JPH05131290A - Detergent composition for solder flux - Google Patents

Detergent composition for solder flux

Info

Publication number
JPH05131290A
JPH05131290A JP32130791A JP32130791A JPH05131290A JP H05131290 A JPH05131290 A JP H05131290A JP 32130791 A JP32130791 A JP 32130791A JP 32130791 A JP32130791 A JP 32130791A JP H05131290 A JPH05131290 A JP H05131290A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ether
glycol
group
examples
solder flux
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP32130791A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takakazu Imai
尭一 今井
Kazuo Kusano
和夫 草野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sanyo Chemical Industries Ltd
Original Assignee
Sanyo Chemical Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sanyo Chemical Industries Ltd filed Critical Sanyo Chemical Industries Ltd
Priority to JP32130791A priority Critical patent/JPH05131290A/en
Publication of JPH05131290A publication Critical patent/JPH05131290A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
  • Detergent Compositions (AREA)

Abstract

PURPOSE:To provide the detergent for a solder flux which does not destroy environment by specifying components and wt.%. CONSTITUTION:This detergent compsn. for the solder flux consists of 50 to 97wt.% R1O(CmH2mO)mH and 3 to 50wt.% R2O(CH2CH2O)pR3. R1 is 1 to 8C alkyl group, m is an integer from 1 to 5; R2, R3 are 1 to 8C alkyl group.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、ハンダ付けに際して用
いられるフラックスを洗浄する洗浄剤組成物に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a cleaning composition for cleaning flux used in soldering.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、プリント基板には、ハンダ付け後
付着残存するハンダ用フラックス類を除去するためフロ
ン系溶剤が用いられていた。しかし、フロン系溶剤はオ
ゾン層を破壊するという問題があるため、これに代替し
得る洗浄剤の開発が進められており、種々のグリコール
エーテル系洗浄剤が開示されている(例えば、特開昭5
9−134891号および特開平3−97792号公報
記載の洗浄剤)。しかしながら、これら洗浄剤は洗浄
力、毒性、臭気などのすべての要求性能を満たすには不
十分であるというのが現状である。
2. Description of the Related Art Conventionally, a freon-based solvent has been used for a printed circuit board in order to remove solder fluxes remaining after soldering. However, since a CFC-based solvent has a problem of depleting the ozone layer, development of a cleaning agent that can substitute for it is underway, and various glycol ether-based cleaning agents have been disclosed (for example, Japanese Patent Laid-Open Publication No. Sho-Sho). 5
9-134891 and the cleaning agents described in JP-A-3-97792). However, under the present circumstances, these detergents are insufficient to satisfy all required performances such as detergency, toxicity and odor.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、洗浄力に優
れしかも環境特性、毒性、臭気などの点で満足しうる非
ハロゲン系のハンダフラックス用洗浄剤を提供すること
を目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a non-halogen type cleaning agent for solder flux, which has excellent detergency and is satisfactory in environmental characteristics, toxicity and odor.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明者らは上記の問題
点に鑑み、環境を破壊しないハンダフラックスの洗浄に
適する洗浄剤について鋭意研究した結果、本発明を完成
した。
In view of the above problems, the present inventors have conducted intensive studies on a cleaning agent suitable for cleaning solder flux that does not damage the environment, and as a result, completed the present invention.

