JP2911225B2 - Imide compound, curable composition containing the same, and cured product obtained therefrom - Google Patents

Imide compound, curable composition containing the same, and cured product obtained therefrom

Info

Publication number
JP2911225B2
JP2911225B2 JP40592990A JP40592990A JP2911225B2 JP 2911225 B2 JP2911225 B2 JP 2911225B2 JP 40592990 A JP40592990 A JP 40592990A JP 40592990 A JP40592990 A JP 40592990A JP 2911225 B2 JP2911225 B2 JP 2911225B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
imide compound
cured product
general formula
same
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP40592990A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH04224589A (en
Inventor
恭尚 岸本
廉一 赤堀
克哉 大内
和弥 米沢
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd filed Critical Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
Priority to JP40592990A priority Critical patent/JP2911225B2/en
Publication of JPH04224589A publication Critical patent/JPH04224589A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP2911225B2 publication Critical patent/JP2911225B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は新規なイミド化合物、該
イミド化合物を含んでなる硬化性組成物およびそれらか
らえられる硬化物に関する。さらに詳しくは、室温で液
体または低融点を有する固体で、かつ硬化後に優れた耐
熱性、耐薬品性、機械的特性を有する硬化物を与えるイ
ミド化合物、それらを含んでなる硬化性組成物およびそ
れらからえられる硬化物に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a novel imide compound, a curable composition containing the imide compound, and a cured product obtained therefrom. More specifically, an imide compound which is a liquid or a solid having a low melting point at room temperature, and gives a cured product having excellent heat resistance, chemical resistance and mechanical properties after curing, a curable composition containing them, and a curable composition containing them It relates to the cured product obtained from

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、室温硬化性樹脂組成物として各種
のものが開発されているが、硬化後に耐熱性、耐薬品
性、機械的特性に優れた硬化物を与える硬化性樹脂組成
物はほとんど開発されていない。
2. Description of the Related Art Conventionally, various types of room temperature curable resin compositions have been developed. However, most curable resin compositions which give cured products having excellent heat resistance, chemical resistance and mechanical properties after curing have been developed. Not developed.

【0003】室温硬化性樹脂組成物として、シリルエー
テル基末端ポリエーテルを含有する組成物が開示されて
いる(特開昭52-73998号公報)。この組成物からえられ
る硬化物は常温でゴム状であり、伸びなどの機械的特
性、とくに低温における機械的特性に優れているもの
の、100 ℃以上の温度では機械的強度が大きく低下する
ために、そのような高温では事実上使用することができ
ない。さらに、この硬化物は、主鎖がポリエーテルであ
るために耐薬品性、とくに耐酸性に劣るという宿命的な
欠点を有している。
As a room temperature curable resin composition, a composition containing a silyl ether group-terminated polyether has been disclosed (JP-A-52-73998). The cured product obtained from this composition is rubbery at room temperature and has excellent mechanical properties such as elongation, especially at low temperatures, but at temperatures above 100 ° C the mechanical strength is greatly reduced. , Can not be used effectively at such high temperatures. Further, this cured product has a fatal disadvantage that it is inferior in chemical resistance, particularly acid resistance because the main chain is polyether.

【0004】また、主鎖がポリエステルからなる室温硬
化性樹脂組成物が開示されている(特公昭49-32673号公
報)。一般にポリエステルはポリエーテルと比較して耐
熱性、耐酸性に優れているが、前記主鎖がポリエステル
からなる室温硬化性樹脂組成物からえられる硬化物の耐
熱性、耐薬品性でもまだ充分ではなく、満足なものはま
だえられていない。
Further, a room temperature curable resin composition having a main chain of polyester has been disclosed (Japanese Patent Publication No. 49-32673). In general, polyester is superior in heat resistance and acid resistance as compared with polyether, but the main chain is still insufficient in heat resistance and chemical resistance of a cured product obtained from a room temperature curable resin composition composed of polyester. I haven't been satisfied yet.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記従来の
室温硬化性樹脂組成物からえられる硬化物の耐熱性およ
び耐薬品性がまだ充分でなく、満足のいくものがまだえ
られていないという課題を解決するためになされたもの
である。
According to the present invention, the heat resistance and chemical resistance of the cured product obtained from the above-mentioned conventional room temperature curable resin composition are not yet sufficient, and a satisfactory product has not yet been obtained. This was done to solve the problem.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、かかる課
題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、同一分子内に脂
肪族環状構造に直結したイミド骨格と反応性ケイ素基を
有する化合物が、室温で液体または低融点の固体である
ことを見出し、さらに、該化合物を用いると硬化物の作
製が容易で、かつ硬化後に優れた耐熱性および耐薬品性
を有する硬化物を与えることを見出し、本発明を完成す
るに至った。
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted intensive studies to solve the above problems, and as a result, have found that a compound having an imide skeleton directly linked to an aliphatic cyclic structure and a reactive silicon group in the same molecule is obtained. , Found to be a liquid or a solid having a low melting point at room temperature, and further found that the use of the compound makes it easy to prepare a cured product and gives a cured product having excellent heat resistance and chemical resistance after curing. Thus, the present invention has been completed.

【0007】本発明は、一般式(I) :The present invention provides a compound represented by the general formula (I):

【0008】[0008]

【化6】 Embedded image

【0009】(式中、R0 芳香族ジアミンから2個の
アミノ基を除いた炭素数6〜30の2価の有機基または
ロキサンジアミンから2個のアミノ基を除いた
(Wherein R 0 represents two aromatic diamines
Divalent organic group having 6 to 30 carbon atoms excluding amino group or
Two amino groups removed from Loxanediamine

【0010】[0010]

【0011】価の有機基、R1 一般式: [0011] The divalent organic group, R 1 is the general formula:

【化5】 (式中、Yは一般式(III): Embedded image (Wherein Y is a general formula (III):

【化6】 (式中、R 4 は炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜
20のアリール基、炭素数7〜20のアラルキル基または一
般式:
Embedded image (Wherein, R 4 is an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms,
20 aryl groups, aralkyl groups having 7 to 20 carbon atoms or one
General formula:

【化7】 (式中、R 5 は炭素数1〜10の1価の炭化水素基を表わ
し、3個のR 5 は同一であってもよく、異なっていても
よい)で表わされる基であり、Xはアルコキシ基または
アシルオキシ基を表わし、aは1、2または3であり、
4 またはXが2 個以上存在するとき、それらは同一で
あってもよく、異なっていてもよい)で表わされる基)
で表わされる2価の有機基を表わし、2個のR1 は同一
であってもよく、異なっていてもよい)で表わされるイ
ミド化合物、一般式(I) で表わされるイミド化合物およ
びシラノール縮合触媒を含有してなる硬化性組成物なら
びに一般式(I) で表わされるイミド化合物または該イミ
ド化合物およびシラノール縮合触媒を含有してなる硬化
性組成物を、湿分および(または)熱により硬化させて
なる硬化物に関する。
Embedded image (Wherein, R 5 represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms)
And three R 5 s may be the same or different
X) is an alkoxy group or
Represents an acyloxy group, a is 1, 2 or 3;
When two or more R 4 or X are present, they are the same and
Which may be different)
Represents a divalent organic group represented in the two R 1 may be the same, imide compounds represented by different may be), the general formula (I) imide compound and a silanol condensation catalyst represented by And a curable composition containing the imide compound represented by the general formula (I) or the imide compound and a silanol condensation catalyst, cured by moisture and / or heat. Cured product.

【0012】[0012]

【作用および実施例】本発明のイミド化合物は一般式
(I) :
Action and Examples The imide compound of the present invention has the general formula
(I):

【0013】[0013]

【化8】 Embedded image

【0014】で表わされるイミド化合物である。An imide compound represented by the formula:

【0015】一般式(I) において、R0 芳香族ジアミ
ンから2個のアミノ基を除いた炭素数6〜30の2価の有
機基またはシロキサンジアミンから2個のアミノ基を除
いた
In the general formula (I), R 0 is an aromatic diamine
Dividing the two amino groups from down two divalent organic group or a siloxane diamine having 6 to 30 carbon atoms excluding amino group
Was

【0016】[0016]

