JPH051078A - Production of reactive silicon group-containing imide compound - Google Patents

Production of reactive silicon group-containing imide compound

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JPH051078A
JPH051078A JP17550491A JP17550491A JPH051078A JP H051078 A JPH051078 A JP H051078A JP 17550491 A JP17550491 A JP 17550491A JP 17550491 A JP17550491 A JP 17550491A JP H051078 A JPH051078 A JP H051078A
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恭尚 岸本
Renichi Akahori
廉一 赤堀
Katsuya Ouchi
克哉 大内
Kazuya Yonezawa
和弥 米沢
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Abstract

PURPOSE:To obtain the subject compound curable at relatively low temperatures, excellent in long-term storage stability and heat resistance, useful for coating agents, etc., by reaction between each specific tetracarboxylic dianhydride and primary amine to give an imide compound followed by reaction of this imide compound with a specific hydrosilane. CONSTITUTION:Reaction is made in an organic polar solvent such as DMF between (A) a tetracarboxylic dianhydride of formula I (R<0> is 6-30C tetravalent organic group containing aromatic group) such as pyromellitic dianhydride and (B) a primary amine of formula II. (R<1> is 2-20C organic group containing C=C bond) such as allylamine to form an amic acid solution, which is then converted to an imide compound. This compound is then hydrosilylated with a hydrosilane of formula III [R<2> is 1-20C monovalent organic group or of formula IV (R<3> is 1-10C monovalent hydrocarbon); X is OH or hydrolyzable group; (a) is 1-3] such as methyldimethoxysilane in a solvent such as hexane in the presence of a hydrosilylating catalyst such as chloroplatinic acid, thus obtaining the objective compound.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は反応性ケイ素基含有イミ
ド化合物の製法に関する。さらに詳しくは、芳香族テト
ラカルボン酸二無水物と炭素- 炭素二重結合含有有機基
を含有するアミンとから1分子中に2つの炭素- 炭素二
重結合含有有機基を有するイミド化合物をえ、引き続い
て該イミド化合物を反応性基を有するヒドロシランでヒ
ドロシリル化することを特徴とする反応性ケイ素基含有
イミド化合物の製法に関する。
FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a process for producing a reactive silicon group-containing imide compound. More specifically, an imide compound having two carbon-carbon double bond-containing organic groups in one molecule is obtained from an aromatic tetracarboxylic dianhydride and an amine containing a carbon-carbon double bond-containing organic group, The present invention further relates to a process for producing a reactive silicon group-containing imide compound, which comprises hydrosilylating the imide compound with a hydrosilane having a reactive group.

【0002】[0002]

【従来の技術・発明が解決しようとする課題】従来、室
温硬化性組成物としては、各種のものが開発されている
が、比較的低温で硬化し、硬化後に耐熱性、耐薬品性、
機械的特性に優れた硬化物を与える硬化性組成物はほと
んど開発されていない。
Conventionally, various kinds of room temperature curable compositions have been developed, but they are cured at a relatively low temperature, and after curing, heat resistance, chemical resistance,
A curable composition that gives a cured product having excellent mechanical properties has hardly been developed.

【0003】たとえば、室温硬化性組成物として、アル
コキシシリル基末端ポリエーテルを含有する組成物が開
示されている(特開昭52-73998号公報)。この組成物か
らえられる硬化物は室温でゴム状であり、機械特性、と
くに低温における機械特性には優れているが、 100℃以
上の温度では短時間で機械的特性が大きく低下するため
事実上使用することができない。しかも、硬化物は炭化
水素系溶剤、ケトン系溶剤、アルコール系溶剤、エステ
ル系溶剤、エーテル系溶剤、アミド系溶剤、ハロゲン系
溶剤などの各種有機溶剤によって大きく膨潤し、機械的
特性が大きく変化するといった欠点をも有している。
For example, as a room temperature curable composition, a composition containing an alkoxysilyl group-terminated polyether has been disclosed (JP-A-52-73998). The cured product obtained from this composition is rubber-like at room temperature and has excellent mechanical properties, especially at low temperatures, but at temperatures of 100 ° C and above, the mechanical properties are greatly reduced in a short time, so it is virtually Cannot be used. Moreover, the cured product is greatly swollen by various organic solvents such as hydrocarbon solvents, ketone solvents, alcohol solvents, ester solvents, ether solvents, amide solvents, halogen solvents and the like, and the mechanical properties are greatly changed. It also has the drawback.

【0004】また、硬化後に表面硬度、耐衝撃性、耐薬
品性、接着性などに優れた硬化物を与える硬化性樹脂組
成物として、特公昭58-32163号公報には、テトラカルボ
ン酸二無水物などの酸無水物または該酸無水物にジアミ
ンを反応させてえられた酸無水物末端ポリアミド酸とア
ミノシリコン化合物とを -20〜 +50℃で反応させること
によって、反応性ケイ素基を有する(ポリ)アミド酸プ
レポリマーをえ、このプレポリマーをイミド化せずにそ
のまま前駆体として用いるか、または穏和な条件下で化
学的にイミド化して反応性ケイ素基含有(ポリ)イミド
プレポリマーとしたのち架橋せしめて(ポリ)イミドシ
ロキサンとする硬化性樹脂組成物が開示されている。な
お、イミド化せずに前駆体のまま用いるばあいには、こ
の前駆体を溶液状態で加熱してイミド化の進行とともに
架橋せしめることにより(ポリ)イミドシロキサンにす
ることができる。
Further, as a curable resin composition which gives a cured product excellent in surface hardness, impact resistance, chemical resistance, adhesiveness and the like after curing, Japanese Patent Publication No. 58-32163 discloses tetracarboxylic dianhydride. Having a reactive silicon group by reacting an acid anhydride such as a compound or an acid anhydride terminated polyamic acid obtained by reacting the acid anhydride with a diamine and an aminosilicon compound at -20 to + 50 ° C. A (poly) amic acid prepolymer is obtained, and this prepolymer is used as a precursor as it is without imidization, or is chemically imidized under mild conditions to form a reactive silicon group-containing (poly) imide prepolymer. Then, a curable resin composition is disclosed which is crosslinked to form a (poly) imidosiloxane. When the precursor is used as it is without imidization, it can be converted into a (poly) imidosiloxane by heating the precursor in a solution state and crosslinking the precursor as the imidization proceeds.

【0005】しかしながら、この反応性ケイ素基含有
(ポリ)アミド酸プレポリマーはイミド化するために高
温での処理を必要とし、また、あらかじめイミド化した
反応性ケイ素基含有(ポリ)イミドプレポリマーを製造
するために脱水剤で処理すると溶液全体のゲル化がしば
しば起こる。さらに、反応性ケイ素基含有(ポリ)アミ
ド酸プレポリマー中に存在するカルボキシル基またはア
ミノ基と反応性ケイ素基とが反応し、架橋構造を形成す
るため貯蔵安定性がわるいなどの種々の問題を有してい
る。
However, this reactive silicon group-containing (poly) amic acid prepolymer requires treatment at a high temperature for imidization, and a pre-imidized reactive silicon group-containing (poly) imide prepolymer is required. Treatment with a dehydrating agent to produce often results in gelling of the entire solution. Furthermore, the carboxyl group or amino group present in the reactive silicon group-containing (poly) amic acid prepolymer reacts with the reactive silicon group to form a crosslinked structure, which causes various problems such as poor storage stability. Have

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明は長期の保存安定
性に優れ、加熱および(または)触媒の作用により低温
度で硬化して、耐熱性、耐薬品性の優れた硬化物となる
反応性ケイ素基含有イミド化合物の製法を提供すること
を目的としてなされたものであり、 (a) 一般式(I) :
The present invention is a reaction which has excellent long-term storage stability and is cured at a low temperature by the action of heating and / or a catalyst to give a cured product having excellent heat resistance and chemical resistance. The purpose of the present invention is to provide a process for producing an imide compound containing a crystalline silicon group, and (a) the general formula (I):

【0007】[0007]

【化5】 [Chemical 5]

【0008】(式中、R0 は炭素数6〜30個の芳香族基
を含有する4価の有機基を表わす)で表わされるテトラ
カルボン酸二無水物と一般式(II):
(Wherein R 0 represents a tetravalent organic group containing an aromatic group having 6 to 30 carbon atoms) and a tetracarboxylic dianhydride represented by the general formula (II):

【0009】[0009]

【化6】 [Chemical 6]

【0010】(式中、R1 は炭素数2〜20個の炭素- 炭
素二重結合含有有機基を表わす)で表わされる炭素- 炭
素二重結合含有有機基を含有する1級アミンとを有機極
性溶媒中で反応させてアミド酸の溶液をえ、(b) ついで
これをイミド化することにより、1分子中に2つの炭素
- 炭素二重結合含有有機基を有するイミド化合物とし、
(c) (b) でえられたイミド化合物を、ヒドロシリル化触
媒の存在下で、一般式(III) :
(Wherein R 1 represents a carbon-carbon double bond-containing organic group having 2 to 20 carbon atoms) and a primary amine containing a carbon-carbon double bond-containing organic group By reacting in a polar solvent to obtain a solution of amic acid, (b) and then imidizing this solution, two carbon atoms in one molecule can be obtained.
-An imide compound having a carbon double bond-containing organic group,
(c) In the presence of a hydrosilylation catalyst, the imide compound obtained in (b) is represented by the general formula (III):

【0011】[0011]

【化7】 [Chemical 7]

【0012】(式中、R2 は炭素数1〜20個の1価の有
機基または一般式(IV):
(In the formula, R 2 is a monovalent organic group having 1 to 20 carbon atoms or the general formula (IV):

【0013】[0013]

【化8】 [Chemical 8]

【0014】(式中、R3 は炭素数1〜10個の1価の炭
化水素基を表わし、3個のR3 は同一でも異なっていて
もよい)で表わされる基を表わし、Xは水酸基または加
水分解性基を表わし、aは1、2または3であり、
2 、Xが2個以上存在するとき、それらは同一であっ
てもよく、また異なっていてもよい)で表わされる反応
性基を有するヒドロシランでヒドロシリル化することを
特徴とする1分子中に2つの反応性ケイ素基を含有する
イミド化合物の製法に関する。
(Wherein R 3 represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and 3 R 3 may be the same or different), and X is a hydroxyl group. Or represents a hydrolyzable group, a is 1, 2 or 3,
When two or more R 2 and X are present, they may be the same or different and are hydrosilylated with a hydrosilane having a reactive group represented by The present invention relates to a method for producing an imide compound containing two reactive silicon groups.

