JPH05117193A - Production of high-quality bisphenol a - Google Patents

Production of high-quality bisphenol a

Info

Publication number
JPH05117193A
JPH05117193A JP3306523A JP30652391A JPH05117193A JP H05117193 A JPH05117193 A JP H05117193A JP 3306523 A JP3306523 A JP 3306523A JP 30652391 A JP30652391 A JP 30652391A JP H05117193 A JPH05117193 A JP H05117193A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
phenol
bisphenol
stripping
temperature
stripping gas
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP3306523A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP3190388B2 (en
Inventor
Koji Sakashita
幸司 坂下
Tetsuo Maejima
哲夫 前島
Makoto Yasui
誠 安井
Noriyuki Yoneda
則行 米田
Sachio Asaoka
佐知夫 浅岡
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Chiyoda Corp
Chiyoda Chemical Engineering and Construction Co Ltd
Original Assignee
Chiyoda Corp
Chiyoda Chemical Engineering and Construction Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Chiyoda Corp, Chiyoda Chemical Engineering and Construction Co Ltd filed Critical Chiyoda Corp
Priority to JP30652391A priority Critical patent/JP3190388B2/en
Priority to CNB991038614A priority patent/CN1190403C/en
Priority to CNB991038622A priority patent/CN1190404C/en
Priority to CNB991038959A priority patent/CN1167659C/en
Priority to EP92306380A priority patent/EP0523931B1/en
Priority to ES94203111T priority patent/ES2097610T3/en
Priority to DE69214889T priority patent/DE69214889T2/en
Priority to DE69217393T priority patent/DE69217393T2/en
Priority to KR1019920012309A priority patent/KR100189205B1/en
Priority to ES92306380T priority patent/ES2093788T3/en
Priority to EP94203111A priority patent/EP0643032B1/en
Priority to US07/912,487 priority patent/US5324867A/en
Publication of JPH05117193A publication Critical patent/JPH05117193A/en
Priority to US08/228,871 priority patent/US5371304A/en
Priority to US08/229,349 priority patent/US5382711A/en
Priority to US08/229,348 priority patent/US5382712A/en
Priority to KR1019980044546A priority patent/KR100190336B1/en
Priority to KR1019980044545A priority patent/KR100190335B1/en
Priority to KR1019980044544A priority patent/KR100190334B1/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3190388B2 publication Critical patent/JP3190388B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

PURPOSE:To provide a process for evaporating and removing phenol from a bisphenol A.phenol crystalline adduct to obtain a high-purity bisphenol A having excellent hue in high efficiency. CONSTITUTION:The objective production process is composed of a phenol evaporation stage to obtain bisphenol A having a phenol content of 1-5wt.% by evaporating a phenol solution containing bisphenol A formed from a crystalline adduct having a melt color of <=15 APHA and exhibiting essentially neutral state with a thin-film evaporator at an oxygen concentration of <=0.005vol.% and 160-185 deg.C under a pressure of 15-60Torr and the 1st and 2nd stripping stages comprising the stripping of the bisphenol A obtained by the phenol evaporation stage by counter-currently contacting the bisphenol A with a stripping gas at 170-185 deg.C under a pressure of <=15Torr.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、ビスフェノールA・フ
ェノール結晶アダクトからフェノールを蒸発除去するこ
とにより、高位品ビスフェノールAを製造する方法に関
するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing high-grade bisphenol A by evaporating and removing phenol from a bisphenol A / phenol crystal adduct.

【0002】[0002]

【従来技術及びその問題点】ビスフェノールA〔2,2
−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン〕を製造す
るために、酸触媒の存在下、過剰のフェノールにアセト
ンを反応させることは知られている。また、この反応生
成物から高純度ビスフェノールAを分離回収するため
に、反応生成物を冷却してビスフェノールAとフェノー
ルとの結晶アダクト(以下、単に結晶アダクトとも言
う)を晶析させ、得られた結晶アダクトからフェノール
を除去することも知られている。一方、結晶アダクトか
らフェノールを分離するために、結晶アダクトを90〜
150℃で溶融し、溶融液を180℃より上の温度及び
減圧下で蒸発処理し、得られた蒸気を分別凝縮してビス
フェノールAとフェノールとの分離する方法(特公昭5
2−42790号)や、結晶アダクトを180〜200
℃で蒸発処理した後、得られたビスフェノールAをスチ
ームストリッピング処理する方法も知られている(特開
昭63−132850号)。このような結晶アダクトか
らフェノールを分離除去する方法において、得られるビ
スフェノールAの純度は、結晶アダクト自体の純度及び
フェノール除去率に依存することはもちろんであるが、
これらの点を改良したとしても、得られる製品ビスフェ
ノールAに対する少量の着色原因物質の混入を防止でき
ないため、製品ビスフェノールAの色相が悪化するとい
う問題が残る。一方、このような問題を解決するために
シュウ酸やクエン酸をフェノール/水/ビスフェノール
A混合物中に加えた後、蒸留処理することにより、改善
された色相を有するビスフェノールAを得る方法が提案
されている(特公昭40−19333号)。また、ビス
フェノールAの安定性を向上させるために、チオグリコ
ール酸、グリコール酸又はポリリン酸を添加する方法
(特公昭47−43937号)や、乳酸、リンゴ酸又は
グリセリン酸を添加する方法(特開平2−231444
号)等も知られている。しかし、前記の方法において
も、ビスフェノールAの色相改善の効果は未だ充分では
なかった。
2. Description of the Related Art Bisphenol A [2,2]
It is known to react excess phenol with acetone in the presence of an acid catalyst to produce [bis (4-hydroxyphenyl) propane]. Further, in order to separate and collect high-purity bisphenol A from this reaction product, the reaction product was cooled to crystallize a crystal adduct of bisphenol A and phenol (hereinafter, also simply referred to as a crystal adduct). It is also known to remove phenol from crystal adducts. On the other hand, in order to separate the phenol from the crystal adduct,
A method of melting at 150 ° C., evaporating the melt at a temperature above 180 ° C. and under reduced pressure, and separating and condensing the resulting vapor to separate bisphenol A and phenol (Japanese Patent Publication No.
2-42790) or a crystal adduct of 180 to 200
A method is also known in which the obtained bisphenol A is subjected to steam stripping treatment after evaporating treatment at ℃ (Japanese Patent Laid-Open No. 63-132850). In such a method for separating and removing phenol from a crystalline adduct, the purity of the obtained bisphenol A depends, of course, on the purity of the crystalline adduct itself and the phenol removal rate.
Even if these points are improved, it is not possible to prevent a small amount of coloring-causing substance from being mixed into the obtained product bisphenol A, so that the problem that the hue of the product bisphenol A deteriorates remains. On the other hand, in order to solve such a problem, a method of obtaining bisphenol A having an improved hue by adding oxalic acid or citric acid to a phenol / water / bisphenol A mixture and then subjecting the mixture to distillation is proposed. (Japanese Patent Publication No. 40-19333). In addition, in order to improve the stability of bisphenol A, a method of adding thioglycolic acid, glycolic acid or polyphosphoric acid (Japanese Patent Publication No. 47-43937), or a method of adding lactic acid, malic acid or glyceric acid (Japanese Patent Laid-Open No. Hei 10 (1999) -242242) 2-231444
No.) etc. are also known. However, even with the above method, the effect of improving the hue of bisphenol A was not yet sufficient.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、結晶アダク
トからフェノールを蒸発除去してビスフェノールAを得
る場合に、そのビスフェノールAの着色を抑え、色相に
すぐれた高純度ビスフェノールAを効率よく製造する方
法を提供することをその課題とする。
DISCLOSURE OF THE INVENTION According to the present invention, when bisphenol A is obtained by evaporating and removing phenol from a crystal adduct, coloring of bisphenol A is suppressed, and highly pure bisphenol A having an excellent hue is efficiently produced. The task is to provide a method.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記課題
を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、発明を完成するに
至った。即ち、本発明によれば、実質的に中性条件下に
あり、溶融色が15APHA以下のビスフェノールA・
フェノール結晶アダクトから形成されたビスフェノール
Aを含むフェノール溶液を、薄膜蒸発器を用い、雰囲気
中の酸素濃度0.005vol%以下の条件で160〜1
85℃の温度及び15〜60トールの圧力下で蒸発処理
して、フェノール含有率が1〜5重量%のビスフェノー
ルAを得るフェノール蒸発工程と、該フェノール蒸発工
程で得られたビスフェノールAを、170〜185℃の
温度及び15トール以下の圧力下でストリッピング用ガ
スと向流接触させてストリッピング処理する第1ストリ
ッピング工程と、該第1ストリッピング工程で得られた
ビスフェノールAを、170〜185℃の温度及び15
トール以下の圧力下でストリッピング用ガスと向接触さ
せてストリッピング処理する第2ストリッピング工程と
からなり、該第2ストリッピング工程におけるストリッ
ピング用ガスとしてスチームを用い、該第1ストリッピ
ング工程におけるストリッピング用ガスとして、第2ス
トリッピング工程で得られたフェノール及びビスフェノ
ールAを含むスチームからなるストリッピングガスを用
いることを特徴とする高品位ビスフェノールAの製造方
法が提供される。
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have completed the invention as a result of intensive research to solve the above problems. That is, according to the present invention, bisphenol A having a melting color of 15 APHA or less under substantially neutral conditions.
A phenol solution containing bisphenol A formed from a phenol crystal adduct was used in a thin film evaporator under the condition that the oxygen concentration in the atmosphere was 0.005 vol% or less and 160 to 1%.
A phenol evaporation step of obtaining a bisphenol A having a phenol content of 1 to 5 wt% by evaporating at a temperature of 85 ° C. and a pressure of 15 to 60 Torr, and bisphenol A obtained in the phenol evaporation step are 170 A first stripping step in which the stripping gas is countercurrently contacted with the stripping gas at a temperature of ˜185 ° C. and a pressure of 15 torr or less, and bisphenol A obtained in the first stripping step is 170˜ 185 ° C temperature and 15
A second stripping step in which the stripping gas is brought into direct contact with the stripping gas under a pressure of not more than torr, and steam is used as the stripping gas in the second stripping step, and the first stripping step is performed. The stripping gas consisting of steam containing the phenol and bisphenol A obtained in the second stripping step is used as the stripping gas in (1), and a method for producing high-quality bisphenol A is provided.

【0005】本発明において原料として用いる結晶アダ
クトは、その溶融色APHAが15以下の実質的に中性
条件下にあるものである。ビスフェノールAを得るため
のフェノールとアセトンとの反応においては、酸触媒と
して、塩酸、硫酸、スルホン酸型の強イオン交換樹脂等
の強酸性物質が用いられる。このような強酸性物質は、
フェノールとアセトンとの反応系においては、その触媒
として作用する他、加熱条件下では、着色物質や不純物
の発生を促進させる作用も示し、回収されるビスフェノ
ールA及びフェノールの色相及び純度を低下させる。従
って、このような強酸性物質は、加熱条件を伴う後続の
脱フェノール工程に流出させないように、反応後、除去
又は中和することが提案されている。例えば、塩酸を触
媒として用いる反応では、反応後、生成物を加熱して塩
酸を除去し、残留する塩酸はこれをアルカリで中和し、
pH5〜6に中和する方法が提案されている(特公昭4
7−43937号)。また、強酸型イオン交換樹脂を用
いる方法では、反応に際し、そのイオン交換樹脂の分解
により有機スルホン酸が脱離し、生成物中に混入するこ
とから、その有機スルホン酸を弱塩基性イオン交換樹脂
を用いて中和する方法が提案されている(米国特許第4
191843号)。一方、フェノール及びビスフェノー
ルAの色相及び純度は、酸だけでなく、アルカリによっ
ても低下するので、強酸性物質のアルカリによる中和
は、中和点を超えないように行うことが必要である。
The crystal adduct used as a raw material in the present invention has a melting color APHA of 15 or less under substantially neutral conditions. In the reaction of phenol and acetone to obtain bisphenol A, a strongly acidic substance such as hydrochloric acid, sulfuric acid, or a sulfonic acid type strong ion exchange resin is used as an acid catalyst. Such strongly acidic substances are
In the reaction system of phenol and acetone, in addition to acting as a catalyst, it also exhibits an action of promoting the generation of coloring substances and impurities under heating conditions, and reduces the hue and purity of the recovered bisphenol A and phenol. Therefore, it is proposed to remove or neutralize such a strongly acidic substance after the reaction so as not to flow out to the subsequent dephenoling step involving heating conditions. For example, in a reaction using hydrochloric acid as a catalyst, after the reaction, the product is heated to remove the hydrochloric acid, and residual hydrochloric acid is neutralized with an alkali,
A method of neutralizing the solution to pH 5 to 6 has been proposed (Japanese Patent Publication No. 4).
7-43937). Further, in the method using a strong acid type ion exchange resin, during the reaction, the organic sulfonic acid is desorbed by the decomposition of the ion exchange resin and is mixed into the product, so that the organic sulfonic acid is changed to a weak basic ion exchange resin. A method of neutralizing by using is proposed (US Pat. No. 4)
191843). On the other hand, since the hue and purity of phenol and bisphenol A are lowered not only by the acid but also by the alkali, it is necessary to neutralize the strongly acidic substance with the alkali not to exceed the neutralization point.

【0006】以上のように、フェノールとアセトンを強
酸性物質の存在下で反応させる反応では、反応生成物中
に存在する強酸性物質を反応後、中和点を超えないよう
に中和するか、反応系から除去することが必要であり、
また、強酸性物質の中和に用いたアルカリが残存すると
きには、このアルカリも除去することが必要である。ま
た、反応生成物中に存在する強酸性物質あるいはアルカ
リの除去は、後続の晶析工程において、多段階晶析工程
を用いることによって除去することができる。本発明で
用いる実質的に中性条件下にある結晶アダクトとは、前
記のような強酸性物質やアルカリ性物質の影響の除去さ
れた結晶アダクトを意味するものである。このような結
晶アダクトは、pH5.0を示すように酸度を調整した
メタノール水溶液に添加溶解し、フェノールの実質的非
電離条件下におけるpH測定方法において、pH4.9
0〜5.50、好ましくはpH4.95〜5.20を示
すものである。なお、本明細書において示す結晶アダク
トのpHは、前記測定法により得られたものである。本
発明では、結晶アダクトとして、前記したように、実質
的に中性条件下にあるもので、結晶アダクトの溶融色A
PHAを15以下にのものを用いる。溶融色APHAが
15以下の結晶アダクトは、晶析工程における晶析段数
を増加させることによって得ることができる。また、結
晶アダクトを精製フェノールで洗浄することによって晶
析濾液の除去による不純物や酸性物質を除去することが
できる。
As described above, in the reaction in which phenol and acetone are reacted in the presence of a strongly acidic substance, is it necessary to neutralize the strongly acidic substance present in the reaction product after the reaction so that the neutralization point is not exceeded? , Needs to be removed from the reaction system,
Further, when the alkali used for neutralizing the strongly acidic substance remains, it is also necessary to remove this alkali. Further, the strongly acidic substance or alkali present in the reaction product can be removed by using a multi-step crystallization process in the subsequent crystallization process. The crystalline adduct under the substantially neutral condition used in the present invention means a crystalline adduct from which the influence of the strongly acidic substance or the alkaline substance is removed. Such a crystal adduct is added and dissolved in an aqueous methanol solution whose acidity is adjusted to have a pH of 5.0, and a pH of 4.9 is measured by a pH measuring method under the substantially non-ionizing condition of phenol.
It has a pH of 0 to 5.50, and preferably a pH of 4.95 to 5.20. The pH of the crystal adduct described in this specification is obtained by the above-mentioned measurement method. In the present invention, as described above, the crystal adduct is under a substantially neutral condition, and the melt color A of the crystal adduct is A.
A PHA having a PHA of 15 or less is used. A crystal adduct having a melt color APHA of 15 or less can be obtained by increasing the number of crystallization stages in the crystallization step. Further, by washing the crystal adduct with purified phenol, impurities and acidic substances due to the removal of the crystallization filtrate can be removed.

【0007】結晶アダクトを精製フェノールで洗浄する
場合、その精製フェノールとしては、製品ビスフェノー
ルAの着色原因とならない、不純物含有率の少ないもの
であればどのようなものでもよい。本発明では、精製フ
ェノールとしては、通常、その溶融色APHAが10以
下、好ましくは5以下のものが好ましく用いられる。本
発明で好ましく用いることのできる精製フェノールとし
ては、例えば、(i)フェノールとアセトンとの反応生
成物から分離されたフェノール、(ii)ビスフェノー
ルを含むフェノールの晶析生成物から分離されたフェノ
ール、(iii)結晶アダクトを洗浄した後の使用済み
フェノール及び(iv)工業用フェノールの中から選ば
れる少なくとも一種のフェノールの精製物が用いられ
る。フェノールとアセトンとの反応によりえられる反応
生成物は、それに含まれる生成ビスフェノールAを濃縮
するために、その反応生成物からフェノールが分離され
るが、本発明では、このフェノールの精製物を洗浄液と
して用いることができる。また、ビスフェノールAを含
むフェノール溶液を晶析処理して結晶アダクトを析出さ
せる場合、通常、複数段の晶析工程と晶析生成物の固液
分離工程が採用され、それに応じて複数種の母液(フェ
ノール溶液)が得られるが、本発明ではこれらの母液を
形成するフェノールの精製物を洗浄液として用いること
ができる。本発明で用いる母液精製物は、それら母液の
いずれの母液の精製物でも良いが、好ましくは最前段の
晶析工程で得られる晶析生成物から分離された母液の精
製物を用いるのがよい。本発明においては、結晶アダク
トを洗浄した後には使用済みのフェノールが得られる
が、本発明では、この使用済みフェノールの精製物も洗
浄液として有利に用いることができる。本発明で用いる
前記フェノール精製物を得るための原料フェノールとし
ては、その純度が99重量%以上、好ましくは99.5
重量%以上のものの使用が好ましい。また、本発明で
は、工業用フェノールの精製物を洗浄液として用いるこ
とができる。この場合、工業用フェノールとしては、フ
ェノール純度99.5重量%以上、好ましくは99.9
3重量%以上のものが用いられる。
When the crystal adduct is washed with purified phenol, any purified phenol may be used as long as it does not cause coloring of the product bisphenol A and has a low impurity content. In the present invention, as the purified phenol, those having a melting color APHA of 10 or less, preferably 5 or less are preferably used. Examples of the purified phenol that can be preferably used in the present invention include (i) phenol separated from the reaction product of phenol and acetone, (ii) phenol separated from the crystallization product of phenol containing bisphenol, A purified product of at least one phenol selected from (iii) used phenol after washing the crystal adduct and (iv) industrial phenol is used. The reaction product obtained by the reaction of phenol and acetone is separated from the reaction product in order to concentrate the produced bisphenol A contained in the reaction product. In the present invention, the purified product of this phenol is used as a washing liquid. Can be used. In the case where a phenol solution containing bisphenol A is crystallized to precipitate a crystal adduct, a plurality of stages of crystallization steps and a solid-liquid separation step of a crystallization product are usually adopted, and a plurality of mother liquors are correspondingly used. (Phenol solution) is obtained, but in the present invention, the purified product of phenol forming these mother liquors can be used as a washing liquid. The purified product of the mother liquor used in the present invention may be a purified product of any one of those mother liquors, but it is preferable to use the purified product of the mother liquor separated from the crystallization product obtained in the crystallization step in the first stage. .. In the present invention, spent phenol is obtained after washing the crystal adduct, but in the present invention, the purified product of the used phenol can also be advantageously used as a washing liquid. The raw material phenol for obtaining the purified phenol used in the present invention has a purity of 99% by weight or more, preferably 99.5.
It is preferable to use one having a weight% or more. Further, in the present invention, a purified product of industrial phenol can be used as a cleaning liquid. In this case, the industrial phenol has a phenol purity of 99.5% by weight or more, preferably 99.9.
3 wt% or more is used.

【0008】次に、前記フェノールから精製フェノール
を得るための方法について詳述すると、先ず、フェノー
ルを強酸型イオン交換樹脂と接触させて処理する。強酸
型イオン交換樹脂としては、スルホン基を有するものが
用いられ、このような強酸型イオン交換樹脂は、従来良
く知られているものである。例えば、ロームアンドハー
ス社から入手し得るアンバーライト及びアンバーリスト
や、三菱化成社から入手し得るダイヤイオン等のゲル型
のものを好ましく用いることができる。この強酸型イオ
ン交換樹脂を用いるフェノールの処理は、強酸型イオン
交換樹脂を含む充填塔にフェノールを流通させる方法
や、強酸型イオン交換樹脂を入れた撹拌槽にフェノール
を入れて撹拌する方法等により実施することができる。
処理温度は45〜150℃、好ましくは50〜100℃
である。強酸型イオン交換樹脂とフェノールの接触時間
は、5〜200分、好ましくは15〜60分程度であ
る。この強酸型イオン交換樹脂を用いてフェノールの処
理を行う場合、フェノール中の水分は、0.5重量%以
下、好ましくは0.1重量%以下にする。これより水分
が多くなると、強酸型イオン交換樹脂による不純物転化
効果が悪化する。フェノール中からの0.5重量%以下
までの水分の除去は、フェノール中に公知の共沸剤を加
え共沸させることによって行うことができる。前記強酸
型イオン交換樹脂と接触処理されたフェノールは、高沸
点不純物を含むもので、蒸留処理することにより、その
高沸点不純物を蒸留残渣として分離する。蒸留塔の運転
条件はフェノールと高沸点不純物が分離できればよい
が、留出フェノール中に高沸点不純物が混入しない条件
で行う必要があり、留意すべきポイントとして蒸留処理
温度を185℃以下にすることである。185℃以下の
温度であれば運転圧力は任意に設定されるが、通常50
Torr〜600Torrの減圧下で行われる。運転温
度が185℃をこえると高沸点不純物等の分解がおこり
精製フェノールの品質を低下させるので好ましくない。
前記処理によって得られた精製フェノールは、APHA
基準の色相が15以下、特に10以下のものであり、結
晶アダクト及び製品ビスフェノールAに付着しても、そ
の色相を特に悪化させることはない。
Next, the method for obtaining purified phenol from the above-mentioned phenol will be described in detail. First, the phenol is brought into contact with a strong acid type ion exchange resin for treatment. As the strong acid type ion exchange resin, one having a sulfone group is used, and such a strong acid type ion exchange resin is well known in the art. For example, gel-type ones such as Amberlite and Amberlyst available from Rohm and Haas Company, and Diaion etc. available from Mitsubishi Kasei Co. can be preferably used. The treatment of phenol with this strong acid ion exchange resin is carried out by a method of circulating phenol in a packed column containing a strong acid ion exchange resin, a method of stirring by adding phenol to a stirring tank containing a strong acid ion exchange resin, or the like. Can be implemented.
Treatment temperature is 45 to 150 ° C, preferably 50 to 100 ° C
Is. The contact time between the strong acid ion exchange resin and the phenol is 5 to 200 minutes, preferably 15 to 60 minutes. When phenol is treated using this strong acid ion exchange resin, the water content in phenol is 0.5% by weight or less, preferably 0.1% by weight or less. If the water content is higher than this, the effect of impurity conversion by the strong acid ion exchange resin deteriorates. The water content up to 0.5% by weight or less can be removed from phenol by azeotropically adding a known azeotropic agent to phenol. The phenol that has been subjected to the contact treatment with the strong acid ion exchange resin contains high-boiling point impurities, and the high-boiling point impurities are separated as a distillation residue by performing a distillation process. The operating conditions of the distillation column should be such that phenol and high-boiling point impurities can be separated, but it is necessary to carry out under conditions where high-boiling point impurities are not mixed in the distilled phenol, and the point to be noted is that the distillation treatment temperature should be 185 ° C or lower. Is. If the temperature is 185 ° C or lower, the operating pressure is set arbitrarily, but usually 50
It is performed under reduced pressure of Torr to 600 Torr. If the operating temperature exceeds 185 ° C, decomposition of high-boiling impurities and the like will occur and the quality of the purified phenol will deteriorate, which is not preferable.
The purified phenol obtained by the above treatment is APHA
The standard hue is 15 or less, particularly 10 or less, and even if it adheres to the crystal adduct and bisphenol A product, the hue is not particularly deteriorated.

【0009】本発明においては、実質的に中性条件下に
あり、溶融色が15APHA以下の結晶アダクトから形
成されたビスフェノールAを含む溶液を、薄膜蒸発器を
用い、実質的に無酸素下、減圧下においてフェノールを
蒸発除去させる工程を含む。この場合、実質的に無酸素
下とは、フェノールを蒸発除去する装置系内の雰囲気中
における酸素濃度が、0.005volppm以下であ
ることを意味する。装置系内をこのような実質的に無酸
素状態にする方法としては、装置系内に窒素ガスやアル
ゴンガス等の不活性ガスをパージする方法があり、より
好ましくは、装置系内を減圧する工程と、その減圧下の
装置系内に不活性ガスをパージする工程を繰返し行う方
法がある。
In the present invention, a solution containing bisphenol A formed from a crystalline adduct having a melting color of 15 APHA or less under substantially neutral conditions is subjected to substantially oxygen-free reaction using a thin film evaporator. The step of evaporating and removing phenol under reduced pressure is included. In this case, “substantially free of oxygen” means that the oxygen concentration in the atmosphere in the apparatus system for removing phenol by evaporation is 0.005 volppm or less. As a method of making the inside of the apparatus system substantially oxygen-free, there is a method of purging an inert gas such as nitrogen gas or argon gas into the apparatus system, and more preferably, depressurizing the inside of the apparatus system. There is a method of repeating the steps and the step of purging the apparatus system under the reduced pressure with an inert gas.

【0010】本発明により特定の結晶アダクトから形成
されたビスフェノールAを含む溶液からフェノールを蒸
発除去する場合、必要に応じ、着色防止剤を添加するこ
とができる。この着色防止剤は結晶アダクトに直接添加
することができ、この場合、着色防止剤は、任意の状態
にある結晶アダクト、即ち、粉末状態、溶融状態、スラ
リー状態又は溶液状態にある結晶アダクトに添加混合さ
せることができる。本発明において好ましく用いること
のできる着色防止剤は、脂肪族カルボン酸である。この
脂肪族カルボン酸は、溶融状態にあるビスフェノールA
を大気と長時間接触させたり、高温に保持した際のビス
フェノールAの着色を防止する作用を示すものである。
脂肪族カルボン酸としては、ビスフェノールAに対して
着色防止効果を示すものであればどのようなものでもよ
く、従来公知のものが用いられる。このようなものとし
ては、例えば、ギ酸、シュウ酸、クエン酸、酒石酸、グ
リコール酸、乳酸、リンゴ酸、グリセリン酸等を挙げる
ことができる。これらのものは、反応中、160℃以上
の温度で分解あるいは異性化を起して、ビスフェノール
Aに対する着色防止剤としてすぐれた作用を示す。脂肪
族カルボン酸の添加量は、結晶アダクトに対し、1〜1
00重量ppm、好ましくは5〜50重量ppmであ
る。この脂肪族カルボン酸の添加により、溶融時におけ
る着色の防止された熱安定性の良い製品ビスフェノール
Aを得ることができる。
In the case where phenol is removed by evaporation from a solution containing bisphenol A formed from a specific crystal adduct according to the present invention, an anti-coloring agent can be added if necessary. The anti-staining agent can be added directly to the crystal adduct, in which case the anti-staining agent is added to the crystal adduct in any state, i.e. in the powder, melt, slurry or solution state. It can be mixed. The coloring preventing agent that can be preferably used in the present invention is an aliphatic carboxylic acid. This aliphatic carboxylic acid is bisphenol A in a molten state.
It shows the effect of preventing the coloring of bisphenol A when it is kept in contact with the atmosphere for a long time or kept at a high temperature.
Any aliphatic carboxylic acid may be used as long as it has a color-preventing effect on bisphenol A, and conventionally known ones are used. Examples of such substances include formic acid, oxalic acid, citric acid, tartaric acid, glycolic acid, lactic acid, malic acid, glyceric acid and the like. These compounds decompose or isomerize at a temperature of 160 ° C. or higher during the reaction, and exhibit an excellent action as a color-preventing agent for bisphenol A. The amount of the aliphatic carboxylic acid added is 1 to 1 with respect to the crystal adduct.
The amount is 00 ppm by weight, preferably 5 to 50 ppm by weight. By adding this aliphatic carboxylic acid, it is possible to obtain bisphenol A, which is a product with good heat stability in which coloration during melting is prevented.

【0011】次に、本発明を図面を参照して説明する。
図1において、1,2及び3は薄膜蒸発器を示す。この
ものは、その内周壁に形成した薄膜を外部からの加熱に
より蒸発させる構造のものである。本発明においては、
内部に回転翼を有し、その回転翼の回転によってその内
周壁面に液膜を形成するようにした遠心薄膜蒸発器の使
用が好ましい。また、図1において、4は、各薄膜蒸発
器に付設された外部ヒータである。このものは、通常、
加熱媒体が流通するジャケットとして構成される。
Next, the present invention will be described with reference to the drawings.
In FIG. 1, 1, 2 and 3 indicate thin film evaporators. This has a structure in which a thin film formed on the inner peripheral wall of the thin film is evaporated by heating from the outside. In the present invention,
It is preferable to use a centrifugal thin film evaporator having a rotary blade inside and forming a liquid film on the inner peripheral wall surface by the rotation of the rotary blade. Further, in FIG. 1, 4 is an external heater attached to each thin film evaporator. This one is usually
It is configured as a jacket through which the heating medium flows.

【0012】本発明においては、原料として用いる実質
的に中性条件下にあり、溶融色が15APHA以下のビ
スフェノールA・フェノール結晶アダクトは、これを加
熱によって溶融するか又は精製フェノールで希釈溶解さ
せて、ビスフェノールAを含むフェノール溶液とする。
本発明で好ましく用いるフェノール溶液は、ビスフェノ
ールA濃度が50〜80重量%、好ましくは60〜75
重量%のものである。この原料フェノール溶液は、ライ
ン10から第1薄膜蒸発器(以下、単に蒸発器とも言
う)1に導入され、フェノール溶液は、この蒸発器の内
周壁を液膜として流下するとともに、その間に外部ヒー
タ4により加熱され、フェノール及びビスフェノールA
を含む蒸気がライン11を通って排出される。この蒸気
は、これを凝縮処理して、フェノール及びビスフェノー
ルAを回収する。ライン10を通るフェノール溶液の温
度は120〜150℃、第1蒸発器1の温度は、160
〜185℃、その圧力は15〜60トール、好ましくは
15〜30トールである。また、第1蒸発器内は実質的
に無酸素条件下に保持される。第1蒸発器1において、
原料フェノール溶液を蒸発処理して得られた残液(ビス
フェノールA)は、ライン12を通って抜出され、第2
蒸発器2に導入される。ライン12を通るフェノール溶
液の蒸発残液の温度は、170〜185℃である。ま
た、この残液を構成するビスフェノールA中のフェノー
ル濃度は、1〜5重量%である。第2蒸発器2において
は、ビスフェノールAは、第3蒸発器3から抜出される
スチーム、フェノール及びビスフェノールAからなるス
トリッピングガスと向流接触しながら、外部ヒータ4に
より加熱され、フェノール、ビスフェノールA及びスチ
ームを含むストリッピングガスがライン13を通って排
出される。第2蒸発器2における温度は170〜185
℃、圧力は15トール以下、通常、10〜15トールで
ある。また、第2蒸発器内は実質的に無酸素下に保持さ
れる。第2蒸発器2で得られる蒸発残液は、ライン14
を通って第3蒸発器3に導入される。この残液の温度は
170〜185℃、残液を構成するビスフェノールA中
のフェノール濃度は0.05〜0.10重量%、好まし
くは0.05〜0.07重量%である。第3蒸発器3に
おいては、第2蒸発器2からのビスフェノールAは、ラ
イン15を通って導入されるスチームと向流接触しなが
ら、外部ヒータ4によって加熱され、ストリッピングガ
スがライン17を通って抜出され、このストリッピング
ガスは、第2蒸発器2にそのストリッピング用ガスとし
て導入される。第3蒸発器における温度は170〜18
5℃、圧力は15トール以下、通常10〜15トールで
ある。また、第3蒸発器内は実質的に無酸素下に保持さ
れる。ライン15から第3蒸発器3に導入されるスチー
ム量は、ライン14を通って第3蒸発器3に導入される
ビスフェノールAに対して、重量比で、3重量%以上、
好ましくは4〜6重量%である。ライン17を通るスト
リッピングガスの組成は、フェノール:0.8〜1.2
重量%、好ましくは1重量%以下、ビスフェノールA:
5〜7重量%、残部:スチームである。第3蒸発器3に
おいて得られた高純度ビスフェノールAは、ライン16
を通って抜出される。このビスフェノールAは、フェノ
ール含有率が0.005重量%のもので、その色相AP
HAが20以下の高品位のものである。
In the present invention, the bisphenol A / phenol crystal adduct having a melting color of 15 APHA or less, which is used as a raw material under substantially neutral conditions, is melted by heating or diluted and dissolved with purified phenol. , A phenol solution containing bisphenol A.
The phenol solution preferably used in the present invention has a bisphenol A concentration of 50 to 80% by weight, preferably 60 to 75.
% By weight. The raw material phenol solution is introduced from a line 10 into a first thin film evaporator (hereinafter, also simply referred to as an evaporator) 1, and the phenol solution flows down as a liquid film on the inner peripheral wall of the evaporator, and an external heater is provided therebetween. Heated by 4 and phenol and bisphenol A
The steam containing the is discharged through the line 11. This vapor condenses it to recover phenol and bisphenol A. The temperature of the phenol solution passing through the line 10 is 120 to 150 ° C., and the temperature of the first evaporator 1 is 160.
~ 185 [deg.] C, the pressure is 15-60 Torr, preferably 15-30 Torr. Further, the inside of the first evaporator is maintained under substantially oxygen-free conditions. In the first evaporator 1,
The residual liquid (bisphenol A) obtained by evaporating the raw material phenol solution is withdrawn through the line 12 and
It is introduced into the evaporator 2. The temperature of the residual evaporation liquid of the phenol solution passing through the line 12 is 170 to 185 ° C. The concentration of phenol in bisphenol A constituting this residual liquid is 1 to 5% by weight. In the second evaporator 2, the bisphenol A is heated by the external heater 4 while being countercurrently contacted with the stripping gas consisting of steam, phenol and bisphenol A extracted from the third evaporator 3, and then the bisphenol A is heated. And stripping gas containing steam is discharged through line 13. The temperature in the second evaporator 2 is 170 to 185.
C and pressure are 15 torr or less, usually 10-15 torr. Further, the inside of the second evaporator is kept substantially oxygen-free. The evaporation residual liquid obtained in the second evaporator 2 is the line 14
And is introduced into the third evaporator 3. The temperature of this residual liquid is 170 to 185 ° C., and the phenol concentration in bisphenol A constituting the residual liquid is 0.05 to 0.10% by weight, preferably 0.05 to 0.07% by weight. In the third evaporator 3, the bisphenol A from the second evaporator 2 is heated by the external heater 4 in countercurrent contact with the steam introduced through the line 15, and the stripping gas passes through the line 17. This stripping gas is introduced into the second evaporator 2 as the stripping gas. The temperature in the third evaporator is 170-18
The temperature is 5 ° C and the pressure is 15 torr or less, usually 10 to 15 torr. Further, the inside of the third evaporator is kept substantially oxygen-free. The amount of steam introduced into the third evaporator 3 from the line 15 is 3% by weight or more in weight ratio with respect to bisphenol A introduced into the third evaporator 3 through the line 14.
It is preferably 4 to 6% by weight. The composition of the stripping gas passing through the line 17 is phenol: 0.8 to 1.2.
% By weight, preferably 1% by weight or less, bisphenol A:
5 to 7% by weight, balance: steam. The high-purity bisphenol A obtained in the third evaporator 3 is
Be pulled out through. This bisphenol A has a phenol content of 0.005% by weight and its hue AP
HA has a high quality of 20 or less.

【0013】第2蒸発器2からライン13を通って抜出
されるストリッピングガスは、凝縮処理に付され、その
ガスに含まれるフェノール及びビスフェノールAが分離
回収される。このストリッピングガスの好ましい凝縮処
理法について以下に示す。前記のようにしてライン13
を通って得られたストリッピングガスは、その減圧状態
のまま第1冷却工程へ供給し、ここでフェノール又はビ
スフェノールAを含むフェノールからなる第1冷却媒体
と向流接触させて冷却する。この第1冷却工程は、スト
リッピングガス中のビスフェノールAの実質的全量を冷
却媒体中に溶解するように実施する。ストリッピングガ
ス中のスチームは、この第1冷却工程では実質上凝縮さ
れず、次の第2冷却工程へ送られる。ストリッピングガ
ス中のフェノールは、その一部がこの第1冷却工程で凝
縮され、残りの未凝縮のものはスチームとともに次の第
2冷却工程へ送られる。第1冷却工程でストリッピング
ガスから分離回収されたビスフェノールAとフェノール
の混合液は、その一部を冷却媒体として用いることがで
きる。第1冷却媒体の温度は、フェノールの凝固点より
1〜50℃程度高い温度である。この第1冷却工程にお
けるフェノールの回収率は、この第1冷却工程に対する
全供給フェノールに対し、70重量%以上、好ましくは
85重量%以上である。
The stripping gas extracted from the second evaporator 2 through the line 13 is subjected to a condensation treatment, and the phenol and bisphenol A contained in the gas are separated and recovered. A preferred method for condensing the stripping gas will be described below. Line 13 as above
The stripping gas obtained through the above is supplied to the first cooling step in the depressurized state, where it is countercurrently contacted with a first cooling medium composed of phenol or phenol containing bisphenol A to be cooled. This first cooling step is carried out so that substantially all of the bisphenol A in the stripping gas is dissolved in the cooling medium. The steam in the stripping gas is not substantially condensed in this first cooling step and is sent to the next second cooling step. Part of the phenol in the stripping gas is condensed in this first cooling step, and the remaining uncondensed one is sent to the next second cooling step together with steam. A part of the mixed liquid of bisphenol A and phenol separated and recovered from the stripping gas in the first cooling step can be used as a cooling medium. The temperature of the first cooling medium is about 1 to 50 ° C. higher than the freezing point of phenol. The recovery rate of phenol in the first cooling step is 70% by weight or more, preferably 85% by weight or more, based on the total amount of phenol supplied to the first cooling step.

【0014】第1冷却工程で用いる冷却媒体は、ストリ
ッピングガスを所望温度に冷却し得るに充分な量であれ
ばよく、通常、ストリッピングガスに対する重量比で、
5〜10、好ましくは5〜6である。また、第1冷却工
程で得られるストリッピングガス中のビスフェノールA
とフェノールを溶解した冷却媒体中に含まれるビスフェ
ノールAのフェノールに対する重量比は、0.05〜
0.20、好ましくは0.08〜0.14である。第1
冷却工程においては、ビスフェノールAに対し過剰のフ
ェノールが存在することから、ビスフェノールAの凝固
点以下の冷却温度であっても、ビスフェノールAとフェ
ノールとの結晶アダクトが晶析するようなことはない。
The cooling medium used in the first cooling step may be an amount sufficient to cool the stripping gas to a desired temperature, and is usually in a weight ratio to the stripping gas.
It is 5 to 10, preferably 5 to 6. In addition, bisphenol A in the stripping gas obtained in the first cooling step
The weight ratio of bisphenol A to phenol contained in the cooling medium in which phenol and phenol are dissolved is 0.05 to
It is 0.20, preferably 0.08 to 0.14. First
In the cooling step, since excess phenol is present with respect to bisphenol A, the crystal adduct between bisphenol A and phenol does not crystallize even at a cooling temperature below the freezing point of bisphenol A.

【0015】第1冷却工程の圧力は、30トール以下、
好ましくは5〜20トールであり、第2薄膜蒸発器2に
おける圧力に対応する。また、第1冷却工程における温
度は、前記圧力条件下においてスチームが気体を保持
し、フェノールの一部が液体を保持する温度である。好
ましい冷却温度(ビスフェノールAを凝縮させる温度)
は、フェノールの凝固点よりも1〜50℃程度高い温度
であり、その冷却温度は42〜90℃、好ましくは45
〜55℃である。
The pressure of the first cooling step is 30 Torr or less,
It is preferably 5 to 20 Torr and corresponds to the pressure in the second thin film evaporator 2. Further, the temperature in the first cooling step is a temperature at which steam holds gas and a part of phenol holds liquid under the pressure condition. Preferred cooling temperature (temperature at which bisphenol A is condensed)
Is about 1 to 50 ° C. higher than the freezing point of phenol, and the cooling temperature is 42 to 90 ° C., preferably 45.
~ 55 ° C.

【0016】第2冷却工程へ送られたスチームとフェノ
ールの混合ガスは、ここでフェノールの水溶液からなる
第2冷却媒体と向流接触させて冷却する。この第2冷却
工程は、この工程へ送られたスチームとフェノールの実
質的全量が凝縮液化するように実施し、この工程からは
フェノールの水溶液が回収される。この第2冷却工程で
得られるフェノールの水溶液は、その一部を第2冷却媒
体として用いることができる。水溶液中のフェノールの
濃度は、ストリッピングガスの組成及び第1冷却工程の
条件で決まるが、通常、55〜75重量%である。ま
た、この第2冷却媒体の温度は、スチームの凝縮温度よ
り1〜10℃程度低い温度である。第2冷却工程で用い
る第2冷却媒体は、混合ガスの全量を凝縮させるに充分
な量であればよく、通常、第1冷却工程から送られたス
チームとフェノールとの混合ガスに対する重量比で、1
00〜300、好ましくは190〜250である。この
第2冷却工程の圧力は、30トール以下、好ましくは5
〜20トールであり、第1冷却工程の圧力に対応する。
第2冷却工程における冷却温度(スチーム凝縮温度)
は、前記圧力条件下においてスチームとフェノールの混
合ガスの全量が凝縮液化する温度であればよい。
The mixed gas of steam and phenol sent to the second cooling step is cooled by being brought into countercurrent contact with a second cooling medium composed of an aqueous solution of phenol. This second cooling step is carried out so that substantially all of the steam and phenol sent to this step are condensed and liquefied, and an aqueous phenol solution is recovered from this step. A part of the aqueous phenol solution obtained in the second cooling step can be used as the second cooling medium. The concentration of phenol in the aqueous solution depends on the composition of the stripping gas and the conditions of the first cooling step, but it is usually 55 to 75% by weight. The temperature of the second cooling medium is about 1 to 10 ° C. lower than the condensation temperature of steam. The second cooling medium used in the second cooling step may be an amount sufficient to condense the total amount of the mixed gas, and is usually a weight ratio to the mixed gas of steam and phenol sent from the first cooling step, 1
It is from 00 to 300, preferably from 190 to 250. The pressure in this second cooling step is 30 Torr or less, preferably 5 Torr.
~ 20 Torr, corresponding to the pressure of the first cooling step.
Cooling temperature in the second cooling step (steam condensing temperature)
May be at a temperature at which the entire amount of the mixed gas of steam and phenol is condensed and liquefied under the above pressure conditions.

【0017】第1冷却工程及び第2冷却工程において用
いる冷却器は、気液接触型の装置であればよく、任意の
ものが用いられる。このような冷却器としては、例え
ば、充填塔や、スプレー塔等を用いることができる。充
填塔を用いる場合、その充填物としては、圧力損失を抑
えるように、ラッシッヒリングや、ポールリング、多孔
金属板等を用いるのがよい。また、第1冷却工程と第2
冷却工程で用いる冷却器は、それぞれ別個に設置するこ
ともできるが、2つの冷却器を含む一塔型の装置であっ
てもよい。
The cooler used in the first cooling step and the second cooling step may be any gas-liquid contact type device, and any one may be used. As such a cooler, for example, a packed tower or a spray tower can be used. When using a packed column, it is preferable to use a Raschig ring, a pole ring, a porous metal plate or the like as the packing so as to suppress the pressure loss. In addition, the first cooling step and the second
The coolers used in the cooling step may be installed separately, but may be a one-column type device including two coolers.

【0018】次に、前記のストリッピングガスの凝縮処
理方法の1つの実施態様について、図面を参照して説明
する。図2において、21は第1冷却器、22は第2冷
却器を示す。ライン23は、前記図1に示すライン13
に接続するストリッピングガスラインを示す。ライン2
4は排気ポンプ(図示されず)及び冷却器に接続する真
空ラインであり、冷却器を含む全装置系は減圧条件に保
持される。ストリッピングガスは、ライン23を通って
第1冷却器21の下部に供給され、ここで、ライン25
を通って第1冷却器の上部から導入される第1冷却媒体
(フェノール又はビスフェノールAを含むフェノール)
と向流接触する。この第1冷却器で凝縮したビスフェノ
ールAとフェノールを溶解した冷却媒体は、抜出しポン
プ27を含むライン26を通って第1冷却器の底部から
抜出される。このライン26を通って抜出される冷却媒
体は、必要に応じ、その一部を所要温度に冷却した後、
冷却媒体としてライン25にリサイクルすることもでき
る。
Next, one embodiment of the method for condensing the stripping gas will be described with reference to the drawings. In FIG. 2, 21 indicates a first cooler and 22 indicates a second cooler. The line 23 is the line 13 shown in FIG.
Shows the stripping gas line connected to. Line 2
Reference numeral 4 denotes a vacuum line connected to an exhaust pump (not shown) and a cooler, and the entire system including the cooler is kept under reduced pressure. The stripping gas is supplied to the lower part of the first cooler 21 through the line 23, where the line 25
A first cooling medium (phenol or phenol containing bisphenol A) introduced through the top of the first cooler through
Come into countercurrent contact with. The cooling medium in which bisphenol A and phenol which have been condensed in the first cooler are dissolved is withdrawn from the bottom of the first cooler through a line 26 including an extraction pump 27. The cooling medium extracted through this line 26 is cooled partially to a required temperature, if necessary, and then cooled.
It can also be recycled to the line 25 as a cooling medium.

【0019】第1冷却器21の頂部からライン28を通
って抜出されるスチームとフェノールの混合ガスは、第
2冷却器22の下部に導入され、ここで、ライン29を
通って第2冷却器の上部から導入される第2冷却媒体
(フェノールの水溶液)と向流接触する。この第2冷却
器でスチームとフェノールの混合ガスは凝縮液化し、こ
の凝縮液は冷却媒体とともに第2冷却器22の底部から
抜出しポンプ31を含むライン30を通って抜出され、
その一部はライン33を通り、冷却媒体用の冷却器34
を通って冷却された後、ライン29を通り、第2冷却器
にリサイクルされる。ライン30を通って抜出された凝
縮スチームとフェノールを含む冷却媒体の残部はライン
32を通って系外へ抜出される。
The mixed gas of steam and phenol extracted from the top of the first cooler 21 through the line 28 is introduced into the lower part of the second cooler 22, where the second cooler is passed through the line 29. In countercurrent contact with a second cooling medium (aqueous solution of phenol) introduced from above. In the second cooler, the mixed gas of steam and phenol is condensed and liquefied, and this condensed liquid is discharged together with the cooling medium from the bottom of the second cooler 22 through a line 30 including a pump 31,
A part of it passes through the line 33 and a cooler 34 for the cooling medium.
After being cooled through the line 29, it is recycled to the second cooler through the line 29. The remainder of the cooling medium containing condensed steam and phenol extracted through the line 30 is extracted outside the system through the line 32.

【0020】次に、前記ストリッピングガスの凝縮処理
法において、第1冷却器と第2冷却器を含む一塔型の冷
却装置を用いた場合の装置系統図を図3に示す。図3に
おいて、40はその内部に第1冷却器21と第2冷却器
22を備えた一塔型の冷却装置である。この冷却装置
は、第1冷却器21と第2冷却器22との中間に中央部
に開口を有する仕切板45を配設し、その開口に筒体4
3を立設した構造を有する。この装置において、筒体4
3の外周面と冷却装置40の内壁との間に形成される環
状中空室は、液体を貯留するためのものである。42
は、第2冷却器22を流下する液体を前記環状中空室に
案内するための案内板である。筒状空間44はガス通路
を示す。なお、図3における符号において、図2に示し
たものと同じ符号は同じ意味を示す。また、図3におい
ては、図2に示した流量コントロール系は図示されてい
ない。
Next, FIG. 3 shows an apparatus system diagram when a one-column type cooling device including a first cooler and a second cooler is used in the stripping gas condensation treatment method. In FIG. 3, reference numeral 40 denotes a one-column type cooling device having a first cooler 21 and a second cooler 22 therein. In this cooling device, a partition plate 45 having an opening in the center is arranged between the first cooler 21 and the second cooler 22, and the cylindrical body 4 is provided in the opening.
3 has an upright structure. In this device, the cylinder 4
The annular hollow chamber formed between the outer peripheral surface of 3 and the inner wall of the cooling device 40 is for storing a liquid. 42
Is a guide plate for guiding the liquid flowing down the second cooler 22 to the annular hollow chamber. The cylindrical space 44 represents a gas passage. In the reference numerals in FIG. 3, the same reference numerals as those shown in FIG. 2 have the same meanings. The flow rate control system shown in FIG. 2 is not shown in FIG.

【0021】前記ストリッピングガスの凝縮処理法によ
れば、ストリッピングガスを、昇圧することなく、30
トール以下の減圧状態のままで冷却凝縮させることがで
きる。しかも、この場合、30トール以下という低い圧
力条件と、それに応じた低いスチーム凝縮温度条件を採
用したにもかかわらず、ビスフェノールAやフェノール
の結晶は何ら析出しない。従って、このストリッピング
ガスの凝縮処理法においては、固体析出による冷却器の
効率低下や、冷却器の閉塞トラブルは何ら生じない。ま
た、前記ストリッピングガスの凝縮処理によればストリ
ッピングガスを構成するスチーム、フェノール及びビス
フェノールAの全てが凝縮され、真空排気系にはそれら
のガスは実質的に流入されない。従って、真空排気ポン
プは、装置系を所定の減圧条件に保持するだけであるの
で、排気容量の小さなもので済み、設備コスト及びエネ
ルギーコスト的に非常に有利である。
According to the above stripping gas condensation treatment method, the stripping gas is heated to 30% without increasing the pressure.
It is possible to cool and condense under a reduced pressure condition of not more than torr. Moreover, in this case, crystals of bisphenol A and phenol do not precipitate at all, despite the low pressure condition of 30 Torr or less and the low steam condensation temperature condition corresponding thereto. Therefore, in this stripping gas condensing treatment method, there is no decrease in the efficiency of the cooler due to solid deposition and no clogging trouble of the cooler. Further, according to the condensation treatment of the stripping gas, all of steam, phenol and bisphenol A constituting the stripping gas are condensed, and the gases are not substantially flowed into the vacuum exhaust system. Therefore, the vacuum exhaust pump only needs to keep the apparatus system under a predetermined depressurization condition, so that it requires only a small exhaust capacity and is very advantageous in terms of equipment cost and energy cost.

【0022】[0022]

【発明の効果】本発明においては、実質的に中性条件下
にあり、溶融色が15APHAのビスフェノールA・フ
ェノール結晶アダクトから誘導されたビスフェノールA
を含むフェノール溶液を雰囲気中の酸素濃度0.005
vol%以下の条件で、先ず第1薄膜蒸発器を用いて蒸発
処理し、フェノール含有率が1〜5重量%のビスフェノ
ールAを得るが、本発明の場合、その第1薄膜蒸発器の
温度を160〜185℃、圧力を15〜60トールの条
件に保持したことから、フェノールの急速な蒸発による
冷却が生じても、ビスフェノールAが析出するようなこ
となく、円滑にその蒸発処理を実施することができる。
また、本発明においては、前記のようにして第1蒸発器
から得られたビスフェノールAを、それに含まれるフェ
ノールを蒸発除去するために、薄膜蒸発器を用いてスチ
ームストリッピング処理するが、本発明の場合、そのビ
スフェノールA中のフェノール含有量が1〜5重量%と
低く、かつ2つの薄膜蒸発器を直列に結合して用いたこ
とから、それらの蒸発器の温度を170〜180℃に保
持し、かつ15トール以下の高真空に保持して、そのビ
スフェノールA中のフェノールを蒸発除去することが可
能になり、色相にすぐれるとともに、フェノール含有率
が0.005重量%以下の高純度ビスフェノールAを得
ることができる。
INDUSTRIAL APPLICABILITY In the present invention, bisphenol A derived from bisphenol A / phenol crystal adduct having a melting color of 15 APHA under substantially neutral conditions.
Oxygen concentration in atmosphere of phenol solution containing 0.005
First, under the condition of vol% or less, a bisphenol A having a phenol content of 1 to 5 wt% is obtained by evaporating with the first thin film evaporator. In the case of the present invention, the temperature of the first thin film evaporator is Since the temperature was maintained at 160 to 185 ° C. and the pressure was 15 to 60 torr, even if cooling was caused by rapid evaporation of phenol, bisphenol A did not precipitate, and the evaporation treatment should be carried out smoothly. You can
Further, in the present invention, the bisphenol A obtained from the first evaporator as described above is subjected to steam stripping treatment using a thin film evaporator in order to evaporate and remove the phenol contained therein. In this case, since the phenol content in bisphenol A was as low as 1 to 5% by weight and two thin film evaporators were used in series, the temperature of those evaporators was maintained at 170 to 180 ° C. And the phenol in the bisphenol A can be removed by evaporation by maintaining a high vacuum of 15 Torr or less, and the hue is excellent, and the high-purity bisphenol having a phenol content of 0.005 wt% or less. A can be obtained.

【0023】色相にすぐれたビフェノールAを得るに
は、その製造原料であるビスフェノールAを含むフェノ
ール溶液及びその溶液を蒸発処理する場合の温度を、1
85℃以下に保持し、インプロペニルフェノール等の着
色不純物の生成の抑制することが必要であるが、本発明
の場合は、その蒸発処理温度を、185℃以下に保持し
かつ蒸発器内を実質的に無酸素下に保持してフェノール
を実質的に完全に蒸発除去するので、得られるビスフェ
ノールAは、APHA20以下の色相のすぐれた高純度
のものである。さらに、本発明においては、第3薄膜蒸
発器で生成したフェノール、ビスフェノールAを含むス
チームからなるストリッピングガスを、第2薄膜蒸発器
に対するストリッピング用スチームガスとして用いるこ
とから、第2薄膜蒸発器におけるフェノールストリッピ
ング効果が高くなるという利点もある。本発明の蒸発処
理によれば、全体的に極めて短かい滞留時間(通常、6
0〜120秒)で蒸発処理を行うことができるので、そ
の処理効率は非常に高いものとなる。特に、本発明の場
合、第1薄膜蒸発器と第2薄膜蒸発器と第3薄膜蒸発器
を、上方からその順に結合し、液体の流れを重力により
上方から下方に流下させることが望ましく、これによっ
て酸素リーフの防止を効果的に行えるとともに、装置系
内における液体の滞留時間を短かく保持することができ
る。
In order to obtain biphenol A having an excellent hue, the phenol solution containing bisphenol A, which is a raw material for producing it, and the temperature at which the solution is subjected to evaporation treatment are set to 1
It is necessary to keep the temperature below 85 ° C. to suppress the formation of colored impurities such as inpropenylphenol, but in the case of the present invention, the evaporation treatment temperature is kept below 185 ° C. and the inside of the evaporator is substantially maintained. The resulting bisphenol A is a highly pure product having a hue of APHA of 20 or less, which is excellent, because the phenol is substantially completely removed by evaporation by keeping it under anoxic conditions. Furthermore, in the present invention, since the stripping gas composed of steam containing phenol and bisphenol A produced in the third thin film evaporator is used as the stripping steam gas for the second thin film evaporator, the second thin film evaporator is used. There is also an advantage that the phenol stripping effect in the above becomes high. According to the evaporation treatment of the present invention, a very short residence time (usually 6
Since the evaporation treatment can be performed in 0 to 120 seconds), the treatment efficiency is extremely high. In particular, in the case of the present invention, it is desirable that the first thin film evaporator, the second thin film evaporator, and the third thin film evaporator are connected in this order from above, and the liquid flow is made to flow downward from above by gravity. Oxygen leaves can be effectively prevented by this, and the residence time of the liquid in the system can be kept short.

【0023】[0023]

【実施例】次に本発明を実施例によりさらに詳細に説明
する。 実施例1 フェノールとアセトンを酸触媒の存在下で反応させて得
られた反応混合物を多段階晶析処理して得た、実質的に
中性条件下(pH5.05)にあり、溶融色がAPHA
5であるビスフェノールA・フェノール結晶アダクト
を、精製フェノールで部分希釈し、130℃に加熱して
ビスフェノールA30重量%を含むフェノール溶液とし
た。このフェノール溶液を原料液として用い図1に示す
蒸発装置系を用いて処理した。次に、図1に示した装置
系の主要な運転条件及び主要ラインを通る液体の成分組
成について以下に示す。 (1)第1蒸発器1 (i) 外部ヒータ温度:170℃ (ii) 内部圧力 :20トール (iii) 雰囲気中酸素濃度:0.0010vol% (2)第2蒸発器2 (i) 外部ヒータ温度:180℃ (ii) 内部圧力 :10トール (iii) 雰囲気中酸素濃度:0.0030vol% (3)第3蒸発器3 (i) 外部ヒータ温度:180℃ (ii) 内部圧力 :10トール (iii) 雰囲気中酸素濃度:0.0030vol% (4)ライン16を通るビスフェノールA (i)フェノール含有率:29wtppm (ii) 溶融色:APHA15 (5)ライン15を通るスチーム供給量:ライン14を
通るビスフェノールA1重量部当り0.04重量部
EXAMPLES Next, the present invention will be described in more detail by way of examples. Example 1 A reaction mixture obtained by reacting phenol with acetone in the presence of an acid catalyst was subjected to a multi-stage crystallization treatment, and was under substantially neutral conditions (pH 5.05) and had a melting color. APHA
The bisphenol A / phenol crystal adduct of 5 was partially diluted with purified phenol and heated to 130 ° C. to obtain a phenol solution containing 30% by weight of bisphenol A. This phenol solution was used as a raw material liquid and treated using the evaporator system shown in FIG. Next, the main operating conditions of the apparatus system shown in FIG. 1 and the component composition of the liquid passing through the main lines will be shown below. (1) First evaporator 1 (i) External heater temperature: 170 ° C. (ii) Internal pressure: 20 Torr (iii) Oxygen concentration in atmosphere: 0.0010 vol% (2) Second evaporator 2 (i) External heater Temperature: 180 ° C (ii) Internal pressure: 10 Torr (iii) Oxygen concentration in atmosphere: 0.0030vol% (3) Third evaporator 3 (i) External heater temperature: 180 ° C (ii) Internal pressure: 10 Torr ( iii) Oxygen concentration in atmosphere: 0.0030 vol% (4) Bisphenol A passing through the line 16 (i) Phenol content: 29 wtppm (ii) Melt color: APHA15 (5) Steam supply amount passing through the line 15: Passing through the line 14 0.04 parts by weight per 1 part by weight of bisphenol A

【0024】実施例2 実施例1において、原料としてのビスフェノールAを含
むフェノール溶液に、表1に示す添加剤を20wtpp
m添加した以外は同様にして実験を行った。この実験に
より、ライン16を通して高純度ビスフェノールA(A
PHA:10、フェノール含有率:27wtppm)を
得た。次に、このビスフェノールAを、空気雰囲気下で
175℃で0時間又は2時間加熱保持する熱安定性試験
(試験A)及び空気を175℃で2.0時間吹込む加速
熱安定性試験(試験B)に付して、その際の色相を評価
した。その結果を表1に示す。
Example 2 In Example 1, 20 wtpp of the additive shown in Table 1 was added to a phenol solution containing bisphenol A as a raw material.
The experiment was conducted in the same manner except that m was added. Through this experiment, high purity bisphenol A (A
PHA: 10 and phenol content: 27 wtppm) were obtained. Next, this bisphenol A was subjected to a thermal stability test (test A) in which it was heated and maintained at 175 ° C. for 0 hours or 2 hours in an air atmosphere and an accelerated thermal stability test (test in which air was blown at 175 ° C. for 2.0 hours). B), and the hue at that time was evaluated. The results are shown in Table 1.

【0025】[0025]

【表1】 [Table 1]

【0026】実施例3 フェノールとアセトンを酸触媒の存在下で反応させて得
られる、溶融色50APHAであるビスフェノールA、
フェノールおよび不純物の混合物を多段階で晶析して、
結晶アダクトを析出させた。このスラリー溶液を減圧濾
過して固形状結晶アダクトを得、これを後述する方法で
得た精製フェノールをアダクト1重量部に対し2.5重
量部の割合で用いて洗浄して結晶アダクト(色相:AP
HA5〜10、pH5.05以下)を得た。次に、この
結晶アダクト1重量部に精製フェノール1重量部を加え
て130℃で溶融し、次いで得られた溶融物(pH5.
05)を、実施例1と同様にして蒸発処理して、高純度
ビスフェノールA(純度99.96wt%)を得た。こ
のビスフェノールAのフェノール含有率は30wtpp
m以下であり、またその溶融色は15APHAであっ
た。
Example 3 Bisphenol A having a melting color of 50 APHA obtained by reacting phenol with acetone in the presence of an acid catalyst,
Crystallizing a mixture of phenol and impurities in multiple stages,
A crystal adduct was deposited. This slurry solution was filtered under reduced pressure to obtain a solid crystalline adduct, and the purified phenol obtained by the method described below was used at a ratio of 2.5 parts by weight to 1 part by weight of the adduct to wash the crystal adduct (hue: AP
HA5-10, pH 5.05 or less) was obtained. Next, 1 part by weight of purified phenol was added to 1 part by weight of this crystal adduct, and the mixture was melted at 130 ° C., and then the obtained melt (pH 5.
05) was evaporated in the same manner as in Example 1 to obtain high-purity bisphenol A (purity 99.96 wt%). The phenol content of this bisphenol A is 30 wtpp
and the melt color was 15 APHA.

【0027】なお、上記で使用した精製フェノールは溶
融色6APHAのものであり、市販工業用フェノール
(水分濃度0.1wt%、不純物濃度0.05wt%)
をロームアンドハース社製、アンバーライトIR−11
8H+樹脂を用いて温度80℃、接着時間50分で接触
処理し、蒸留塔底温度175℃、塔頂圧力560tor
rで蒸留して得られたものである。
The purified phenol used above had a melting color of 6APHA, and was used as a commercial industrial phenol (water concentration 0.1 wt%, impurity concentration 0.05 wt%).
Amber Light IR-11 manufactured by Rohm and Haas
Contact treatment using 8H + resin at a temperature of 80 ° C. and an adhesion time of 50 minutes, distillation bottom temperature 175 ° C., top pressure 560 torr
It was obtained by distillation at r.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明を実施する場合の装置系統図の一例を示
す。
FIG. 1 shows an example of an apparatus system diagram when implementing the present invention.

【図2】ストリッピングガスを凝縮するための装置系統
図の一例を示す。
FIG. 2 shows an example of a system diagram for condensing stripping gas.

【図3】ストリッピングガスを凝縮するための装置系統
図他の例を示す。
FIG. 3 shows another example of a system diagram for condensing the stripping gas.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,2,3 薄膜蒸発器 4 外部ヒータ 21 第1冷却器 22 第2冷却器 34 冷却器 1, 2, 3 thin film evaporator 4 external heater 21 first cooler 22 second cooler 34 cooler

フロントページの続き (72)発明者 安井 誠 神奈川県横浜市鶴見区鶴見中央二丁目12番 1号 千代田化工建設株式会社内 (72)発明者 米田 則行 神奈川県横浜市鶴見区鶴見中央二丁目12番 1号 千代田化工建設株式会社内 (72)発明者 浅岡 佐知夫 神奈川県横浜市鶴見区鶴見中央二丁目12番 1号 千代田化工建設株式会社内Front page continued (72) Inventor Makoto Yasui 12-12, Tsurumi Chuo, Tsurumi-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Chiyoda Kako Construction Co., Ltd. (72) Noriyuki Yoneda 2--12, Tsurumi-chu, Tsurumi-ku, Yokohama, Kanagawa No. 1 in Chiyoda Kakoh Construction Co., Ltd. (72) Inventor Sachio Asaoka 2-12-1, Tsurumi Chuo, Tsurumi-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Chiyoda Kakoh Construction Co., Ltd.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 実質的に中性条件下にあり、溶融色が1
5APHA以下のビスフェノールA・フェノール結晶ア
ダクトから形成されたビスフェノールAを含むフェノー
ル溶液を、薄膜蒸発器を用い、雰囲気中の酸素濃度0.
005vol%以下の条件で160〜185℃の温度及び1
5〜60トールの圧力下で蒸発処理して、フェノール含
有率が1〜5重量%のビスフェノールAを得るフェノー
ル蒸発工程と、該フェノール蒸発工程で得られたフェノ
ールを含むビスフェノールAを、170〜185℃の温
度及び15トール以下の圧力下でストリッピング用ガス
と向流接触させてストリッピング処理する第1ストリッ
ピング工程と、該第1ストリッピング工程で得られたフ
ェノールを含むビスフェノールAを、170〜185℃
の温度及び15トール以下の圧力下でストリッピング用
ガスと向流接触させてストリッピング処理する第2スト
リッピング工程とからなり、該第2ストリッピング工程
におけるストリッピング用ガスとしてスチームを用い、
該第1ストリッピング工程におけるストリッピング用ガ
スとして、第2ストリッピング工程で得られたフェノー
ル及びビスフェノールAを含むスチームからなるストリ
ッピングガスを用いることを特徴とする高品位ビスフェ
ノールAの製造方法。
1. A substantially neutral condition with a melt color of 1.
Using a thin film evaporator, a phenol solution containing bisphenol A formed from bisphenol A / phenol crystal adduct of 5 APHA or less was used, and the oxygen concentration in the atmosphere was adjusted to 0.
Temperature of 160-185 ° C and 1 under the condition of 005 vol% or less
A phenol evaporation step of obtaining a bisphenol A having a phenol content of 1 to 5 wt% by evaporating under a pressure of 5 to 60 Torr and a bisphenol A containing phenol obtained in the phenol evaporation step are 170 to 185. A first stripping step in which the stripping gas is countercurrently contacted with the stripping gas at a temperature of 15 ° C. and a pressure of 15 torr or less, and bisphenol A containing phenol obtained in the first stripping step are added to 170 ~ 185 ° C
And a second stripping step in which the stripping treatment is carried out in countercurrent contact with the stripping gas at a temperature of 15 torr or less, and steam is used as the stripping gas in the second stripping step.
A method for producing high-quality bisphenol A, wherein a stripping gas consisting of steam containing phenol and bisphenol A obtained in the second stripping step is used as the stripping gas in the first stripping step.
【請求項2】 該ビスフェノールA・フェノール結晶ア
ダクトから形成されたビスフェノールAを含むフェノー
ル溶液に、脂肪酸カルボン酸を添加混合した後、フェノ
−ルを除去する請求項1の方法。
2. The method according to claim 1, wherein a phenol solution containing bisphenol A formed from the bisphenol A / phenol crystal adduct is added and mixed with a fatty acid carboxylic acid, and then phenol is removed.
【請求項3】 該ビスフェノールA・フェノール結晶ア
ダクトが再溶解及び再晶析を少なくとも1回以上行った
後、精製フェノールで洗浄されたものである請求項1の
方法
3. The method according to claim 1, wherein the bisphenol A / phenol crystal adduct has been redissolved and recrystallized at least once and then washed with purified phenol.
JP30652391A 1991-07-10 1991-10-25 Method for producing high-grade bisphenol A Expired - Lifetime JP3190388B2 (en)

Priority Applications (18)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP30652391A JP3190388B2 (en) 1991-10-25 1991-10-25 Method for producing high-grade bisphenol A
CNB991038622A CN1190404C (en) 1991-07-10 1992-06-30 Condensation processing method for desorption gas of compound containing phenol, bisphenol A and steam
CNB991038959A CN1167659C (en) 1991-07-10 1992-06-30 Processes for refining phenol, preparing and refining addition of bisphenol A and phenol crystal and preparing bisphenol A
CNB991038614A CN1190403C (en) 1991-07-10 1992-06-30 Crystal separating-out device of bisphenol A. phenol crystal adduct, manufacture ad device thereof
ES94203111T ES2097610T3 (en) 1991-07-16 1992-07-10 CONDENSATION PROCEDURE FOR RECOVERY OF BISPHENOL A AND PHENOL.
DE69214889T DE69214889T2 (en) 1991-07-16 1992-07-10 Process for the preparation of bisphenol A
DE69217393T DE69217393T2 (en) 1991-07-16 1992-07-10 Condensation process for the recovery of bisphenol A and phenol
KR1019920012309A KR100189205B1 (en) 1991-07-10 1992-07-10 Process for the production of crystalline adduct of bisphenol and phenol and apparatus therefor
ES92306380T ES2093788T3 (en) 1991-07-16 1992-07-10 PROCEDURE FOR THE PRODUCTION OF BISPHENOL A.
EP94203111A EP0643032B1 (en) 1991-07-16 1992-07-10 Condensation process for recovery of bisphenol A and phenol
EP92306380A EP0523931B1 (en) 1991-07-16 1992-07-10 Process for the production of bisphenol A
US07/912,487 US5324867A (en) 1991-07-16 1992-07-13 Process for the production of bisphenol A.
US08/228,871 US5371304A (en) 1991-07-16 1994-04-18 Process for the production of bisphenol A
US08/229,349 US5382711A (en) 1991-07-16 1994-04-18 Process for the production of bishenol A
US08/229,348 US5382712A (en) 1991-07-16 1994-04-18 Process for the production of bisphenol A
KR1019980044546A KR100190336B1 (en) 1991-07-10 1998-10-23 Method of purifying bisphenol a, phenol crystalline adduct, method of producing the crystalline adduct, and method of producing bisphenol a.
KR1019980044545A KR100190335B1 (en) 1991-07-10 1998-10-23 Method of purifying bisphenol a. phenol crystalline adduct, method of producing the crystalline adduct, and method of producing bisphenol a.
KR1019980044544A KR100190334B1 (en) 1991-07-10 1998-10-23 Process for the production of crystalline adduct of bisphenol a and phenol and apparatus therefor

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP30652391A JP3190388B2 (en) 1991-10-25 1991-10-25 Method for producing high-grade bisphenol A

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH05117193A true JPH05117193A (en) 1993-05-14
JP3190388B2 JP3190388B2 (en) 2001-07-23

Family

ID=17958056

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP30652391A Expired - Lifetime JP3190388B2 (en) 1991-07-10 1991-10-25 Method for producing high-grade bisphenol A

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3190388B2 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003518048A (en) * 1999-12-20 2003-06-03 バイエル アクチェンゲゼルシャフト Bis (4-hydroxyaryl) alkene

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6635575B2 (en) * 2014-04-25 2020-01-29 日鉄ケミカル&マテリアル株式会社 Phenolic compound having good stability and method for producing the same

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003518048A (en) * 1999-12-20 2003-06-03 バイエル アクチェンゲゼルシャフト Bis (4-hydroxyaryl) alkene

Also Published As

Publication number Publication date
JP3190388B2 (en) 2001-07-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5382712A (en) Process for the production of bisphenol A
US20070004941A1 (en) Process for the preparation of high-purity bisphenol A
JP3413497B2 (en) Method for producing bisphenol A
US4294994A (en) Purification of bisphenol-A
JP4140171B2 (en) Method for producing crystalline adduct of bisphenol A and phenol for the production of high quality bisphenol A
JPH05117193A (en) Production of high-quality bisphenol a
JP4398674B2 (en) Method for producing bisphenol A
KR100189205B1 (en) Process for the production of crystalline adduct of bisphenol and phenol and apparatus therefor
JPH11116519A (en) Improved method for removing contamination of crystallizing cooler contaminated with bisphenol-phenol adduct
JP3917201B2 (en) Method for producing bisphenol A
JP3194235B2 (en) Method for producing high-grade bisphenol A
US6972344B2 (en) Method of producing pure 1,1-bis-(4-hydroxyphenyl)-3,3,5-trimethylcyclohexane
JP2913123B2 (en) Method for separating bisphenol A without discoloration
JP3181110B2 (en) Method for producing bisphenol A with excellent thermal stability
KR100190334B1 (en) Process for the production of crystalline adduct of bisphenol a and phenol and apparatus therefor
JPH06199720A (en) Production of bisphenol a having high thermal stability
JPH0551338A (en) Production of high-purity bisphenol a
JP3041547B2 (en) Method for separating high purity bisphenol A
JP2962441B2 (en) Method for producing bisphenol A with low coloring properties
JP3294316B2 (en) Method for producing bisphenol A
JP2887300B2 (en) Method for producing high-grade bisphenol A
JP4517678B2 (en) Method for producing purified bisphenol A
JP2007112763A (en) Method for producing bisphenol a having good hue
JPS59101476A (en) Purification of epoxy compound
JPS62192331A (en) Method for recovering bisphenol a

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080518

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090518

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090518

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100518

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100518

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110518

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120518

Year of fee payment: 11

EXPY Cancellation because of completion of term
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120518

Year of fee payment: 11