【0005】即ち、本発明は下記一般式(1)で示され
る化合物(A)と、下記一般式(2)で示される化合物
(B)とからなり、(A)と(B)の合計重量に基づい
て(A)が50〜97重量%、(B)が3〜50重量%
であるハンダフラックス用洗浄剤組成物である。 (A): R1O(Cn2nO)mH (1) (式中、R1は水素または炭素数1〜8のアルキル基ま
たはシクロアルキル基、nは2〜4の整数、mは1〜5
の整数を表す。) (B): R2O(CH2CH2O)p3 (2) (式中、R2、R3、は炭素数1〜8のアルキル基または
シクロアルキル基、pは1〜5の整数を表す。)
That is, the present invention comprises a compound (A) represented by the following general formula (1) and a compound (B) represented by the following general formula (2), and the total weight of (A) and (B): 50 to 97% by weight of (A) and 3 to 50% by weight of (B)
Is a cleaning composition for solder flux. (A): R 1 O (C n H 2n O) m H (1) (In the formula, R 1 is hydrogen or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms or a cycloalkyl group, n is an integer of 2 to 4, m Is 1 to 5
Represents the integer. ) (B): R 2 O (CH 2 CH 2 O) p R 3 (2) (In the formula, R 2 and R 3 are each an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms or a cycloalkyl group, and p is 1 to 5). Represents the integer of.)

【0006】一般式(1)において、R1の炭素数1〜
8のアルキル基としてはメチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、
イソプロピル基、tert−ブチル基、2−エチルヘキ
シル基等があげられ、シクロアルキル基の例としては、
シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル
基等が挙げられる。好ましいものはR1が炭素数3〜5
のアルキル基または炭素数6〜8のシクロアルキル基で
あり、特に好ましいものは炭素数4のアルキル基であ
る。アルキル基の炭素数が8を越えると洗浄性が悪くな
る。式中のCn2nOは、オキシエチレン、オキシプロ
ピレン、オキシブチレンを表す。mは1〜5の整数で好
ましくは2〜3である。mが2〜5の場合、単独、ラン
ダムまたはブロックに付加していても良いが、好ましい
ものはオキシエチレンが必須として付加したものであ
り、特に好ましいものはオキシエチレン単独付加物であ
る。mが5を越えると洗浄性が悪くなる。
In the general formula (1), R 1 has 1 to 10 carbon atoms.
As the alkyl group of 8, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, an octyl group,
Examples thereof include an isopropyl group, a tert-butyl group and a 2-ethylhexyl group, and examples of the cycloalkyl group include:
Examples thereof include a cyclopentyl group, a cyclohexyl group and a cyclooctyl group. Preferred is when R 1 has 3 to 5 carbon atoms.
Or an alkyl group having 6 to 8 carbon atoms, particularly preferably an alkyl group having 4 carbon atoms. If the number of carbon atoms in the alkyl group exceeds 8, the cleaning property will deteriorate. C n H 2n O in the formula represents oxyethylene, oxypropylene, and oxybutylene. m is an integer of 1 to 5, preferably 2 to 3. When m is 2 to 5, it may be added alone, randomly or added to a block, but preferred ones are those in which oxyethylene is essentially added, and particularly preferred are oxyethylene single adducts. If m exceeds 5, the cleaning property will deteriorate.

【0007】一般式(2)において、R2、R3の炭素数
1〜8のアルキル基の例としてはメチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オク
チル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、2−エ
チルヘキシル基等があげられ、シクロアルキル基の例と
しては、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロ
オクチル基等があげられる。本発明においてR2、R3
同一でも異なっていてもよい。R2、R3のうちで好まし
いのは炭素数が1〜2のアルキル基である。アルキル基
の炭素数が8を越えると洗浄性が悪くなる。pは1〜5
の整数で好ましくは2〜3である。pが5を越えると洗
浄性が悪くなる。
In the general formula (2), examples of the alkyl group having 1 to 8 carbon atoms for R 2 and R 3 include a methyl group, an ethyl group,
Examples thereof include a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, an octyl group, an isopropyl group, a tert-butyl group and a 2-ethylhexyl group. Examples of the cycloalkyl group include a cyclopentyl group, a cyclohexyl group and a cyclooctyl group. Can be given. In the present invention, R 2 and R 3 may be the same or different. Of R 2 and R 3 , an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms is preferable. If the number of carbon atoms in the alkyl group exceeds 8, the cleaning property will deteriorate. p is 1 to 5
And is preferably 2 to 3. If p exceeds 5, detergency deteriorates.

【0008】(A)の例としてはエチレングリコール、
ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロ
ピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロ
ピレングリコールなどのグリコール類、エチレングリコ
ールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノペン
チルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテ
ル、エチレングリコールモノオクチルエーテル、ジエチ
レングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコ
ールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノプ
ロピルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエー
テル、ジエチレングリコールモノペンチルエーテル、ジ
エチレングリコールモノヘキシルエーテル、ジエチレン
グリコールモノオクチルエーテル、トリエチレングリコ
ールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノ
プロピルエーテル、トリエチレングリコールモノブチル
エーテル、テトラエチレングリコールモノエチルエーテ
ル、トリエチレングリコールモノペンチルエーテルなど
の(ポリ)エチレングリコールのモノアルキルエーテル
類、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロ
ピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリ
コールモノペンチルエーテル、ジプロピレングリコール
モノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチ
ルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエー
テル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、ジ
プロピレングリコールモノペンチルエーテル、ジエチレ
ングリコールモノヘキシルエーテル、トリプロピレング
リコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコー
ルモノエチルエーテル、トリプロピレングリコールモノ
プロピルエーテル、トリプロピレングリコールモンブチ
ルエーテルなどの(ポリ)プロピレングリコールのモノ
アルキルエーテル類、エチレンジプロピレングリコール
モノメチルエーテル、エチレンジプロピレングリコール
モノプロピルエーテル、エチレンジプロピレングリコー
ルモノブチルエーテル、ジエチレンジプロピレングリコ
ールモノメチルエーテル、ジエチレンジプロピレングリ
コールモノブチルエーテル、ジエチレンプロピレングリ
コールモノプロピルエーテル、ジエチレンプロピレング
リコールモノブチルエーテルなどのエチレングリコール
とプロピレングリコール共重合付加によるモノアルキル
エーテル類およびこれらの混合物等があげられる。
Examples of (A) are ethylene glycol,
Glycols such as diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monopentyl ether, ethylene glycol monohexyl ether, ethylene glycol monooctyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol mono Ethyl ether, diethylene glycol monopropyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monopentyl ether, diethylene glycol monohexyl ether, diethylene glycol monooctyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monopropyl ether (Poly) ethylene glycol monoalkyl ethers such as triethylene glycol monobutyl ether, tetraethylene glycol monoethyl ether, triethylene glycol monopentyl ether, propylene glycol monopropyl ether, propylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monopentyl ether, di Propylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monopropyl ether, dipropylene glycol monobutyl ether, dipropylene glycol monopentyl ether, diethylene glycol monohexyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, tripropylene glycol monoethyl ether, Tripropy (Poly) propylene glycol monoalkyl ethers such as ethylene glycol monopropyl ether and tripropylene glycol monbutyl ether, ethylene dipropylene glycol monomethyl ether, ethylene dipropylene glycol monopropyl ether, ethylene dipropylene glycol monobutyl ether, diethylene dipropylene glycol Examples thereof include monoalkyl ethers such as monomethyl ether, diethylene dipropylene glycol monobutyl ether, diethylene propylene glycol monopropyl ether, and diethylene propylene glycol monobutyl ether, which are obtained by copolymerization addition of ethylene glycol and propylene glycol, and mixtures thereof.

【0009】(B)の例としてはジエチレングリコール
ジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエー
テル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、トリエ
チレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリ
コールジエチルエーテル、トリエチレングリコールジブ
チルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエー
テル、エチレングリコールメチルブチルエーテルなどの
(ポリ)エチレングリコールのジアルキルエーテル類お
よびこれらの混合物などがあげられる。
Examples of (B) include diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dibutyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, triethylene glycol diethyl ether, triethylene glycol dibutyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether and ethylene glycol methyl butyl ether. Examples thereof include dialkyl ethers of poly) ethylene glycol and mixtures thereof.

【0010】本発明の洗浄剤は、(A)と(B)とから
なり、(A)と(B)合計重量に基づいて(A)が50
〜97重量%(B)が3〜50重量%であり、好ましく
は(A)70〜95重量%(B)が5〜30重量%であ
る。この範囲を外れると洗浄性が悪くなる。
The cleaning agent of the present invention comprises (A) and (B), and (A) is 50 based on the total weight of (A) and (B).
˜97 wt% (B) is 3 to 50 wt%, and preferably (A) 70 to 95 wt% (B) is 5 to 30 wt%. If it deviates from this range, the cleaning property will deteriorate.

【0011】本発明の洗浄剤はグリコールエーテル類を
主成分とするものであるが、洗浄剤の浸透性や湿潤性を
高めるために、界面活性剤を含有することも可能であ
る。またさらに難燃化するために水を含有することも可
能である。界面活性剤としては、例えばノニルフェノー
ルのエチレンオキシド付加物、オクチルフェノールのエ
チレンオキシド付加物、ふっ素系界面活性剤(例えば、
パーフルオロアルキルカルボン酸塩、パーフルオロアル
キルエチレンオキシド付加物等)の界面活性剤類等があ
げられ、フッ素系界面活性剤が好ましい。
The detergent of the present invention is mainly composed of glycol ethers, but it may contain a surfactant in order to enhance the permeability and wettability of the detergent. It is also possible to contain water for further flame retardation. Examples of the surfactant include an ethylene oxide adduct of nonylphenol, an ethylene oxide adduct of octylphenol, a fluorine-based surfactant (for example,
Examples thereof include surfactants such as perfluoroalkylcarboxylic acid salts and perfluoroalkylethylene oxide adducts, and fluorine-based surfactants are preferable.

【0012】界面活性剤類の含有量は(A)と(B)の
合計重量に基づいて、通常8重量%以下、好ましくは5
重量%以下である。8重量%を超えると界面活性剤の残
留による汚れや腐食の原因となる。
The content of the surfactants is usually 8% by weight or less, preferably 5% by weight, based on the total weight of (A) and (B).
It is less than or equal to weight%. If it exceeds 8% by weight, it may cause stains and corrosion due to residual surfactant.

【0013】水の含有量は(A)と(B)の合計重量に
基ずいて、通常50重量%以下、好ましくは20重量%
以下、更に好ましくは10重量%以下である。50重量
%を越えると洗浄性が悪くなる。
The content of water is usually 50% by weight or less, preferably 20% by weight, based on the total weight of (A) and (B).
Hereafter, it is more preferably 10% by weight or less. If it exceeds 50% by weight, detergency becomes poor.

【0014】本発明の洗浄剤を用いたプリント基板の洗
浄は、通常室温〜100℃、好ましくは30〜70℃に
加温した洗浄剤中にプリント基板を浸漬し、超音波、攪
拌、揺動によるか、あるいはスプレーまたはふきとり等
により可能である。洗浄後、プリント基板を引き上げそ
のまま乾燥するか、水または加温した水ですすいだ後乾
燥してもよい。
To clean a printed circuit board using the cleaning agent of the present invention, the printed circuit board is generally immersed in a cleaning agent heated to room temperature to 100 ° C., preferably 30 to 70 ° C., and ultrasonic waves, agitation, and shaking are used. Or by spraying or wiping. After washing, the printed circuit board may be pulled out and dried as it is, or may be rinsed with water or warm water and then dried.

【0015】[0015]

【実施例】以下、実施例により本発明を詳細に説明する
が、本発明はこれに限定されるものではない。尚、実施
例中%は特記しないかぎり重量%を示す。
The present invention will be described in detail below with reference to examples, but the present invention is not limited thereto. In the examples,% means% by weight unless otherwise specified.