【0017】価の有機基であって、とりわけ芳香族ジ
アミンから2個のアミノ基を除いた炭素数が6〜30の2
価の芳香族基または2価の基を介して結合した芳香族環
からなる2価の基が、硬化後に耐熱性に優れた硬化物を
与えるという点から好ましく、その中でもとくに好まし
い基の具体例としては、4,4 ´- ジアミノジフェニルエ
ーテル、3,4 ´- ジアミノジフェニルエーテル、3,3 ´
- ジアミノジフェニルエーテル、4,4 ´- ジアミノジフ
ェニルスルフィド、4,4 ´- ビス(4-アミノフェノキ
シ)ビフェニル、4,4 ´- ジアミノジフェニルスルホ
ン、3,3 ´- ジアミノジフェニルスルホン、3,3 ´- ジ
アミノベンゾフェノン、ビス{4-(4-アミノフェノキ
シ)フェニル}スルホン、ビス{4-(3-アミノフェノキ
シ)フェニル}スルホン、ビス{4-(2-アミノフェノキ
シ)フェニル}スルホン、1,4-ビス(4-アミノフェノキ
シ)ベンゼン、1,3-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼ
ン、1,4-ビス(4-アミノフェニル)ベンゼン、ビス{4-
(4-アミノフェノキシ)フェニル}エーテル、4,4 ´-
ジアミノジフェニルメタン、ビス(3-エチル-4- アミノ
フェニル)メタン、ビス(3-メチル-4- アミノフェニ
ル)メタン、ビス(3-クロロ-4- アミノフェニル)メタ
ン、4,4 ´- ジアミノビフェニル、4,4 ´- ジアミノオ
クタフルオロビフェニル、3,3 ´- ジメトキシ-4,4´-
ジアミノビフェニル、3,3 ´- ジメチル-4,4´- ジアミ
ノビフェニル、3,3 ´- ジクロロ-4,4´- ジアミノビフ
ェニル、2,2 ´,5,5´- テトラクロロ-4,4´- ジアミノ
ビフェニル、3,3´- ジカルボキシ-4,4´- ジアミノビ
フェニル、3,3 ´- ジヒドロキシ-4,4´-ジアミノビフ
ェニル、2,4-ジアミノトルエン、1,3-ジアミノベンゼ
ン、1,4-ジアミノベンゼン、2,2 ´- ビス{4-(4-アミ
ノフェノキシ)フェニル}プロパン、2,2 ´- ビス{4-
(4-アミノフェノキシ)フェニル}ヘキサフルオロプロ
パン、2,2 ´- ビス(4-アミノフェニル)プロパン、2,
2 ´- ビス(4-アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパ
ン、2,2 ´- ビス(3-ヒドロキシ-4- アミノフェニル)
プロパン、2,2 ´- ビス(3-ヒドロキシ-4- アミノフェ
ニル)ヘキサフルオロプロパン、9,9 ´- ビス(4-アミ
ノフェニル)-10-ヒドロアントラセン、オルトトリジン
スルホン、1,2-キシリレンジアミン、1,3-キシリレンジ
アミン、1,4-キシリレンジアミンなどの芳香族ジアミ
ン;1,3-ビス(3-アミノプロピル)テトラメチルジシロ
キサン、1,5-ビス(3-アミノプロピル)ヘキサメチルト
リシロキサ
[0017] a divalent organic group, especially aromatic di
2 to 6 carbon atoms , excluding two amino groups from the amine
A divalent group comprising a divalent aromatic group or an aromatic ring bonded through a divalent group is preferable in that a cured product having excellent heat resistance is obtained after curing, and specific examples of particularly preferable groups are particularly preferred. Are 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3 '
-Diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenyl sulfide, 4,4'-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3'-diaminodiphenylsulfone, 3,3'- Diaminobenzophenone, bis {4- (4-aminophenoxy) phenyl} sulfone, bis {4- (3-aminophenoxy) phenyl} sulfone, bis {4- (2-aminophenoxy) phenyl} sulfone, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,4-bis (4-aminophenyl) benzene, bis {4-
(4-aminophenoxy) phenyl} ether, 4,4'-
Diaminodiphenylmethane, bis (3-ethyl-4-aminophenyl) methane, bis (3-methyl-4-aminophenyl) methane, bis (3-chloro-4-aminophenyl) methane, 4,4′-diaminobiphenyl, 4,4'-diaminooctafluorobiphenyl, 3,3'-dimethoxy-4,4'-
Diaminobiphenyl, 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 3,3'-dichloro-4,4'-diaminobiphenyl, 2,2 ', 5,5'-tetrachloro-4,4' -Diaminobiphenyl, 3,3'-dicarboxy-4,4'-diaminobiphenyl, 3,3'-dihydroxy-4,4'-diaminobiphenyl, 2,4-diaminotoluene, 1,3-diaminobenzene, 1 , 4-Diaminobenzene, 2,2'-bis {4- (4-aminophenoxy) phenyl} propane, 2,2'-bis {4-
(4-aminophenoxy) phenyl @ hexafluoropropane, 2,2'-bis (4-aminophenyl) propane,
2'-bis (4-aminophenyl) hexafluoropropane, 2,2'-bis (3-hydroxy-4-aminophenyl)
Propane, 2,2'-bis (3-hydroxy-4-aminophenyl) hexafluoropropane, 9,9'-bis (4-aminophenyl) -10-hydroanthracene, orthotrizine sulfone, 1,2-xylylenediamine Aromatic diamines such as 1,3-xylylenediamine and 1,4-xylylenediamine; 1,3-bis (3-aminopropyl) tetramethyldisiloxane, 1,5-bis (3-aminopropyl) hexa methyl birds siloxanyl down

【0018】[0018]

【0019】どのシロキサンジアミンからアミノ基を
除いた残基などがあげられ、これらを単独もしくは2種
以上の混合物として用いることができる。
[0019] The What siloxane diamines such as residues obtained by removing an amino group and the like, may be used as singly or two or more thereof.

【0020】また、一般式(I) におけるR1 一般式: In the general formula (I), R 1 is a general formula:

【化8】 (式中、Yは一般式(III) : Embedded image (Where Y is a general formula (III):

【化9】 (式中、R 4 は炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜
20のアリール基、炭素数7〜20のアラルキル基または一
般式:
Embedded image (Wherein, R 4 is an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms,
20 aryl groups, aralkyl groups having 7 to 20 carbon atoms or one
General formula:

【化10】 (式中、R 5 は炭素数1〜10の1価の炭化水素基を表わ
し、3個のR 5 は同一であってもよく、異なっていても
よい)で表わされる基であり、Xはアルコキシ基または
アシルオキシ基を表わし、aは1、2または3であり、
4 またはXが2 個以上存在するとき、それらは同一で
あってもよく、異なっていてもよい)で表わされる基)
で表わされる2価の有機基であって、とりわけ環を形成
する炭素原子に直接一般式(III)で表わされる基(以
下、反応性ケイ素基ともいう)が結合した基が好まし
い。
Embedded image (Wherein, R 5 represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms)
And three R 5 s may be the same or different
X) is an alkoxy group or
Represents an acyloxy group, a is 1, 2 or 3;
When two or more R 4 or X are present, they are the same and
Which may be different)
A divalent organic group represented by the general formula (III) , in particular, directly on a carbon atom forming a ring
And a reactive silicon group ) are preferred.

【0021】[0021]

【0022】[0022]

【0023】[0023]

【0024】[0024]

【0025】前記4 、前述のごとく、炭素数1〜2
0、好ましくは1〜15のアルキル基、炭素数6〜20、好
ましくは6〜15のアリール基、炭素数7〜20、好ましく
は7〜15のアラルキル基である。
[0025] The R 4 includes, as described above, 1 or 2 carbon atoms
0, preferably an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, preferably 6 to 15 carbon atoms, and an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms, preferably 7 to 15 carbon atoms .

【0026】[0026]

【0027】[0027]

【0028】前記R4 の具体例としては、たとえばメチ
ル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、
ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシ
ル基、ドデシル基、イソプロピル基、イソブチル基、t-
ブチル基、イソオクチル基などのアルキル基、シクロペ
ンチル基、メチルシクロペンチル基、シクロヘキシル
基、メチルシクロヘキシル基などのシクロアルキル基、
ベンジル基、フェネチル基、クミル基などのアラルキル
基や、トリメチルシロキシ基、トリエチルシロキシ基、
t-ブチルジメチルシロキシ基、ジメチルフェニルシロキ
シ基、メチルジフェニルシロキシ基、トリフェニルシロ
キシ基などがあげられる。
Specific examples of R 4 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group,
Hexyl, heptyl, octyl, nonyl, decyl, dodecyl, isopropyl, isobutyl, t-
Butyl group, alkyl group such as isooctyl group, cyclopentyl group, methylcyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloalkyl group such as methylcyclohexyl group,
Benzyl group, phenethyl group, aralkyl group such as cumyl group, trimethylsiloxy group, triethylsiloxy group,
Examples include a t-butyldimethylsiloxy group, a dimethylphenylsiloxy group, a methyldiphenylsiloxy group, and a triphenylsiloxy group.

【0029】また、前記一般式中のR5 の具体例として
は、たとえばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル
基、ノニル基、デシル基、イソプロピル基、イソブチル
基、イソオクチル基、フェニル基などがあげられる。
Specific examples of R 5 in the above general formula include, for example, methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, nonyl, decyl, isopropyl Group, isobutyl group, isooctyl group, phenyl group and the like.

【0030】また、一般式(III) 中のXは、アルコキシ
基、アシルオキシ基が好ましく、反応が穏和な条件で進
行するという観点からアルコキシ基がとくに好ましい。
[0030] Further, X in the general formula (III), an alkoxy group, an acyloxy group are preferable, reactive alkoxy group from the viewpoint of proceeds under mild conditions, especially preferred.

【0031】一般式(III) 中のaは1、2または3であ
る。すなわち、Xで表わされる基は1個のケイ素原子に
1〜3個の範囲で結合することができる。aが2または
3のばあい、Xで表わされる基は同一であってもよく、
異なっていてもよい。
A in the general formula (III) is 1, 2 or 3. That is, the group represented by X can be bonded to one silicon atom in the range of 1 to 3 groups. When a is 2 or 3, the groups represented by X may be the same,
It may be different.

【0032】本発明のイミド化合物の具体例を以下に示
すが、本発明のイミド化合物はこれら具体例のみに制限
されるものではない。
Specific examples of the imide compound of the present invention are shown below, but the imide compound of the present invention is not limited to these specific examples.

