JP2983316B2 - Lighting equipment - Google Patents
Lighting equipmentInfo
- Publication number
- JP2983316B2 JP2983316B2 JP3051597A JP5159791A JP2983316B2 JP 2983316 B2 JP2983316 B2 JP 2983316B2 JP 3051597 A JP3051597 A JP 3051597A JP 5159791 A JP5159791 A JP 5159791A JP 2983316 B2 JP2983316 B2 JP 2983316B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reflecting mirror
- pattern
- illumination light
- spheroidal
- reflecting
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】この発明は照明光を反射させて集
束する照明装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a lighting device which reflects and focuses illumination light.
【０００２】[0002]
【従来の技術】紫外線やＸ線などのように波長が短い光
を集束して照明光として利用する場合、レンズ用の硝材
として使用可能な材料、つまり所定の屈折率や透過率を
得ることができる硝材が少ないため、その照明光を集束
する光学系としてレンズ光学系を用いることが難しい。
そのため、そのような場合、光学系としてはレンズ光学
系に代わり反射光学系が用いられる。2. Description of the Related Art When light having a short wavelength such as ultraviolet light or X-rays is focused and used as illumination light, it is necessary to obtain a material usable as a glass material for a lens, that is, a predetermined refractive index or transmittance. Since there are few available glass materials, it is difficult to use a lens optical system as an optical system for focusing the illumination light.
Therefore, in such a case, a reflection optical system is used instead of the lens optical system as the optical system.
【０００３】たとえば、半導体製造工程におけるパタ−
ンのリソグラフィ−においては、マスクのパタ−ンをウ
エハなどの基板に転写するために上記紫外線やＸ線など
の波長の短い照明光が用いられる。光源から出力された
照明光は、所定のパタ−ン形状で反射光学系に入射す
る。この反射光学系は複数の反射鏡から構成され、照明
光はこれら反射鏡で反射することで集束される。[0003] For example, a pattern in a semiconductor manufacturing process.
In lithography, an illumination light having a short wavelength such as the ultraviolet light or X-ray is used to transfer a pattern of a mask onto a substrate such as a wafer. Illumination light output from the light source enters the reflection optical system in a predetermined pattern. This reflecting optical system is composed of a plurality of reflecting mirrors, and the illumination light is focused by being reflected by these reflecting mirrors.
【０００４】反射光の焦点位置にはマスクが配置されて
いる。反射光がマスクを透過することで、そのマスクの
パタ−ンが半導体ウエハなどの基板に転写されるように
なっている。したがって、上記マスクと基板とを照明光
の光軸に対して直交する方向に駆動すれば、マスクのパ
タ−ン全体を上記基板に転写することができる。[0004] A mask is arranged at the focal position of the reflected light. When the reflected light passes through the mask, the pattern of the mask is transferred to a substrate such as a semiconductor wafer. Therefore, if the mask and the substrate are driven in a direction orthogonal to the optical axis of the illumination light, the entire pattern of the mask can be transferred to the substrate.
【０００５】ところで、照明装置に反射光学系を用いた
場合、光源からの照明光は、その反射光学系を構成する
複数の反射鏡のアライメントが精密に行われているとき
にだけ、所定の位置に確実に焦点を結ぶ。そのため、使
用に先立ち、上記各反射鏡のアライメントが行われる。When a reflecting optical system is used in an illuminating device, the illumination light from a light source is emitted to a predetermined position only when a plurality of reflecting mirrors constituting the reflecting optical system are precisely aligned. Be sure to focus on. Therefore, prior to use, the above-mentioned respective reflecting mirrors are aligned.
【０００６】しかしながら、各反射鏡のアライメントを
一度行っても、その後に反射鏡やアライメント機構が熱
的あるいは力学的に変形を生じることがある。すると、
各反射鏡のアライメントがずれ、照明光が所定の位置に
焦点を結ばなくなるということがある。そのため、各反
射鏡のアライメントをリアルタイムで行ない、常に焦点
位置を一定になるよう調整することが要求されるもの
の、従来はそのような照明装置が実用化されていなかっ
た。[0006] However, even if the alignment of each reflecting mirror is performed once, the reflecting mirror and the alignment mechanism may be thermally or mechanically deformed thereafter. Then
In some cases, the alignment of the reflecting mirrors is shifted, and the illumination light is not focused on a predetermined position. Therefore, it is necessary to perform alignment of each reflecting mirror in real time and always adjust the focal position so as to be constant. However, such an illuminating device has not been put to practical use conventionally.
