を規制する最小径部11をもつ形状に形成されて
いる。
【０００４】ところで、現在カラーブラウン管には、一
般のテレビ受像用カラーブラウン管のほかに、モニター
用やディスプレイ用などのカラーブラウン管がある。特
にこのモニター用やディスプレイ用カラーブラウン管で
は、精細な画像や文字などを表示するために、一般のテ
レビ受像用カラーブラウン管のシャドウマスクよりも、
高精度かつ微細な電子ビーム通過孔をもつシャドウマス
クが要求されている。その一例では、電子ビーム通過孔
の孔径（最小径部径）が０．１１５mm、電子ビーム通過
孔の配列ピッチが０．２５０mmであり、より細かいもの
では、孔径が０．０９０mm、配列ピッチが０．２００mm
であり、孔径のばらつきは、約±０．３μm である。
般のテレビ受像用カラーブラウン管のほかに、モニター
用やディスプレイ用などのカラーブラウン管がある。特
にこのモニター用やディスプレイ用カラーブラウン管で
は、精細な画像や文字などを表示するために、一般のテ
レビ受像用カラーブラウン管のシャドウマスクよりも、
高精度かつ微細な電子ビーム通過孔をもつシャドウマス
クが要求されている。その一例では、電子ビーム通過孔
の孔径（最小径部径）が０．１１５mm、電子ビーム通過
孔の配列ピッチが０．２５０mmであり、より細かいもの
では、孔径が０．０９０mm、配列ピッチが０．２００mm
であり、孔径のばらつきは、約±０．３μm である。
【０００５】従来よりこのような高精度かつ微細な電子
ビーム通過孔をもつシャドウマスクは、フォトエッチン
グ法により製造されている。すなわち、最初に板状のシ
ャドウマスク素材の両面を洗浄し、その洗浄した両面に
カゼインと重クロム酸アンモニウムとを主成分とする感
光剤を塗布し乾燥して、膜厚７．０〜１０．０μm の感
光膜を形成する。つぎに形成しようとする電子ビーム通
過孔に対応する大孔形成用パターンおよび小孔形成用パ
ターンの形成された一対のネガ原版をその両面の感光膜
に密着して露光し、上記両面の感光膜に一対のネガ原版
のパターンを焼付ける。つぎにこのパターンの焼付けら
れた感光膜に約４０℃の温水を約１分間スプレイして未
感光部を除去する現像をおこない、さらに界面活性剤溶
液を用いて水切りをおこない、シャドウマスク素材の一
方の面にネガ原版のパターンに対応するパターンからな
る大孔形成用レジスト膜を、他方の面に小孔形成用レジ
スト膜を形成する。つぎにその両面のレジスト膜を１５
０℃の雰囲気で約３０秒乾燥し、ついで２００℃の雰囲
気で約３０秒バーニングしてレジスト膜を硬化する。
ビーム通過孔をもつシャドウマスクは、フォトエッチン
グ法により製造されている。すなわち、最初に板状のシ
ャドウマスク素材の両面を洗浄し、その洗浄した両面に
カゼインと重クロム酸アンモニウムとを主成分とする感
光剤を塗布し乾燥して、膜厚７．０〜１０．０μm の感
光膜を形成する。つぎに形成しようとする電子ビーム通
過孔に対応する大孔形成用パターンおよび小孔形成用パ
ターンの形成された一対のネガ原版をその両面の感光膜
に密着して露光し、上記両面の感光膜に一対のネガ原版
のパターンを焼付ける。つぎにこのパターンの焼付けら
れた感光膜に約４０℃の温水を約１分間スプレイして未
感光部を除去する現像をおこない、さらに界面活性剤溶
液を用いて水切りをおこない、シャドウマスク素材の一
方の面にネガ原版のパターンに対応するパターンからな
る大孔形成用レジスト膜を、他方の面に小孔形成用レジ
スト膜を形成する。つぎにその両面のレジスト膜を１５
０℃の雰囲気で約３０秒乾燥し、ついで２００℃の雰囲
気で約３０秒バーニングしてレジスト膜を硬化する。
【０００６】その後、２段エッチング法といわれる方法
により、まず最初に小孔形成用レジスト膜の形成された
他方の面側からエッチング液をスプレーして小孔を形成
し、ついで大孔形成用レジストの形成されたシャドウマ
スク素材の一方の面側からエッチング液をスプレーし
て、上記小孔に連通する大孔を形成することにより製造
している。
により、まず最初に小孔形成用レジスト膜の形成された
他方の面側からエッチング液をスプレーして小孔を形成
し、ついで大孔形成用レジストの形成されたシャドウマ
スク素材の一方の面側からエッチング液をスプレーし
て、上記小孔に連通する大孔を形成することにより製造