【0015】[0015]

【作用・実施例】本発明の製法においては、一般式(I)
[Operations and Examples] In the production method of the present invention, the general formula (I)
:

【0016】[0016]

【化9】 [Chemical 9]

【0017】で表わされるテトラカルボン酸二無水物と
一般式(II):
The tetracarboxylic dianhydride represented by the general formula (II):

【0018】[0018]

【化10】 [Chemical 10]

【0019】で表わされる炭素- 炭素二重結合含有有機
基を含有する1級アミンとを有機極性溶媒中で反応させ
てアミド酸の溶液をえ、ついでこれをイミド化すること
により、1分子中に2つの炭素- 炭素二重結合含有有機
基を有するイミド化合物が製造せしめられる。
A primary amine containing a carbon-carbon double bond-containing organic group represented by is reacted in an organic polar solvent to obtain a solution of amic acid, which is then imidized to obtain one An imide compound having two carbon-carbon double bond-containing organic groups is prepared.

【0020】前記1分子中に2つの炭素- 炭素二重結合
含有有機基を有するイミド化合物(以下、炭素- 炭素二
重結合含有有機基含有イミド化合物ともいう)の製法と
しては、芳香族テトラカルボン酸二無水物と炭素- 炭
素二重結合含有有機基を含有する1級アミンとを有機極
性溶媒中で反応させてアミド酸の溶液をえ、ついでこれ
を加熱することにより熱的にイミド化する方法、芳香
族テトラカルボン酸二無水物と炭素- 炭素二重結合含有
有機基を含有する1級アミンとを有機極性溶媒中で反応
させてアミド酸の溶液をえ、ついでこれに無水酢酸など
の脱水剤を作用させ、化学的にイミド化する方法、芳
香族テトラカルボン酸二無水物と炭素- 炭素二重結合含
有有機基を含有する1級アミンとを有機極性溶媒中で反
応させてアミド酸の溶液をえ、ついでこの溶液を水、炭
化水素のようなアミド酸に対する貧溶媒と接触させてア
ミド酸を沈殿として析出させ、これを加熱する方法など
をあげることができる。
As a method for producing the imide compound having two carbon-carbon double bond-containing organic groups in one molecule (hereinafter, also referred to as carbon-carbon double bond-containing organic group-containing imide compound), aromatic tetracarbon The acid dianhydride is reacted with a primary amine containing a carbon-carbon double bond-containing organic group in an organic polar solvent to obtain a solution of amic acid, which is then thermally imidized by heating. Method, an aromatic tetracarboxylic acid dianhydride and a primary amine containing a carbon-carbon double bond-containing organic group are reacted in an organic polar solvent to obtain a solution of amic acid, and then a solution of acetic anhydride or the like is obtained. A method of chemically imidizing by acting a dehydrating agent, an aromatic tetracarboxylic dianhydride and a primary amine containing a carbon-carbon double bond-containing organic group are reacted in an organic polar solvent to form an amic acid. The solution of Then, a method may be mentioned in which this solution is brought into contact with a poor solvent for amic acid such as water or hydrocarbon to precipitate amic acid as a precipitate, and this is heated.

【0021】これらのいずれの方法によっても前記炭素
- 炭素二重結合含有有機基含有イミド化合物を製造する
ことができ、とくに制約を受けるものではないが、製造
装置や製造工程がより簡便あるいは容易であることや、
使用する原料の入手が容易であることから、の方法、
すなわち芳香族テトラカルボン酸二無水物と炭素- 炭素
二重結合含有有機基を含有するアミンとを有機極性溶媒
中で反応させてアミド酸の溶液をえ、ついでこれを加熱
してイミド化する方法が好ましい。
The carbon can be obtained by any of these methods.
-A carbon double bond-containing organic group-containing imide compound can be produced and is not particularly limited, but the production apparatus and production process are simpler or easier,
Since the raw materials used are easy to obtain,
That is, a method of reacting an aromatic tetracarboxylic dianhydride and an amine containing a carbon-carbon double bond-containing organic group in an organic polar solvent to obtain a solution of amic acid, and then heating this to perform imidization Is preferred.

【0022】前記一般式(I) においてR0 は炭素数6〜
30個の芳香族基を含有する4価の有機基である。炭素数
が30をこえると入手が困難で実用的でない。前記4価の
有機基のうち、とりわけ炭素数が6〜30個の4価の芳香
族基または2価の基を介して結合した芳香族環からなる
4価の基が、硬化後に耐熱性に優れた硬化物を与えるの
で好ましい。その中でもとくに好ましい具体例として
は、たとえば
In the general formula (I), R 0 has 6 to 6 carbon atoms.
It is a tetravalent organic group containing 30 aromatic groups. If the carbon number exceeds 30, it is difficult to obtain and not practical. Among the tetravalent organic groups, a tetravalent group having an aromatic ring having 6 to 30 carbon atoms and having an aromatic ring bonded through a divalent group has high heat resistance after curing. It is preferable because it gives an excellent cured product. Among them, particularly preferable specific examples are, for example,

【0023】[0023]

【化11】 [Chemical 11]

【0024】[0024]

【化12】 [Chemical 12]

【0025】などがあげられる。And the like.

【0026】前記一般式(I) で表わされるテトラカルボ
ン酸二無水物は単独もしくは2種以上の混合物として用
いることができる。
The tetracarboxylic acid dianhydride represented by the general formula (I) can be used alone or as a mixture of two or more kinds.

【0027】前記一般式(II)において、R1 は炭素数2
〜20個の炭素- 炭素二重結合含有有機基であり、炭素数
が20をこえるものは入手が困難で実用的ではない。
In the general formula (II), R 1 has 2 carbon atoms.
-20 carbon-carbon double bond-containing organic groups having a carbon number of more than 20 are difficult to obtain and are not practical.

【0028】前記炭素- 炭素二重結合含有有機基の具体
例としては、たとえばビニル基、アリル基、ブテニル
基、ペンテニル基、ヘキセニル基、オクテニル基、ノネ
ニル基、デセニル基、ウンデセニル基、イソプロペニル
基、2-メチル-2- プロペニル基、o-ビニルフェニル基、
m-ビニルフェニル基、p-ビニルフェニル基などをあげる
ことができる。
Specific examples of the carbon-carbon double bond-containing organic group include, for example, vinyl group, allyl group, butenyl group, pentenyl group, hexenyl group, octenyl group, nonenyl group, decenyl group, undecenyl group, isopropenyl group. , 2-methyl-2-propenyl group, o-vinylphenyl group,
Examples thereof include m-vinylphenyl group and p-vinylphenyl group.

【0029】前記有機極性溶媒は、酸二無水物や1つの
炭素- 炭素二重結合を有するアミンと反応しないもので
あればとくに限定はなく、その具体例としては、たとえ
ばジメチルスルホキシド、ジエチルスルホキシドなどの
スルホキシド系溶媒;N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-
ジエチルホルムアミドなどのホルムアミド系溶媒;N,N-
ジメチルアセトアミド、N,N-ジエチルアセトアミドなど
のアセトアミド系溶媒;N-メチル-2- ピロリドン、N-ア
セチル-2- ピロリドン、N-ビニル-2- ピロリドンなどの
ピロリドン系溶媒;フェノール、o-クレゾール、m-クレ
ゾール、p-クレゾール、キシレノール、ハロゲン化フェ
ノール、カテコールなどのフェノール系溶媒;ピリジ
ン、ヘキサメチルホスホアミドの単独または2種以上の
混合物などがあげられる。
The organic polar solvent is not particularly limited as long as it does not react with an acid dianhydride or an amine having one carbon-carbon double bond, and specific examples thereof include dimethyl sulfoxide, diethyl sulfoxide and the like. Sulfoxide solvents; N, N-dimethylformamide, N, N-
Formamide solvents such as diethylformamide; N, N-
Acetamide solvents such as dimethylacetamide and N, N-diethylacetamide; pyrrolidone solvents such as N-methyl-2-pyrrolidone, N-acetyl-2-pyrrolidone and N-vinyl-2-pyrrolidone; phenol, o-cresol, Examples thereof include phenol solvents such as m-cresol, p-cresol, xylenol, halogenated phenol, and catechol; pyridine, hexamethylphosphoamide, or a mixture of two or more thereof.

【0030】前記アミド酸の溶液をうる反応は、80℃以
下、好ましくは50℃以下の温度で、有機極性溶媒に溶解
したテトラカルボン酸無水物の溶液に、炭素- 炭素二重
結合含有有機基を含有する1級アミンまたはそれを有機
極性溶媒に溶解した溶液を添加する方法、または逆に有
機極性溶媒に溶解した炭素- 炭素二重結合含有有機基を
含有する1級アミンの溶液に、テトラカルボン酸無水物
またはそれを有機極性溶媒に溶解した溶液を添加する方
法などにより2成分を混合したあと、80℃以下、好まし
くは50℃以下で0.1 〜3時間反応させることにより行な
うことができる。
The reaction for obtaining a solution of the amic acid is carried out at a temperature of 80 ° C. or lower, preferably 50 ° C. or lower, by adding a carbon-carbon double bond-containing organic group to a solution of tetracarboxylic anhydride dissolved in an organic polar solvent. The method of adding a primary amine containing the above or a solution of the primary amine dissolved in an organic polar solvent, or conversely to a solution of a primary amine containing a carbon-carbon double bond-containing organic group dissolved in an organic polar solvent, It can be carried out by mixing the two components by a method of adding a carboxylic acid anhydride or a solution in which it is dissolved in an organic polar solvent, and then reacting the mixture at 80 ° C. or lower, preferably 50 ° C. or lower for 0.1 to 3 hours.

【0031】前記炭素- 炭素二重結合含有有機基を含有
する1級アミンとテトラカルボン酸二無水物との割合は
(炭素- 炭素二重結合含有有機基を含有する1級アミ
ン)/(テトラカルボン酸二無水物)がモル比で2/1
〜5/1、好ましくは2/1〜3/1、より好ましくは
2/1〜2.5 /1である。(炭素- 炭素二重結合含有有
機基含有1級アミン)/(テトラカルボン酸二無水物)
が2/1より少ないと、当然、未反応の酸無水物基が残
存し、目的の炭素- 炭素二重結合含有有機基含有イミド
化合物の収率が低下するので好ましくない。また、5/
1をこえると残存する未反応の酸無水物基の量は減少す
るが、過剰に用いた炭素- 炭素二重結合含有有機基を含
有する1級アミンの除去が困難になるので好ましくな
い。
The ratio of the primary amine containing the carbon-carbon double bond-containing organic group to the tetracarboxylic dianhydride is (primary amine containing the carbon-carbon double bond-containing organic group) / (tetra Carboxylic dianhydride) in a molar ratio of 2/1
˜5 / 1, preferably 2/1 to 3/1, more preferably 2/1 to 2.5 / 1. (Carbon-carbon double bond-containing organic group-containing primary amine) / (tetracarboxylic dianhydride)
Is less than 2/1, of course, unreacted acid anhydride groups remain, and the yield of the target carbon-carbon double bond-containing organic group-containing imide compound decreases, which is not preferable. Also, 5 /
If it exceeds 1, the amount of unreacted acid anhydride groups remaining decreases, but it is not preferable because it becomes difficult to remove the primary amine containing the carbon-carbon double bond-containing organic group used in excess.

【0032】前記イミド化の方法としては、前記のよう
に、熱的にイミド化する方法が好ましい。熱的にイミド
化するには、前記反応でえられたアミド酸を含む有機極
性溶媒溶液を100 〜250 ℃、好ましくは100 〜200 ℃に
加熱し、0.5 〜15時間、好ましくは0.5 〜10時間保持す
るだけでよい。
As the above-mentioned imidization method, the method of thermal imidization is preferable as described above. For the thermal imidization, the organic polar solvent solution containing the amic acid obtained in the above reaction is heated to 100 to 250 ° C., preferably 100 to 200 ° C., and 0.5 to 15 hours, preferably 0.5 to 10 hours. Just hold it.

【0033】本発明では、前記炭素- 炭素二重結合含有
有機基含有イミド化合物に一般式(V) :
In the present invention, the carbon-carbon double bond-containing organic group-containing imide compound has the general formula (V):

【0034】[0034]

【化13】 [Chemical 13]

【0035】で表わされる基(以下、反応性ケイ素基と
いう)が導入され、1分子中に2つの反応性ケイ素基を
含有するイミド化合物が製造される。
A group represented by (hereinafter referred to as a reactive silicon group) is introduced to produce an imide compound containing two reactive silicon groups in one molecule.

【0036】前記炭素- 炭素二重結合含有有機基含有イ
ミド化合物への反応性ケイ素基の導入は、前記炭素- 炭
素二重結合含有有機基含有イミド化合物を、ヒドロシリ
ル化触媒の存在下で、反応性基を有するヒドロシランで
ヒドロシリル化する方法が収率、操作の簡便さなどの点
から好ましい。
The introduction of the reactive silicon group to the carbon-carbon double bond-containing organic group-containing imide compound is carried out by reacting the carbon-carbon double bond-containing organic group-containing imide compound in the presence of a hydrosilylation catalyst. The method of hydrosilylation with a hydrosilane having a functional group is preferable from the viewpoint of yield, easiness of operation and the like.

【0037】前記反応性基を有するヒドロシランは一般
式(III) :
The hydrosilane having a reactive group is represented by the general formula (III):

【0038】[0038]

【化14】 [Chemical 14]

【0039】で表わされる化合物である。It is a compound represented by:

【0040】前記一般式(III) 中、R2 は炭素数1〜20
個の1価の有機基または一般式(IV):
In the above general formula (III), R 2 has 1 to 20 carbon atoms.
Individual monovalent organic groups or general formula (IV):

【0041】[0041]

【化15】 [Chemical 15]

【0042】(式中、R3 は炭素数1〜10個の1価の炭
化水素基を表わし、3個のR3 は同一でも異なっていて
もよい)で示されるトリオルガノシロキシ基である。
(In the formula, R 3 represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and three R 3 may be the same or different) and is a triorganosiloxy group.

【0043】R2 が前記1価の有機基のばあい、炭素数
が20をこえるものは原料の入手が困難である。このよう
な1価の有機基としては炭素数1〜20個、好ましくは1
〜15個のアルキル基、炭素数6〜20個、好ましくは6〜
15個のアリール基、炭素数7〜20個、好ましくは7〜15
個のアラルキル基があげられる。
When R 2 is the above-mentioned monovalent organic group, if the number of carbon atoms exceeds 20, it is difficult to obtain the raw material. Such a monovalent organic group has 1 to 20 carbon atoms, preferably 1
To 15 alkyl groups, 6 to 20 carbon atoms, preferably 6 to
15 aryl groups, 7 to 20 carbon atoms, preferably 7 to 15 carbon atoms
Aralkyl groups.

【0044】R2 が前記トリオルガノシロキシ基のばあ
い、R3 の炭素数が10をこえるものは原料の入手が困難
である。
When R 2 is the above triorganosiloxy group and R 3 has more than 10 carbon atoms, it is difficult to obtain the raw material.

【0045】R3 の具体例としてはメチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、
ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、イソプ
ロピル基、イソブチル基、t-ブチル基、フェニル基など
があげられる。
Specific examples of R 3 include methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group,
Examples thereof include a heptyl group, an octyl group, a nonyl group, a decyl group, an isopropyl group, an isobutyl group, a t-butyl group and a phenyl group.

【0046】R2 の具体例としては、たとえばメチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘ
キシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル
基、ドデシル基、イソプロピル基、イソブチル基、イソ
オクチル基などのアルキル基;シクロヘキシル基、シク
ロペンチル基、メチルシクロヘキシル基、メチルシクロ
ペンチル基などのシクロアルキル基、ベンジル基、フェ
ネチル基、クミル基などのアラルキル基;トリメチルシ
ロキシ基、トリエチルシロキシ基、t-ブチルジメチルシ
ロキシ基、メチルジフェニルシロキシ基、ジメチルフェ
ニルシロキシ基、トリフェニルシロキシ基などがあげら
れる。
Specific examples of R 2 include, for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, dodecyl group, isopropyl group, isobutyl group. , Alkyl groups such as isooctyl group; cycloalkyl groups such as cyclohexyl group, cyclopentyl group, methylcyclohexyl group, methylcyclopentyl group, aralkyl groups such as benzyl group, phenethyl group, cumyl group; trimethylsiloxy group, triethylsiloxy group, t- Examples thereof include a butyldimethylsiloxy group, a methyldiphenylsiloxy group, a dimethylphenylsiloxy group, and a triphenylsiloxy group.

【0047】R2 が分子中に複数存在するとき、それら
は同一であってもよく、異なっていてもよい。
When a plurality of R 2's are present in the molecule, they may be the same or different.

【0048】Xは水酸基または加水分解性基を表わす。
加水分解性基はとくに限定されず、従来公知の加水分解
性基が含まれ、具体的には、たとえば水素原子、ハロゲ
ン原子、アルコキシ基、アシルオキシ基、ケトキシメー
ト基、アミノ基、アミド基、酸アミド基、アミノオキシ
基、メルカプト基、アルケニルオキシ基などがあげられ
る。これらの中では、水素原子、アルコキシ基、アシル
オキシ基、ケトキシメート基、アミノ基、アミド基、ア
ミノオキシ基、メルカプト基およびアルケニルオキシ基
が原料の入手が容易で、かつ反応性が大きいので好まし
く、加水分解性がマイルドで取扱やすいという観点から
はアルコキシ基がとくに好ましい。Xが分子中に2個以
上存在するとき、それらは同一であってもよく、また異
なっていてもよい。
X represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group.
The hydrolyzable group is not particularly limited, and includes conventionally known hydrolyzable groups, specifically, for example, hydrogen atom, halogen atom, alkoxy group, acyloxy group, ketoximate group, amino group, amide group, acid amide. Group, aminooxy group, mercapto group, alkenyloxy group and the like. Among these, a hydrogen atom, an alkoxy group, an acyloxy group, a ketoximate group, an amino group, an amide group, an aminooxy group, a mercapto group and an alkenyloxy group are preferable because the raw materials are easily available and the reactivity is high. An alkoxy group is particularly preferable from the viewpoint of mild degradability and easy handling. When two or more Xs are present in the molecule, they may be the same or different.

【0049】aは1、2、または3を表わす。すなわ
ち、Xで表わされる基は1個のケイ素原子に1〜3個の
範囲で結合することができる。
A represents 1, 2, or 3. That is, the group represented by X can be bonded to one silicon atom in the range of 1 to 3.

【0050】aの値が2または3のばあいXで表わされ
る基は同一であってもよく、異なっていてもよい。
When the value of a is 2 or 3, the groups represented by X may be the same or different.

【0051】前記ヒドロシリル化触媒の具体例として
は、たとえば白金の単体、アルミナ、シリカ、カーボン
ブラックなどの単体に固体白金を担持させたもの、 H2
PtCl6 ・6H2 O などの塩化白金酸、塩化白金酸とアルコ
ール、アルデヒド、ケトンなどとの錯体、白金- オレフ
ィン錯体(たとえば、 Pt (CH2 =CH2 2 ( PPh3
2 Pt(CH2 =CH2 2 Cl2 );白金- ビニルシロキサン
錯体(たとえば、 Ptn(ViMe2 SiOSiMe2 Vi)m 、Pt
[(MeViSiO )4 m )、白金- ホスフィン錯体(たと
えば、Pt( PPh3 4 、Pt(PBu )4 )、白金- ホスフ
ァイト錯体(たとえば、Pt[(P (OPh )3 4 )(前
記式中、Meはメチル基、Buはブチル基、Viはビニル基、
Phはフェニル基を表わし、m、nは整数を表わす)、ジ
カルボニルジクロロ白金、また、アシュビー(Ashby) の
米国特許第3159601 および、3159662号明細書中に記載
された白金- 炭化水素複合体ならびにラモロー(Lamorea
ux) の米国特許第3220972 号明細書中に記載された白金
アルコラート触媒などがあげられる。さらに、モディッ
ク(Modic) の米国特許第3516946 号明細書中に記載され
た塩化白金- オレフィン複合体も本発明において有用で
ある。また、白金化合物以外の触媒の例としては、たと
えばRhCl(PPh3 3 、RhCl3 、Rh/Al2 O3 、RuCl3
IrCl3 、FeCl3 、AlCl3 、PdCl2 ・2H2 O 、NiCl2 、Ti
Cl4 などがあげられる。これらの中では触媒活性の点か
ら、塩化白金酸、白金-オレフィン錯体、白金- ビニル
シロキサン錯体が好ましい。これらの触媒は単独で使用
してもよく、また2種以上併用してもよい。
Specific examples of the hydrosilylation catalyst include, for example, a simple substance of platinum, a simple substance of alumina, silica, carbon black or the like on which solid platinum is supported, H 2
Chloroplatinic acid such as PtCl 6・ 6H 2 O, complexes of chloroplatinic acid with alcohols, aldehydes, ketones, etc., platinum-olefin complexes (eg Pt (CH 2 = CH 2 ) 2 (PPh 3 )
2 Pt (CH 2 = CH 2 ) 2 Cl 2 ); platinum-vinyl siloxane complex (for example, Ptn (ViMe 2 SiOSiMe 2 Vi) m , Pt
[(MeViSiO) 4 ] m ), platinum-phosphine complex (eg Pt (PPh 3 ) 4 , Pt (PBu) 4 ), platinum-phosphite complex (eg Pt [(P (OPh) 3 ] 4 ) ( In the above formula, Me is a methyl group, Bu is a butyl group, Vi is a vinyl group,
Ph represents a phenyl group, m and n represent integers), dicarbonyldichloroplatinum, and platinum-hydrocarbon complexes described in Ashby US Pat. Nos. 3159601 and 3159662. Lamorea
ux) U.S. Pat. No. 3,220,972, such as the platinum alcoholate catalysts. In addition, the platinum chloride-olefin composites described in Modic US Pat. No. 3,516,946 are also useful in the present invention. Further, examples of the catalyst other than platinum compounds, for example, RhCl (PPh 3) 3, RhCl 3, Rh / Al 2 O 3, RuCl 3,
IrCl 3 , FeCl 3 , AlCl 3 , PdCl 2・ 2H 2 O, NiCl 2 , Ti
Cl 4 etc. can be given. Among these, chloroplatinic acid, a platinum-olefin complex, and a platinum-vinylsiloxane complex are preferable from the viewpoint of catalytic activity. These catalysts may be used alone or in combination of two or more.

【0052】前記反応性基を有するヒドロシランの使用
割合は炭素- 炭素二重結合含有有機基含有イミド化合物
の炭素- 炭素二重結合含有有機基1モルに対して1〜10
モル、好ましくは1〜5モル、さらに好ましくは1〜3
モルの範囲である。ヒドロシランの割合が1モルより少
ないと、目的とする化合物を収率よくうることが困難に
なるので好ましくない。また、10モルをこえると、ヒド
ロシランは一般に高価であるため製造コストが高くな
り、かつ過剰に用いたヒドロシランの除去が困難になる
ので好ましくない。
The ratio of the hydrosilane having a reactive group to be used is 1 to 10 with respect to 1 mol of the carbon-carbon double bond-containing organic group in the carbon-carbon double bond-containing organic group-containing imide compound.
Mol, preferably 1 to 5 mol, more preferably 1 to 3
It is in the molar range. If the proportion of hydrosilane is less than 1 mol, it is difficult to obtain the target compound in good yield, which is not preferable. On the other hand, if it exceeds 10 mols, hydrosilane is generally expensive and the production cost is high, and it is difficult to remove excess hydrosilane, which is not preferable.

【0053】前記ヒドロシリル化触媒の使用量にはとく
に制限はないが、アルケニル基1モルに対して、10-1
10-8モル、好ましくは10-3〜10-6モルの範囲で用いるの
が好ましい。触媒量が10-8モルより少ないと硬化が充分
に進行しない傾向があり、また、10-1モルをこえるとヒ
ドロシリル化触媒は一般に高価で腐食性であり、また水
素ガスが大量に発生して、硬化物が発泡してしまうばあ
いがある。
The amount of the hydrosilylation catalyst used is not particularly limited, but it is 10 -1 to 1 mol per 1 mol of the alkenyl group.
It is preferably used in the range of 10 -8 mol, preferably 10 -3 to 10 -6 mol. If the amount of the catalyst is less than 10 -8 mol, curing tends not to proceed sufficiently, and if it exceeds 10 -1 mol, the hydrosilylation catalyst is generally expensive and corrosive, and a large amount of hydrogen gas is generated. However, the cured product may foam.

【0054】前記ヒドロシリル化反応は、一般に0〜 1
50℃の温度範囲で行なわれ、必要に応じて、たとえばヘ
キサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレンなど
の炭化水素系溶媒;ジエチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、1,4-ジオキサン、エチレングリコールジメチルエ
ーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、アニソ
ールなどのエーテル系溶媒;アセトン、メチルエチルケ
トン、メチルイソブチルケトンなどのケトン系溶媒;酢
酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、安
息香酸メチル、安息香酸エチルなどのエステル系溶媒;
メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、
1,4-ブタンジオール、エチレングリコールなどのアルコ
ール系溶媒;塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレ
ン、クロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒の
単独または2種以上の混合物などの適当な有機溶媒を用
いてもよい。
The hydrosilylation reaction is generally 0 to 1
It is carried out in a temperature range of 50 ° C, and if necessary, a hydrocarbon solvent such as hexane, heptane, benzene, toluene, xylene; diethyl ether, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether. , Ether solvents such as anisole; ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone; ester solvents such as methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, methyl benzoate, ethyl benzoate;
Methanol, ethanol, propanol, butanol,
Alcohol solvents such as 1,4-butanediol and ethylene glycol; suitable organic solvents such as halogenated hydrocarbon solvents such as methylene chloride, chloroform, ethylene chloride and chlorobenzene, alone or as a mixture of two or more. Good.

【0055】前記炭素- 炭素二重結合含有有機基含有イ
ミド化合物、反応性基を有するヒドロシラン、ヒドロシ
リル化触媒の3成分の添加方法や添加順序は目的とする
反応生成物の収率を低下させない範囲であればとくに限
定はされず、炭素- 炭素二重結合含有有機基含有イミド
化合物と反応性基を有するヒドロシランとの混合物また
はそれを有機溶媒に溶解した溶液にヒドロシリル化触媒
を添加してもよく、またあらかじめヒドロシリル化触媒
と炭素- 炭素二重結合含有有機基含有イミド化合物また
は反応性基を有するヒドロシランとを混合しておき、そ
こに残る1成分を添加する方法を用いてもよい。
The method and order of addition of the three components of the carbon-carbon double bond-containing organic group-containing imide compound, the reactive group-containing hydrosilane, and the hydrosilylation catalyst are within the range that does not reduce the yield of the desired reaction product. It is not particularly limited as long as it is a carbon-carbon double bond-containing organic group-containing imide compound and a mixture of a hydrosilane having a reactive group or a solution obtained by dissolving it in an organic solvent may be added with a hydrosilylation catalyst. Alternatively, a method may be used in which the hydrosilylation catalyst and the carbon-carbon double bond-containing organic group-containing imide compound or the hydrosilane having a reactive group are mixed in advance and the remaining one component is added.

【0056】このようにしてえられる化合物の具体例と
しては、たとえば
Specific examples of the compound thus obtained are, for example,

【0057】[0057]

【化16】 [Chemical 16]

【0058】[0058]

【化17】 [Chemical 17]

【0059】[0059]

【化18】 [Chemical 18]

【0060】[0060]

【化19】 [Chemical 19]

【0061】[0061]

【化20】 [Chemical 20]

【0062】[0062]

【化21】 [Chemical 21]

【0063】などがあげられる。And the like.

【0064】本発明の製法によってえられるイミド化合
物は、長期保存安定性にすぐれ、室温で液体または150
℃以下の融点を示し、ヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、
トルエン、キシレンなどの炭化水素系溶媒;ジエチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン、エチレ
ングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジ
エチルエーテル、アニソールなどのエーテル系溶媒;酢
酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、安
息香酸メチル、安息香酸エチルなどのエステル系溶媒;
メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、
エチレングリコールなどのアルコール系溶媒;塩化メチ
レン、クロロホルム、塩化エチレン、クロロベンゼンな
どのハロゲン化炭化水素系溶媒に可溶で、かつ無触媒で
も200 ℃以下の温度で硬化する。縮合触媒を使用すると
80℃という低い温度で硬化する。これら2つの方法でえ
られる硬化物は本質的に同じ諸特性を有する。硬化して
えられる樹脂は耐熱性、耐薬品性、機械的特性に優れた
ものであるので、本発明の方法によってえられるイミド
化合物は種々の用途たとえば樹脂改質剤、高温に曝され
やすい部位へのコーティング剤などに好適に用いられ
る。
The imide compound obtained by the production method of the present invention has excellent long-term storage stability and is liquid or room temperature at room temperature.
It shows a melting point below ℃, hexane, heptane, benzene,
Hydrocarbon solvents such as toluene and xylene; ether solvents such as diethyl ether, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether and anisole; methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, benzoin Ester solvents such as methyl acidate and ethyl benzoate;
Methanol, ethanol, propanol, butanol,
Alcohol solvent such as ethylene glycol; soluble in halogenated hydrocarbon solvents such as methylene chloride, chloroform, ethylene chloride, chlorobenzene, etc., and it cures at a temperature of 200 ° C or less without catalyst. When using a condensation catalyst
It cures at temperatures as low as 80 ° C. The cured products obtained by these two methods have essentially the same properties. Since the resin obtained by curing is excellent in heat resistance, chemical resistance and mechanical properties, the imide compound obtained by the method of the present invention can be used in various applications such as resin modifiers and sites that are easily exposed to high temperatures. It is preferably used as a coating agent and the like.

【0065】以下に、実施例によって本発明を具体的に
説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるも
のではない。
The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0066】実施例1 チッ素気流下、ピロメリット酸二無水物21.8g(0.10mo
l )を、N,N-ジメチルアセトアミド(以下、DMAcと略
す)350ml に溶解した。室温において、アリルアミン1
1.4g(0.20mol )を約30分間かけて徐々に添加した。
添加終了後20分間撹拌を続け、アミド酸溶液をえた。
Example 1 Pyromellitic dianhydride 21.8 g (0.10 mo
l) was dissolved in 350 ml of N, N-dimethylacetamide (hereinafter abbreviated as DMAc). Allylamine 1 at room temperature
1.4 g (0.20 mol) was added slowly over about 30 minutes.
After the addition was completed, stirring was continued for 20 minutes to obtain an amic acid solution.

【0067】引続き、えられたアミド酸溶液を還流する
まで加熱し、さらに3時間加熱撹拌を続けてイミド化を
行なった。放冷後反応溶液を大量のメタノール中へ注ぎ
込み、生成物を沈澱させたのち濾過し、えられた針状結
晶をメタノールで洗浄、室温で数時間減圧乾燥した。え
られたイミド化合物の融点は 220〜 225℃であった。
Subsequently, the obtained amic acid solution was heated to reflux, and the mixture was further heated and stirred for 3 hours for imidization. After cooling, the reaction solution was poured into a large amount of methanol to precipitate the product, which was then filtered. The obtained needle crystals were washed with methanol and dried under reduced pressure at room temperature for several hours. The melting point of the obtained imide compound was 220 to 225 ° C.

【0068】えられたイミド化合物10gをクロロホルム
200mlに溶解させ、そこにH2 PtCl6 ・6H2 O 10%エタ
ノール溶液を0.25ml加えた。室温においてメチルジメト
キシシラン12.5mlを滴下ロートにより加え、50℃で1時
間反応させた。反応後、反応溶液をメタノール中に注ぎ
込み、沈殿させたのち濾過し、メタノールで洗浄、室温
で数時間乾燥し、目的とする式(VI):
10 g of the obtained imide compound was added to chloroform.
It was dissolved in 200 ml, and 0.25 ml of H 2 PtCl 6 .6H 2 O 10% ethanol solution was added thereto. At room temperature, 12.5 ml of methyldimethoxysilane was added with a dropping funnel and reacted at 50 ° C. for 1 hour. After the reaction, the reaction solution was poured into methanol to cause precipitation, followed by filtration, washing with methanol, and drying at room temperature for several hours to obtain a target compound of formula (VI):

【0069】[0069]

【化22】 [Chemical formula 22]

【0070】で、表わされる反応性ケイ素基を有するイ
ミド化合物(VI) 15.1 gをえた。
Thus, 15.1 g of the imide compound (VI) having a reactive silicon group represented by the above formula was obtained.

【0071】融点: 120〜 126℃。Melting point: 120-126 ° C.

【0072】 1H NMR(CDCl3 ) δ:0.14(s,6H,SiCH3 )
、0.66(t、4H,Si CH2 ) 、1.79(m,4H,CH2 CH2 CH2 )
、3.50(s,12H,Si (OCH3 ) 2 ) 、3.74(t,4H, NCH2 )
、8.25(s,2H,aromatic) 。
1 H NMR (CDCl 3 ) δ: 0.14 (s, 6H, SiCH 3 ).
, 0.66 (t, 4H, Si CH 2 ), 1.79 (m, 4H, CH 2 CH 2 CH 2 )
, 3.50 (s, 12H, Si (OCH 3 ) 2 ), 3.74 (t, 4H, NCH 2 )
, 8.25 (s, 2H, aromatic).

【0073】実施例2 実施例1と同様にして分子内に2つのアリル基を有する
イミド化合物をえた。えられたイミド化合物の融点は 2
20〜 225℃であった。えられたイミド化合物34.0gをク
ロロホルム 700mlに溶解させ、そこに H2 PtCl6 ・6H2
O 10%エタノール溶液を0.85ml加えた。室温においてジ
メトキシメチルシラン55.8gを滴下ロートにより加え、
50℃で5時間反応させた。反応中、反応溶液の粘度の増
加やゲル化などの現象は観察されなかった。反応後、反
応溶液をメタノール中に注ぎ込み、沈殿させたのち濾過
し、メタノールで洗浄、室温で数時間乾燥し、前記と同
じ反応性ケイ素基を有するイミド化合物(VI)48.9gをえ
た。イミド化合物は、空気中、室温で2週間保存したの
ちも、ゲル化はほとんど起こっていなかった。
Example 2 An imide compound having two allyl groups in the molecule was obtained in the same manner as in Example 1. The melting point of the obtained imide compound is 2
The temperature was 20 to 225 ° C. The obtained imide compound (34.0 g) was dissolved in chloroform (700 ml), and H 2 PtCl 6 · 6H 2 was added thereto.
0.85 ml of O 10% ethanol solution was added. At room temperature, add 55.8 g of dimethoxymethylsilane with a dropping funnel,
The reaction was carried out at 50 ° C for 5 hours. During the reaction, phenomena such as increase in viscosity of the reaction solution and gelation were not observed. After the reaction, the reaction solution was poured into methanol to cause precipitation, which was then filtered, washed with methanol, and dried at room temperature for several hours to obtain 48.9 g of an imide compound (VI) having the same reactive silicon group as above. The imide compound hardly gelled even after being stored in air at room temperature for 2 weeks.

【0074】実施例3 実施例1でえられたイミド化合物(VI) 10 gに対してク
ロロホルム20mlを加えてイミド化合物のクロロホルム溶
液を調製し、それに触媒としてオクチル酸スズ0.3gと
ラウリルアミン0.075 gを配合して硬化性組成物をえ
た。該組成物を50℃相対湿度60%で4日間保存し、この
あとさらに 250℃で12時間養生して硬化物を作製した。
Example 3 20 ml of chloroform was added to 10 g of the imide compound (VI) obtained in Example 1 to prepare a chloroform solution of the imide compound, and 0.3 g of tin octylate and 0.075 g of laurylamine were used as catalysts. Was mixed to obtain a curable composition. The composition was stored at 50 ° C. and 60% relative humidity for 4 days, and then cured at 250 ° C. for 12 hours to prepare a cured product.

【0075】えられた硬化物に対して理学電機(株)製
示差熱天秤TG-DTAを用いて、チッ素気流下、TGA 測定を
行なった。そこでえられた5%および10%重量損失温度
を表1に示す。また、硬化物をN,N-ジメチルホルムアミ
ド、10%塩酸に室温で10日間浸漬したのちの外観評価の
結果を表2に示す。
Using the differential thermal balance TG-DTA manufactured by Rigaku Denki Co., Ltd., the obtained cured product was subjected to TGA measurement under a nitrogen stream. Table 1 shows the 5% and 10% weight loss temperatures obtained there. Table 2 shows the results of appearance evaluation after the cured product was immersed in N, N-dimethylformamide and 10% hydrochloric acid at room temperature for 10 days.

【0076】実施例4 実施例1でえられたイミド化合物(VI)5gを、縮合触媒
を加えることなく180℃に保ったパーフェクトオーブン
内に6時間保存した。この処理によってえられた固体は
クロロホルムに不溶であった。
Example 4 5 g of the imide compound (VI) obtained in Example 1 was stored for 6 hours in a perfect oven kept at 180 ° C. without adding a condensation catalyst. The solid obtained by this treatment was insoluble in chloroform.

【0077】えられた硬化物に対して理学電機(株)製
示差熱天秤TG-DTAを用いてチッ素気流下TGA 測定を行な
った。そこでえられた5%および10%重量損失過度を表
1に示す。また、硬化物をN,N-ジメチルホルムアミド、
10%塩酸に室温で10日間浸漬したのちの外観評価の結果
を表2に示す。
The cured product thus obtained was subjected to TGA measurement under a nitrogen stream using a differential thermal balance TG-DTA manufactured by Rigaku Denki Co., Ltd. The excess 5% and 10% weight loss obtained there is shown in Table 1. Further, the cured product is N, N-dimethylformamide,
The results of appearance evaluation after immersion in 10% hydrochloric acid at room temperature for 10 days are shown in Table 2.

【0078】実施例5 チッ素気流下、 3,3′,4,4′- ベンゾフェノンテトラカ
ルボン酸二無水物32.2g(0.10 mol)を、DMAc 200mlに
溶解した。室温において、アリルアミン11.4g(0.20 m
ol)を約30分間かけて徐々に添加した。添加終了後20分
間撹拌を続け、アミド酸溶液をえた。
Example 5 32.2 g (0.10 mol) of 3,3 ', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride was dissolved in 200 ml of DMAc under a nitrogen stream. At room temperature, allylamine 11.4 g (0.20 m
ol) was gradually added over about 30 minutes. After the addition was completed, stirring was continued for 20 minutes to obtain an amic acid solution.

【0079】引続き、実施例1と同様の処理をしてイミ
ド化合物をえた。えられたイミド化合物の融点は 153〜
154℃であった。
Subsequently, the same treatment as in Example 1 was carried out to obtain an imide compound. The melting point of the obtained imide compound is 153-
It was 154 ° C.

【0080】えられたイミド化合物10gをクロロホルム
200mlに溶解させ、そこに H2 PtCl6 ・6H2 O 10%エタ
ノール溶液を0.25ml加えた。室温においてメチルジメト
キシシラン12.5mlを滴下ロートにより加え、50℃で1時
間反応させた。反応後、反応溶液をメタノール中に注ぎ
込み、沈殿させたのち濾過し、メタノールで洗浄、室温
で数時間乾燥し、目的とする式(VII) :
10 g of the obtained imide compound was added to chloroform.
It was dissolved in 200 ml, and 0.25 ml of H 2 PtCl 6 .6H 2 O 10% ethanol solution was added thereto. At room temperature, 12.5 ml of methyldimethoxysilane was added with a dropping funnel and reacted at 50 ° C. for 1 hour. After the reaction, the reaction solution was poured into methanol to cause precipitation, which was filtered, washed with methanol, and dried at room temperature for several hours to obtain the target compound of formula (VII):

【0081】[0081]

【化23】 [Chemical formula 23]

【0082】で表わされる反応性ケイ素基を有するイミ
ド化合物(VII)12.9 gをえた。
12.9 g of an imide compound (VII) having a reactive silicon group represented by

【0083】融点:82〜86℃。Melting point: 82-86 ° C.

【0084】 1H NMR(CDCl3 ) δ:0.14(s,6H,SiCH3 )
、0.66(t、4H, SiCH2 ) 、1.77(m,4H,CH2 CH2 CH2 )
、3.51(s,12H,Si(OCH 3 ) 2 ) 、3.70(t,4H, NCH2 )
、8.02(d,2H,aromatic)、8.15(m,4H,aromatic) 。
1 H NMR (CDCl 3 ) δ: 0.14 (s, 6H, SiCH 3 ).
, 0.66 (t, 4H, SiCH 2 ), 1.77 (m, 4H, CH 2 CH 2 CH 2 )
, 3.51 (s, 12H, Si (OCH 3) 2), 3.70 (t, 4H, NCH 2)
, 8.02 (d, 2H, aromatic), 8.15 (m, 4H, aromatic).

【0085】実施例6 実施例5でえられたイミド化合物(VII) 10gに対してク
ロロホルム20mlを加えてイミド化合物のクロロホルム溶
液を調製し、それに触媒としてオクチル酸スズ0.3gと
ラウリルアミン0.075 gを配合して硬化性組成物をえ
た。該組成物を50℃相対湿度60%で4日間保存し、この
あとさらに 250℃で12時間養生して硬化物を作製した。
Example 6 To 10 g of the imide compound (VII) obtained in Example 5 was added 20 ml of chloroform to prepare a chloroform solution of the imide compound, and 0.3 g of tin octylate and 0.075 g of laurylamine were used as catalysts. The curable composition was obtained by blending. The composition was stored at 50 ° C. and 60% relative humidity for 4 days, and then cured at 250 ° C. for 12 hours to prepare a cured product.

【0086】えられた硬化物に対して理学電機(株)製
示差熱天秤TG-DTAを用いて、チッ素気流下TGA 測定を行
なった。そこでえられた5%および10%重量損失温度を
表1に示す。また、硬化物をN,N-ジメチルホルムアミ
ド、10%塩酸に室温で10日間浸漬したのちの外観評価の
結果を表2に示す。
The obtained cured product was subjected to TGA measurement under a nitrogen stream using a differential thermal balance TG-DTA manufactured by Rigaku Denki Co., Ltd. Table 1 shows the 5% and 10% weight loss temperatures obtained there. Table 2 shows the results of appearance evaluation after the cured product was immersed in N, N-dimethylformamide and 10% hydrochloric acid at room temperature for 10 days.

【0087】実施例7 実施例5でえられたイミド化合物(VII) 5gを、縮合触
媒を加えることなく150 ℃に保ったパーフェクトオーブ
ン内に6時間保存した。この処理によってえられた固体
はクロロホルムに不溶であった。
Example 7 5 g of the imide compound (VII) obtained in Example 5 was stored in a perfect oven kept at 150 ° C. for 6 hours without adding a condensation catalyst. The solid obtained by this treatment was insoluble in chloroform.

【0088】えられた硬化物に対して理学電機(株)製
示差熱天秤TG-DTAを用いてチッ素気流下TGA 測定を行な
った。そこでえられた5%および10%重量損失温度を表
1に示す。また、硬化物をN,N-ジメチルホルムアミド、
10%塩酸に室温で10日間浸漬したのちの外観評価の結果
を表2に示す。
The obtained cured product was subjected to TGA measurement under a nitrogen stream using a differential thermal balance TG-DTA manufactured by Rigaku Denki Co., Ltd. Table 1 shows the 5% and 10% weight loss temperatures obtained there. Further, the cured product is N, N-dimethylformamide,
The results of appearance evaluation after immersion in 10% hydrochloric acid at room temperature for 10 days are shown in Table 2.

【0089】実施例8 チッ素気流下、3,3 ′,4,4′- ジフェニルエーテルテト
ラカルボン酸二無水物31.0g(0.10 mol)を、DMAc400m
lに溶解した。室温において、アリルアミン11.4g(0.2
0 mol)を約30分間かけて徐々に添加した。添加終了後2
0分間撹拌を続け、アミド酸溶液をえた。
Example 8 31.0 g (0.10 mol) of 3,3 ', 4,4'-diphenylethertetracarboxylic dianhydride was added to 400 g of DMAc under a nitrogen stream.
dissolved in l. At room temperature, allylamine 11.4 g (0.2
0 mol) was gradually added over about 30 minutes. After addition 2
Stirring was continued for 0 minutes to obtain an amic acid solution.

【0090】引続き、実施例1と同様に処理してイミド
化合物をえた。えられたイミド化合物の融点は 153〜 1
54℃であった。
Subsequently, the same treatment as in Example 1 was carried out to obtain an imide compound. The melting point of the obtained imide compound is 153-1.
It was 54 ° C.

【0091】えられたイミド化合物10gをクロロホルム
200mlに溶解させ、そこに H2 PtCl6 ・6H2 O 10%エタ
ノール溶液を0.25ml加えた。室温においてトリエトキシ
シラン14.5mlを滴下ロートにより加え、50℃で1時間反
応させた。反応後、反応溶液をメタノール中に注ぎ込
み、沈殿させたのち濾過し、メタノールで洗浄、室温で
数時間乾燥し、目的とする式(VIII):
10 g of the obtained imide compound was added to chloroform.
It was dissolved in 200 ml, and 0.25 ml of H 2 PtCl 6 .6H 2 O 10% ethanol solution was added thereto. At room temperature, 14.5 ml of triethoxysilane was added with a dropping funnel and reacted at 50 ° C. for 1 hour. After the reaction, the reaction solution was poured into methanol to cause precipitation, which was filtered, washed with methanol, and dried at room temperature for several hours to obtain the target compound of formula (VIII):

【0092】[0092]

【化24】 [Chemical formula 24]

【0093】で表わされる反応性ケイ素基を有するイミ
ド化合物(VIII)12.2 gをえた。
There was obtained 12.2 g of the imide compound (VIII) having a reactive silicon group represented by:

【0094】融点:71〜74℃。Melting point: 71-74 ° C.

【0095】 1H NMR (CDCl3 )δ:0.66(t,4H,SiC
H2 ),1.19(t、9H,SiOCH2 CH3 ) 、1.77(m,4H,CH2 CH2 C
H2 ) 、3.70(t,4H, NCH2 ) 、3.81(q,6H,SiOCH2 C
H3 )、7.38(m,4H,aromatic) 、7.88(d,2H,aromatic)
1 H NMR (CDCl 3 ) δ: 0.66 (t, 4H, SiC
H 2 ), 1.19 (t, 9H, SiOCH 2 CH 3 ), 1.77 (m, 4H, CH 2 CH 2 C
H 2 ), 3.70 (t, 4H, NCH 2 ), 3.81 (q, 6H, SiOCH 2 C
H 3 ), 7.38 (m, 4H, aromatic), 7.88 (d, 2H, aromatic)
.

【0096】実施例9 実施例8でえられたイミド化合物(VIII) 10 gに対して
クロロホルム20mlを加えてイミド化合物のクロロホルム
溶液を調製し、それに触媒としてオクチル酸スズ 0.3g
とラウリルアミン0.075 gを配合して硬化性組成物をえ
た。該組成物を50℃相対湿度60%で4日間保存し、この
あとさらに 250℃で12時間養生して硬化物を作製した。
Example 9 20 ml of chloroform was added to 10 g of the imide compound (VIII) obtained in Example 8 to prepare a chloroform solution of the imide compound, and 0.3 g of tin octylate was used as a catalyst.
And 0.075 g of laurylamine were blended to obtain a curable composition. The composition was stored at 50 ° C. and 60% relative humidity for 4 days, and then cured at 250 ° C. for 12 hours to prepare a cured product.

【0097】えられた硬化物に対して理学電機(株)製
示差熱天秤TG-DTAを用いて、チッ素気流下TGA 測定を行
なった。そこでえられた5%および10%重量損失温度を
表1に示す。また、硬化物をN,N-ジメチルホルムアミ
ド、10%塩酸に室温で10日間浸漬したのちの外観評価の
結果を表2に示す。
The obtained cured product was subjected to TGA measurement under a nitrogen stream using a differential thermal balance TG-DTA manufactured by Rigaku Denki Co., Ltd. Table 1 shows the 5% and 10% weight loss temperatures obtained there. Table 2 shows the results of appearance evaluation after the cured product was immersed in N, N-dimethylformamide and 10% hydrochloric acid at room temperature for 10 days.

【0098】実施例10 チッ素気流下、3,3 ′4,4 ′- ジフェニルスルホンテト
ラカルボン酸二無水物35.8g(0.10 mol)を、DMAc 200
mlに溶解した。室温において、アリルアミン11.4ml(0.
20 mol)を約30分間かけて徐々に添加した。添加終了後
20分間撹拌を続け、アミド酸溶液をえた。
Example 10 Under a nitrogen stream, 35.8 g (0.10 mol) of 3,3'4,4'-diphenylsulfone tetracarboxylic dianhydride was added to DMAc 200
dissolved in ml. At room temperature, 11.4 ml of allylamine (0.
20 mol) was added gradually over about 30 minutes. After the addition is complete
Stirring was continued for 20 minutes to obtain an amic acid solution.

【0099】引続き、実施例1と同様に処理してイミド
化合物をえた。えられたイミド化合物の融点は 201〜 2
04℃であった。
Subsequently, the same treatment as in Example 1 was carried out to obtain an imide compound. The melting point of the obtained imide compound is 201 to 2
It was 04 ° C.

【0100】えられたイミド化合物10gをクロロホルム
200mlに溶解させ、そこに H2 PtCl6 ・6H2 O 10%エタ
ノール溶液を0.25ml加えた。室温においてメチルジアセ
トキシシラン10.3mlを滴下ロートにより加え、80℃で1
時間反応させた。反応後、反応溶液をメタノール中に注
ぎ込み、再沈殿させたのち濾過し、メタノールで洗浄、
室温で数時間乾燥し、目的とする式(IX):
10 g of the obtained imide compound was added to chloroform.
It was dissolved in 200 ml, and 0.25 ml of H 2 PtCl 6 .6H 2 O 10% ethanol solution was added thereto. At room temperature, add 10.3 ml of methyldiacetoxysilane with a dropping funnel and add 1 at 80 ℃.
Reacted for hours. After the reaction, the reaction solution was poured into methanol to cause reprecipitation, followed by filtration and washing with methanol,
After drying at room temperature for several hours, the desired formula (IX):

【0101】[0101]

【化25】 [Chemical 25]

【0102】で表わされる反応性ケイ素基を有するイミ
ド化合物(IX)10.5gをえた。
10.5 g of an imide compound (IX) having a reactive silicon group represented by

【0103】融点:97〜 100℃。Melting point: 97-100 ° C.

【0104】 1H NMR(CDCl3 ) δ:0.14(s,6H,SiCH3 )
、0.66(t,4H,SiCH2 ) 、1.77(m,4H,CH2 CH2 CH2 ) 、
2.02(s,12H,Si (OCOCH3 ) 2 )、3.72(t,4H, NCH2 ) 、
8.03(d,2H,aromatic) 、8.38(m,4H,aromatic)。
1 H NMR (CDCl 3 ) δ: 0.14 (s, 6H, SiCH 3 ).
, 0.66 (t, 4H, SiCH 2 ), 1.77 (m, 4H, CH 2 CH 2 CH 2 ),
2.02 (s, 12H, Si (OCOCH 3 ) 2 ), 3.72 (t, 4H, NCH 2 ),
8.03 (d, 2H, aromatic), 8.38 (m, 4H, aromatic).

【0105】実施例11 実施例10でえられたイミド化合物(IX)5gを縮合触媒を
加えることなく180 ℃に保ったパーフェクトオーブン内
に6時間保存した。この処理によってえられた固体はク
ロロホルムに不溶であった。
Example 11 5 g of the imide compound (IX) obtained in Example 10 was stored in a perfect oven kept at 180 ° C. for 6 hours without adding a condensation catalyst. The solid obtained by this treatment was insoluble in chloroform.

【0106】えられた硬化物に対して理学電機(株)製
示差熱天秤TG-DTAを用いて、チッ素気流下TGA 測定を行
なった。そこでえられた5%および10%重量損失温度を
表1に示す。また、硬化物をN,N-ジメチルホルムアミ
ド、10%塩酸に室温で10日間浸漬したのちの外観評価の
結果を表2に示す。
The obtained cured product was subjected to TGA measurement under a nitrogen stream using a differential thermal balance TG-DTA manufactured by Rigaku Denki Co., Ltd. Table 1 shows the 5% and 10% weight loss temperatures obtained there. Table 2 shows the results of appearance evaluation after the cured product was immersed in N, N-dimethylformamide and 10% hydrochloric acid at room temperature for 10 days.

【0107】比較例1 両末端にジメトキシメチルシリル基を有するポリプロピ
レングルコール(分子量約8000) 100gに対して、オク
チル酸スズ3g、ラウリルアミン0.75gを加えて混練し
たのち、室温で4日、さらに50℃(相対湿度60%)で保
存してゴム状硬化物をえた。
Comparative Example 1 3 g of tin octylate and 0.75 g of laurylamine were added to 100 g of polypropylene glycol having a dimethoxymethylsilyl group at both ends (molecular weight of about 8000), and the mixture was kneaded. A rubber-like cured product was obtained by storing at 50 ° C. (60% relative humidity).

【0108】えられた硬化物に対して理学電機(株)製
示差熱天秤TG-DTAを用いて、チッ素気流下、TGA 測定を
行なった。そこでえられた5%および10%重量損失温度
を表1に示す。また、硬化物をN,N-ジメチルホルムアミ
ド、10%塩酸に室温で10日間浸漬したのちの外観評価の
結果を表2に示す。
The obtained cured product was subjected to TGA measurement using a differential thermal balance TG-DTA manufactured by Rigaku Denki Co., Ltd. under a nitrogen stream. Table 1 shows the 5% and 10% weight loss temperatures obtained there. Table 2 shows the results of appearance evaluation after the cured product was immersed in N, N-dimethylformamide and 10% hydrochloric acid at room temperature for 10 days.

【0109】比較例2 比較例1の両末端にジメトキシメチルシリル基を有する
ポリプロピレングルコールの代わりに、両末端にジメト
キシメチルシリル基を有するポリ(γ- メチル- δ- バ
レロラクトン)(分子量約8000)を用い、それ以外は比
較例1と全く同様にしてゴム状硬化物をえた。
Comparative Example 2 Instead of the polypropylene glycol having dimethoxymethylsilyl groups at both ends in Comparative Example 1, poly (γ-methyl-δ-valerolactone) having dimethoxymethylsilyl groups at both ends (molecular weight: about 8000). ) Was used, and a rubber-like cured product was obtained in exactly the same manner as in Comparative Example 1.

【0110】えられた硬化物に対して理学電機(株)製
示差天秤TG-DTAを用いて、チッ素気流下、TGA 測定を行
なった。そこでえられた5%および10%重量損失温度を
表1に示す。また、硬化物をN,N-ジメチルホルムアミ
ド、10%塩酸に室温で10日間浸漬したのちの外観評価の
結果を表2に示す。
The obtained cured product was subjected to TGA measurement under a nitrogen gas flow using a differential balance TG-DTA manufactured by Rigaku Denki Co., Ltd. Table 1 shows the 5% and 10% weight loss temperatures obtained there. Table 2 shows the results of appearance evaluation after the cured product was immersed in N, N-dimethylformamide and 10% hydrochloric acid at room temperature for 10 days.

【0111】[0111]

【表1】 [Table 1]

【0112】[0112]

【表2】 [Table 2]

【0113】表1から本発明の方法によってえられたイ
ミド化合物を硬化してえた樹脂は耐熱性に優れたもので
あることがわかる。
It can be seen from Table 1 that the resin obtained by curing the imide compound obtained by the method of the present invention has excellent heat resistance.

【0114】実施例12 チッ素気流下、3,3 ′,4,4′- ベンゾフェノンテトラカ
ルボン酸二無水物32.2g(0.10 mol)を、DMAc 200mlに
溶解した。室温において、アリルアミン11.4g(0.20 m
ol)を約30分間かけて徐々に添加した。添加終了後20分
間撹拌を続け、アミド酸溶液をえた。
Example 12 Under nitrogen atmosphere, 32.2 g (0.10 mol) of 3,3 ', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride was dissolved in 200 ml of DMAc. At room temperature, allylamine 11.4 g (0.20 m
ol) was gradually added over about 30 minutes. After the addition was completed, stirring was continued for 20 minutes to obtain an amic acid solution.

【0115】引続き、実施例1と同様の処理をして分子
内に2つのアリル基を有するイミド化合物38.1gをえ
た。えられたイミド化合物38.1gの融点は 153〜 154℃
であった。
Subsequently, the same treatment as in Example 1 was carried out to obtain 38.1 g of an imide compound having two allyl groups in the molecule. The melting point of the obtained imide compound 38.1 g is 153 to 154 ° C.
Met.

【0116】えられたイミド化合物38.1gをクロロホル
ム 700mlに溶解させ、そこに H2 PtCl6 ・6H2 O 10%エ
タノール溶液を0.95ml加えた。室温においてジクロロメ
チルシラン32.8gを滴下ロートにより加え、50℃で5時
間反応させた。反応中、反応溶液の粘度の増加やゲル化
などの現象は観察されなかった。反応後、反応溶液をn-
ヘキサン中に注ぎ込み、沈殿させたのち濾過し、n-ヘキ
サンで洗浄、室温で数時間乾燥し、目的とする式(X) :
38.1 g of the obtained imide compound was dissolved in 700 ml of chloroform, and 0.95 ml of 10% H 2 PtCl 6 .6H 2 O ethanol solution was added thereto. At room temperature, 32.8 g of dichloromethylsilane was added with a dropping funnel and reacted at 50 ° C. for 5 hours. During the reaction, phenomena such as increase in viscosity of the reaction solution and gelation were not observed. After the reaction, n-
Pour into hexane, precipitate, then filter, wash with n-hexane and dry at room temperature for several hours to give the desired formula (X):

【0117】[0117]

【化26】 [Chemical formula 26]

【0118】で表わされる反応性ケイ素基を有するイミ
ド化合物(X) 49.9gをえた。
49.9 g of an imide compound (X) having a reactive silicon group represented by

【0119】実施例13 チッ素気流下、3,3 ′,4,4′- ジフェニルエーテルテト
ラカルボン酸二無水物31.0g(0.10 mol)を、DMAc 400
mlに溶解した。室温において、p-アミノスチレン23.8g
(0.20 mol)を約30分間かけて徐々に添加した。添加終
了後20分間撹拌を続け、アミド酸溶液をえた。
Example 13 31.0 g (0.10 mol) of 3,3 ', 4,4'-diphenylethertetracarboxylic dianhydride was added to DMAc 400 under a nitrogen stream.
dissolved in ml. 23.8 g of p-aminostyrene at room temperature
(0.20 mol) was added slowly over about 30 minutes. After the addition was completed, stirring was continued for 20 minutes to obtain an amic acid solution.

【0120】引続き、実施例1と同様に処理してイミド
化合物46.6gをえた。
Subsequently, the same treatment as in Example 1 was carried out to obtain 46.6 g of an imide compound.

【0121】えられたイミド化合物46.6gをクロロホル
ム1000mlに溶解させ、そこに H2 PtCl6 ・6H2 O 10%エ
タノール溶液を1.17ml加えた。室温において、トリス
(ジメチルアミノ)シラン58.3gを滴下ロートにより加
え、50℃で5時間反応させた。反応中、反応溶液の粘度
の増加やゲル化などの現象は観察されなかった。反応
後、反応溶液をn-ヘキサン中に注ぎ込み、沈殿させたの
ち濾過し、n-ヘキサンで洗浄、室温で数時間乾燥し、目
的とするケイ素基を有するイミド化合物である式(XI):
46.6 g of the obtained imide compound was dissolved in 1000 ml of chloroform, and 1.17 ml of 10% H 2 PtCl 6 .6H 2 O ethanol solution was added thereto. At room temperature, 58.3 g of tris (dimethylamino) silane was added with a dropping funnel and reacted at 50 ° C. for 5 hours. During the reaction, phenomena such as increase in viscosity of the reaction solution and gelation were not observed. After the reaction, the reaction solution was poured into n-hexane, precipitated and then filtered, washed with n-hexane and dried at room temperature for several hours to obtain a desired imide compound having a silicon group, formula (XI):

【0122】[0122]

【化27】 [Chemical 27]

【0123】で表わされる化合物、式(XII) :A compound represented by the formula (XII):

【0124】[0124]

【化28】 [Chemical 28]

【0125】で表わされる化合物および式(XIII):A compound of the formula (XIII):

【0126】[0126]

【化29】 [Chemical 29]

【0127】で表わされる化合物の混合物72.6gをえ
た。
72.6 g of a mixture of compounds of the formula

【0128】前記イミド化合物の混合物は、空気中、室
温で2週間保存したのちにも、ゲル化はほとんど起こっ
ていなかった。
The mixture of the above-mentioned imide compounds showed almost no gelation even after being stored in air at room temperature for 2 weeks.