【０００７】[0007]
【発明が解決しようとする課題】このように、従来は各
反射鏡のアライメントをリアルタイムで行うことができ
る照明装置が開発されていなかった。As described above, an illuminating device capable of real-time alignment of each reflecting mirror has not been developed.
【０００８】この発明は上記事情にもとづきなされたも
ので、その目的とするところは、反射光学系のアライメ
ントをリアルタイムで行えるようにした照明装置を提供
することにある。[0008] The present invention has been made based on the above circumstances, and an object of the present invention is to provide an illuminating device capable of real-time alignment of a reflection optical system.
【０００９】[0009]
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
にこの発明は、照明光が入射する凹面反射鏡と、この凹
面反射鏡を位置決め調整する第１の駆動手段と、２つの
焦点を有しその一方の焦点位置を上記凹面反射鏡の焦点
位置と同一にして配置された回転楕円反射鏡と、この回
転楕円反射鏡を位置決め調整する第２の駆動手段と、上
記回転楕円反射鏡の他方の焦点位置の近傍に配置され上
記回転楕円反射鏡で反射した照明光のパタ−ンを検出す
る検出手段と、この検出手段によって検出された照明光
のパタ−ンを上記凹面反射鏡に入射する前の照明光のパ
タ−ンと比較しその比較値にもとづいて上記第１の駆動
手段と第２の駆動手段とを駆動制御する制御手段とを具
備したことを特徴とする。SUMMARY OF THE INVENTION In order to solve the above-mentioned problems, the present invention comprises a concave reflecting mirror on which illumination light is incident, first driving means for positioning and adjusting the concave reflecting mirror, and two focal points. A spheroidal reflecting mirror arranged so that one of the focal positions is the same as the focal position of the concave reflecting mirror, second driving means for positioning and adjusting the spheroidal reflecting mirror, and the other of the spheroidal reflecting mirror Detecting means for detecting the pattern of the illumination light reflected by the spheroidal reflecting mirror, which is arranged near the focal point of the mirror, and irradiating the pattern of the illumination light detected by the detecting means to the concave reflecting mirror A control means for comparing the pattern of the previous illumination light and for controlling the driving of the first driving means and the second driving means based on the comparison value is provided.
【００１０】[0010]
【作用】上記構成によれば、各反射鏡のアライメントが
ずれているか否やかを、照明光の凹面反射鏡に入射する
前のパタ−ンと、回転楕円反射鏡で反射したパタ−ンと
を比較することで検出し、それにもとづいて各反射鏡を
駆動制御することで、これら反射鏡をアライメントする
ことができる。According to the above arrangement, whether or not each of the reflecting mirrors is out of alignment is determined by determining a pattern before the illumination light is incident on the concave reflecting mirror and a pattern reflected by the spheroidal reflecting mirror. By detecting by comparing and controlling the driving of each reflecting mirror based on the detection, the reflecting mirrors can be aligned.
【００１１】[0011]
【実施例】以下、この発明の一実施例を図面を参照して
説明する。図１に示す照明装置は凹面鏡としての回転放
物反射鏡１を有し、この回転放物反射鏡１の反射面１ａ
にはたとえばＳＯＲアンジュレ−タ光などの波長の短い
照明光Ｌが入射する。An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. The illumination device shown in FIG. 1 has a rotating parabolic reflecting mirror 1 as a concave mirror, and a reflecting surface 1 a of the rotating parabolic reflecting mirror 1.
Illumination light L having a short wavelength, such as SOR undulator light, is incident on the light source.
【００１２】上記回転放物反射鏡１は、その回転軸Ｏ1
が照明光Ｌの光軸Ｌ1 と平行になるよう配置されている
とともに、第１の駆動機構２によって５方向に駆動でき
るように設けられている。すなわち、照明光Ｌの進行方
向をＸとすると、第１の駆動機構２は上記回転放物反射
鏡１をそのＸ方向を除くＹ方向とＺ方向との二方向に進
退駆動するとともに、Ｘ，Ｙ，Ｚの各方向を回転中心と
する三方向に回転駆動するようになっている。The rotating parabolic reflector 1 has a rotation axis O 1.