している。
【０００７】このような方法によりシャドウマスクを製
造するとき、上記高精度かつ微細な電子ビーム通過孔を
もつシャドウマスクの寸法精度を厳密に制御するうえに
必要な条件は、ネガ原版のパターンをシャドウマスク素
材に形成した感光膜に如何に忠実に転写するかにかかっ
ており、その忠実な転写は、シャドウマスクの製造工程
のうち、エッチング工程に入るまでの製造方法に依存す
るところが大である。
造するとき、上記高精度かつ微細な電子ビーム通過孔を
もつシャドウマスクの寸法精度を厳密に制御するうえに
必要な条件は、ネガ原版のパターンをシャドウマスク素
材に形成した感光膜に如何に忠実に転写するかにかかっ
ており、その忠実な転写は、シャドウマスクの製造工程
のうち、エッチング工程に入るまでの製造方法に依存す
るところが大である。
【０００８】上記製造方法において、従来、特に感光膜
の膜厚を７．０〜１０．０μm に制御している理由は、
エッチング工程での十分な耐エッチング性を付与するた
めであり、感光膜の膜厚がそれよりも薄いと、物理的に
膜強度が低下して耐エッチング性が劣化し、レジスト膜
に亀裂が発生して正常な孔径が得られないこと、および
欠陥孔が多数発生するためである。
の膜厚を７．０〜１０．０μm に制御している理由は、
エッチング工程での十分な耐エッチング性を付与するた
めであり、感光膜の膜厚がそれよりも薄いと、物理的に
膜強度が低下して耐エッチング性が劣化し、レジスト膜
に亀裂が発生して正常な孔径が得られないこと、および
欠陥孔が多数発生するためである。
【０００９】しかし、上記のように感光膜の膜厚が７．
０〜１０．０μm であると、現像工程での温水現像によ
り部分的に感光膜の膜厚が１μm 程度減少する膜減り現
象が発生し、エッチング後、ミクロ的な孔径のばらつき
による孔むらを生じ、マクロ的にはユニフォーミティの
劣化となって現れる。この部分的な膜減り現象に起因す
る不良の発生は、単純に露光量を増大したり、あるいは
現像水の温度を下げても解決されない。
０〜１０．０μm であると、現像工程での温水現像によ
り部分的に感光膜の膜厚が１μm 程度減少する膜減り現
象が発生し、エッチング後、ミクロ的な孔径のばらつき
による孔むらを生じ、マクロ的にはユニフォーミティの
劣化となって現れる。この部分的な膜減り現象に起因す
る不良の発生は、単純に露光量を増大したり、あるいは
現像水の温度を下げても解決されない。
【００１０】また、感光膜の膜厚が７．０〜１０．０μ
m であると、現像時に未感光部の溶出量が多く、レジス
トのパターンの形状がくずれ、エッチング後、むらとな
って現れるなどの問題がある。
m であると、現像時に未感光部の溶出量が多く、レジス
トのパターンの形状がくずれ、エッチング後、むらとな
って現れるなどの問題がある。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】上記のように、従来高
精度かつ微細な電子ビーム通過孔をもつシャドウマスク
の製造方法として、シャドウマスク素材の両面に膜厚が
７．０〜１０．０μm の感光膜を塗布形成し、露光後、
約４０℃の温水で現像してシャドウマスク素材の両面に
所定パターンのレジスト膜を形成する方法がある。
精度かつ微細な電子ビーム通過孔をもつシャドウマスク
の製造方法として、シャドウマスク素材の両面に膜厚が
７．０〜１０．０μm の感光膜を塗布形成し、露光後、
約４０℃の温水で現像してシャドウマスク素材の両面に
所定パターンのレジスト膜を形成する方法がある。
【００１２】しかし、この従来の方法のように感光膜の
膜厚を７．０〜１０．０μm とすると、現像工程での温
水現像により部分的に感光膜の膜厚が減少する膜減り現
象が生じ、エッチング後、ミクロ的には孔径のばらつき
による孔むらが発生し、マクロ的にユニフォーミティの
劣化となって現れる。また現像時に未感光部の溶出量が
多く、レジストのパターンの形状がくずれ、エッチング
後、むらとなって現れるなどの問題が生ずる。
膜厚を７．０〜１０．０μm とすると、現像工程での温
水現像により部分的に感光膜の膜厚が減少する膜減り現
象が生じ、エッチング後、ミクロ的には孔径のばらつき
による孔むらが発生し、マクロ的にユニフォーミティの