【0016】実施例1 本発明の洗浄剤(a1) エチレングリコールモノブチルエーテル 90% ジエチレングリコールジメチルエーテル 10%Example 1 Cleaning Agent (a1) of the Present Invention Ethylene glycol monobutyl ether 90% Diethylene glycol dimethyl ether 10%

【0017】実施例2 本発明の洗浄剤(a2) ジエチレングリコールモノプロピルエーテル 70% ジエチレングリコールジメチルエーテル 30%Example 2 Detergent of the present invention (a2) Diethylene glycol monopropyl ether 70% Diethylene glycol dimethyl ether 30%

【0018】実施例3 本発明の洗浄剤(a3) ジエチレングリコールモノブチルエーテル 80% トリエチレングリコールジメチルエーテル 20%Example 3 Cleaning Agent of the Present Invention (a3) Diethylene glycol monobutyl ether 80% Triethylene glycol dimethyl ether 20%

【0019】実施例4 本発明の洗浄剤(a4) トリエチレングリコールモノブチルエーテル 80% テトラエチレングリコールジメチルエーテル 20%Example 4 Cleaning Agent (a4) of the Present Invention Triethylene glycol monobutyl ether 80% Tetraethylene glycol dimethyl ether 20%

【0020】実施例5 本発明の洗浄剤(a5) テトラエチレングリコールモノヘプチルエーテル 90% ジエチレングリコールジエチルエーテル 10%Example 5 Cleaning Agent (a5) of the Present Invention Tetraethylene glycol monoheptyl ether 90% Diethylene glycol diethyl ether 10%

【0021】比較例1 洗浄剤(b1) トリエチレングリコールモノメチルエーテル 100%Comparative Example 1 Detergent (b1) Triethylene glycol monomethyl ether 100%

【0022】比較例2 洗浄剤(b2) ヘキサエチレングリコールモノブチルエーテル 90% ジエチレングリコールジエチルエーテル 10%Comparative Example 2 Detergent (b2) Hexaethylene glycol monobutyl ether 90% Diethylene glycol diethyl ether 10%

【0023】比較例3 洗浄剤(b3) ジエチレングリコールジメチルエーテル 100%Comparative Example 3 Detergent (b3) Diethylene glycol dimethyl ether 100%

【0024】比較例4 洗浄剤(b4) ジプロピレングリコールモノブチルエーテル 100% Comparative Example 4 Detergent (b4) 100% dipropylene glycol monobutyl ether

【0025】洗浄性試験 実施例1〜5および比較例1〜4で得た洗浄剤を用い洗
浄性試験を行った。試験は、ガラス板にハンダフラック
スを塗布し、200℃、15分間加熱し汚染板とした。
各々の洗浄剤中に40℃で30秒間浸漬しフラックスの
溶解状態を目視観察した。 評価基準 ○ : 溶解性大 (ガラス板上のフラックス
なし) △ : 溶解性やや劣る(ガラス板上のフラックス一部
あり) × : 溶解性不良 (ガラス板上のフラックス多い) フラックスA : 不活性ロジンフラックス フラックスB : 活性ロジンフラックス
Detergency Test A detergency test was conducted using the cleaning agents obtained in Examples 1-5 and Comparative Examples 1-4. In the test, solder flux was applied to a glass plate and heated at 200 ° C. for 15 minutes to give a contaminated plate.
Each flux was immersed in each cleaning agent at 40 ° C. for 30 seconds and the dissolved state of the flux was visually observed. Evaluation Criteria ○: Large solubility (no flux on the glass plate) Δ: Slightly inferior (some flux on the glass plate exists) ×: Poor solubility (large amount of flux on the glass plate) Flux A: Inert rosin Flux Flux B: Active rosin flux

【0026】[0026]

【発明の効果】本発明の洗浄剤は、ハロゲン系の洗浄剤
と同等以上の洗浄力を有しており、非ハロゲン系のため
環境の破壊の恐れがなく、且つ臭気、引火性の点でも十
分に満足し、ハンダフラックスの除去に極めて有効であ
る。 合
The cleaning agent of the present invention has a detergency equal to or higher than that of a halogen-based cleaning agent, and since it is a non-halogen type cleaning agent, there is no fear of environmental destruction, and the odor and flammability are also high. It is fully satisfactory and extremely effective in removing solder flux. Combined

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H05K 3/34 V 9154−4E (C11D 7/60 7:26) ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 5 Identification number Office reference number FI technical display location H05K 3/34 V 9154-4E (C11D 7/60 7:26)

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 下記一般式(1)で示される化合物
(A)と、下記一般式(2)で示される化合物(B)と
からなり、(A)と(B)の合計重量に基づいて(A)
が50〜97重量%、(B)が3〜50重量%であるハ
ンダフラックス用洗浄剤組成物。 (A): R1O(Cn2nO)mH (1) (式中、R1は水素または炭素数1〜8のアルキル基ま
たはシクロアルキル基、nは2〜4の整数、mは1〜5
の整数を表す。) (B): R2O(CH2CH2O)p3 (2) (式中、R2、R3、は炭素数1〜8のアルキル基または
シクロアルキル基、pは1〜5の整数を表す。)
1. A compound (A) represented by the following general formula (1) and a compound (B) represented by the following general formula (2), which is based on the total weight of (A) and (B). (A)
Is from 50 to 97% by weight, and (B) is from 3 to 50% by weight. (A): R 1 O (C n H 2n O) m H (1) (In the formula, R 1 is hydrogen or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms or a cycloalkyl group, n is an integer of 2 to 4, m Is 1 to 5
Represents the integer. ) (B): R 2 O (CH 2 CH 2 O) p R 3 (2) (In the formula, R 2 and R 3 are each an alkyl group or cycloalkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and p is 1 to 5). Represents the integer of.)
JP32130791A 1991-11-08 1991-11-08 Detergent composition for solder flux Pending JPH05131290A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP32130791A JPH05131290A (en) 1991-11-08 1991-11-08 Detergent composition for solder flux

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP32130791A JPH05131290A (en) 1991-11-08 1991-11-08 Detergent composition for solder flux

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH05131290A true JPH05131290A (en) 1993-05-28

Family

ID=18131119

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP32130791A Pending JPH05131290A (en) 1991-11-08 1991-11-08 Detergent composition for solder flux

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH05131290A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH03227400A (en) Detergent for washing rosin-based soldering flux and washing method of same flux
KR20080005408A (en) Compositions for the removal of post-etch and ashed photoresist residues and bulk photoresist
JP3233279B2 (en) Cleaning composition and cleaning method
JPH0768540B2 (en) Cleaning composition
JP2949425B2 (en) Detergent composition
JPH0679852A (en) Cleansing for screen printing board
JPH0873893A (en) Detergent composition
JPH05131290A (en) Detergent composition for solder flux
KR101128865B1 (en) Formulation of cleaner for removing residual flux after reflow and cleaning method by using it
JP3195666B2 (en) Washing soap
JP2973379B2 (en) Aqueous liquid detergent composition for cleaning electronic components
JPH10338897A (en) Detergent composition for liquid crystal cell
JP3246694B2 (en) How to wash goods
JPH1025495A (en) Cleaning agent for liquid crystal cell
JP2684319B2 (en) Liquid cleaner for solder flux
JPH05125396A (en) Cleaner
JPH08269495A (en) Detergent for screen printing plate
JPH03131698A (en) Liquid detergent for soldering flux
JPH0624170A (en) Cleansing agent for screen printing plate
JPH0959698A (en) Detergent composition for metal mask
JPH09241685A (en) Industrial cleaner for lens
JP3366955B2 (en) Detergent composition for hybrid integrated circuits
JPH0457900A (en) Detergent for rosin solder flux and method for washing rosin solder flux using said detergent
JP2916800B2 (en) Rosin-based solder flux cleaner and method for cleaning rosin-based solder flux using the same
JP3375097B2 (en) How to wash goods