Are arranged so as to be parallel to the optical axis L 1 of the illumination light L, and are provided so as to be driven in five directions by the first drive mechanism 2. That is, assuming that the traveling direction of the illumination light L is X, the first drive mechanism 2 drives the rotary parabolic reflecting mirror 1 forward and backward in two directions of the Y direction and the Z direction excluding the X direction. It is designed to be rotationally driven in three directions with the Y and Z directions as rotation centers.
【００１３】上記回転放物反射鏡１で反射した照明光Ｌ
は、その焦点Ｆ1 で集光した後、拡大して回転楕円反射
鏡３の反射面３ａに入射する。この回転楕円反射鏡３
は、その反射面３ａを形成する楕円の２つの焦点のう
ち、一方の焦点が上記回転放物反射鏡１の焦点Ｆ1 と同
じ位置になるよう位置決め配設されている。上記焦点Ｆ
1 には、上記回転楕円反射鏡３に散乱光などの照明光Ｌ
以外の光が入射するのを規制するピンホ−ル４が設けら
れている。The illumination light L reflected by the rotating parabolic reflector 1
Are condensed at the focal point F 1 , and then are enlarged and incident on the reflection surface 3 a of the spheroidal reflection mirror 3. This spheroidal reflecting mirror 3
, Of the two focal points of the ellipse forming the reflecting surface 3a, are positioned arranged to one focus is the same position as the focal point F 1 of the paraboloidal reflector 1. Focus F
1 includes illumination light L such as scattered light on the spheroidal reflecting mirror 3.
A pinhole 4 for restricting the incidence of other light is provided.
【００１４】上記回転楕円反射鏡３は、第２の駆動機構
５によって６軸方向に駆動自在に設けられている。つま
り、第２の駆動機構５は、上記回転楕円反射鏡３をＸ，
Ｙ，Ｚの三方向に進退駆動するとともに、Ｘ，Ｙ，Ｚの
各方向を回転中心とする三方向に回転駆動する。The spheroidal reflecting mirror 3 is provided so as to be driven in six axial directions by a second driving mechanism 5. That is, the second drive mechanism 5 moves the spheroidal reflecting mirror 3 to X,
It is driven to move forward and backward in three directions of Y and Z, and is also driven to rotate in three directions about the respective directions of X, Y and Z as the center of rotation.
【００１５】上記回転放物反射鏡１で反射して回転楕円
反射鏡３に入射した照明光Ｌは、その反射面３ａの楕円
形の他方の焦点Ｆ2 に収束される。この焦点位置には半
導体製造工程におけるパタ−ンのリソグラフィ−に用い
られるマスク６が設置されている。このマスク６を透過
した照明光Ｌは、図示しない拡大または縮小光学系を介
して同じく図示しないウエハなどの基板を照射するよう
になっている。つまり、マスク６のパタ−ンが上記基板
に転写される。このマスク６は基板とともに図１に矢印
で示す方向に駆動される。それによって、マスク６のパ
タ−ン全体が上記基板に転写される。The illumination light L incident on the ellipsoidal reflecting mirror 3 is reflected by the paraboloidal reflector 1 is converged to the other focal point F 2 of the elliptical reflecting surface thereof 3a. At this focal position, a mask 6 used for pattern lithography in a semiconductor manufacturing process is provided. The illumination light L transmitted through the mask 6 irradiates a substrate such as a wafer (not shown) via an enlargement or reduction optical system (not shown). That is, the pattern of the mask 6 is transferred to the substrate. The mask 6 is driven together with the substrate in the direction indicated by the arrow in FIG. Thereby, the entire pattern of the mask 6 is transferred to the substrate.