【0033】[0033]

【化14】 Embedded image

【0034】[0034]

【化15】 Embedded image

【0035】[0035]

【化16】 Embedded image

【0036】[0036]

【化17】 Embedded image

【0037】[0037]

【化18】 Embedded image

【0038】本発明のイミド化合物の製造方法にはとく
に限定はなく、たとえば公知の技術を組み合わせるいく
つかの方法があげられる。それらの中でも、まず一般式
(V):
The method for producing the imide compound of the present invention is not particularly limited, and includes, for example, several methods combining known techniques. Among them, first the general formula
(V):

【0039】[0039]

【化19】 Embedded image

【0040】(式中、R0 は前記に同じ、R6 は式Wherein R 0 is the same as above, and R 6 is a group represented by the formula :

【0041】[0041]

【化20】 Embedded image

【0042】で表わされる2価の有機基から選ばれた少
なくとも1つの基をあげることができる)で表わされる
同一分子内に2つの環状オレフィンを含有するイミド化
合物を合成し、そののち反応性ケイ素基を導入する方法
が、作業性、収率などの点からとくに好ましい。
At least one group selected from the divalent organic groups represented by the following formula) can be used to synthesize an imide compound containing two cyclic olefins in the same molecule represented by the formula: The method of introducing a group is particularly preferable in terms of workability, yield, and the like.

【0043】前記同一分子内に2つの環状オレフィンを
含有するイミド化合物の製造方法としては、以下の方法
が公知の技術として知られている。すなわち、 ジアミン成分と環状オレフィン含有酸無水物とを有
機極性溶媒中で反応させてアミド酸の溶液をえ、ついで
これを加熱することにより熱的にイミド化する方法、 ジアミン成分と環状オレフィン含有酸無水物とを有
機極性溶媒中で反応させてアミド酸の溶液をえ、ついで
これに無水酢酸などの脱水剤を作用させ、化学的にイミ
ド化する方法、 ジアミン成分と環状オレフィン含有酸無水物とを有
機極性溶媒中で反応させてアミド酸の溶液をえ、ついで
この溶液を水、炭化水素のようなアミド酸に対する貧溶
媒と接触させてアミド酸を沈澱として析出させ、これを
加熱する方法、 ジイソシアネート成分と環状オレフィン含有酸無水
物とを有機極性溶媒中で反応させて直接イミド化合物を
うる方法などが具体例としてあげられる。
As a method for producing the imide compound containing two cyclic olefins in the same molecule, the following method is known as a known technique. That is, a diamine component and a cyclic olefin-containing anhydride are reacted in an organic polar solvent to obtain an amic acid solution, and then heated to thermally imidize the diamine component and a cyclic olefin-containing acid. A method of reacting the anhydride with an anhydride in an organic polar solvent to obtain a solution of an amic acid, and then reacting the solution with a dehydrating agent such as acetic anhydride to chemically imidize the diamine component and the cyclic olefin-containing anhydride. Is reacted in an organic polar solvent to obtain a solution of amic acid, and then the solution is contacted with water, a poor solvent for amic acid such as hydrocarbon to precipitate amic acid as a precipitate, which is heated, Specific examples include a method in which a diisocyanate component and a cyclic olefin-containing acid anhydride are reacted in an organic polar solvent to directly obtain an imide compound.

【0044】これらのいずれの方法によっても同一分子
内に2つの環状オレフィンを含有するイミド化合物を製
造することができ、とくに制約を受けるものではない
が、製造装置や製造工程がより簡便あるいは容易である
ことや、使用する原料の入手が容易であることから、
の方法、すなわちジアミン成分と環状オレフィン含有酸
無水物とを有機極性溶媒、たとえばジメチルスルホキシ
ド、ジエチルスルホキシドなどのスルホキシド系溶媒、
N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジエチルホルムアミド
などのホルムアミド系溶媒、N,N-ジメチルアセトアミ
ド、N,N-ジエチルアセトアミドなどのアセトアミド系溶
媒、N-メチル-2- ピロリドン、N-アセチル-2- ピロリド
ン、N-ビニル-2- ピロリドンなどのピロリドン系溶媒、
フェノール、o-クレゾール、m-クレゾール、p-クレゾー
ル、キシレノール、ハロゲン化フェノール、カテコール
などのフェノール系溶媒、またはピリジン、ヘキサメチ
ルホスホルアミド、γ- ブチロラクトン、さらにはこれ
ら2種以上の混合物中、80℃以下の温度で反応させてア
ミド酸の溶液をえ、ついでこれを100 〜250 ℃に加熱す
ることにより、一般式(V) で表わされる化合物にする方
法が好ましい。
By any of these methods, an imide compound containing two cyclic olefins in the same molecule can be produced and is not particularly limited, but the production apparatus and the production process are simpler or easier. Due to the fact that it is easy to obtain the raw materials used,
That is, a diamine component and a cyclic olefin-containing acid anhydride in an organic polar solvent, for example, dimethyl sulfoxide, sulfoxide solvents such as diethyl sulfoxide,
Formamide solvents such as N, N-dimethylformamide, N, N-diethylformamide, N, N-dimethylacetamide, acetamido solvents such as N, N-diethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, N-acetyl- Pyrrolidone solvents such as 2-pyrrolidone and N-vinyl-2-pyrrolidone,
Phenol, o-cresol, m-cresol, p-cresol, xylenol, halogenated phenol, phenolic solvents such as catechol, or pyridine, hexamethylphosphoramide, γ-butyrolactone, and a mixture of two or more of these, A method is preferred in which the reaction is carried out at a temperature of 80 ° C. or less to obtain a solution of amic acid, which is then heated to 100 to 250 ° C. to obtain a compound represented by the general formula (V).

【0045】前記環状オレフィン含有イミド化合物への
反応性ケイ素基の導入は公知の方法で行なえばよく、何
ら制約を受けるものではない。具体例としては反応性基
を有するヒドロシランを作用させてヒドロシリル化する
方法があげられる。ヒドロシランは一般式(VI):
The introduction of the reactive silicon group into the cyclic olefin-containing imide compound may be carried out by a known method, and is not subject to any restrictions. As a specific example, there is a method of reacting hydrosilane having a reactive group to perform hydrosilylation. Hydrosilane has the general formula (VI):

【0046】[0046]

【化21】 Embedded image

【0047】(式中、R4 、X、aは前記に同じ、また
X、R4 が2個以上存在するとき、それらは同じであっ
てもよく、異なっていてもよい)で表わされる化合物で
ある。
(Wherein R 4 , X and a are the same as described above, and when two or more X and R 4 are present, they may be the same or different) It is.

【0048】前記環状オレフィン含有イミド化合物への
反応性ケイ素基の導入は、たとえばH2 PtCl6 ・6H2 O
、Ptメタル、RhCl(PPh3 ) 3 、RhCl3 、Rh/Al2
O3 、RuCl3 、IrCl3 、FeCl3 、AlCl3 、PdCl2 ・2H2 O
、NiCl2 、TiCl4 などのような化合物を触媒として、
ヒドロシリル化反応を行なうことにより遂行することが
できる。
[0048] Introduction of the reactive silicon group into the cyclic olefin-containing imide compound, for example H 2 PtCl 6 · 6H 2 O
, Pt metal, RhCl (PPh 3 ) 3 , RhCl 3 , Rh / Al 2
O 3, RuCl 3, IrCl 3 , FeCl 3, AlCl 3, PdCl 2 · 2H 2 O
, NiCl 2 , a compound such as TiCl 4 as a catalyst,
It can be achieved by performing a hydrosilylation reaction.

【0049】ヒドロシリル化反応は、一般に0〜150 ℃
の温度範囲で行なわれ、必要に応じて、たとえばヘキサ
ン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの炭
化水素系溶媒、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、エチレングリコール、1,4-ブタンジオールなどのア
ルコール系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、1,4-ジオキサン、エチレングリコールジメチルエー
テル、エチレングリコールジエチルエーテル、アニソー
ルなどのエーテル系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、酢
酸プロピル、酢酸ブチル、安息香酸メチル、安息香酸エ
チルなどのエステル系溶媒、塩化メチレン、クロロホル
ム、塩化エチレン、クロロベンゼンなどのハロゲン化炭
化水素系溶媒の単独もしくは2種以上の混合物などの適
当な有機溶媒を用いてもよい。
The hydrosilylation reaction is generally carried out at 0 to 150 ° C.
If necessary, hexane, heptane, benzene, toluene, hydrocarbon solvents such as xylene, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol, alcohol solvents such as 1,4-butanediol, Ether solvents such as diethyl ether, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, and anisole; and ester solvents such as methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, methyl benzoate, and ethyl benzoate A suitable organic solvent such as a solvent or a mixture of two or more halogenated hydrocarbon solvents such as methylene chloride, chloroform, ethylene chloride and chlorobenzene may be used.

【0050】本発明のイミド化合物は、室温で液体また
は 250℃以下の融点を示し、ヘキサン、ヘプタン、ベン
ゼン、トルエン、キシレンなどの炭化水素系溶媒、メタ
ノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコー
ル、1,4-ブタンジオールなどのアルコール系溶媒、ジエ
チルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン、
エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコ
ールジエチルエーテル、アニソールなどのエーテル系溶
媒、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチ
ル、安息香酸メチル、安息香酸エチルなどのエステル系
溶媒、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン、ク
ロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒に可溶
で、かつ無触媒でも 250℃以下、好ましくは 200℃以下
の温度で硬化させることができる。また、縮合触媒を使
用すると0〜200 ℃以下、好ましくは0〜100℃という
低い温度でも硬化する。これら異なる2つの方法により
硬化してえられる樹脂は、本質的に同じ諸特性を有し、
いずれも耐熱性、耐薬品性、機械的特性に優れたもので
ある。
The imide compound of the present invention is a liquid at room temperature or shows a melting point of 250 ° C. or less, and a hydrocarbon solvent such as hexane, heptane, benzene, toluene and xylene, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol, 1,4 -Alcohol solvents such as butanediol, diethyl ether, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane,
Ether solvents such as ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, and anisole; ester solvents such as methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, methyl benzoate, and ethyl benzoate; methylene chloride, chloroform, ethylene chloride, and chlorobenzene And can be cured at a temperature of 250 ° C. or less, preferably 200 ° C. or less, even in the absence of a catalyst, while being soluble in halogenated hydrocarbon solvents. When a condensation catalyst is used, the composition cures at a temperature as low as 0 to 200 ° C, preferably 0 to 100 ° C. The resins cured by these two different methods have essentially the same properties,
All have excellent heat resistance, chemical resistance, and mechanical properties.

【0051】本発明の組成物は前記一般式(I) で表わさ
れるイミド化合物の1種または2種以上とシラノール縮
合触媒の1種または2種以上とからなる組成物である。
The composition of the present invention is a composition comprising one or more of the imide compounds represented by the general formula (I) and one or more of the silanol condensation catalyst.

【0052】本発明の組成物におけるシラノール縮合触
媒の具体例としては、たとえばテトラブチルチタネー
ト、テトラプロピルチタネートなどのチタン酸エステル
類;ジブチルスズジラウレート、ジブチルスズマレエー
ト、ジブチルスズジアセテート、オクチル酸、スズナフ
テン酸スズなどのスズカルボン酸塩類;ジブチルスズオ
キサイドとフタル酸エステルとの反応物;ジブチルスズ
ジアセチルアセトナート;アルミニウムトリスアセチル
アセトナート、アルミニウムトリスエチルアセトアセテ
ート、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセ
テートなどの有機アルミニウム化合物類;ジルコニウム
テトラアセチルアセトナート、チタンテトラアセチルア
セトナートなどのキレート化合物類;オクチル酸鉛;ブ
チルアミン、オクチルアミン、ジブチルアミン、モノエ
タノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノール
アミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミ
ン、オレイルアミン、シクロヘキシルアミン、ベンジル
アミン、ジエチルアミノプロピルアミン、キシリレンジ
アミン、トリエチレンジアミン、グアニジン、ジフェニ
ルグアニジン、2,4,6-トリス(ジメチルアミノメチル)
フェノール、モルホリン、N-メチルモルホリン、2-エチ
ル-4-メチルイミダゾール、1,8-ジアザビシクロ(5,4,0
)ウンデセン-7(DBU )などのアミン系化合物または
それらのカルボン酸などとの塩;過剰のポリアミンと多
塩基酸とからえられる低分子量ポリアミド樹脂;過剰の
ポリアミンとエポキシ化合物との反応生成物;アミノ基
を有するシランカップリング剤、たとえばγ- アミノプ
ロピルトリメトキシシラン、N-(β- アミノエチル)ア
ミノプロピルメチルジメトキシシランなどのシラノール
縮合触媒、さらには他の酸性触媒、塩基性触媒などの公
知のシラノール縮合触媒などがあげられる。これらの触
媒は単独で使用してもよく、2種以上併用してもよい。
Specific examples of the silanol condensation catalyst in the composition of the present invention include, for example, titanates such as tetrabutyl titanate and tetrapropyl titanate; dibutyltin dilaurate, dibutyltin maleate, dibutyltin diacetate, octylic acid, tin stannaphthenate Reaction products of dibutyltin oxide and phthalic acid esters; dibutyltin diacetylacetonate; organoaluminum compounds such as aluminum trisacetylacetonate, aluminum trisethylacetoacetate, diisopropoxyaluminum ethylacetoacetate; zirconium tetra Chelating compounds such as acetylacetonate and titanium tetraacetylacetonate; lead octylate; butylamine, octy Amine, dibutylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, diethylenetriamine, triethylenetetramine, oleylamine, cyclohexylamine, benzylamine, diethylaminopropylamine, xylylenediamine, triethylenediamine, guanidine, diphenylguanidine, 2,4,6 -Tris (dimethylaminomethyl)
Phenol, morpholine, N-methylmorpholine, 2-ethyl-4-methylimidazole, 1,8-diazabicyclo (5,4,0
) Amine compounds such as undecene-7 (DBU) or salts thereof with carboxylic acids and the like; low molecular weight polyamide resins obtained from excess polyamine and polybasic acid; reaction products of excess polyamine and epoxy compound; Known silane coupling agents having an amino group, such as silanol condensation catalysts such as γ-aminopropyltrimethoxysilane and N- (β-aminoethyl) aminopropylmethyldimethoxysilane, as well as other acidic catalysts and basic catalysts And a silanol condensation catalyst. These catalysts may be used alone or in combination of two or more.

【0053】シラノール縮合触媒を用いるばあいの使用
量は、一般式(I) で表わされるイミド化合物100 部(重
量部、以下同様)に対して0.01〜20部が好ましく、0.1
〜10部がさらに好ましい。シラノール縮合触媒の使用量
が少なすぎると、硬化速度はあまり速くならず、触媒を
使用する効果が充分えられなくなる。一方、シラノール
縮合触媒の使用量が多すぎると、硬化時に局部的な発熱
や発泡が生じ、良好な硬化物をえにくくなる。
When a silanol condensation catalyst is used, the amount used is preferably 0.01 to 20 parts with respect to 100 parts (parts by weight, hereinafter the same) of the imide compound represented by the general formula (I), and 0.1 to 20 parts.
~ 10 parts is more preferred. If the amount of the silanol condensation catalyst used is too small, the curing speed will not be too high, and the effect of using the catalyst will not be sufficiently obtained. On the other hand, if the amount of the silanol condensation catalyst used is too large, local heat generation or foaming occurs during curing, making it difficult to obtain a good cured product.

【0054】該イミド化合物が液体であるばあい、一般
式(I) で表わされるイミド化合物とシラノール縮合触媒
との2つの成分を直接混ぜ合わせることにより、組成物
を調製することが可能である。
When the imide compound is a liquid, it is possible to prepare a composition by directly mixing the two components of the imide compound represented by the general formula (I) and the silanol condensation catalyst.

【0055】前記イミド化合物が固体であるばあいに
は、イミド化合物を適当な有機溶媒、たとえばヘキサ
ン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの炭
化水素系溶媒、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、エチレングリコール、1,4-ブタンジオールなどのア
ルコール系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、1,4-ジオキサン、エチレングリコールジメチルエー
テル、エチレングリコールジエチルエーテル、アニソー
ルなどのエーテル系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、酢
酸プロピル、酢酸ブチル、安息香酸メチル、安息香酸エ
チルなどのエステル系溶媒、塩化メチレン、クロロホル
ム、塩化エチレン、クロロベンゼンなどのハロゲン化炭
化水素系溶媒の単独もしくは2種以上の混合物などに溶
解したのち、その溶液にシラノール縮合触媒を加えるこ
とにより、組成物を調製することができる。
When the imide compound is a solid, the imide compound is converted into an appropriate organic solvent, for example, a hydrocarbon solvent such as hexane, heptane, benzene, toluene, xylene, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol, Alcohol solvents such as, 4-butanediol, diethyl ether, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, ether solvents such as anisole, methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, It is dissolved in an ester solvent such as methyl benzoate and ethyl benzoate, or a single or a mixture of two or more halogenated hydrocarbon solvents such as methylene chloride, chloroform, ethylene chloride and chlorobenzene. By adding Nord condensation catalyst, it is possible to prepare a composition.

【0056】本発明の組成物には、さらに必要に応じて
接着性改良剤、物性調整剤、保存安定性改良剤、可塑
剤、充填剤、老化防止剤、紫外線吸収剤、金属不活性化
剤、オゾン劣化防止剤、光安定剤、アミン系ラジカル連
鎖禁止剤、リン系過酸化物分解剤、滑剤、顔料、発泡剤
などの各種添加剤を適宜配合してもよい。添加剤の総量
は硬化物の諸特性を著しく低下させない範囲であればと
くに限定されないが、より好ましくは前記イミド化合物
100 部に対して1〜300部である。
The composition of the present invention may further contain, if necessary, an adhesion improver, a physical property modifier, a storage stability improver, a plasticizer, a filler, an antioxidant, an ultraviolet absorber, and a metal deactivator. Various additives such as an ozone deterioration inhibitor, a light stabilizer, an amine radical chain inhibitor, a phosphorus peroxide decomposer, a lubricant, a pigment, and a foaming agent may be appropriately compounded. The total amount of the additives is not particularly limited as long as it does not significantly reduce various properties of the cured product, but more preferably the imide compound
1 to 300 parts for 100 parts.

【0057】本発明のイミド化合物を硬化させるには、
該イミド化合物をその融点以上 250℃以下、好ましくは
200℃以下の温度範囲で5分〜24時間処理するだけでよ
い。また、シラノール縮合触媒を含有した本発明の組成
物を硬化させるには、0〜200 ℃、好ましくは0〜100
℃の温度範囲で1分〜24時間処理するだけでよい。処理
温度が高すぎるばあいには硬化時に局部的な発熱や発泡
が生じ、良好な硬化物がえられにくくなる。
To cure the imide compound of the present invention,
The imide compound has a melting point of 250 ° C. or less, preferably
It only needs to be treated in a temperature range of 200 ° C. or less for 5 minutes to 24 hours. To cure the composition of the present invention containing a silanol condensation catalyst, the temperature is preferably from 0 to 200 ° C, preferably from 0 to 100 ° C.
It only needs to be treated in a temperature range of ° C. for 1 minute to 24 hours. If the treatment temperature is too high, local heat generation or foaming occurs during curing, and it becomes difficult to obtain a good cured product.

