JPH0495908A - Optical device for projection - Google Patents

Optical device for projection

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JPH0495908A
JPH0495908A JP2208041A JP20804190A JPH0495908A JP H0495908 A JPH0495908 A JP H0495908A JP 2208041 A JP2208041 A JP 2208041A JP 20804190 A JP20804190 A JP 20804190A JP H0495908 A JPH0495908 A JP H0495908A
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JP
Japan
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mirror
alignment
pattern
light
projection
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Pending
Application number
JP2208041A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Katsunobu Ueda
上田 勝宣
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
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Publication of JPH0495908A publication Critical patent/JPH0495908A/en
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Abstract

PURPOSE:To adjust alignment with high precision by comparing the cross-sectional form of light with a reference pattern, obtaining the positional deviation of a mirror and outputting an alignment command in accordance with the positional deviation to a posture adjusting mechanism. CONSTITUTION:A pattern recognition part 54 performs the recognition of pattern between the reference pattern for alignment stored in a reference pattern memory 52 and a pattern for alignment stored in an image memory 53 and obtains the error of alignment. Then, a master control part 51 transmits the position in a Z direction and the theta direction of a concave mirror 2 to a driving circuit 58 through an output part 57 as the alignment command S. Then, the position in the Z direction and the theta direction of a convex mirror 2 are adjusted, and the concave mirror 1 and the convex mirror 2 are aligned. Thus, the alignment is adjusted with high precision.

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的コ (産業上の利用分野) 本発明は、例えばシュバルツシルド形又はオフナー形光
学系を用いた投影光学装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Object of the Invention (Field of Industrial Application) The present invention relates to a projection optical device using, for example, a Schwarzschild type or Offner type optical system.

(従来の技術) 第9図はシュバルツシルド形の投影光学装置の構成図で
ある。この投影光学装置は凹面ミラー1と凸面ミラー2
とを対向配置しかつ凸面ミラー2の背面側に物点3を配
置した構成である。この場合、凹面ミラー1は円周の外
側に反射ミラーが形成され、中央部は光透過部に形成さ
れている。
(Prior Art) FIG. 9 is a block diagram of a Schwarzschild type projection optical device. This projection optical device consists of a concave mirror 1 and a convex mirror 2.
The object point 3 is arranged on the back side of the convex mirror 2. In this case, the concave mirror 1 has a reflective mirror formed on the outer side of the circumference, and a light transmitting part formed in the center.

かかる構成であれば、物点3から放射された光は凹面ミ
ラー1に到達して凸面ミラー2に向かって反射し、この
凸面ミラー2により像点4て結像される。
With this configuration, the light emitted from the object point 3 reaches the concave mirror 1 and is reflected toward the convex mirror 2, and is imaged by the convex mirror 2 at the image point 4.

又、第10図はオフチー形の投影光学装置の構成図であ
る。この投影光学装置は凹面ミラー5と凸面ミラー6と
を対向配置しかつ凹面ミラー5を望む位置に物点7を配
置した構成である。かかる構成であれば、物点7から放
射された光は凹面ミラー5で反射して凸面ミラー6に到
達し、この凸面ミラー6で反射して再び凹面ミラー5に
入射し、そしてこの凹面ミラー5により集光されて像点
8で結像される。
Further, FIG. 10 is a configuration diagram of an off-chip type projection optical device. This projection optical device has a configuration in which a concave mirror 5 and a convex mirror 6 are arranged facing each other, and an object point 7 is arranged at a position where the concave mirror 5 is desired. With such a configuration, the light emitted from the object point 7 is reflected by the concave mirror 5, reaches the convex mirror 6, is reflected by the convex mirror 6, enters the concave mirror 5 again, and is reflected by the concave mirror 5. The light is focused and imaged at an image point 8.

以上のように凸形の投影光学装置かあるが、いずれの装
置であっても凹面ミラー1,5と凸面ミラー2.6との
アライメントを精度高く行わなければならない。この各
ミラーのアライメント調整は干渉法により行われている
。第11図に示すオフチー形の投影系を参照して説明す
ると、例えばHe−Neレーザ光10を参照ミラー11
を透過させ、集光レンズ12により集光して凹面ミラー
5に照射する。一方、像点8を過ぎた位置に凹面ミラー
13を配置してHe−Neレーザ光10を伝達してきた
光路と同一光路に戻す。これにより参照ミラー11上に
は入射したHe−Neレーザ光10と光学系から戻って
きたHe−Neレーザ光との干渉が生じる。従って、こ
の干渉縞を観察することにより例えば凸面ミラー6の位
置が微調整されて凹面ミラー5と凸面ミラー6とのアラ
イメントが調整される。
As mentioned above, there are convex projection optical devices, but in any device, the concave mirrors 1 and 5 and the convex mirror 2.6 must be aligned with high precision. This alignment adjustment of each mirror is performed by interferometry. To explain with reference to the off-chip projection system shown in FIG. 11, for example, the He-Ne laser beam 10 is
The light is transmitted through the condensing mirror 5, condensed by the condensing lens 12, and irradiated onto the concave mirror 5. On the other hand, a concave mirror 13 is arranged at a position past the image point 8 to return the He-Ne laser beam 10 to the same optical path as the one through which it was transmitted. As a result, interference occurs on the reference mirror 11 between the incident He-Ne laser beam 10 and the He-Ne laser beam returned from the optical system. Therefore, by observing these interference fringes, for example, the position of the convex mirror 6 is finely adjusted, and the alignment between the concave mirror 5 and the convex mirror 6 is adjusted.

しかしなから、凹面ミラー1,5と凸面ミラー26との
アライメント精度は、これらミラー単体の形成精度及び
その組み合わせ精度により決定する。そして、その組み
合わせ精度を高めることは確立したアライメント調整の
アルゴリスムかないので非常に困難である。又、−度ア
ライメント調整を行っても温度変化や力学的変形等の影
響を受けて凹面ミラー1,5と凸面ミラー2,6とのア
ライメントはすれる。
However, the alignment accuracy between the concave mirrors 1 and 5 and the convex mirror 26 is determined by the formation accuracy of these mirrors alone and the accuracy of their combination. It is extremely difficult to increase the accuracy of the combination since there is no established alignment adjustment algorithm. Further, even if alignment adjustment is performed by -degrees, the concave mirrors 1, 5 and the convex mirrors 2, 6 may become misaligned due to temperature changes, mechanical deformation, and the like.

(発明が解決しようとする課題) 以上のようにアライメント調整が非常の困難であった。(Problem to be solved by the invention) As described above, alignment adjustment was extremely difficult.

そこで本発明は、アライメント調整を高精度に行い得る
投影光学装置を提供することを目的とする。
Therefore, an object of the present invention is to provide a projection optical device that can perform alignment adjustment with high precision.

[発明の構成] (課題を解決するための手段) 本発明は、ミラーを有する光学系により任意のパターン
を拡大結像する投影光学装置において、アライメント用
パターンか形成され光学系からの投影光の少なくとも一
部をアライメント用パターンに対応した光断面形状に成
形して分岐する光分岐手段と、ミラーに設けられこのミ
ラーの姿勢を微調整する姿勢調整機構と、光分岐手段の
分岐光の光断面形状と基準パターンとを比較してミラー
の位置すれを求め、この位置すれに応じたアライメント
指令を姿勢調整機構に発するアライメント調整手段とを
備えて上記目的を達成しようとする投影光学装置である
[Structure of the Invention] (Means for Solving the Problems) The present invention provides a projection optical device that enlarges and images an arbitrary pattern using an optical system having a mirror, in which an alignment pattern is formed and projection light from the optical system is formed. a light branching means that forms at least a part into a light cross-sectional shape corresponding to the alignment pattern and branches the light; an attitude adjustment mechanism provided on the mirror that finely adjusts the attitude of the mirror; and a light cross-section of the branched light of the light branching means. This projection optical device attempts to achieve the above object by including an alignment adjustment means that compares the shape with a reference pattern to determine the positional deviation of the mirror, and issues an alignment command to the attitude adjustment mechanism according to this positional deviation.

(作用) このような手段を備えたことにより、光学系からの投影
光の少なくとも一部を光分岐手段によりアライメント用
パターンに対応した光断面形状に成形して分岐し、この
分岐光の光断面形状と基準パターンとをアライメント調
整手段において比較してミラーの位置ずれを求め、この
位置ずれに応したアライメント指令を姿勢調整機構して
位置調整する。
(Function) By providing such a means, at least a part of the projected light from the optical system is shaped and branched by the light branching means into a light cross-sectional shape corresponding to the alignment pattern, and the light cross-section of this branched light is The alignment adjustment means compares the shape with the reference pattern to determine the positional deviation of the mirror, and the position is adjusted by sending an alignment command corresponding to this positional deviation to the attitude adjustment mechanism.

(実施例) 以下、本発明の一実施例について図面を参照して説明す
る。なお、第8図と同一部分には同一符号を付してその
詳しい説明は省略する。
(Example) Hereinafter, an example of the present invention will be described with reference to the drawings. Note that the same parts as in FIG. 8 are given the same reference numerals, and detailed explanation thereof will be omitted.

第1図はシュバルツンルド形に適用した投影光学装置の
構成図である。凸面ミラー2は微調整機構20に設けら
れている。この微調整機構20は凸面ミラー2の位置を
光軸Z方向に微動させるとともに凸面ミラー2の面の向
きをθ方向に変更する機能を有している。具体的には第
2図に示す構成となっており、同図(a)は正面図、同
図(b)は側面図である。底部21には支持フレーム2
2が設けられている。この支持フレーム22の上部には
凹状の球面23か形成され、この球面23に接触して球
面軸受24がθ方向に摺動自在に設けられている。又、
底部21には調節ねじ25.26.27が三角形を形成
する各位置に設けられている。これら調節ねじ25.2
6.27を調整することにより球面軸受24がθ方向に
摺動するものとなっている。そして、これら調節ねじ2
5.26.27にはそれぞれモータ28.29.30が
連結されている。一方、球面軸受24上にはクラウン形
弾性ばね31が設けられ、このクラウン形弾性ばね31
に支持されて凸面ミラー2が載置されている。又、球面
軸受24上には圧電素子32が設けられている。この圧
電素子32は凸面ミラー2の底面と連結して凸面ミラー
2の位置をZ方向に微動させるものとなっている。
FIG. 1 is a block diagram of a projection optical device applied to the Schwarzund type. The convex mirror 2 is provided in a fine adjustment mechanism 20. The fine adjustment mechanism 20 has a function of slightly moving the position of the convex mirror 2 in the optical axis Z direction and changing the direction of the surface of the convex mirror 2 in the θ direction. Specifically, the configuration is shown in FIG. 2, in which FIG. 2(a) is a front view and FIG. 2(b) is a side view. The bottom part 21 has a support frame 2
2 is provided. A concave spherical surface 23 is formed on the upper part of the support frame 22, and a spherical bearing 24 is provided in contact with this spherical surface 23 so as to be slidable in the θ direction. or,
The bottom part 21 is provided with adjusting screws 25, 26, 27 at each position forming a triangle. These adjusting screws 25.2
By adjusting 6.27, the spherical bearing 24 can slide in the θ direction. And these adjustment screws 2
Motors 28, 29, and 30 are connected to motors 5, 26, and 27, respectively. On the other hand, a crown-shaped elastic spring 31 is provided on the spherical bearing 24, and this crown-shaped elastic spring 31
A convex mirror 2 is placed supported by. Furthermore, a piezoelectric element 32 is provided on the spherical bearing 24. This piezoelectric element 32 is connected to the bottom surface of the convex mirror 2 to slightly move the position of the convex mirror 2 in the Z direction.

一方、像点4の光学系側には分岐ミラー40が配置され
ている。この分岐ミラー40は投影光の一部を分岐する
もので第3図に示すようにアライメント用パターン、つ
まりミラー本体41に円周方向に沿って光透過領域42
.43を形成するとともにこれら領域42.43以外を
ミラー44に形成したものとなっている。そして、この
分岐ミラー40は矢印(イ)方向に所定の回転数で回転
する。
On the other hand, a branching mirror 40 is arranged on the optical system side of the image point 4. This branching mirror 40 branches a part of the projection light, and as shown in FIG.
.. 43 is formed, and areas other than these regions 42 and 43 are formed as a mirror 44. This branching mirror 40 rotates at a predetermined number of rotations in the direction of arrow (A).

この分岐ミラー40の分岐方向にはCCD (固体撮像
素子)から成る光検出器45が配置されている。この光
検出器45は分岐された光を受光して分岐ミラー40に
形成されたアライメント用パターンの画像信号を出力す
る。
A photodetector 45 made of a CCD (solid-state imaging device) is arranged in the branching direction of the branching mirror 40. This photodetector 45 receives the branched light and outputs an image signal of the alignment pattern formed on the branching mirror 40.

調整処理装置50は分岐光に形成されたアライメント用
パターンと基準パターンとを比較して凹面ミラー1と凸
面ミラー2の相対的な位置ずれを求め、この位置ずれに
応じたアライメント指令を発する機能を有するものであ
る。具体的な構成は主制御部51が備えられ、この主制
御部51に基準パターンメモリ52及び画像メモリ53
が接続されるとともに主制御部51の指令を受けてパタ
ーン認識部54、アライメント調節部55が作動するも
のとなっている。又、入力部56及び出力部57が設け
られている。基準パターンメモリ52には上記アライメ
ント用パターンの基準画像データが記憶されている。前
記光検出器45からの画像信号は入力部56でディジタ
ル画像信号に変換されて画像メモリ53に画像データと
して記憶されるようになっている。パターン認識部54
は基準画像データのアライメント用パターンと画像メモ
リ53に記憶されたアライメント用パターンとのパター
ン認識を行ってアライメント誤差を求めるものであり、
アライメント調整部54はアライメント誤差に基づいて
光検出器45で検出されたアライメント用パターンを基
準のアライメント用パターンに一致させるための凹面ミ
ラー2のZ方向位置及びθ方向をシミュレーションを行
って求める機能を有している。しかるに、主制御部51
は凹面ミラー2のZ方向位置及びθ方向をアライメント
指令Sとして出力部57を通して駆動回路58に送るも
のとなっている。
The adjustment processing device 50 has a function of comparing the alignment pattern formed on the branched light with a reference pattern, determining the relative positional deviation between the concave mirror 1 and the convex mirror 2, and issuing an alignment command according to this positional deviation. It is something that you have. Specifically, the main control section 51 is provided with a reference pattern memory 52 and an image memory 53.
is connected, and the pattern recognition section 54 and alignment adjustment section 55 operate in response to commands from the main control section 51. Further, an input section 56 and an output section 57 are provided. The reference pattern memory 52 stores reference image data of the alignment pattern. The image signal from the photodetector 45 is converted into a digital image signal by an input section 56 and stored in an image memory 53 as image data. Pattern recognition section 54
The method performs pattern recognition between the alignment pattern of the reference image data and the alignment pattern stored in the image memory 53 to determine the alignment error.
The alignment adjustment unit 54 has a function of simulating and determining the Z-direction position and θ-direction of the concave mirror 2 in order to match the alignment pattern detected by the photodetector 45 with the reference alignment pattern based on the alignment error. have. However, the main control unit 51
is configured to send the Z-direction position and θ-direction of the concave mirror 2 to the drive circuit 58 through the output section 57 as an alignment command S.

この駆動回路58はアライメント指令Sを受けて圧電素
子32及び各モータ28.29.30の各駆動量を求め
てこれらモータ28.29.30を駆動する機能を有し
ている。
This drive circuit 58 has a function of receiving the alignment command S, determining the drive amount of the piezoelectric element 32 and each motor 28, 29, 30, and driving these motors 28, 29, 30.

次に上記の如く構成された装置の作用について説明する
Next, the operation of the apparatus configured as described above will be explained.

物点3から放射された光は凹面ミラー1に到達して凸面
ミラー2に向かって反射し、この凸面ミラー2により集
光されて像点4で結像される。
The light emitted from the object point 3 reaches the concave mirror 1, is reflected toward the convex mirror 2, is condensed by the convex mirror 2, and is imaged at the image point 4.

この状態に分岐ミラー40は回転し、投影光は分岐ミラ
ー40の光透過領域42.43を透過するとともに反射
ミラー44によりその一部が光検出器45の配置方向に
分岐される。光検出器45は分岐光を受光してアライメ
ント用パターンに対応した画像信号を出力する。この画
像信号は調整処理装置50の入力部56によりディジタ
ル画像信号に変換されて画像メモリ53に画像データと
して記憶される 調整処理装置50の主制御部51はパターン認識部54
に動作指令を発する。このパターン認識部54は基準パ
ターンメモリ52に記憶されている基準のアライメント
用パターンと画像メモリ53に記憶されたアライメント
用パターンとのパターン認識を行ってアライメント誤差
を求める。次にアライメント調整部54はアライメント
誤差に基づいて光検出器45て検出されたアライメント
用パターンを基準のアライメント用パターンに一致させ
るための凹面ミラー2のZ方向位置及びθ方向をシミュ
レーションを行って求める。そして、主制御部51は凹
面ミラー2の2方向位置及びθ方向をアライメント指令
Sとして出力部57を通して駆動回路58に送る。
In this state, the branching mirror 40 rotates, and the projection light passes through the light transmission areas 42 and 43 of the branching mirror 40, and part of it is branched by the reflecting mirror 44 in the direction in which the photodetector 45 is arranged. The photodetector 45 receives the branched light and outputs an image signal corresponding to the alignment pattern. This image signal is converted into a digital image signal by the input section 56 of the adjustment processing device 50 and stored as image data in the image memory 53.
issues a movement command. The pattern recognition unit 54 performs pattern recognition between the reference alignment pattern stored in the reference pattern memory 52 and the alignment pattern stored in the image memory 53 to obtain an alignment error. Next, the alignment adjustment unit 54 performs simulation to determine the Z-direction position and θ-direction of the concave mirror 2 in order to match the alignment pattern detected by the photodetector 45 with the reference alignment pattern based on the alignment error. . Then, the main control section 51 sends the two-direction position and θ direction of the concave mirror 2 as an alignment command S to the drive circuit 58 through the output section 57.

この駆動回路58はアライメント指令Sを受けて圧電素
子32及び各モータ28.29.30の各駆動量を求め
てこれら圧電素子32及びモータ28.29.30を駆
動する。かくして、凸面ミラー2はZ方向位置及びθ方
向か調整され、凹面ミラー1と凸面ミラー2とかアライ
メントされる。
The drive circuit 58 receives the alignment command S, determines the drive amount of the piezoelectric element 32 and each motor 28, 29, and 30, and drives the piezoelectric element 32 and the motors 28, 29, and 30. In this way, the position of the convex mirror 2 is adjusted in the Z direction and the θ direction, and the concave mirror 1 and the convex mirror 2 are aligned.

このように上記一実施例においては、光学系からの投影
光の少なくとも一部を分岐ミラー40によりアライメン
ト用パターンに対応した光断面形状に成形して分岐し、
この分岐光の光断面形状と基準パターンとを比較して凸
面ミラー2の位置ずれを求めて凸面ミラー2の姿勢を調
整する構成としたので、凹面ミラー1と凸面ミラー2と
のアライメントを自動的に行える。この場合、アライメ
ント用パターンのパターン認識を行うので、アライメン
トは高精度にできる。又、CCDから成る光検出器45
を用いているので、可視光線領域から軟X線領域までの
広い範囲の波長の光を受光できる。そのうえ、分岐ミラ
ー40は投影光の一部を分岐するので、アライメントと
同時に像点4において任意のパターンを結像できる。
In this way, in the above embodiment, at least a part of the projection light from the optical system is shaped into a light cross-sectional shape corresponding to the alignment pattern by the branching mirror 40 and branched,
The optical cross-sectional shape of this branched light is compared with the reference pattern to determine the positional shift of the convex mirror 2 and adjust the attitude of the convex mirror 2, so the alignment between the concave mirror 1 and the convex mirror 2 is automatically performed. can be done. In this case, since pattern recognition of the alignment pattern is performed, alignment can be performed with high precision. In addition, a photodetector 45 consisting of a CCD
, it is possible to receive light in a wide range of wavelengths from the visible light region to the soft X-ray region. Moreover, since the branching mirror 40 branches a part of the projection light, an arbitrary pattern can be imaged at the image point 4 at the same time as alignment.

なお、本発明は上記一実施例に限定されるものてなくそ
の主旨を逸脱しない範囲で変形してもよい。例えば、微
調整機構20はZ方向の微動機構とθ方向の向きの変更
機構とを備えたか、これら機構は凸面ミラー2に必要な
調整内容に応じていずれか1つの機構たけにしても良い
。第4図は2方向の微調整機構の構成図であり、同図(
a)は正面図、同図(b)は側面図である。又、第5図
はθ方向の微動機構の構成図であり、同図(a)は正面
図、同図(b)は側面図である。、これら図において第
2図と同一部分には同一符号を付しである。θ方向の微
動機構には凸面ミラー2を支持する支持枠60か設けら
れている。
It should be noted that the present invention is not limited to the one embodiment described above, and may be modified without departing from the spirit thereof. For example, the fine adjustment mechanism 20 may include a fine movement mechanism in the Z direction and a mechanism for changing the direction in the θ direction, or only one of these mechanisms may be used depending on the adjustment content required for the convex mirror 2. Figure 4 is a configuration diagram of the fine adjustment mechanism in two directions.
Figure a) is a front view, and figure (b) is a side view. FIG. 5 is a block diagram of the fine movement mechanism in the θ direction, with FIG. 5(a) being a front view and FIG. 5(b) being a side view. , in these figures, the same parts as in FIG. 2 are given the same reference numerals. A support frame 60 for supporting the convex mirror 2 is provided in the fine movement mechanism in the θ direction.

次にオフチー形の投影光学装置に適用した場合について
第6図の構成図を参照して説明する。なお、第10図と
同一部分には同一符号を付してその詳しい説明は省略す
る。この場合、分岐ミラー70は第7図に示すようにミ
ラー本体71の円周方向に沿って光透過孔72〜75を
形成するとともにこれら孔72〜75の他の部分を反射
ミラー76に形成したものである。光検出器45から出
力される画像信号は第1図に示す調整処理装置50と同
一構成の調整処理装置に送られている。この調整処理装
置はアライメント用パターンか円形に変更されるたけて
その他の機能は同一である。
Next, a case where the present invention is applied to an off-chip projection optical device will be described with reference to the configuration diagram of FIG. 6. Note that the same parts as in FIG. 10 are given the same reference numerals, and detailed explanation thereof will be omitted. In this case, as shown in FIG. 7, the branching mirror 70 has light transmission holes 72 to 75 formed along the circumferential direction of a mirror body 71, and other parts of these holes 72 to 75 are formed in a reflection mirror 76. It is something. The image signal output from the photodetector 45 is sent to an adjustment processing device having the same configuration as the adjustment processing device 50 shown in FIG. This adjustment processing device has the same alignment pattern except that it has a circular pattern.

しかるに、微調整機構20に対して凹面ミラー6のZ方
向位置及びθ方向のアライメント指令か送られて、凹面
ミラー5と凸面ミラー6とかアライメントされる。
However, alignment commands for the Z-direction position and θ-direction of the concave mirror 6 are sent to the fine adjustment mechanism 20, and the concave mirror 5 and convex mirror 6 are aligned.

又、本発明は第8図に示すようにシンクロトロン放射光
源80から放射されたシンクロトロン放射光(SOR)
81を反射ミラー82で反射して投影面83に投影する
場合、投影光の一部をアライメント用パターンが形成さ
れたビームスプリッタミラー84により分岐して光検出
器45に送るようにしても良い。この場合、光検出器4
5から出力される画像信号は第1図に示す調整処理装置
50と同一構成の調整処理装置に送られ、この調整処理
装置からアライメント用パターンとの比較により求めら
れるアライメント指令が反射ミラー82の微調整機構に
対して送出されるものとなる。
Further, the present invention utilizes synchrotron radiation light (SOR) emitted from a synchrotron radiation light source 80 as shown in FIG.
81 is reflected by the reflecting mirror 82 and projected onto the projection surface 83, a part of the projection light may be split by a beam splitter mirror 84 on which an alignment pattern is formed and sent to the photodetector 45. In this case, the photodetector 4
The image signal output from 5 is sent to an adjustment processing device having the same configuration as the adjustment processing device 50 shown in FIG. It will be sent to the adjustment mechanism.

[発明の効果] 以上詳記したように本発明によれば、アライメント調整
を高精度に行い得る投影光学装置を提供できる。
[Effects of the Invention] As described in detail above, according to the present invention, it is possible to provide a projection optical device that can perform alignment adjustment with high precision.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図乃至第3図は本発明に係わる投影光学装置をシュ
ハルツシルト形の投影系に適用した場合の一実施例を説
明するための図であって、第1図は構成図、第2図は′
flt調整機構の構成図、第3図は分岐ミラーの構成図
、第4図及び第5図は微調整機構の他の構成を示す図、
第6図及び第7図は本発明に係わる投影光学装置をオフ
ナ形の投影系に適用した場合を説明するための図であっ
て、第6図は構成図、第7図は分岐ミラーの構成図、第
8図はシンクロトロン放射光の投影に適用した場合を示
す構成図、第9図はシュハルツシルト形の投影光学装置
の構成図、第10図はオフチー形の投影光学装置の構成
図、第11図は従来技術を説明するための図である。 1・・・凹面ミラー 2・・・凸面ミラー 3・・・物
点、4・・・像点、 0・・・微調整機構、 0 ・・ 分岐 ミツ− 5・・・光検出器、 0・・・調整処理装置、 8・・・駆動回路。
1 to 3 are diagrams for explaining an embodiment in which a projection optical device according to the present invention is applied to a Schharzschild type projection system, in which FIG. 1 is a configuration diagram, and FIG. The figure is
FIG. 3 is a configuration diagram of the flt adjustment mechanism, FIG. 3 is a configuration diagram of the branching mirror, FIGS. 4 and 5 are diagrams showing other configurations of the fine adjustment mechanism,
6 and 7 are diagrams for explaining the case where the projection optical device according to the present invention is applied to an off-na type projection system, in which FIG. 6 is a configuration diagram and FIG. 7 is a configuration of a branching mirror. 8 is a block diagram showing the case where it is applied to the projection of synchrotron radiation light, FIG. 9 is a block diagram of a Schharzschild type projection optical device, and FIG. 10 is a block diagram of an off-chie type projection optical device. , FIG. 11 is a diagram for explaining the prior art. 1... Concave mirror 2... Convex mirror 3... Object point, 4... Image point, 0... Fine adjustment mechanism, 0... Branching point 5... Photodetector, 0... ...Adjustment processing device, 8...Drive circuit.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims]  ミラーを有する光学系により任意のパターンを拡大結
像する投影光学装置において、アライメント用パターン
が形成され前記光学系からの投影光の少なくとも一部を
前記アライメント用パターンに対応した光断面形状に成
形して分岐する光分岐手段と、前記ミラーに設けられこ
のミラーの姿勢を微調整する姿勢調整機構と、前記光分
岐手段の分岐光の光断面形状と基準パターンとを比較し
て前記ミラーの位置ずれを求め、この位置ずれに応じた
アライメント指令を前記姿勢調整機構に発するアライメ
ント調整手段とを具備したことを特徴とする投影光学装
置。
In a projection optical device that magnifies and images an arbitrary pattern using an optical system having a mirror, an alignment pattern is formed and at least a part of the projection light from the optical system is shaped into a light cross-sectional shape corresponding to the alignment pattern. an attitude adjustment mechanism provided on the mirror to finely adjust the attitude of the mirror; and a position adjustment mechanism for determining the positional deviation of the mirror by comparing the optical cross-sectional shape of the branched light of the light branching means with a reference pattern. 1. A projection optical device comprising: alignment adjustment means for determining the positional deviation and issuing an alignment command to the attitude adjustment mechanism according to the positional deviation.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006179930A (en) * 2004-12-23 2006-07-06 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and method of manufacturing device
US7505116B2 (en) 2002-07-16 2009-03-17 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US20120256527A1 (en) * 2011-04-05 2012-10-11 raumplus Besitz- und Entwicklungs- GmbH & Co. KG Piece of furniture having at least one sliding door

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