【0129】実施例14 チッ素気流下、3,3 ′4,4 ′- ジフェニルスルホンテト
ラカルボン酸二無水物35.8g(0.10 mol)を、DMAc 200
mlに溶解した。室温において、m-アミノスチレン23.8g
(0.20 mol)を約30分間かけて徐々に添加した。添加終
了後20分間撹拌を続け、アミド酸溶液をえた。
Example 14 Under a nitrogen stream, 35.8 g (0.10 mol) of 3,3'4,4'-diphenylsulfone tetracarboxylic dianhydride was added to DMAc 200
dissolved in ml. 23.8 g of m-aminostyrene at room temperature
(0.20 mol) was added slowly over about 30 minutes. After the addition was completed, stirring was continued for 20 minutes to obtain an amic acid solution.

【0130】引続き、実施例1と同様に処理してイミド
化合物50.7gをえた。
Subsequently, the same treatment as in Example 1 was carried out to obtain 50.7 g of an imide compound.

【0131】えられたイミド化合物50.7gをクロロホル
ム1000mlに溶解させ、そこに H2 PtCl6 ・6H2 O 10%エ
タノール溶液を1.17ml加えた。室温においてメチルジア
セトキシシラン56.5gを滴下ロートにより加え、80℃で
1時間反応させた。反応中、反応溶液の粘度の増加やゲ
ル化などの現象は観察されなかった。反応後、反応溶液
をメタノール中に注ぎ込み、再沈殿させたのち濾過し、
n-ヘキサンで洗浄、室温で数時間乾燥し、目的とするケ
イ素基を有するイミド化合物である式(XIV) :
50.7 g of the obtained imide compound was dissolved in 1000 ml of chloroform, and 1.17 ml of H 2 PtCl 6 .6H 2 O 10% ethanol solution was added thereto. At room temperature, 56.5 g of methyldiacetoxysilane was added with a dropping funnel and reacted at 80 ° C. for 1 hour. During the reaction, phenomena such as increase in viscosity of the reaction solution and gelation were not observed. After the reaction, the reaction solution was poured into methanol to reprecipitate and then filtered,
Washed with n-hexane, dried at room temperature for several hours, the target imide compound having a silicon group of the formula (XIV):

【0132】[0132]

【化30】 [Chemical 30]

【0133】で表わされる化合物、式(XV):A compound represented by the formula (XV):

【0134】[0134]

【化31】 [Chemical 31]

【0135】で表わされる化合物、式(XVI) :A compound represented by the formula (XVI):

【0136】[0136]

【化32】 [Chemical 32]

【0137】で表わされる化合物の混合物75.1gをえ
た。
75.1 g of a mixture of compounds of the formula are obtained.

【0138】前記イミド化合物の混合物は、空気中、室
温で2週間保存したのちにも、ゲル化はほとんど起こっ
ていなかった。
The mixture of the above imide compounds showed almost no gelation even after being stored in air at room temperature for 2 weeks.

【0139】比較例3 チッ素気流下、3,3 ′,4,4′- ベンゾフェノンテトラカ
ルボン酸二無水物12.9g(0.04mol )をDMAc50mlに懸濁
した。0〜5℃において、(γ- アミノプロピル)- ジ
メトキシメチルシラン13.1g(0.08mol )を約30分間か
けて徐々に添加した。添加終了後、室温において20分間
撹拌を続け、反応性ケイ素基を含むアミド酸をえた。こ
の溶液に、室温で無水酢酸8.5 gとピリジン6.6 gの混
合物を添加し、16時間撹拌を続けた。この間、多量の沈
殿が生成した。反応時間の経過とともに反応溶液の粘度
は上昇し、16時間を経過したところで反応溶液は完全に
ゲル化した。
Comparative Example 3 Under a nitrogen stream, 12.9 g (0.04 mol) of 3,3 ', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride was suspended in 50 ml of DMAc. At 0-5 ° C, 13.1 g (0.08 mol) of (γ-aminopropyl) -dimethoxymethylsilane was gradually added over about 30 minutes. After the addition was completed, stirring was continued for 20 minutes at room temperature to obtain an amic acid containing a reactive silicon group. A mixture of 8.5 g of acetic anhydride and 6.6 g of pyridine was added to this solution at room temperature, and stirring was continued for 16 hours. During this time, a large amount of precipitate formed. The viscosity of the reaction solution increased with the elapse of the reaction time, and after 16 hours, the reaction solution completely gelled.

【0140】[0140]

【発明の効果】本発明の製法によると、まず炭素- 炭素
二重結合含有有機基を含有するイミド化合物を合成し、
引き続いてヒドロシリル化するという方法を用いている
ために、材料の入手が容易であり、目的の反応性ケイ素
基含有イミド化合物を製造する際にゲル化などの副反応
が起こらず、収率よく目的のイミド化合物を製造でき、
しかもカルボキシル基やアミノ基が系中に存在しないた
めに、えられたイミド化合物は長期の保存安定性に優れ
たものとなる。さらには、えられるイミド化合物の硬化
反応は実質的にはシラノールの縮合反応のみによって進
行するため、比較的低い温度で硬化反応を進行させるこ
とができる。えられるイミド化合物からの硬化物は、耐
熱性、耐薬品性に優れている。
According to the production method of the present invention, first, an imide compound containing a carbon-carbon double bond-containing organic group is synthesized,
Since the method of subsequent hydrosilylation is used, the material is easily available, side reactions such as gelation do not occur during the production of the target reactive silicon group-containing imide compound, and the yield is high. An imide compound of
Moreover, since the carboxyl group and amino group do not exist in the system, the obtained imide compound has excellent long-term storage stability. Furthermore, since the curing reaction of the obtained imide compound substantially proceeds only by the condensation reaction of silanol, the curing reaction can proceed at a relatively low temperature. The obtained cured product from the imide compound has excellent heat resistance and chemical resistance.

─────────────────────────────────────────────────────
─────────────────────────────────────────────────── ───

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成3年8月21日[Submission date] August 21, 1991

【手続補正1】[Procedure Amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0053[Correction target item name] 0053

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0053】前記ヒドロシリル化触媒の使用量にはとく
に制限はないが、アルケニル基1モルに対して、10-1
10-8モル、好ましくは10-3〜10-6モルの範囲で用いるの
が好ましい。触媒量が10-8モルより少ないとヒドロシリ
ル化反応が充分に進行しない傾向があり、また、10-1
ルをこえるとヒドロシリル化触媒は一般に高価で腐食性
であり、また水素ガスが大量に発生して、目的とする化
合物の収率が低下するばあいがある。
The amount of the hydrosilylation catalyst used is not particularly limited, but it is 10 -1 to 1 mol per 1 mol of the alkenyl group.
It is preferably used in the range of 10 -8 mol, preferably 10 -3 to 10 -6 mol. If the amount of catalyst is less than 10 -8 mol, hydrosilyl
The hydrogenation reaction tends not to proceed sufficiently, and if it exceeds 10 −1 mol, the hydrosilylation catalyst is generally expensive and corrosive .
The yield of the compound may decrease .

Claims (1)

【特許請求の範囲】 【請求項1】 (a) 一般式(I) : 【化1】 (式中、R0 は炭素数6〜30個の芳香族基を含有する4
価の有機基を表わす)で表わされるテトラカルボン酸二
無水物と一般式(II): 【化2】 (式中、R1 は炭素数2〜20個の炭素- 炭素二重結合含
有有機基を表わす)で表わされる炭素- 炭素二重結合含
有有機基を含有する1級アミンとを有機極性溶媒中で反
応させてアミド酸の溶液をえ、(b) ついでこれをイミド
化することにより、1分子中に2つの炭素- 炭素二重結
合含有有機基を有するイミド化合物とし、(c) (b) でえ
られたイミド化合物を、ヒドロシリル化触媒の存在下
で、一般式(III) : 【化3】 (式中、R2 は炭素数1〜20個の1価の有機基または一
般式(IV): 【化4】 (式中、R3 は炭素数1〜10個の1価の炭化水素基を表
わし、3個のR3 は同一でも異なっていてもよい)で表
わされる基を表わし、Xは水酸基または加水分解性基を
表わし、aは1、2または3であり、R2 、Xが2個以
上存在するとき、それらは同一であってもよく、また異
なっていてもよい)で表わされる反応性基を有するヒド
ロシランでヒドロシリル化することを特徴とする1分子
中に2つの反応性ケイ素基を含有するイミド化合物の製
法。
Claims (a) General formula (I): (In the formula, R 0 contains an aromatic group having 6 to 30 carbon atoms;
A tetracarboxylic acid dianhydride represented by the general formula (II): (Wherein R 1 represents a carbon-carbon double bond-containing organic group having 2 to 20 carbon atoms) and a primary amine containing a carbon-carbon double bond-containing organic group in an organic polar solvent. To obtain a solution of amic acid, which is (b) and then imidized to obtain an imide compound having two carbon-carbon double bond-containing organic groups in one molecule, (c) (b) The imide compound obtained in the formula (III): embedded image was prepared in the presence of a hydrosilylation catalyst. (In the formula, R 2 is a monovalent organic group having 1 to 20 carbon atoms or the general formula (IV): (In the formula, R 3 represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and three R 3 may be the same or different), X is a hydroxyl group or hydrolyzed. Represents a reactive group, a is 1, 2 or 3, and when two or more R 2 and X are present, they may be the same or different, and a reactive group represented by A method for producing an imide compound having two reactive silicon groups in one molecule, which comprises performing hydrosilylation with a hydrosilane.
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