【００１６】上記回転楕円反射鏡３の反射面３ａの他方
の焦点Ｆ2 の近傍、この実施例では焦点Ｆ2 の前方には
分岐ミラ−７が照明光Ｌの光路に対して進退自在に設け
られている。分岐ミラ−７を照明光Ｌの光路に進入させ
れば、その一部を分岐することができる。分岐された照
明光Ｌの一部は固体撮像素子などのイメ−ジセンサから
なる画像検出器８に入射する。The vicinity of the ellipsoidal reflecting mirror focal F 2 other reflecting surface 3a of the 3, in this embodiment the front of the focal point F 2 is provided retractably branch Mira -7 respect to the optical path of the illumination light L Have been. If the branching mirror 7 enters the optical path of the illumination light L, a part thereof can be branched. Part of the branched illumination light L is incident on an image detector 8 composed of an image sensor such as a solid-state image sensor.
【００１７】上記画像検出器８は上記回転楕円反射鏡３
で反射した照明光Ｌのパタ−ンである測定パタ−ンを検
出する。この画像検出器８による検出信号は駆動制御装
置９に入力される。この駆動制御装置９には上記回転放
物反射鏡１に入射する前の照明光Ｌのパタ−ンである基
準パタ−ンの画像信号が予め記憶されている。そして、
駆動制御装置９は上記基準パタ−ンと測定パタ−ンとの
画像信号を比較し、これらの間にずれがあると、そのず
れ量に応じた駆動信号を上記第１、第２の駆動機構２，
５に出力する。それによって、上記基準パタ−ンと測定
パタ−ンとの画像信号にずれがなくなるよう、各反射鏡
１，３がアライメントされる。The image detector 8 comprises the spheroidal reflecting mirror 3
To detect a measurement pattern, which is a pattern of the illumination light L reflected by. The detection signal from the image detector 8 is input to the drive control device 9. The drive control device 9 stores an image signal of a reference pattern which is a pattern of the illumination light L before being incident on the rotary parabolic reflector 1 in advance. And
The drive control unit 9 compares the image signal of the reference pattern and the image signal of the measurement pattern, and when there is a shift between them, the drive signal corresponding to the shift amount is sent to the first and second drive mechanisms. 2,
5 is output. As a result, the reflecting mirrors 1 and 3 are aligned so that there is no deviation in the image signal between the reference pattern and the measurement pattern.
【００１８】上記駆動制御装置９の具体的な構成は、図
２に示すように主制御部１１を有する。この主制御部１
１には基準パタ−ンメモリ１２および画像メモリ１３が
接続されているとともに、上記主制御部１１の指令を受
けてパタ−ン認識部１４、アライメント調整部１５が作
動するようになっている。さらに、駆動制御装置９には
入力部１６および出力部１７が設けられている。The specific configuration of the drive control device 9 has a main control unit 11 as shown in FIG. This main control unit 1
Reference numeral 1 denotes a reference pattern memory 12 and an image memory 13, and a pattern recognition unit 14 and an alignment adjustment unit 15 are operated in response to a command from the main control unit 11. Further, the drive control device 9 is provided with an input unit 16 and an output unit 17.
【００１９】上記基準パタ−ンメモリ１２には上記基準
パタ−ンの基準画像デ−タが記憶されている。上記画像
検出器８からの検出信号は入力部１６でデジタル信号に
変換されて画像メモリ１３に画像デ−タとして記憶され
るようになっている。パタ−ン認識部１４は基準パタ−
ンと測定パタ−ンとのパタ−ン認識を行ってアライメン
ト誤差を求め、その誤差にもとづいてアライメント調整
部１５はアライメント信号である駆動信号Ｓを出力部１
７から駆動回路１８に出力する。The reference pattern memory 12 stores reference image data of the reference pattern. The detection signal from the image detector 8 is converted into a digital signal by the input unit 16 and stored in the image memory 13 as image data. The pattern recognizing unit 14 is a reference pattern.
An alignment error is obtained by recognizing the pattern between the pattern and the measurement pattern, and based on the error, the alignment adjusting unit 15 outputs a drive signal S as an alignment signal to the output unit 1.
7 to the drive circuit 18.
【００２０】駆動回路１８はアライメント指令にもとづ
いてアライメント誤差がなくなるまで上記第１、第２の
駆動機構２，５を駆動するようになっている。The driving circuit 18 drives the first and second driving mechanisms 2 and 5 until there is no alignment error based on the alignment command.
【００２１】つぎに、上記構成の照明装置の作用につい
て説明する。Next, the operation of the illumination device having the above configuration will be described.
【００２２】図示しない光源から出力された照明光Ｌが
回転放物反射鏡１に入射し、その反射面１ａで反射する
と、焦点Ｆ1 で集束されたのち、拡大して回転楕円反射
鏡３の反射面３ａに入射する。この反射面３ａで反射し
た照明光Ｌは焦点Ｆ2 で集束され、そこに配置されたマ
スク６を透過する。したがって、照明光Ｌは上記マスク
６のパタ−ンを半導体ウエハなどの基板に転写すること
になる。[0022] enters the illumination light L is paraboloidal reflector 1 output from a light source (not shown) and reflected by the reflecting surface 1a, after being focused at the focal point F 1, a rotating elliptic reflecting mirror 3 in an enlarged The light enters the reflecting surface 3a. Illumination light L reflected by the reflecting surface 3a is focused at the focal point F 2, it is transmitted through the mask 6 disposed therein. Therefore, the illumination light L transfers the pattern of the mask 6 onto a substrate such as a semiconductor wafer.
【００２３】上記回転楕円反射鏡３で反射した照明光Ｌ
の一部は分岐ミラ−７で分岐されて画像検出器８で検出
され、その検出信号は駆動制御装置９に入力される。こ
の駆動制御装置９では画像検出器８からの測定パタ−ン
と、予め設定された基準パタ−ンとのパタ−ン認識が行
われる。The illumination light L reflected by the spheroidal reflecting mirror 3
Is partly branched by the branching mirror 7 and detected by the image detector 8, and the detection signal is input to the drive control device 9. The drive controller 9 recognizes the pattern of the measurement pattern from the image detector 8 and the reference pattern set in advance.
【００２４】上記回転放物反射鏡１と上記回転楕円反射
鏡３とのアライメントにずれがなければ、上記測定パタ
−ンと基準パタ−ンとは一致する。しかしながら、上記
各反射鏡１，３のアライメントにずれ（誤差）がある
と、上記測定パタ−ンと基準パタ−ンとにずれが生じる
から、そのずれに応じた駆動信号Ｓが出力部１７から駆
動回路１８に出力される。If there is no misalignment between the rotating parabolic reflecting mirror 1 and the spheroidal reflecting mirror 3, the measurement pattern and the reference pattern match. However, if there is a deviation (error) in the alignment of each of the reflecting mirrors 1 and 3, a deviation occurs between the measurement pattern and the reference pattern, and a driving signal S corresponding to the deviation is output from the output unit 17. It is output to the drive circuit 18.
【００２５】上記駆動回路１８は、回転放物反射鏡１を
保持した第１の駆動機構２と、回転楕円反射鏡３を保持
した第２の駆動機構５とを駆動する。これら駆動機構
２，５が駆動されることで各反射鏡１，３のアライメン
ト誤差が補正される。そして、各反射鏡１，３のアラア
イメント誤差がなくなると、出力部１７からの駆動信号
Ｓが零となり、各反射鏡１，３のアライメントが終了す
る。The driving circuit 18 drives the first driving mechanism 2 holding the parabolic reflecting mirror 1 and the second driving mechanism 5 holding the spheroidal reflecting mirror 3. By driving these driving mechanisms 2 and 5, the alignment error of each of the reflecting mirrors 1 and 3 is corrected. Then, when the alignment error of each of the reflecting mirrors 1 and 3 disappears, the driving signal S from the output unit 17 becomes zero, and the alignment of each of the reflecting mirrors 1 and 3 ends.
【００２６】すなわち、上記構成の照明装置によれば、
各反射鏡１，３のアライメントを一度行ったのち、これ
ら反射鏡１，３が熱的あるいは力学的な影響を受けてア
ライメントにずれが生じても、そのずれをリアルタイム
で調整することができるから、回転楕円反射鏡３の反射
面３ａで反射して集束される照明光Ｌの焦点位置がずれ
るのを防止できる。それによって、マスク６のパタ−ン
を基板に精密に転写することができる。That is, according to the illumination device having the above structure,
After the alignment of each of the reflecting mirrors 1 and 3 is performed once, even if the reflecting mirrors 1 and 3 are thermally or mechanically affected and the alignment is deviated, the deviation can be adjusted in real time. In addition, it is possible to prevent the focal position of the illumination light L reflected and focused on the reflecting surface 3a of the spheroidal reflecting mirror 3 from being shifted. Thereby, the pattern of the mask 6 can be precisely transferred to the substrate.
【００２７】なお、この発明の照明光学装置は、半導体
製造工程におけるパタ−ンのリソグラフィ−だけでな
く、レ−ザ加工機の光学系、光デスクの光学系、レ−ザ
ビ−ムプリンタの光走査用光学系などにも適用すること
が可能である。The illumination optical apparatus according to the present invention can be used not only for lithography of a pattern in a semiconductor manufacturing process but also for an optical system of a laser processing machine, an optical system of an optical desk, and a light of a laser beam printer. It can be applied to a scanning optical system and the like.
【００２８】また、凹面反射鏡は回転放物反射鏡に代わ
り、他の曲面によって形成された反射鏡であってもよ
く、要は入射した照明光を反射して集束することができ
る形状の反射面を有するものであればよい。In addition, the concave reflecting mirror may be a reflecting mirror formed by another curved surface instead of a rotating parabolic reflecting mirror. In short, a reflecting mirror having a shape capable of reflecting and converging incident illumination light. What is necessary is just to have a surface.
【００２９】さらに、駆動制御装置には基準パタ−ンの
画像デ−タを予め設定したが、測定パタ−ンと同様、回
転放物反射鏡に入射する前の照明光の一部を分岐ミラ−
で分岐して画像検出器で検出し、その検出信号を測定パ
タ−ンの検出信号と比較するようにしてもよい。Further, the image data of the reference pattern is set in the drive control device in advance. However, similar to the measurement pattern, a part of the illumination light before being incident on the rotary parabolic mirror is split by a mirror. −
The detection may be made by the image detector, and the detection signal may be compared with the detection signal of the measurement pattern.
【００３０】[0030]
【発明の効果】以上述べたようにこの発明は、凹面反射
鏡から回転楕円反射鏡に入射した照明光のパタ−ンを検
出し、この検出信号を上記凹面反射鏡に入射する前の照
明光のパタ−ンと比較し、その差に応じて上記凹面反射
鏡と回転楕円反射鏡とを保持した各駆動手段を駆動して
アライメント誤差をなくすようにした。As described above, according to the present invention, the pattern of the illuminating light incident on the spheroidal reflecting mirror from the concave reflecting mirror is detected, and this detection signal is applied to the illuminating light before entering the concave reflecting mirror. The driving means holding the concave reflecting mirror and the spheroidal reflecting mirror are driven in accordance with the difference to eliminate alignment errors.
【００３１】そのため、上記凹面反射鏡と回転楕円反射
鏡とにアライメント誤差が生じたならば、その誤差をリ
アルタイムで補正することができるから、上記回転楕円
反射鏡で反射した照明光の焦点位置がずれるのを確実、
かつ迅速に防止することができる。しかも、凹面反射鏡
と回転楕円反射鏡とのアライメントを常時、リアルタイ
ムで行なえるため、初期のアライメントを精密に行なわ
ずにすむから、組立作業の迅速化が計れる。Therefore, if an alignment error occurs between the concave reflecting mirror and the spheroidal reflecting mirror, the error can be corrected in real time. Be sure to shift
And it can be prevented quickly. In addition, since the alignment between the concave reflecting mirror and the spheroidal reflecting mirror can be always performed in real time, it is not necessary to perform the initial alignment precisely, so that the assembling work can be sped up.
【図１】この発明の一実施例の全体構成を示す概略図。FIG. 1 is a schematic diagram showing the overall configuration of an embodiment of the present invention.
【図２】駆動制御装置の詳細図。FIG. 2 is a detailed view of a drive control device.
【符号の説明】 １…凹面鏡（回転放物反射鏡）、２……第１の駆動機構
（第１の駆動手段）、３…回転楕円反射鏡、５…第２の
駆動機構（第２の駆動手段）、７…分岐ミラ−（検出手
段）、８…画像検出器（検出手段）、９…駆動制御装置
（制御手段）。[Description of Signs] 1 ... concave mirror (rotating parabolic reflecting mirror), 2 ... first driving mechanism (first driving means), 3 ... rotating elliptical reflecting mirror, 5 ... second driving mechanism (second driving mechanism) Drive means), 7 ... branch mirror (detection means), 8 ... image detector (detection means), 9 ... drive control device (control means).
Claims (1)
面反射鏡を位置決め調整する第１の駆動手段と、２つの
焦点を有しその一方の焦点位置を上記凹面反射鏡の焦点
位置と同一にして配置された回転楕円反射鏡と、この回
転楕円反射鏡を位置決め調整する第２の駆動手段と、上
記回転楕円反射鏡の他方の焦点位置の近傍に配置され上
記回転楕円反射鏡で反射した照明光のパタ−ンを検出す
る検出手段と、この検出手段によって検出された照明光
のパタ−ンを上記凹面反射鏡に入射する前の照明光のパ
タ−ンと比較しその比較値にもとづいて上記第１の駆動
手段と第２の駆動手段とを駆動制御する制御手段とを具
備したことを特徴とする照明装置。1. A concave reflecting mirror on which illumination light is incident, first driving means for positioning and adjusting the concave reflecting mirror, and two focal points, one of which is located at the focal position of the concave reflecting mirror. A spheroidal reflecting mirror arranged in the same manner, second driving means for adjusting the position of the spheroidal reflecting mirror, and reflection by the spheroidal reflecting mirror arranged near the other focal position of the spheroidal reflecting mirror Detecting means for detecting the pattern of the illuminating light thus obtained, and comparing the pattern of the illuminating light detected by the detecting means with the pattern of the illuminating light before being incident on the concave reflecting mirror. A lighting device, comprising: control means for drivingly controlling the first driving means and the second driving means.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3051597A JP2983316B2 (en) | 1991-03-15 | 1991-03-15 | Lighting equipment |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3051597A JP2983316B2 (en) | 1991-03-15 | 1991-03-15 | Lighting equipment |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04286312A JPH04286312A (en) | 1992-10-12 |
| JP2983316B2 true JP2983316B2 (en) | 1999-11-29 |
Family
ID=12891318
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3051597A Expired - Fee Related JP2983316B2 (en) | 1991-03-15 | 1991-03-15 | Lighting equipment |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2983316B2 (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100674959B1 (en) * | 2005-02-23 | 2007-01-26 | 삼성전자주식회사 | Off-axis projection optics and extreme ultra violet lithography apparatus applying it |
-
1991
- 1991-03-15 JP JP3051597A patent/JP2983316B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04286312A (en) | 1992-10-12 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5999245A (en) | Proximity exposure device with distance adjustment device | |
| JPH06112106A (en) | Apparatus and method for focusing of object image as well as apparatus for focusing of mask image | |
| US5731577A (en) | Illumination apparatus and projection exposure apparatus using the same | |
| JP2862311B2 (en) | Surface position detection device | |
| US10976670B2 (en) | Apparatus and method for detecting optimal focal plane of lithographic projection objective lens | |
| JPH10153866A (en) | Illuminator and exposure device provided with it | |
| JPS6355002B2 (en) | ||
| JP2983316B2 (en) | Lighting equipment | |
| JP3287014B2 (en) | Projection exposure apparatus and device manufactured by the exposure apparatus | |
| JP3047983B2 (en) | Fine pattern transfer method and apparatus | |
| JP3143514B2 (en) | Surface position detecting apparatus and exposure apparatus having the same | |
| JPH06188173A (en) | Surface position detector | |
| JP3351051B2 (en) | Horizontal detector and exposure apparatus using the same | |
| JP4352106B2 (en) | Focus adjustment method, projection exposure method, focus adjustment apparatus, and projection exposure apparatus | |
| US5329332A (en) | System for achieving a parallel relationship between surfaces of wafer and reticle of half-field dyson stepper | |
| US4739158A (en) | Apparatus for the detection of pattern edges | |
| JPS61128522A (en) | Focussing device | |
| JPH05259031A (en) | Tilt detector | |
| JP2810400B2 (en) | Exposure equipment | |
| JP3049911B2 (en) | Alignment scope having focus detection means | |
| JPH02155252A (en) | Positioning device for wafer | |
| JPH03130639A (en) | Optical-axis aligning method for mtf measuring apparatus | |
| JP2780302B2 (en) | Exposure equipment | |
| JP2002509032A (en) | Workpiece lighting device | |
| JP2989995B2 (en) | Positioning device |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |