JPH05109872A - Method and apparatus for correction of position thin semiconductor device - Google Patents

Method and apparatus for correction of position thin semiconductor device

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JPH05109872A
JPH05109872A JP26930391A JP26930391A JPH05109872A JP H05109872 A JPH05109872 A JP H05109872A JP 26930391 A JP26930391 A JP 26930391A JP 26930391 A JP26930391 A JP 26930391A JP H05109872 A JPH05109872 A JP H05109872A
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JP
Japan
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semiconductor device
thin semiconductor
position correction
hole
thin
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JP26930391A
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Japanese (ja)
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Yoshiharu Takahashi
義治 高橋
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Sony Corp
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Abstract

PURPOSE:To correct the position of many thin semiconductor devices simultaneously and with high accuracy. CONSTITUTION:The method to correct the position of a semiconductor device is constituted in the following manner: an energy is applied, in the oblique direction by means of a vibration and/or an air blower, to a position correction base 10 where many square thin holes 11 have been made by keeping their positions and their intervals with high accuracy in the row direction and the column direction; and semiconductor devices 1 which have been held in the holes 11 are pressed to two sides of the holes 11.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は薄型半導体装置の製造
において使用される位置補正装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a position correction device used in the manufacture of thin semiconductor devices.

【0002】[0002]

【従来の技術】薄型半導体装置は、図4の斜視図に示す
ように全体としての半導体装置1のパッケージ2の本体
が並行、平面状の形態をもち、リード3がこのパッケー
ジ2の四方側面から突き出ているQFPあるいはTQF
Pと呼ばれている半導体装置1を代表として各種の半導
体装置1が発表されている。このような半導体装置1
を、例えば製品の最終の良否を判定する測定工程でリー
ド3をソケット(図示せず)へ挿入する場合、出荷用に
使用する樹脂製のトレイ(図示せず)から1個1個吸着
ノズル(図示せず)で吸引、吸着したまま、あるいは図
5イ、ロに示すような位置補正ステーション4に一旦載
置した後、メカ機構の位置補正爪5を四方向から4本同
時に矢印で示したように移動させ、パッケージ2の位置
補正を行い、半導体装置1を吸着ノズルによりソケット
へ正しくセッティングして測定を行っている。
2. Description of the Related Art In a thin type semiconductor device, as shown in a perspective view of FIG. 4, a main body of a package 2 of a semiconductor device 1 as a whole has a parallel and planar form, and leads 3 are provided on four sides of the package 2. Protruding QFP or TQF
Various semiconductor devices 1 have been announced as a representative of the semiconductor device 1 called P. Such a semiconductor device 1
For example, when the leads 3 are inserted into a socket (not shown) in the measurement step of determining the final quality of the product, one by one from the resin tray (not shown) used for shipping, the suction nozzle ( (Not shown), after being sucked and sucked, or once placed on the position correction station 4 as shown in FIGS. 5A and 5B, four position correction claws 5 of the mechanical mechanism are shown by arrows at the same time from four directions. Thus, the position of the package 2 is corrected, the semiconductor device 1 is correctly set in the socket by the suction nozzle, and the measurement is performed.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】このように、四方向か
ら同時に動くメカ機構で位置補正を行うと、メカ機構の
メカニズムが複雑となり、製造設備の製作費用がかさ
み、またメンテナンスのめんでも非常に高度な技術が要
求されてくる。そのうえ、メカ機構が複雑なため、同時
に位置補正できる数が1個もしくは2個どまりと、数量
に制限があった。
As described above, when the position correction is performed by the mechanical mechanism that simultaneously moves from four directions, the mechanism of the mechanical mechanism becomes complicated, the manufacturing cost of the manufacturing equipment is increased, and the maintenance is very troublesome. Advanced technology is required. In addition, since the mechanical mechanism is complicated, the number of positions that can be simultaneously corrected is only one or two, which limits the number.

【0004】この発明は、薄型半導体装置の位置の補正
を、簡単な部材で安価に多数個同時に行える、薄型半導
体装置の位置補正方法および位置補正装置を提供するこ
とを目的としている。
An object of the present invention is to provide a position correcting method and a position correcting device for a thin semiconductor device, which can simultaneously correct a large number of thin semiconductor devices at low cost with a simple member.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】先に述べたような課題を
解決するために、この発明は、方形の薄型の穴を行方向
および列方向に多数個配置された位置決め部材と、位置
決め部材の穴内に収納された薄型半導体装置を斜め方向
に移動させるエネルギー付加手段とを備え、エネルギー
付加手段により薄型半導体装置を穴の一方向に移動さ
せ、薄型半導体装置のリード部の2辺を穴の2辺に接触
させて、薄型半導体装置の位置補正を行うことを特徴と
する薄型半導体装置の位置補正方法である。また、方形
の薄型の穴を行方向および列方向に多数個配置された位
置決め部材を有する薄型半導体装置の位置補正装置の、
位置決め部材の上部に行方向および列方向に配置された
空気吹きつけ装置を、および、または下部に加振装置を
備えたことを特徴とする薄型半導体装置の位置補正装置
である。
In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides a positioning member having a large number of rectangular thin holes arranged in the row and column directions, and a positioning member of the positioning member. Energy adding means for moving the thin semiconductor device housed in the hole in an oblique direction, the thin semiconductor device is moved in one direction of the hole by the energy adding means, and two sides of the lead portion of the thin semiconductor device are moved to the hole 2 A method for correcting the position of a thin semiconductor device is characterized in that the position of the thin semiconductor device is corrected by bringing it into contact with a side. Further, in a position correction device for a thin semiconductor device having a positioning member in which a large number of rectangular thin holes are arranged in the row direction and the column direction,
A position correction device for a thin semiconductor device, comprising an air blowing device arranged in a row direction and a column direction on an upper part of a positioning member, and / or a vibrating device on a lower part.

【0006】[0006]

【作用】したがってこの発明によれば、薄型半導体装置
は位置決め部材の穴にランダムに整列されている状態
で、エネルギー付加手段により穴の一方向に移動させら
れ、リード部の2辺を穴の2辺に接触させて、同時に多
数個の薄型半導体装置が瞬時に位置補正が行われる。
According to the present invention, therefore, the thin semiconductor device is moved in one direction of the hole by the energy adding means in a state where the thin semiconductor device is randomly aligned with the hole of the positioning member, and the two sides of the lead portion are moved to the two positions of the hole. The plurality of thin semiconductor devices are simultaneously subjected to position correction while being brought into contact with the sides.

【0007】[0007]

【実施例】この発明の薄型半導体装置の位置補正方法お
よび位置補正装置について、以下に図1ないし図3にも
とづいて説明する。図1はこの発明の薄型半導体装置の
位置補正装置の全体斜視図、図2は全体平面図である。
図3は位置補正方法を説明するための位置補正装置の穴
の部分の拡大図で、イは平面図、ロは断面図である。こ
の発明の薄型半導体装置の位置補正装置は図1および図
2に示すように、例えば行方向に10行、列方向に6
列、計60個の位置補正用の方形の薄型の穴11が設け
られた位置補正ベース10が、位置補正ベース取付け台
12に取り付けられている。図1はエネルギー付加手段
として位置補正ベース取付け台12に加振装置13が取
り付けられている例であるが、エネルギー付加手段とし
て図3に示すようなノズル14を位置補正ベース10の
上部に、各穴11に対して2個所配置して、このノズル
14からエアーを噴出してもよい。また、エネルギー付
加手段として加振装置13とノズル14を併用すること
も可能である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A position correcting method and a position correcting device for a thin semiconductor device according to the present invention will be described below with reference to FIGS. FIG. 1 is an overall perspective view of a position correcting device for a thin semiconductor device of the present invention, and FIG. 2 is an overall plan view.
3A and 3B are enlarged views of the hole portion of the position correction device for explaining the position correction method. FIG. 3A is a plan view and FIG. 3B is a sectional view. As shown in FIGS. 1 and 2, the position correcting device for a thin semiconductor device of the present invention has, for example, 10 rows in the row direction and 6 rows in the column direction.
A position correction base 10 provided with a total of 60 rectangular holes 11 for position correction in a row is attached to a position correction base mount 12. FIG. 1 shows an example in which a vibrating device 13 is attached to a position correction base mounting base 12 as an energy adding means, but a nozzle 14 as shown in FIG. Air may be ejected from the nozzle 14 by arranging it at two positions with respect to the hole 11. Moreover, it is also possible to use the vibration device 13 and the nozzle 14 together as an energy adding means.

【0008】この発明の位置補正装置のポイントとなる
位置補正用の方形の薄型の穴11は図2および図3に示
すように方形の2辺のA面、B面が位置補正ベース10
の基準面であるE面、F面を基準として加工され、各穴
11のA面、B面の位置および間隔が寸法的に高精度に
加工されて製作されている。位置補正する際、穴11の
底面Cをパッケージ2あるいはリード3が滑って位置決
めされる機構になっているので、穴11のA面、B面の
両側面と底面のC面は高い仕上げ精度を要求される。先
に述べたような理由から、位置補正ベース10の材質
は、錆びにくく比較的加工しやすいステンレススティー
ル303が好適である。穴11の大きさは、半導体装置
1の出荷用に使用する樹脂製のトレイの穴よりも大きく
製作されている。その理由は、出荷用に使用する樹脂製
のトレイは成型により製作されており、トレイの穴の寸
法精度および間隔精度がよく出ていないためであり、樹
脂製のトレイから吸着された、例えば60個の半導体装
置1を全て位置補正ベース10の穴11に確実に落とし
込む必要があるからである。但し、あまり穴11を大き
く加工して、穴11内で半導体装置1が回転してしまっ
てはならないので、穴11の大きさの上限は規制されて
いる。
As shown in FIGS. 2 and 3, the rectangular thin hole 11 for position correction, which is the feature of the position correcting apparatus of the present invention, has two sides A and B of the rectangular position correction base 10.
Are processed with reference to the E and F surfaces that are the reference surfaces, and the positions and intervals of the A and B surfaces of each hole 11 are processed with high dimensional accuracy. At the time of position correction, the package 2 or the lead 3 slides on the bottom surface C of the hole 11 to be positioned, so that both sides A and B of the hole 11 and the bottom surface C have high finishing accuracy. Required. For the reason described above, the material of the position correction base 10 is preferably stainless steel 303 that is resistant to rust and relatively easy to process. The size of the hole 11 is made larger than the hole of the resin tray used for shipping the semiconductor device 1. The reason for this is that the resin tray used for shipping is manufactured by molding, and the dimensional accuracy and spacing accuracy of the holes of the tray are not good, and for example, 60 trays that are sucked from the resin tray are used. This is because it is necessary to surely drop all the semiconductor devices 1 into the holes 11 of the position correction base 10. However, since the semiconductor device 1 must not rotate too much and the semiconductor device 1 rotates in the hole 11, the upper limit of the size of the hole 11 is regulated.

【0009】つぎに、この発明の薄型半導体装置の位置
補正方法について説明する。第1の位置補正方法はエネ
ルギー付加手段として図1に示すような加振装置13を
使用して位置補正を行う方法である。この方法は、位置
補正ベース取付け台12に水平に取り付けられた位置補
正ベース10に、加振装置13により位置補正ベース1
0に図1の左上から右下にかけて斜め方向に進行するよ
うな振動波形を加えることにより、穴11内の半導体装
置1は斜め方向の力を受けて移動し、図2に示すよう
に、穴11のA面とB面にリード3が押しつけられて、
半導体装置1は穴11のA面およびB面により位置補正
される。加振装置13を使用して他の方法により位置補
正する方法もある。この方法は、位置補正ベース取付け
台12に図1の左上から右下にかけて高さが下がるよう
に、少し斜めに取り付けられた位置補正ベース10に、
加振装置13により位置補正ベース10に上下方向の振
動を加えることにより、穴11内の半導体装置1は斜め
方向の力を受けて移動し、図2に示すように、穴11の
A面とB面にリード3が押しつけられて、半導体装置1
は穴11のA面およびB面により位置補正される。この
方法の場合、位置補正ベース10が傾いた状態で穴11
の位置および間隔を水平状態の穴11の位置および間隔
と同一になるように加工する必要がある。
Next, the position correcting method of the thin semiconductor device of the present invention will be described. The first position correction method is a method of performing position correction by using a vibrating device 13 as shown in FIG. 1 as an energy adding means. According to this method, the position correction base 1 mounted horizontally on the position correction base mount 12 is moved to the position correction base 1 by the vibration device 13.
0 is applied to the semiconductor device 1 in the hole 11 in a diagonal direction by moving in a diagonal direction from the upper left to the lower right in FIG. The lead 3 is pressed against the A side and B side of 11,
The position of the semiconductor device 1 is corrected by the A surface and the B surface of the hole 11. There is also a method of using the vibrating device 13 to correct the position by another method. In this method, the position correction base 10 mounted on the position correction base mounting base 12 at a slight angle so that the height decreases from the upper left to the lower right of FIG.
By applying vertical vibration to the position correction base 10 by the vibrating device 13, the semiconductor device 1 in the hole 11 moves by receiving a force in an oblique direction, and as shown in FIG. When the lead 3 is pressed against the B side, the semiconductor device 1
Is corrected by the A surface and the B surface of the hole 11. In the case of this method, when the position correction base 10 is tilted, the hole 11
It is necessary to process the positions and intervals of the holes so as to be the same as the positions and intervals of the holes 11 in the horizontal state.

【0010】第2の位置補正方法はエネルギー付加手段
として図3に示すようなノズル14を位置補正ベース1
0の上部に、各穴11に対して2個所配置して、このノ
ズル14からエアーを噴出して位置補正を行う方法であ
る。この方法により、穴11内の半導体装置1はエアー
の圧力により斜め方向の力を受けて移動し、図2および
図3に示すように、穴11のA面とB面にリード3が押
しつけられて、半導体装置1は穴11のA面およびB面
により位置補正される。
In the second position correction method, the nozzle 14 as shown in FIG.
This is a method in which two holes 11 are arranged in the upper part of 0 and air is ejected from the nozzle 14 to correct the position. By this method, the semiconductor device 1 in the hole 11 is moved by receiving a force in an oblique direction by the pressure of air, and the leads 3 are pressed against the A surface and the B surface of the hole 11 as shown in FIGS. 2 and 3. Then, the position of the semiconductor device 1 is corrected by the A surface and the B surface of the hole 11.

【0011】第3の位置補正方法は図1に示すような加
振装置13と図3に示すようなノズル14を併用して、
半導体装置1に加振装置13により上下方向の振動を加
えながらノズル14によりエアーを噴出して位置補正を
行う方法である。この方法の場合、半導体装置1は加振
装置13により上下方向の振動を加えられているので、
ノズル14から噴出するエアーの圧力は第2の位置補正
方法のエアーの圧力より弱くても半導体装置1を移動さ
せることが可能である。また、エアーの圧力が弱くて済
むことを利用して、ノズル14を各穴11に対して2個
所配置することを止めて、図2に示す位置補正ベースの
図面上で上側と左側に薄い帯状のエアー噴出口を設け
て、薄い帯状のエアー噴出口からの弱いエアー圧力によ
り半導体装置1を移動させて位置補正することができ
る。
The third position correcting method uses a vibrating device 13 as shown in FIG. 1 and a nozzle 14 as shown in FIG.
This is a method of ejecting air from the nozzle 14 to correct the position while applying vertical vibration to the semiconductor device 1 by the vibration device 13. In the case of this method, since the semiconductor device 1 is vertically vibrated by the vibrating device 13,
Even if the pressure of the air ejected from the nozzle 14 is weaker than the pressure of the air in the second position correction method, the semiconductor device 1 can be moved. Further, by utilizing the fact that the pressure of the air is weak, disposing two nozzles 14 at each hole 11 is stopped, and a thin strip shape is shown on the upper side and the left side in the drawing of the position correction base shown in FIG. It is possible to correct the position of the semiconductor device 1 by moving the semiconductor device 1 by the weak air pressure from the thin band-shaped air ejection port.

【0012】[0012]

【発明の効果】この発明により薄型半導体装置は同時に
多数個が瞬時に位置補正が行われる。また、簡単な構造
の位置決め装置により、簡単な方法の位置決め方法を利
用して位置決めが行われるので製造設備を安価に製作す
ることができ、メンテナンスに高度な技術も必要としな
い。
According to the present invention, a large number of thin semiconductor devices are simultaneously subjected to position correction at the same time. Further, since the positioning is performed by the positioning device having the simple structure by using the positioning method of the simple method, the manufacturing equipment can be manufactured at a low cost, and the maintenance does not require a high technique.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明の薄型半導体装置の位置補正装置の全
体斜視図。
FIG. 1 is an overall perspective view of a position correction device for a thin semiconductor device according to the present invention.

【図2】この発明の薄型半導体装置の位置補正装置の全
体平面図。
FIG. 2 is an overall plan view of a position correction device for a thin semiconductor device of the present invention.

【図3】位置補正方法を説明するための位置補正装置の
穴の部分の拡大図で、イは平面図、ロは断面図。
3A and 3B are enlarged views of a hole portion of a position correction device for explaining a position correction method, in which A is a plan view and B is a cross-sectional view.

【図4】薄型半導体装置の斜視図。FIG. 4 is a perspective view of a thin semiconductor device.

【図5】従来例の薄型半導体装置の位置補正方法の説明
図で、イは平面図、ロは側面図である。
5A and 5B are explanatory views of a position correction method for a conventional thin semiconductor device, in which A is a plan view and B is a side view.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 半導体装置 2 パッケージ 3 リード 4 位置補正ステーション 5 位置補正爪 10 位置補正ベース 11 穴 12 位置補正ベース取付け台 13 加振装置 14 ノズル 1 Semiconductor Device 2 Package 3 Lead 4 Position Correcting Station 5 Position Correcting Claw 10 Position Correcting Base 11 Hole 12 Position Correcting Base Mount 13 Vibrating Device 14 Nozzle

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 方形の薄型の穴を行方向および列方向に
多数個配置された位置決め部材と、 該位置決め部材の前記穴内に収納された薄型半導体装置
を斜め方向に移動させるエネルギー付加手段とを備え、 該エネルギー付加手段により前記薄型半導体装置を前記
穴の一方向に移動させ、前記薄型半導体装置のリード部
の2辺を前記穴の2辺に接触させて、前記薄型半導体装
置の位置補正を行うことを特徴とする薄型半導体装置の
位置補正方法。
1. A positioning member having a large number of rectangular thin holes arranged in a row direction and a column direction, and energy adding means for moving a thin semiconductor device housed in the hole of the positioning member in an oblique direction. The energy adding means moves the thin semiconductor device in one direction of the hole, and the two sides of the lead portion of the thin semiconductor device are brought into contact with the two sides of the hole to correct the position of the thin semiconductor device. A method for correcting the position of a thin semiconductor device, which comprises:
【請求項2】 前記エネルギー付加手段が振動によるも
のであるとを特徴とする請求項1記載の薄型半導体装置
の位置補正方法。
2. The position correction method for a thin semiconductor device according to claim 1, wherein the energy adding means is based on vibration.
【請求項3】 前記エネルギー付加手段が空気の吹きつ
けによるものであるとを特徴とする請求項1記載の薄型
半導体装置の位置補正方法。
3. The position correction method for a thin semiconductor device according to claim 1, wherein the energy adding means is provided by blowing air.
【請求項4】 前記エネルギー付加手段が振動によるも
のと、空気の吹きつけによるものの併用であるとを特徴
とする請求項1記載の薄型半導体装置の位置補正方法。
4. The position correcting method for a thin semiconductor device according to claim 1, wherein the energy adding means is a combination of vibration type and air blowing type.
【請求項5】 方形の薄型の穴を行方向および列方向に
多数個配置された位置決め部材を有する薄型半導体装置
の位置補正装置において、 前記位置決め部材の下部に加振装置を、および、または
上部に行方向および列方向に配置された空気吹きつけ装
置を備えたことを特徴とする薄型半導体装置の位置補正
装置。
5. A position correction device for a thin semiconductor device having a positioning member having a large number of rectangular thin holes arranged in a row direction and a column direction, wherein a vibrating device is provided below the positioning member, and / or an upper part. A position correction device for a thin semiconductor device, comprising an air blowing device arranged in a row direction and a column direction.
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