JPH0499389A - 狭帯域エキシマレーザ - Google Patents

狭帯域エキシマレーザ

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JPH0499389A
JPH0499389A JP21762990A JP21762990A JPH0499389A JP H0499389 A JPH0499389 A JP H0499389A JP 21762990 A JP21762990 A JP 21762990A JP 21762990 A JP21762990 A JP 21762990A JP H0499389 A JPH0499389 A JP H0499389A
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JP
Japan
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etalon
resonator
light
angle
optical axis
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Pending
Application number
JP21762990A
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English (en)
Inventor
Hitoshi Wakata
若田 仁志
Atsushi Sugidachi
厚志 杉立
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は狭帯域エキシマレーザに関するものである。
[従来の技術] 第7図は、例えば文献(Can、、1.Phys、63
 (1984)p2+4)に示された、従来の狭帯域エ
キシマレーザの構成を示す構成図である。図において、
 (1)はレーザ媒質を励起し、光を発生させろ放電部
、(2)は全反射鏡、 (3)は部分反射鏡、 (4)
(5)は狭帯域化素子であるエタロン、 (6)はアパ
ーチャ、 (10)はエタロンからの反射光である。
次に各部の働きについて説明する。
放電部(1)にエネルギーが投入されると強い光か発生
する。この放電部(1)をはさんで、全反射鏡(2)と
部分反射鏡(3)とからなる光共振器を構成すると、放
電部(1)より出た光は共振器中を何度も往復するよう
になる。その際、光は放電部(1)ここより増幅され、
より強い光となる。
光の一部は部分反射鏡(3)より光共振器外に取り出さ
れる。
ところで、レーザの内、半導体レーザや色素レーザ、あ
るいはエキシマレーザのスペクトルを調へてみると数n
 rnの広がりを持っている。このようなレーザては光
共振器中に波長選択素子を入れることによりスペクトル
を狭くすることができる。
波長選択素子としてエタロンを用いる場合ζよエタロン
の反射面と光共振器の間で複合共振器が構成され、スペ
クトルが広がるのを防ぐため、エタロン(4)(5)は
光共振器の光軸に対して傾けて設定する。また、アパー
チャ(6)はレーザビームの断面積と発散角を制限し、
エタロンの狭帯域性能を高める働きをしている。
[発明が解決しようとする課題] 従来の狭帯域エキシマレーザは以上のように構成されて
いたので、エタロンの傾きを必要以上に大きくすると、
米国特許3358243号にあるようにレーザビームの
発散角が制限され干渉性(コヒーレンシー)が増す。そ
の場合、このレーザを加工に使う場合には光の干渉によ
るスペックルの影響が無視てきなくなるという問題があ
った。
一方、傾きを小さくすると同米国特許335824:3
号にもあるように、共振器の反射鏡とエタロンとの間で
第20共撮器が構成され、スペクトルが広がるという問
題があり、これをさけるには光の回折ここより広がる角
度、λ/πa(入は波長、aはビーム径)よりエタロン
の設定角度を大きくする必要が指摘されている。ところ
が、エキシマレーザでは回折により決まる角度(IQμ
rad程度)より大きくてもこの第2の共振器の影響が
無視てきなかった。
上記角度の基準を示すものとして、例えは特開昭62−
276888号公報にも、この事情が記されており、ビ
ームの大きざを S (cm2)とすると、エタロンの
傾きθ(θは光共振器の光軸とエタロンの反射面の法線
がなす角度)は θ> jan−’ S / 2 し てあることを規定している。ところが、この例はディメ
ンションがあいまいであるはかりでなく、実際に数値を
代入してみると、S=0.7cm2、L=130cmと
すると θ> 3xlO−3 となるが、これてはまだ第2の共振器の影響が無視でき
ず、上記式が適切でないことがわかった。
本発明は上記のような問題点を解決するためになされた
ものであり、共振器の反射鏡とエタロンとの間で第2の
共振器が構成されてスペクトルが広がるのを防ぐととも
に、コヒーレンシーが低く、加工に適した狭帯域エキシ
マレーザを提供することを目的とする。
[課題を解決するための手段] 本発明に係わる狭帯域エキシマレーザは、光共振器の光
軸とエタロンの反射面の法線がなす角度θを少なくとも 1θ l > jan”’(、y/L)(x (cm)
は法線に対して光軸が傾いている方向のビーム径、L(
cm)はエタロンと部分反射鏡との間の距離)とし、か
つ、 1θ1〈△λ/(△θ・入) (λは波長、△λは必要な波長幅、△θは必要なビーム
の発散角)としたものである。
また、本発明の別の発明に係わる狭帯域エキシマレーザ
は、エタロンを挟んて2つの】/4波長板を設け、上記
1/4波長板及び上記エタロンより放電部側に直線偏光
板を設けたものである。
[作用コ 本発明ζこおけるエタロンは、その傾き角θを、エタロ
ンからの反射光が共振器を1往復するあいだに放電部か
ら逃げるように設定するとともに、コヒーレンシーを低
下するために必要とする発散角と、必要とする波長幅よ
りその上限を設定して、第2の共振器が構成されるのを
防ぐとともに、コヒーレンシーを低くおさえている。
また、本発明の別の発明においては、174波長板と直
線偏光板を使って、第2の共振器が構成されるのを防ぐ
とともに、コヒーレンシーを低くおさえている。
[実施例] 以下、本発明の一実施例について説明する。
第1図は本発明の一実施例による狭帯域エキシマレーザ
の構成を示す図である。図において、(1)は放電部、
 (2)は全反射鏡、 (3)は部分反射鏡、 (4)
(5)はエタロン、 (6)はアパーチャ、 (10)
はエタロンからの反射光、 (11)は放電方向、 (
12)はガス流方向である。
次に各部の働きについて説明する。
放電部(1)には希ガスやハロゲン等の高圧のガスが封
入されており、ここに放電によるエネルギーが投入され
ると強い光が発生する。この放電部(1)をはさんで、
全反射鏡(2)と部分反射鏡(3)からなる光共振器を
構成すると、放電部より出た光は共振器中を何度も往復
するようになる。
その際、光は放電部(1)により増幅され、より強い光
となる。光の一部は部分反射鏡(3)より光共振器外に
取り出される。
ところで、エキシマレーザのスペクトルを調へてみろと
、数nmの広がりを持っている。エキシマレーザでは光
共振器中に波長選択素子を入れることにより、スペクト
ルを3pmまで狭くすることができる。波長選択素子と
してエタロン(4)(5)を用いる場合はエタロンの反
射面と光共振器の間で複合共振器が構成され、スペクト
ルがひろがるのを防ぐため、エタロンは光共振器の光軸
に対して傾けて設定する。複合共振器の効果を調べるた
め、光共振器中にエタロンを挿入した場合のエタロンと
部分反射鏡による発振出力の関係を第2図に示す。ガス
流方向(12)には3mrad、放電方向(11)には
6mradずれても出力が観測された。従って、エタロ
ンを挿入したエキシマレーザの場合、複合共振器になる
のを防ぐためには、エタロンをガス流方向ならば4mr
ad以上、放電方向であれば7 m r a d以上ず
らせはよいことがわかる。これは、エキシマレーザの出
力が1ないし2往復の切に決まっていることを示してい
る。即ち、エキシマレーザは増輻率の非常に大きなレー
ザであるために、弱い光が放電部を1回通ると光の強度
が数100倍になる。そのため、エタロンからの反射光
の一部が放電部に戻るとその光は増幅され、全反射鏡と
部分反射鏡間の往復により得られるビームと変わらない
強度となることによる。
エキシマレーザは一般に矩形のビームである。実験に用
いたレーザのビームサイズは0.6x1.2cm2てあ
った。また、エタロンと部分反射鏡との間の距離は13
0 cmであった。エタロンからの反射光が部分反射鏡
に達するまでに放電が生じている場所をできるだけ横切
らない条件として、ガス流方向では、 jan−’0.6/130=4.6xlO”  (ra
d)放電方向では、 tarr’1.2/130=9.2xlO−3(rad
)を定義することができる。この式により決まる角度よ
り大きくすれば複合共振器になるのを防ぐことができる
のは第2図に示した結果より明かであ一般的には、エタ
ロンの反射面に対して光軸を投影し、この投影された線
がビームと交わる点をA、  Bとして、距RABをX
と定義すれば、即ち、法線に対して光軸が傾いている方
向のビーム径をXとして θ> jan−’ x / L とすれは、複合共振器になるのを防ぐことがてきる。
なお、特に光軸をビームの短辺方向に傾けると、Xとし
てはビームの短辺の長さに等しくなり(実験ではガス流
方向(12))、より小さい角度で複合共振器になるこ
とを防ぐことができる。θを小さくすると、後で述べる
ように、波長安定度をよくすることができる。なお、こ
の場合には矩形ビームとしたが、楕円ビームの場合には
Xとして短軸の長さを用いればよい。
なお、第3図にあるように、エキシマレーザ中にはエタ
ロンに限らず、放電部(1)の窓(7a)(7b)や共
振器を構成する反射鏡の裏面などが複合共振器を構成す
る可能性を持つ。これらもここで得られた角度以上ずら
せておけはよい。
さらに、第4図はギヤツブ長d=440ミクロン、反射
率R=80%のエタロンを用いた場合の透過特性の差を
調べたもので、エタロンの設定角度θが大きくなると、
設定角度からのずれに対する透過率低下の割合が大きく
なる。そのため、放電部から出た光のうち、光軸からず
れた角度を持つ成分はエタロンにより反射され発振でき
ず、結果として発散角の狭い、コヒーレンシーのよいレ
ーザビームが発生する。そこで、エタロンの設定角度は
可能な限り小さく設定する必要がある。
第5図は第4図の内容を再度示した図で、よく知られた
エタロンの透過波長を現す式をもとに描いたものである
。即ち、 λ= 2 n d /cosθ n:屈折率(封入圧力により変わる) d:ギャップ長 θ:設定角度 第5図において、2重線で示した範囲の中がエタロンの
透過率の高い範囲を示している。図より明らかなように
、設定角度θを小さくすると許容できる角度範囲が大き
くなる。また、波長幅△入と角度幅Δθの間には設定角
度θが小さいとすると、上の式から次の関係が成り立つ
Δλ:入・θ・Δθ エキシマレーザを露光に用いるさいに必要な波長幅Δλ
は3pm以下である必要があること、コヒーレンシーを
低下するためには角度幅△θが1 mrad以上はしい
ことから、設定角度θは12mrad以下である必要が
ある。
ところで、第5図の特性はエタロンのギャップ長や封入
圧力により決っている。特定の波長で発振させたい場合
、エタロンの設定角度は一意的に決ってしまい、小さい
角度に設定できない場合かある。そこで、屈折率やギャ
ップ長を変えて特性を変化させ、小さい設定角度でも希
望する発振波長が得られるようにすることが望ましい。
実施例ではエアギャップタイプのエタロンを圧力容器に
封入し、封入圧力を変えることによって屈折率を変化さ
せた。
さらに、エタロンの設定角度を小ざくした場合、エタロ
ンからの反射光が加工台まで達することがある。反射光
の強度は弱いので多くの場合加工ζこ影響することはな
いが、これをふせぐには、第1図にあるように、反射光
を遮断するためにアパーチャ(6)を置けばよい。エタ
ロンの設定角度をθ、エタロンからの距離をLw、ビー
ムサイズをx (c+n)とすると L w > X / 2・θ を満足する位置にXの幅を持つアパーチャを置けば反射
光を遮断することができる。
次に、この発明の別の発明による狭帯域エキシマレーザ
の一実施例を第6図に示す。前の実施例では複合共振器
が形成されるのを防ぐために、エタロンの角度を制限し
たが、光の偏光を利用することもできる。第6図におい
て、 (8)は偏光子、(9a)(9b)はλ/4板で
ある。
第6図において、左に進む光は偏光子(8)によって特
定方向の直線偏光成分のみになる。次にλ/4板(9a
)(9b)を通過すると、直線偏光の成分が回転する。
入/4板には、2回通過すると通過後の偏光は入射光の
偏光成分に直交するようになり、4回通過すると入射光
の偏光成分と同しになるという性質がある。そこで、第
6図のように配置すると、エタロン(4)からの反射光
は入/4板を2回、全反射鏡(2)からの反射光は4回
通過することになる。従って、再び偏光子(8)に戻っ
てきた光のうち、エタロンから反射してきた光は偏光子
により反射され、全反射鏡からの光は偏光子を通過して
放電部に達することができる。このように、偏光を利用
した場合は、偏光子によりエタロンの反射光を区別する
ことができるので、エタロンの設定角度を小さくしても
、複合共振器は形成されず、より安定なレーザが構成で
きる。
[発明の効果コ 以上のように、本発明によれば光共振器の光軸とエタロ
ンの反射面の法線がなす角度θを少なくとも 1θ l > jan−1(x/L) (x (cm)は法線に対して光軸が傾いている方向の
ビーム径、L(cm)はエタロンと部分反射鏡との間の
距離)とし、かつ、 1θ1〈Δλ/(Δθ・λ) (λは波長、Δλは必要な波長幅、Δθは必要なビーム
の発散角)としたので、共振器の反射鏡とエタロンとの
間で第2の共振器が構成されてスペクトルが広がるのを
防ぐとともに、コヒーレンシーが低く、加工に適した狭
帯域エキシマレーザを得ることが出来る。
また、本発明の別の発明によれば、エタロンを挟んで2
つの1/4波長板を設け、上記1/4波長板及び上記エ
タロンより放電部側に直線偏光板を設けたので、上記発
明と同様、第2の共振器が構成されてスペクトルが広が
るのを防ぐとともに、コヒーレンシーが低く、加工に適
した狭帯域エキシマレーザを得ることが出来る効果があ
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例による狭帯域エキシマレーザ
を示す構成図、第2図はエタロンのふれ角によるレーザ
出力変化を示す特性図、第4図及び第5図は各々エタロ
ンの透過特性を示す特性図、第3図及び第6図は各々本
発明の他の実施例による狭帯域エキシマレーザを示す構
成図、並びに第7図は従来の狭帯域エキシマレーザを示
す構成図である。 図において、 (1)は放電部、 (2〉は全反射鏡、
 (3)は部分反射鏡、 (4)(5)はエタロン、1
0)は反射光、 (8)は偏光子、 (9a)(9b)
は入/4板である。 なお、図中、同一符号は同一または相当部分を示す。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)レーザ媒質を励起し、光を発生させる放電部と、
    部分反射鏡と全反射鏡とからなる光共振器と、波長選択
    素子としてのエタロンとを備えた狭帯域エキシマレーザ
    において、上記光共振器の光軸と上記エタロンの反射面
    の法線がなす角度θを少なくとも |θ|>tan^−^1(x/L) (x(cm)は法線に対して光軸が傾いている方向のビ
    ーム径、L(cm)はエタロンと部分反射鏡との間の距
    離)とし、かつ、 |θ|<Δλ/(Δθ・λ) (λは波長、Δλは必要な波長幅、Δθは必要なビーム
    の発散角)としたことを特徴とする狭帯域エキシマレー
    ザ。
  2. (2)レーザ媒質を励起し、光を発生させる放電部と、
    部分反射鏡と全反射鏡とからなる光共振器と、波長選択
    素子としてのエタロンとを備えた狭帯域エキシマレーザ
    において、上記エタロンを挟んで2つの1/4波長板を
    設け、上記1/4波長板及び上記エタロンより放電部側
    に直線偏光板を設けたことを特徴とする狭帯域エキシマ
    レーザ。
JP21762990A 1990-08-18 1990-08-18 狭帯域エキシマレーザ Pending JPH0499389A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007027624A (ja) * 2005-07-21 2007-02-01 Komatsu Ltd 2ステージ狭帯域化レーザ装置
CN110666343A (zh) * 2019-10-31 2020-01-10 北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所) 激光转折装置、激光加工光路系统及光路调试方法

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