劣化となって現れる。また現像時に未感光部の溶出量が
多く、レジストのパターンの形状がくずれ、エッチング
後、むらとなって現れるなどの問題が生ずる。
【００１３】この発明は、上記問題点を解決するために
なされたものであり、感光膜の膜厚および現像方法を制
御して、高精度かつ微細な電子ビーム通過孔をもつシャ
ドウマスクを歩留りよく製造できる方法を得ることを目
的とする。
なされたものであり、感光膜の膜厚および現像方法を制
御して、高精度かつ微細な電子ビーム通過孔をもつシャ
ドウマスクを歩留りよく製造できる方法を得ることを目
的とする。
【００１４】
【課題を解決するための手段】シャドウマスク素材に感
光剤を塗布し乾燥して感光膜を形成したのち、順次露
光、現像、バーニング、エッチング工程を経て、シャド
ウマスク素材に多数の電子ビーム通過孔を形成するシャ
ドウマスクの製造方法において、感光膜の膜厚を５．０
〜６．０μm とし、現像工程で液圧１kg/cm 2 以下、液
流量１．５l/min以下のスプレーにより膜厚の変化の少
ないソフト現像をおこなうようにした。
光剤を塗布し乾燥して感光膜を形成したのち、順次露
光、現像、バーニング、エッチング工程を経て、シャド
ウマスク素材に多数の電子ビーム通過孔を形成するシャ
ドウマスクの製造方法において、感光膜の膜厚を５．０
〜６．０μm とし、現像工程で液圧１kg/cm 2 以下、液
流量１．５l/min以下のスプレーにより膜厚の変化の少
ないソフト現像をおこなうようにした。
【００１５】
【作用】上記のように、シャドウマスク素材に塗布形成
する感光膜の膜厚を５．０〜６．０μm とし、露光後の
現像をソフト現像にすると、現像工程での部分的な感光
膜の膜厚の減少を軽減でき、かつ現像時の未感光部の溶
出量を少なくして、孔径のばらつきに基づく孔むらや孔
形状の劣化を軽減できる。
する感光膜の膜厚を５．０〜６．０μm とし、露光後の
現像をソフト現像にすると、現像工程での部分的な感光
膜の膜厚の減少を軽減でき、かつ現像時の未感光部の溶
出量を少なくして、孔径のばらつきに基づく孔むらや孔
形状の劣化を軽減できる。
【００１６】
【実施例】以下、図面を参照してこの発明を実施例に基
づいて説明する。
づいて説明する。
【００１７】図１にその一実施例であるシャドウマスク
の製造方法を示す。まず、アンバーあるいはアルミキル
ド鋼などからなる帯板状のシャドウマスク素材を洗浄
し、図１（ａ）に示すように、その洗浄したシャドウマ
スク素材20の両面に、カゼインと重クロム酸アンモニウ
ムとを主成分とする感光剤を塗布し乾燥して、膜厚５．
０〜６．０μm 感光膜21を形成する。つぎに同（ｂ）に
示すように、形成しようとする電子ビーム通過孔に対応
する大孔形成用パターンおよび小孔形成用パターンの形
成された一対のネガ原版22a ，22b をその両面の感光膜
21に密着して露光し、両面の感光膜21に一対のネガ原版
22a ，22b のパターンを焼付ける。この露光は、たとえ
ば５kWの水銀ランプを感光膜21から約１m 離れた位置に
配置し、約４０秒露光することによりおこなわれる。つ
ぎに、このパターンの焼付けられた感光膜に約４０℃の
温水を約１分間、１kg/cm 2 の圧力、１．５ l/minの液
流量でスプレー（ソフト現像）して未感光部を除去する
現像をおこない、さらに界面活性剤溶液を用いて水切り
をおこなって、同（ｃ）に示すように、シャドウマスク
素材20の一方の面にネガ原版22a ，22b のパターンに対
応するパターンからなる大孔形成用レジスト膜23a を、
他方の面に小孔形成用レジスト膜23bを形成する。つぎ
にその両面のレジスト膜23a ，23b を１５０℃の雰囲気
で約３０秒乾燥し、ついで２００℃の雰囲気で約３０秒
バーニングして両面のレジスト膜23a ，23b を硬化す
る。
の製造方法を示す。まず、アンバーあるいはアルミキル
ド鋼などからなる帯板状のシャドウマスク素材を洗浄
し、図１（ａ）に示すように、その洗浄したシャドウマ
スク素材20の両面に、カゼインと重クロム酸アンモニウ
ムとを主成分とする感光剤を塗布し乾燥して、膜厚５．
０〜６．０μm 感光膜21を形成する。つぎに同（ｂ）に
示すように、形成しようとする電子ビーム通過孔に対応
する大孔形成用パターンおよび小孔形成用パターンの形
成された一対のネガ原版22a ，22b をその両面の感光膜
21に密着して露光し、両面の感光膜21に一対のネガ原版
22a ，22b のパターンを焼付ける。この露光は、たとえ
ば５kWの水銀ランプを感光膜21から約１m 離れた位置に
配置し、約４０秒露光することによりおこなわれる。つ
ぎに、このパターンの焼付けられた感光膜に約４０℃の
温水を約１分間、１kg/cm 2 の圧力、１．５ l/minの液
流量でスプレー（ソフト現像）して未感光部を除去する
現像をおこない、さらに界面活性剤溶液を用いて水切り
をおこなって、同（ｃ）に示すように、シャドウマスク
素材20の一方の面にネガ原版22a ，22b のパターンに対
応するパターンからなる大孔形成用レジスト膜23a を、
他方の面に小孔形成用レジスト膜23bを形成する。つぎ
にその両面のレジスト膜23a ，23b を１５０℃の雰囲気
で約３０秒乾燥し、ついで２００℃の雰囲気で約３０秒
バーニングして両面のレジスト膜23a ，23b を硬化す
る。
【００１８】その後、２段エッチング法によりエッチン
グをおこなう。まず同（ｄ）に示すように、大孔形成用
レジスト膜23a の形成されたシャドウマスク素材20の一
方の面側に、ポリエステル樹脂などからなるエッチング
保護フィルム24を貼着し、小孔形成用レジスト膜23b の
形成された他方の面を下向きにし、この他方の面側にエ
ッチング液をスプレーして小孔10を形成する。ついで苛
性アルカリ溶液をスプレーして、小孔形成用レジスト膜
23b を剥離し、水洗、乾燥後、同（ｅ）に示すように、
その小孔形成用レジスト膜の剥離された他方の面に、パ
ラフィン、ラッカーなどの抗エッチング剤を塗布して、
形成された小孔に埋込むように抗エッチング層25を形成
する。ついで大孔形成用レジスト膜23a の形成されたシ
ャドウマスク素材20の一方の面側に貼着したエッチング
保護フィルムを剥離する。そして、その一方の面を下向
きにし、この一方の面側にエッチング液をスプレーし
て、上記小孔11に連通する大孔9 を形成する。その後、
苛性アルカリ溶液をスプレーして、他方の面に設けられ
ている抗エッチング層25および大孔形成用レジスト膜23
a を剥離し、同（ｆ）に示すように、一方の面から開孔
した大孔9 と他方の面から開孔した小孔11とが連通した
電子ビーム通過孔8 の形成された平板状のフラットマス
ク26を製造する。
グをおこなう。まず同（ｄ）に示すように、大孔形成用
レジスト膜23a の形成されたシャドウマスク素材20の一
方の面側に、ポリエステル樹脂などからなるエッチング
保護フィルム24を貼着し、小孔形成用レジスト膜23b の
形成された他方の面を下向きにし、この他方の面側にエ
ッチング液をスプレーして小孔10を形成する。ついで苛
性アルカリ溶液をスプレーして、小孔形成用レジスト膜
23b を剥離し、水洗、乾燥後、同（ｅ）に示すように、
その小孔形成用レジスト膜の剥離された他方の面に、パ
ラフィン、ラッカーなどの抗エッチング剤を塗布して、
形成された小孔に埋込むように抗エッチング層25を形成
する。ついで大孔形成用レジスト膜23a の形成されたシ
ャドウマスク素材20の一方の面側に貼着したエッチング
保護フィルムを剥離する。そして、その一方の面を下向
きにし、この一方の面側にエッチング液をスプレーし
て、上記小孔11に連通する大孔9 を形成する。その後、
苛性アルカリ溶液をスプレーして、他方の面に設けられ
ている抗エッチング層25および大孔形成用レジスト膜23
a を剥離し、同（ｆ）に示すように、一方の面から開孔
した大孔9 と他方の面から開孔した小孔11とが連通した
電子ビーム通過孔8 の形成された平板状のフラットマス
ク26を製造する。
【００１９】所要のシャドウマスクは、上記方法により
製造されたフラットマスク26をプレス成形することによ
り得られる。
製造されたフラットマスク26をプレス成形することによ
り得られる。
【００２０】このシャドウマスクの製造方法が従来のシ
ャドウマスクの製造方法と異なる点は、最初にシャドウ
マスク素材20の両面に形成する感光膜21の膜厚を５．０
〜６．０μm と、従来の製造方法における膜厚よりも薄
くし、かつ露光後の現像をソフト現像でおこなわれるこ
とにある。
ャドウマスクの製造方法と異なる点は、最初にシャドウ
マスク素材20の両面に形成する感光膜21の膜厚を５．０
〜６．０μm と、従来の製造方法における膜厚よりも薄
くし、かつ露光後の現像をソフト現像でおこなわれるこ
とにある。
【００２１】図２に従来の現像工程でおこなわれていた
スプレーと本発明におけるソフト現像でのスプレーとの
相違を示す。従来の現像工程でのスプレーは、曲線28に
示すようにスプレー液に０．５kg/cm 2 の圧力を加えた
とき、約１．２５ l/minの液流量、１．０kg/cm 2 の圧
力を加えたとき、約１．８ l/minの液流量、３．０kg/c
m 2 の圧力を加えたとき、約３．２ l/minの液流量が得
られるように調整されていたが、本発明におけるソフト
現像でのスプレーでは、曲線29に示すようにスプレー液
に０．５kg/cm 2 の圧力を加えたとき、約１．１ l/min
の液流量、１．０kg/cm 2 の圧力を加えたとき、約１．
５ l/minの液流量、３．０kg/cm 2 の圧力を加えたと
き、約２．９ l/minの液流量が得られるように調整され
る。
スプレーと本発明におけるソフト現像でのスプレーとの
相違を示す。従来の現像工程でのスプレーは、曲線28に
示すようにスプレー液に０．５kg/cm 2 の圧力を加えた
とき、約１．２５ l/minの液流量、１．０kg/cm 2 の圧
力を加えたとき、約１．８ l/minの液流量、３．０kg/c
m 2 の圧力を加えたとき、約３．２ l/minの液流量が得
られるように調整されていたが、本発明におけるソフト
現像でのスプレーでは、曲線29に示すようにスプレー液
に０．５kg/cm 2 の圧力を加えたとき、約１．１ l/min
の液流量、１．０kg/cm 2 の圧力を加えたとき、約１．
５ l/minの液流量、３．０kg/cm 2 の圧力を加えたと
き、約２．９ l/minの液流量が得られるように調整され
る。
【００２２】ところで、上記のようにシャドウマスク素
材20の両面に形成する感光膜21の膜厚を５．０〜６．０
μm とし、露光後の現像を圧力１kg/cm 2 、流量１．５
l/minとしたスプレーでおこなうと、従来発生した現像
工程での感光膜の膜減りを抑制しかつ未感光部の溶出量
を少なくして、電子ビーム通過孔8 の孔形状を損なわな
い所要のシャドウマスクとすることができる。
材20の両面に形成する感光膜21の膜厚を５．０〜６．０
μm とし、露光後の現像を圧力１kg/cm 2 、流量１．５
l/minとしたスプレーでおこなうと、従来発生した現像
工程での感光膜の膜減りを抑制しかつ未感光部の溶出量
を少なくして、電子ビーム通過孔8 の孔形状を損なわな
い所要のシャドウマスクとすることができる。
【００２３】表１に電子ビーム通過孔の孔径が０．１１
５mm、電子ビーム通過孔の配列ピッチが０．２５mmの１
７インチ・カラー受像管用シャドウマスクに対するこの
例の製造方法と従来の製造方法とを比較して示す。
５mm、電子ビーム通過孔の配列ピッチが０．２５mmの１
７インチ・カラー受像管用シャドウマスクに対するこの
例の製造方法と従来の製造方法とを比較して示す。
【００２４】
【表１】
【００２５】この表に示されているように従来の製造方
法では、現像工程で感光膜の膜厚が部分的に約１μm 減
少し、その結果生ずる孔むらや未感光部の溶出量が多い
ために生ずるレジストのパターン形状の変化のために、
電子ビーム通過孔の孔形状が損なわれ、２０〜３０％程
度の良品率しか得られなかったが、この例の製造方法で
は、感光膜の膜厚の変化がほとんどなく、その結果、孔
形状が良好となり、その他孔欠点、むらなども軽減さ
れ、８０〜９５％の良品率となった。
法では、現像工程で感光膜の膜厚が部分的に約１μm 減
少し、その結果生ずる孔むらや未感光部の溶出量が多い
ために生ずるレジストのパターン形状の変化のために、
電子ビーム通過孔の孔形状が損なわれ、２０〜３０％程
度の良品率しか得られなかったが、この例の製造方法で
は、感光膜の膜厚の変化がほとんどなく、その結果、孔
形状が良好となり、その他孔欠点、むらなども軽減さ
れ、８０〜９５％の良品率となった。
【００２６】なお、上記実施例では、露光後の現像を、
圧力１kg/cm 2 、流量１．５ l/minとしたスプレーでお
こなったが、この現像は、圧力１kg/cm 2 以下、流量
１．５l/min以下でおこなっても、同様の結果が得られ
る。
圧力１kg/cm 2 、流量１．５ l/minとしたスプレーでお
こなったが、この現像は、圧力１kg/cm 2 以下、流量
１．５l/min以下でおこなっても、同様の結果が得られ
る。
【００２７】
【発明の効果】シャドウマスク素材に感光剤を塗布し乾
燥して感光膜を形成したのち、順次露光、現像、バーニ
ング、エッチング工程を経て、シャドウマスク素材に多
数の電子ビーム通過孔を形成するに当り、感光膜の膜厚
を５．０〜６．０μm とし、現像工程で液圧１kg/cm 2
以下、液流量１．５l/min 以下のスプレーにより膜厚の
変化の少ないソフト現像をおこなうと、現像工程での部
分的な感光膜の膜厚の減少を軽減でき、かつ現像時の未
感光部の溶出量を少なくして、孔径のばらつきに基づく
孔むらや孔形状の劣化を軽減でき、所要のシャドウマス
クを歩留りよく製造することができる。
燥して感光膜を形成したのち、順次露光、現像、バーニ
ング、エッチング工程を経て、シャドウマスク素材に多
数の電子ビーム通過孔を形成するに当り、感光膜の膜厚
を５．０〜６．０μm とし、現像工程で液圧１kg/cm 2
以下、液流量１．５l/min 以下のスプレーにより膜厚の
変化の少ないソフト現像をおこなうと、現像工程での部
分的な感光膜の膜厚の減少を軽減でき、かつ現像時の未
感光部の溶出量を少なくして、孔径のばらつきに基づく
孔むらや孔形状の劣化を軽減でき、所要のシャドウマス
クを歩留りよく製造することができる。
【図１】図１（ａ）乃至（ｆ）はそれぞれこの発明の一
実施例であるシャドウマスクの製造方法を説明するため
の図である。
実施例であるシャドウマスクの製造方法を説明するため
の図である。
【図２】その現像工程でのスプレーを説明するための図
である。
である。
【図３】カラー受像管の構成を示す図である。
【図４】そのシャドウマスクの電子ビーム通過孔の形状
を示す図である。
を示す図である。
8 …電子ビーム通過孔 9 …大孔 10…小孔 20…シャドウマスク素材 21…感光膜 22a ，22b …ネガ原版 23a ，23b …レジスト膜 26…フラットマスク
Claims (1)
- 【請求項１】 シャドウマスク素材に感光剤を塗布し乾
燥して感光膜を形成したのち、順次露光、現像、バーニ
ング、エッチング工程を経て、上記シャドウマスク素材
に多数の電子ビーム通過孔を形成するシャドウマスクの
製造方法において、 上記感光膜の膜厚を５．０〜６．０μm とし、上記現像
工程で液圧１kg/cm 2 以下、液流量１．５l/min 以下の
スプレーにより上記膜厚の変化の少ないソフト現像をお
こなうことを特徴とするシャドウマスクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29946391A JPH05135690A (ja) | 1991-11-15 | 1991-11-15 | シヤドウマスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29946391A JPH05135690A (ja) | 1991-11-15 | 1991-11-15 | シヤドウマスクの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05135690A true JPH05135690A (ja) | 1993-06-01 |
Family
ID=17872902
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29946391A Pending JPH05135690A (ja) | 1991-11-15 | 1991-11-15 | シヤドウマスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05135690A (ja) |
-
1991
- 1991-11-15 JP JP29946391A patent/JPH05135690A/ja active Pending
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