【0058】また、本発明の組成物が有機溶剤を含むば
あいには、この組成物を、用いた有機溶媒が揮発可能な
温度(沸点以下でもよい)に加熱するおよび(または)
用いた有機溶媒の沸点以下の温度で減圧下に処理するこ
とにより、該有機溶媒を溜去させながら硬化させるのが
好ましい。
When the composition of the present invention contains an organic solvent, the composition is heated to a temperature at which the organic solvent used can be volatilized (may be lower than the boiling point) and / or
It is preferable to cure the organic solvent by evaporating it by treating it under reduced pressure at a temperature not higher than the boiling point of the organic solvent used.

【0059】本発明のイミド化合物および硬化性組成物
を硬化させてえられる本発明の硬化物は、優れた耐熱
性、耐薬品性、機械的特性を有し、種々の用途たとえば
樹脂改質剤、耐熱性を備えたコーティング材などに好適
に用いられる。
The cured product of the present invention obtained by curing the imide compound and the curable composition of the present invention has excellent heat resistance, chemical resistance, and mechanical properties, and has various uses such as a resin modifier. And a heat-resistant coating material.

【0060】以下、実施例に基づいて本発明を具体的に
説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるも
のではない。
Hereinafter, the present invention will be described specifically with reference to Examples, but the present invention is not limited to only these Examples.

【0061】実施例1 チッ素気流下、2,3-ジカルボキシル- ビシクロ[2.2.1
]ヘプタ-5- エン無水物32.8g (0.20 mol)をN,N-ジ
メチルアセトアミド(以下、DMAcという)200 mlに溶解
させた。えられた溶液に、室温において4,4 ´- ジアミ
ノジフェニルエーテル20.0g (0.10 mol)をDMAc 200ml
に溶解した溶液を約30分間かけて徐々に添加した。添加
終了後20分間撹拌を続け、アミド酸溶液をえた。引き続
き、えられたアミド酸溶液を還流するまで加熱し、さら
に3時間加熱撹拌を続けた。放冷後反応溶液を大量のメ
タノール中へ注ぎ込み、生成物を沈澱させたのち濾過
し、えられた沈澱をメタノールで洗浄後、室温で数時間
減圧乾燥し、イミド化合物をえた。
Example 1 2,3-Dicarboxyl-bicyclo [2.2.1] under a stream of nitrogen
32.8 g (0.20 mol) of hepta-5-ene anhydride was dissolved in 200 ml of N, N-dimethylacetamide (hereinafter referred to as DMAc). At room temperature, 40.0 g (0.10 mol) of 4,4'-diaminodiphenyl ether was added to 200 ml of DMAc at room temperature.
Was gradually added over about 30 minutes. After completion of the addition, stirring was continued for 20 minutes to obtain an amic acid solution. Subsequently, the obtained amic acid solution was heated to reflux, and further heated and stirred for 3 hours. After allowing to cool, the reaction solution was poured into a large amount of methanol to precipitate the product, followed by filtration. The obtained precipitate was washed with methanol and dried under reduced pressure at room temperature for several hours to obtain an imide compound.

【0062】えられたイミド化合物10g をクロロベンゼ
ン1リットルに溶解させ、それに1gの H2 PtCl6 ・6H
2 O を10mlのエタノールに溶解した溶液1.02mlを加え
た。室温においてメチルジメトキシシラン43.1g を滴下
ロートにより加え、100 ℃で30時間反応させた。反応
後、反応溶液をメタノール中に注ぎ込み、再沈澱させた
のち濾過し、メタノールで洗浄後、室温で数時間減圧乾
燥し、下記式(VII) で表わされる目的とする反応性ケイ
素基を有するイミド化合物(VII)11.5gをえた。
[0062] The obtained imide compounds 10g was dissolved in chlorobenzene one liter it 1g of H 2 PtCl 6 · 6H
1.02 ml of a solution of 2 O in 10 ml of ethanol was added. At room temperature, 43.1 g of methyldimethoxysilane was added by a dropping funnel and reacted at 100 ° C. for 30 hours. After the reaction, the reaction solution was poured into methanol, reprecipitated, filtered, washed with methanol, and dried under reduced pressure at room temperature for several hours to obtain an imide having a target reactive silicon group represented by the following formula (VII). 11.5 g of compound (VII) was obtained.

【0063】[0063]

【化22】 Embedded image

【0064】融点:180 ℃ 1 H NMR(CDCl3 )δ:0.20(s,6H,Si
CH3 ),1.47,1.65(dd,4H,CCH2 C),1.
69−1.95(m,6H,CCH2 CHSi),2.88(s,
2H,CCHSi),3.25(s,2H,CCH2
HSi),3.50(s,12H,Si(OCH3 2 ),3.
55(d,4H,CHCO),7.14−7.24(m,8H,C
6 4)。
Melting point: 180 ° C. 1 H NMR (CDCl 3 ) δ: 0.20 (s, 6H, Si
CH 3 ), 1.47, 1.65 (dd, 4H, CCH 2 C), 1.
69-1.95 (m, 6H, CCH 2 CHSi), 2.88 (s,
2H, C H CHSi), 3.25 (s, 2H, C H CH 2 C
HSi), 3.50 (s, 12H, Si (OCH 3 ) 2 ), 3.
55 (d, 4H, CHCO), 7.14-7.24 (m, 8H, C
6 H 4).

【0065】実施例2 実施例1でえられたイミド化合物(VII) 5g にクロロホ
ルム20g を加えてイミド化合物(VI)のクロロホルム溶液
を調製し、それに硬化触媒としてオクチル酸スズ0.15g
とラウリルアミン0.038gとを配合して熱硬化性組成物を
えた。該組成物を50℃、相対湿度60%で4日間保存し、
このあとさらに 250℃で5時間養生して硬化物を作製し
た。
Example 2 To 5 g of the imide compound (VII) obtained in Example 1 was added 20 g of chloroform to prepare a chloroform solution of the imide compound (VI), and 0.15 g of tin octylate was used as a curing catalyst.
And 0.038 g of laurylamine were blended to obtain a thermosetting composition. Storing the composition at 50 ° C. and 60% relative humidity for 4 days,
Thereafter, curing was further performed at 250 ° C. for 5 hours to prepare a cured product.

【0066】えられた硬化物に対して理学電機(株)製
示差熱天秤TG-DTAを用いてTGA 測定を行なった。えられ
た5%または10%重量損失温度を表1に示す。また、硬
化物をN,N-ジメチルホルムアミド、10%塩酸に10日間浸
漬したのちの外観を表2に示す。
The obtained cured product was subjected to TGA measurement using a differential thermal balance TG-DTA manufactured by Rigaku Corporation. Table 1 shows the obtained 5% or 10% weight loss temperature. Table 2 shows the appearance of the cured product after immersion in N, N-dimethylformamide and 10% hydrochloric acid for 10 days.

【0067】実施例3 実施例1でえられたイミド化合物(VII) 5g を、縮合触
媒を加えることなく180 ℃に保ったパーフェクトオーブ
ン内に6時間保存した。この処理によってえられた固体
はクロロホルムに不溶であった。
Example 3 5 g of the imide compound (VII) obtained in Example 1 was stored in a perfect oven maintained at 180 ° C. for 6 hours without adding a condensation catalyst. The solid obtained by this treatment was insoluble in chloroform.

【0068】えられた硬化物に対して理学電機(株)製
示差熱天秤TG-DTAを用いてTGA 測定を行なった。えられ
た5%または10%重量損失温度を表1に示す。また、硬
化物をN,N-ジメチルホルムアミド、10%塩酸に10日間浸
漬したのちの外観を表2に示す。
The obtained cured product was subjected to TGA measurement using a differential thermal balance TG-DTA manufactured by Rigaku Corporation. Table 1 shows the obtained 5% or 10% weight loss temperature. Table 2 shows the appearance of the cured product after immersion in N, N-dimethylformamide and 10% hydrochloric acid for 10 days.

【0069】実施例4 チッ素気流下、2,3-ジカルボキシル- ビシクロ[2.2.1
]ヘプタ-5- エン無水物32.8g (0.20 mol)を、DMAc
200mlに溶解させた。えられた溶液に、室温において4,4
´- ジアミノジフェニルスルホン 24.8g(0.10 mol)
をDMAc 200mlに溶解させた溶液を約30分間かけて徐々に
添加した。添加終了後20分間撹拌を続け、アミド酸溶液
をえた。引続き、実施例1と同様の処理をしてイミド化
合物をえた。
Example 4 2,3-Dicarboxyl-bicyclo [2.2.1] under a stream of nitrogen
32.8 g (0.20 mol) of hepta-5-ene anhydride
Dissolved in 200 ml. Add 4,4 at room temperature to the resulting solution.
´-Diaminodiphenyl sulfone 24.8g (0.10mol)
Was dissolved slowly in 200 ml of DMAc over about 30 minutes. After completion of the addition, stirring was continued for 20 minutes to obtain an amic acid solution. Subsequently, the same treatment as in Example 1 was performed to obtain an imide compound.

【0070】えられたイミド化合物10g をクロロベンゼ
ン1リットルに溶解させ、それにH2 PtCl6 ・6H2 O の1
0%エタノール溶液を0.93ml加えた。室温においてトリ
メトキシシラン46.6g を滴下ロートにより加え、100 ℃
で40時間反応させた。反応後、反応溶液をメタノール中
に注ぎ込み、再沈澱させたのち濾過し、メタノールで洗
浄後、室温で数時間減圧乾燥し、下記式(VIII)で表わさ
れる目的とする反応性ケイ素基を有するイミド化合物(V
III)10.8g をえた。
[0070] dissolved the obtained imide compound 10g in chlorobenzene one liter thereto of H 2 PtCl 6 · 6H 2 O 1
0.93 ml of a 0% ethanol solution was added. At room temperature, add 46.6 g of trimethoxysilane through a dropping funnel, and add
For 40 hours. After the reaction, the reaction solution is poured into methanol, reprecipitated, filtered, washed with methanol, and dried under reduced pressure at room temperature for several hours to obtain an imide having a target reactive silicon group represented by the following formula (VIII). Compound (V
III) 10.8 g was obtained.

【0071】[0071]

【化23】 Embedded image

【0072】実施例5 実施例4でえられたイミド化合物(VIII)5g にクロロホ
ルム20g を加えてイミド化合物(VIII)のクロロホルム溶
液を調製し、それに硬化触媒としてオクチル酸スズ0.15
g とラウリルアミン0.038gとを配合して熱硬化性組成物
をえた。該組成物を50℃、相対湿度60%で4日間保存
し、このあとさらに 250℃で5時間養生して硬化物を作
製した。
Example 5 20 g of chloroform was added to 5 g of the imide compound (VIII) obtained in Example 4 to prepare a chloroform solution of the imide compound (VIII), and tin octylate 0.15 was used as a curing catalyst.
g and laurylamine 0.038 g were blended to obtain a thermosetting composition. The composition was stored at 50 ° C. and a relative humidity of 60% for 4 days, and then cured at 250 ° C. for 5 hours to prepare a cured product.

【0073】えられた硬化物に対して理学電機(株)製
示差熱天秤TG-DTAを用いてTGA 測定を行なった。えられ
た5%または10%重量損失温度を表1に示す。また、硬
化物をN,N-ジメチルホルムアミド、10%塩酸に10日間浸
漬したのちの外観を表2に示す。
The obtained cured product was subjected to TGA measurement using a differential thermal balance TG-DTA manufactured by Rigaku Corporation. Table 1 shows the obtained 5% or 10% weight loss temperature. Table 2 shows the appearance of the cured product after immersion in N, N-dimethylformamide and 10% hydrochloric acid for 10 days.

【0074】実施例6 実施例4でえられたイミド化合物(VIII)5g を、縮合触
媒を加えることなく180 ℃に保ったパーフェクトオーブ
ン内に6時間保存した。この処理によってえられた固体
はクロロホルムに不溶であった。
Example 6 5 g of the imide compound (VIII) obtained in Example 4 was stored in a perfect oven maintained at 180 ° C. for 6 hours without adding a condensation catalyst. The solid obtained by this treatment was insoluble in chloroform.

【0075】えられた硬化物に対して理学電機(株)製
示差熱天秤TG-DTAを用いてTGA 測定を行なった。えられ
た5%または10%重量損失温度を表1に示す。また、硬
化物をN,N-ジメチルホルムアミド、10%塩酸に10日間浸
漬したのちの外観を表2に示す。
The obtained cured product was subjected to TGA measurement using a differential thermal balance TG-DTA manufactured by Rigaku Corporation. Table 1 shows the obtained 5% or 10% weight loss temperature. Table 2 shows the appearance of the cured product after immersion in N, N-dimethylformamide and 10% hydrochloric acid for 10 days.

【0076】実施例7 チッ素気流下、2,3-ジカルボキシル-7- オキサビシクロ
[2.2.1 ]ヘプタ-5-エン無水物33.2g (0.20 mol)をD
MAc 200 ml に溶解させた。えられた溶液に室温におい
て 4,4´- ジアミノベンゼン10.8g (0.10mol)をDMAc
200 ml に溶解させた溶液を約30分間かけて徐々に添加
した。添加終了後20分間撹拌を続け、アミド酸溶液をえ
た。引続き、実施例1と同様に処理してイミド化合物を
えた。
Example 7 33.2 g (0.20 mol) of 2,3-dicarboxyl-7-oxabicyclo [2.2.1] hept-5-ene anhydride was added to D in a stream of nitrogen.
MAc was dissolved in 200 ml. At room temperature, 10.8 g (0.10 mol) of 4,4'-diaminobenzene was added to DMAc
The solution dissolved in 200 ml was gradually added over about 30 minutes. After completion of the addition, stirring was continued for 20 minutes to obtain an amic acid solution. Subsequently, the same treatment as in Example 1 was performed to obtain an imide compound.

【0077】えられたイミド化合物10g をクロロベンゼ
ン1リットルに溶解させ、それにH2 PtCl6 ・6H2 O の1
0%エタノール溶液を1.24 ml 加えた。室温においてト
リエトキシシラン81.2g を滴下ロートにより加え、100
℃で20時間反応させた。反応後、反応溶液をメタノール
中に注ぎ込み、再沈澱させたのち濾過し、メタノールで
洗浄後、室温で数時間減圧乾燥し、下記式(IX)で表わさ
れる目的とする反応性ケイ素基を有するイミド化合物(I
X) 12.1gをえた。
[0077] dissolved the obtained imide compound 10g in chlorobenzene one liter thereto of H 2 PtCl 6 · 6H 2 O 1
1.24 ml of a 0% ethanol solution was added. At room temperature, 81.2 g of triethoxysilane was added with a dropping funnel, and 100
The reaction was performed at 20 ° C. for 20 hours. After the reaction, the reaction solution is poured into methanol, reprecipitated, filtered, washed with methanol, and dried under reduced pressure at room temperature for several hours to obtain an imide having a target reactive silicon group represented by the following formula (IX). Compound (I
X) I got 12.1g.

【0078】[0078]

【化24】 Embedded image

【0079】実施例8 実施例7でえられたイミド化合物(IX)5g にクロロホル
ム20g を加えてイミド化合物(IX)のクロロホルム溶液を
調製し、それに硬化触媒としてオクチル酸スズ0.15g と
ラウリルアミン0.038gとを配合して熱硬化性組成物をえ
た。該組成物を50℃、相対湿度60%で4日間保存し、こ
のあとさらに 250℃で5時間養生して硬化物を作製し
た。
Example 8 20 g of chloroform was added to 5 g of the imide compound (IX) obtained in Example 7 to prepare a chloroform solution of the imide compound (IX), and 0.15 g of tin octylate and 0.038 g of laurylamine were used as curing catalysts. g) to give a thermosetting composition. The composition was stored at 50 ° C. and a relative humidity of 60% for 4 days, and then cured at 250 ° C. for 5 hours to prepare a cured product.

【0080】えられた硬化物に対して理学電機(株)製
示差熱天秤TG-DTAを用いてTGA 測定を行なった。えられ
た5%または10%重量損失温度を表1に示す。また、硬
化物をN,N-ジメチルホルムアミド、10%塩酸に10日間浸
漬したのちの外観を表2に示す。
The obtained cured product was measured for TGA using a differential thermal balance TG-DTA manufactured by Rigaku Corporation. Table 1 shows the obtained 5% or 10% weight loss temperature. Table 2 shows the appearance of the cured product after immersion in N, N-dimethylformamide and 10% hydrochloric acid for 10 days.

【0081】実施例9 チッ素気流下、無水1,2,3,6-テトラヒドロフタル酸30.4
g (0.20 mol)を200mlのDMAcに溶解させた。えられた
溶液に室温において 4,4´- ジアミノジフェニルメタン
19.8g(0.10 mol)をDMAc 200 ml に溶解させた溶液を
約30分間かけて徐々に添加した。添加終了後20分間撹拌
を続け、アミド酸溶液をえた。引続き、実施例1と同様
に処理してイミド化合物をえた。
Example 9 1,2,3,6-Tetrahydrophthalic anhydride 30.4 in a stream of nitrogen
g (0.20 mol) was dissolved in 200 ml of DMAc. Add 4,4'-diaminodiphenylmethane at room temperature
A solution of 19.8 g (0.10 mol) dissolved in 200 ml of DMAc was gradually added over about 30 minutes. After completion of the addition, stirring was continued for 20 minutes to obtain an amic acid solution. Subsequently, the same treatment as in Example 1 was performed to obtain an imide compound.

【0082】えられたイミド化合物10g をクロロベンゼ
ン1リットルに溶解させ、それにH2 PtCl6 ・6H2 O の1
0%エタノール溶液を1.10 ml 加えた。室温においてメ
チルジアセトキシシラン46.9g を滴下ロートにより加
え、110 ℃で30時間反応させた。反応後、反応溶液をメ
タノール中に注ぎ込み、再沈澱させたのち濾過し、メタ
ノールで洗浄後、室温で数時間減圧乾燥し、下記式(X)
で表わされる目的とする反応性ケイ素基を有するイミド
化合物(X)11.8g をえた。
[0082] dissolved the obtained imide compound 10g in chlorobenzene one liter thereto of H 2 PtCl 6 · 6H 2 O 1
1.10 ml of a 0% ethanol solution was added. At room temperature, 46.9 g of methyldiacetoxysilane was added by a dropping funnel and reacted at 110 ° C. for 30 hours. After the reaction, the reaction solution was poured into methanol, reprecipitated, filtered, washed with methanol, and dried under reduced pressure at room temperature for several hours to obtain the following formula (X)
Thus, 11.8 g of the desired imide compound (X) having a reactive silicon group represented by the formula was obtained.

【0083】[0083]

【化25】 Embedded image

【0084】実施例10 実施例9でえられたイミド化合物(X) 5g を、縮合触媒
を加えることなく180℃に保ったパーフェクトオーブン
内に6時間保存した。この処理によってえられた固体は
クロロホルムに不溶であった。
Example 10 5 g of the imide compound (X) obtained in Example 9 was stored for 6 hours in a perfect oven maintained at 180 ° C. without adding a condensation catalyst. The solid obtained by this treatment was insoluble in chloroform.

【0085】えられた硬化物に対して理学電機(株)製
示差熱天秤TG-DTAを用いてTGA 測定を行なった。えられ
た5%または10%重量損失温度を表1に示す。また、硬
化物をN,N-ジメチルホルムアミド、10%塩酸に10日間浸
漬したのちの外観を表2に示す。
The obtained cured product was subjected to TGA measurement using a differential thermal balance TG-DTA manufactured by Rigaku Corporation. Table 1 shows the obtained 5% or 10% weight loss temperature. Table 2 shows the appearance of the cured product after immersion in N, N-dimethylformamide and 10% hydrochloric acid for 10 days.

【0086】実施例11 チッ素気流下、2,3-ジカルボキシル- ビシクロ[2.2.1]
ヘプタ-5- エン無水物33.2g (0.20mol )をDMAc 200ml
に溶解した。室温において2,2-ビス[4- (アミノフェノ
キシ)フェニル]プロパン41.0g (0.10mol )をDMAc 4
00mlに溶解した溶液を約30分間かけて徐々に添加した。
添加終了後20分間撹拌を続け、アミド酸溶液をえた。引
続き、実施例1と同様に処理してイミド化合物をえた。
Example 11 2,3-Dicarboxyl-bicyclo [2.2.1] in a stream of nitrogen
33.2 g (0.20 mol) of hepta-5-ene anhydride in 200 ml of DMAc
Was dissolved. At room temperature, 41.0 g (0.10 mol) of 2,2-bis [4- (aminophenoxy) phenyl] propane was added to DMAc 4
The solution dissolved in 00 ml was slowly added over about 30 minutes.
After completion of the addition, stirring was continued for 20 minutes to obtain an amic acid solution. Subsequently, the same treatment as in Example 1 was performed to obtain an imide compound.

【0087】えられたイミド化合物10g をクロロベンゼ
ン1リットルに溶解させ、それにH2 PtCl6 ・6H2 O の1
0%エタノール溶液を0.93ml加えた。室温においてジメ
トキシメチルシラン39.5g を滴下ロートにより加え、 1
00℃で20時間反応させた。反応後、反応溶液をメタノー
ル中に注ぎ込み、再沈殿させたのち濾過し、メタノール
で洗浄、室温で数時間乾燥し、目的とする反応性ケイ素
基を有するイミド化合物(XI) 9.9g をえた。
[0087] dissolved the obtained imide compound 10g in chlorobenzene one liter thereto of H 2 PtCl 6 · 6H 2 O 1
0.93 ml of a 0% ethanol solution was added. At room temperature, 39.5 g of dimethoxymethylsilane was added with a dropping funnel, and 1
The reaction was performed at 00 ° C. for 20 hours. After the reaction, the reaction solution was poured into methanol, reprecipitated, filtered, washed with methanol, and dried at room temperature for several hours to obtain 9.9 g of the desired imide compound having a reactive silicon group (XI).

【0088】[0088]

【化26】 Embedded image

【0089】実施例12 実施例11でえられたイミド化合物(XI)5gに対してクロ
ロホルム20gを加えてイミド化合物のクロロホルム溶液
を調製し、それに硬化触媒としてオクチル酸スズ0.15g
とラウリルアミン0.038 gを配合して熱硬化性組成物を
えた。該組成物を50℃、相対湿度60%で4日間保存し、
このあとさらに250 ℃で5時間養生して硬化物を作製し
た。
Example 12 A chloroform solution of an imide compound was prepared by adding 20 g of chloroform to 5 g of the imide compound (XI) obtained in Example 11, and 0.15 g of tin octylate was used as a curing catalyst.
And 0.038 g of laurylamine were blended to obtain a thermosetting composition. Storing the composition at 50 ° C. and 60% relative humidity for 4 days,
Thereafter, curing was further performed at 250 ° C. for 5 hours to produce a cured product.

【0090】えられた硬化物に対して理学電機(株)製
示差熱天秤TG-DTAを用いて、チッ素気流下、TGA 測定を
行なった。えられた5%または10%重量損失温度を表1
に示す。また、硬化物をN,N-ジメチルホルムアミド、10
%塩酸に10日間浸漬したのちの外観を表2に示す。
The obtained cured product was subjected to TGA measurement under a stream of nitrogen using a differential thermal balance TG-DTA manufactured by Rigaku Corporation. Table 1 shows the obtained 5% or 10% weight loss temperature.
Shown in The cured product was N, N-dimethylformamide, 10
Table 2 shows the appearance after immersion in 10% hydrochloric acid for 10 days.

【0091】実施例13 チッ素気流下、2,3-ジカルボキシル-7- オキサビシクロ
[2.2.1] ヘプタ-5- エン無水物33.2g (0.20mol)をDMAc
200ml に溶解した。室温において1,3-(3- ジアミノプロ
ピル)テトラメチルジシロキサン21.8g (0.10mol )を
DMAc200ml に溶解した溶液を約30分間かけて徐々に添加
した。添加終了後20分間撹拌を続け、アミド酸溶液をえ
た。引続き、実施例1と同様に処理してイミド化合物を
えた。
Example 13 2,3-Dicarboxyl-7-oxabicyclo under a stream of nitrogen
[2.2.1] 33.2 g (0.20 mol) of hepta-5-ene anhydride in DMAc
Dissolved in 200 ml. At room temperature, 21.8 g (0.10 mol) of 1,3- (3-diaminopropyl) tetramethyldisiloxane
A solution dissolved in 200 ml of DMAc was gradually added over about 30 minutes. After completion of the addition, stirring was continued for 20 minutes to obtain an amic acid solution. Subsequently, the same treatment as in Example 1 was performed to obtain an imide compound.

【0092】えられたイミド化合物10gをクロロベンゼ
ン1リットルに溶解させ、それにH2 PtCl6 ・6H2 O の1
0%エタノール溶液を1.95ml加えた。室温においてジメ
トキシメチルシラン41.3gを滴下ロートにより加え、 1
00℃で20時間反応させた。反応後、反応溶液をメタノー
ル中に注ぎ込み、再沈殿させたのち濾過し、メタノール
で洗浄、室温で数時間乾燥し、目的とする反応性ケイ素
基を有するイミド化合物(XII)10.9gをえた。
[0092] dissolved the obtained imide compound 10g in chlorobenzene one liter thereto of H 2 PtCl 6 · 6H 2 O 1
1.95 ml of a 0% ethanol solution was added. At room temperature, 41.3 g of dimethoxymethylsilane was added with a dropping funnel.
The reaction was performed at 00 ° C. for 20 hours. After the reaction, the reaction solution was poured into methanol, reprecipitated, filtered, washed with methanol, and dried at room temperature for several hours to obtain 10.9 g of the desired imide compound having a reactive silicon group (XII).

【0093】[0093]

【化27】 Embedded image

【0094】実施例14 実施例13でえられたイミド化合物(XII) 5gに対してク
ロロホルム20g を加えてイミド化合物のクロロホルム溶
液を調製し、それに硬化触媒としてオクチル酸スズ0.15
g とラウリルアミン0.038gを配合して熱硬化性組成物を
えた。該組成物を50℃、相対湿度60%で4日間保存し、
このあとさらに250 ℃で5時間養生して硬化物を作製し
た。
Example 14 To 5 g of the imide compound (XII) obtained in Example 13 was added 20 g of chloroform to prepare a chloroform solution of the imide compound, and tin octylate 0.15 was used as a curing catalyst.
g and laurylamine 0.038 g were blended to obtain a thermosetting composition. Storing the composition at 50 ° C. and 60% relative humidity for 4 days,
Thereafter, curing was further performed at 250 ° C. for 5 hours to produce a cured product.

【0095】えられた硬化物に対して理学電機(株)製
示差熱天秤TG-DTAを用いて、チッ素気流下、TGA 測定を
行なった。えられた5%または10%重量損失温度を表1
に示す。また、硬化物をN,N-ジメチルホルムアミド、10
%塩酸に10日間浸漬したのちの外観を表2に示す。
The obtained cured product was subjected to TGA measurement under a stream of nitrogen using a differential thermal balance TG-DTA manufactured by Rigaku Corporation. Table 1 shows the obtained 5% or 10% weight loss temperature.
Shown in The cured product was N, N-dimethylformamide, 10
Table 2 shows the appearance after immersion in 10% hydrochloric acid for 10 days.

【0096】比較例1 両末端にジメトキシメチルシリル基を有するポリプロピ
レングリコール(分子量約8000)100 部に、オクチル酸
スズ3部、ラウリルアミン0.75部を加えて混練したの
ち、室温で4日間、さらに50℃(相対湿度60%)で4日
間保存してゴム状硬化物をえた。
Comparative Example 1 To 100 parts of a polypropylene glycol having a dimethoxymethylsilyl group at both terminals (molecular weight: about 8000), 3 parts of tin octylate and 0.75 part of laurylamine were added and kneaded. After storage for 4 days at 60 ° C. (relative humidity 60%), a rubbery cured product was obtained.

【0097】えられた硬化物に対して理学電機(株)製
の示差熱天秤TG-DTAを用いてTGA 測定を行なった。えら
れた5%または10%重量損失温度を表1に示す。また、
硬化物をN,N-ジメチルホルムアミド、10%塩酸に10日間
浸漬したのちの外観を表2に示す。
The obtained cured product was subjected to TGA measurement using a differential thermal balance TG-DTA manufactured by Rigaku Corporation. Table 1 shows the obtained 5% or 10% weight loss temperature. Also,
Table 2 shows the appearance after immersing the cured product in N, N-dimethylformamide and 10% hydrochloric acid for 10 days.

【0098】比較例2 比較例1の両末端にジメトキシメチルシリル基を有する
ポリプロピレングリコールのかわりに、両末端にジメト
キシメチルシリル基を有するポリ(γ- メチル- δ- バ
レロラクトン)(分子量約8000)を用いたほかは比較例
1と全く同様にしてゴム状硬化物をえた。
Comparative Example 2 Poly (γ-methyl-δ-valerolactone) having dimethoxymethylsilyl groups at both ends instead of polypropylene glycol having dimethoxymethylsilyl groups at both ends of Comparative Example 1 (molecular weight: about 8,000) A rubber-like cured product was obtained in exactly the same manner as in Comparative Example 1 except for using.

【0099】えられた硬化物に対して理学電機(株)製
の示差熱天秤TG-DTAを用いてTGA 測定を行なった。えら
れた5%または10%重量損失温度を表1に示す。また、
硬化物をN,N-ジメチルホルムアミド、10%塩酸に10日間
浸漬したのちの外観を表2に示す。
The obtained cured product was subjected to TGA measurement using a differential thermal balance TG-DTA manufactured by Rigaku Corporation. Table 1 shows the obtained 5% or 10% weight loss temperature. Also,
Table 2 shows the appearance after immersing the cured product in N, N-dimethylformamide and 10% hydrochloric acid for 10 days.

【0100】[0100]

【表1】 [Table 1]

【0101】[0101]

【表2】 [Table 2]

【0102】表1および表2から、本発明のイミド化合
物および組成物からの硬化物は耐熱性および耐薬品性に
優れたものであることがわかる。
From Tables 1 and 2, it can be seen that cured products from the imide compounds and compositions of the present invention have excellent heat resistance and chemical resistance.

【0103】[0103]

【発明の効果】本発明のイミド化合物は比較的低融点を
有し、かつ有機溶媒への溶解性に優れている。また該イ
ミド化合物またはイミド化合物とシラノール縮合触媒と
からなる硬化性組成物は容易に様々な形状の硬化物とす
ることができ、えられた硬化物はきわめて優れた耐熱
性、耐薬品性および機械的特性を有している。
The imide compound of the present invention has a relatively low melting point and is excellent in solubility in organic solvents. The curable composition comprising the imide compound or the imide compound and a silanol condensation catalyst can be easily formed into cured products of various shapes, and the obtained cured product has excellent heat resistance, chemical resistance and mechanical properties. Characteristic.

フロントページの続き (56)参考文献 特開 平2−77467(JP,A) 特開 平2−62884(JP,A) 特開 昭60−173021(JP,A) 特開 昭59−131629(JP,A) 特開 昭50−123665(JP,A) 米国特許4656235(US,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C07F 7/18 C08G 77/382 C08G 77/54 C08L 83/14 CA(STN) REGISTRY(STN) WPIDS(STN)Continuation of the front page (56) References JP-A-2-77467 (JP, A) JP-A-2-62884 (JP, A) JP-A-60-17321 (JP, A) JP-A-59-131629 (JP) JP-A-50-123665 (JP, A) U.S. Pat. No. 4,656,235 (US, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 6 , DB name) C07F 7/18 C08G 77/382 C08G 77/54 C08L 83/14 CA (STN) REGISTRY (STN) WPIDS (STN)

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 一般式(I) : 【化1】 (式中、R0 芳香族ジアミンから2個のアミノ基を除
いた炭素数6〜30の2価の有機基またはシロキサンジア
ミンから2個のアミノ基を除いた2価の有機基、R1
一般式: 【化2】 (式中、Yは一般式(III) : 【化3】 (式中、R 4 は炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜
20のアリール基、炭素数 7〜20のアラルキル基または一
般式: 【化4】 (式中、R 5 は炭素数1〜10の1価の炭化水素基を表わ
し、3個のR 5 は同一であってもよく、異なっていても
よい)で表わされる基であり、Xはアルコキシ基または
アシルオキシ基を表わし、aは1、2または3であり、
4 またはXが2個以上存在するとき、それらは同一で
あってもよく、異なっていてもよい)で表わされる基)
で表わされる2価の有機基を表わし、2個のR1 は同一
であってもよく、異なっていてもよい)で表わされるイ
ミド化合物。
[Claim 1] General formula (I): (Wherein R 0 is the removal of two amino groups from an aromatic diamine)
There was a divalent organic group or a siloxane Zia having 6 to 30 carbon atoms
R 1 is a divalent organic group obtained by removing two amino groups from a min.
General formula: (Wherein Y is a general formula (III): (Wherein, R 4 is an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms,
20 aryl groups, aralkyl groups having 7 to 20 carbon atoms or one
General formula: (Wherein, R 5 represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms)
And three R 5 s may be the same or different
X) is an alkoxy group or
Represents an acyloxy group, a is 1, 2 or 3;
When two or more R 4 or X are present, they are the same and
Which may be different)
In represents a divalent organic group represented by the two R 1 may be the same, imide compounds represented by may be different).
【請求項2】 請求項1記載のイミド化合物およびシラ
ノール縮合触媒を含有してなる硬化性組成物。
2. A curable composition comprising the imide compound according to claim 1 and a silanol condensation catalyst.
【請求項3】 請求項1記載のイミド化合物または請求
記載の硬化性組成物を、湿分および(または)熱に
より硬化させてなる硬化物。
3. A cured product obtained by curing the imide compound according to claim 1 or the curable composition according to claim 2 with moisture and / or heat.
JP40592990A 1990-12-25 1990-12-25 Imide compound, curable composition containing the same, and cured product obtained therefrom Expired - Fee Related JP2911225B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP40592990A JP2911225B2 (en) 1990-12-25 1990-12-25 Imide compound, curable composition containing the same, and cured product obtained therefrom

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP40592990A JP2911225B2 (en) 1990-12-25 1990-12-25 Imide compound, curable composition containing the same, and cured product obtained therefrom

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH04224589A JPH04224589A (en) 1992-08-13
JP2911225B2 true JP2911225B2 (en) 1999-06-23

Family

ID=18515555

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP40592990A Expired - Fee Related JP2911225B2 (en) 1990-12-25 1990-12-25 Imide compound, curable composition containing the same, and cured product obtained therefrom

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2911225B2 (en)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08218034A (en) * 1995-02-15 1996-08-27 Nippon Steel Chem Co Ltd Polyimide-based heat-resistant coating agent composition
EP3773597A4 (en) * 2018-04-06 2022-06-08 Camp4 Therapeutics Corporation Phenothiazine derivatives and uses thereof

Also Published As

Publication number Publication date
JPH04224589A (en) 1992-08-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3279635B2 (en) Hydrosilyl group-containing imide compound
JP5998939B2 (en) Liquid crystal aligning agent containing polyamic acid ester and polyamic acid
JPH05320515A (en) Curable composition
JP2606402B2 (en) Curable resin and method for producing the same
JPS59131629A (en) Silicone-polyimide copolymer, condensable vulcanizable composition and manufacture
KR100241843B1 (en) Curable resin, process for making and electronic part protective coating
JP2911225B2 (en) Imide compound, curable composition containing the same, and cured product obtained therefrom
EP0719818B1 (en) Method of polyimide resin preparation
JPH04351667A (en) Curable resin composition and protective film for electronic component
JP2874014B2 (en) Curable resin composition and protective film for electronic component
JP4377354B2 (en) Polyimide silicone resin composition
JP3241355B2 (en) Imide compound
JP2712993B2 (en) Curable resin, solution thereof, production method thereof, and protective film for electronic component
JPH0610260B2 (en) Method for producing silicone polyimide precursor
Wu et al. Synthesis and characterization of organosoluble polysiloxaneimides derived from siloxane-containing aliphatic dianhydride and various aromatic diamines
JP3232124B2 (en) Curable composition
JP3130568B2 (en) Curable composition containing imide compound
JP3359359B2 (en) Curable composition
JP3226377B2 (en) Method for producing polyimide having organopolysiloxane side chain
JP2536648B2 (en) Resin solution composition
JPH061795A (en) Reactive silicon group-containing imide compound, curable composition containing the same and production of reactive silicon group-containing imide compound
JP4041771B2 (en) Polyimide silicone resin composition
JP2628322B2 (en) Silicon-containing soluble polyimide precursor and method for producing the same
JP2551214B2 (en) Curable resin solution composition, method for producing the same, and protective film for electronic parts
JP3017845B2 (en) Method for producing reactive silicon group-containing imide compound

Legal Events

Date Code Title Description
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 19990316

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees