JPH048740A - Filler for resin - Google Patents

Filler for resin

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JPH048740A
JPH048740A JP11020090A JP11020090A JPH048740A JP H048740 A JPH048740 A JP H048740A JP 11020090 A JP11020090 A JP 11020090A JP 11020090 A JP11020090 A JP 11020090A JP H048740 A JPH048740 A JP H048740A
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Abstract

PURPOSE:To provide a filler capable of giving resin compositions markedly improved in spiral flow and burr characteristics and heat releasability, containing each specific nitride powder and/or oxynitride powder. CONSTITUTION:The objective inorganic filler containing (A) nitride and/or oxynitride powder with the particle size distribution expressed as follows: (1) <=1mu= 5-10wt.%; (2) <=2mu=6-12wt.%; (3) <=3mu =10-16wt.%; (4) <=8mu=35-47wt.%; (5) <=24mu=51-63wt.%; <=48mu=67-75wt.%; <=96mu=88-92wt.%; (6) mean size =9-22mum; (7) (RRS-n value) <=0.80. Said (oxy)nitride is prepared by e.g. directly nitriding a metal such as metallic silicon or metallic aluminum, (reductive) nitriding said metal, oxynitride, nitride and/or oxide, and its purity being >=70 (esp. >=90)%.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、樹脂用充填材、詳しくはコンデンサ5〜10
% 6〜12% 10〜16% 35〜47% 51〜63% 67〜75% 88〜92% 9〜22μm ≦0.80 、コネクター、抵抗器、半導体等の電子部品の封止材、
絶縁ペースト、放熱シートなどに有用な樹脂用充填材に
関するものである。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Field of Application] The present invention relates to fillers for resins, specifically capacitors 5 to 10.
% 6-12% 10-16% 35-47% 51-63% 67-75% 88-92% 9-22 μm ≦0.80, sealing material for electronic components such as connectors, resistors, semiconductors, etc.
This invention relates to resin fillers useful for insulation pastes, heat dissipation sheets, etc.

〔従来の技術] 溶融シリカ、化シリカ等の充填材とエポキシ樹脂やポリ
フェニレン樹脂からなる樹脂封止材は、信顧性が著しく
向上した上に成形性、量産性に優れるため、封止材の約
90%が樹脂封止材として使用されている。
[Prior art] Resin encapsulants made of fillers such as fused silica and chemical silica, and epoxy resins and polyphenylene resins have significantly improved reliability and are excellent in moldability and mass production. Approximately 90% is used as a resin sealant.

しかしながら、近年、電気・電子機器業界においては、
小形・軽量化を促進するため、電気・電子部品の高集積
化が要求されており、電気・電子部品用の封止材、絶縁
ペースト、放熱シート等にはより一層の放熱性の向上が
必要となってきた。
However, in recent years, in the electrical and electronic equipment industry,
In order to promote miniaturization and weight reduction, electrical and electronic components are required to be highly integrated, and sealing materials, insulating pastes, heat dissipation sheets, etc. for electrical and electronic components need to further improve their heat dissipation properties. It has become.

そこで、溶融シリカや化シリカに比較して放熱性に優れ
る充填材として、窒化硅素、窒化アルミニウム等の窒化
物粉末が提案されている(特開昭60−4522号公報
、同61−101522号公報、同62−43415号
公報)。
Therefore, nitride powders such as silicon nitride and aluminum nitride have been proposed as fillers with superior heat dissipation properties compared to fused silica and silica oxide (Japanese Unexamined Patent Publication No. 60-4522, No. 61-101522). , No. 62-43415).

これら窒化物粉末を充填材として使用した樹脂組成物は
、確かに放熱性は改善されているものの、トランスファ
ー成形及び射出成形した場合、従来の溶融シリカ、生シ
リカを充填材とした場合に比較して、スパイラルフロー
の低下が著しく、金型摩耗の原因となったり、高充填化
ができない為、これら窒化物粉末の持つ放熱性を十分に
生かせないという欠点があった。
Resin compositions using these nitride powders as fillers certainly have improved heat dissipation, but when transferred or injection molded, compared to conventional fused silica or raw silica fillers. However, there were disadvantages in that the spiral flow was significantly reduced, causing mold wear, and the heat dissipation properties of these nitride powders could not be fully utilized because high filling was not possible.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

本発明者らは、上記の欠点を改良すべく窒化物粉末及び
/又は酸窒化物粉末の粒度がフロー特性に及ぼす効果を
詳細に鋭意検討した結果、ある特定の粒度分布を有する
窒化物粉末及び/又は酸窒化物粉末を充填材とした場合
において、特異的にフロー特性が良好になることを見い
出し、本発明を完成したものである。
In order to improve the above-mentioned drawbacks, the present inventors have conducted a detailed study on the effect that the particle size of nitride powder and/or oxynitride powder has on flow characteristics, and as a result, the inventors have found that nitride powder and/or oxynitride powder having a certain particle size distribution and The present invention has been completed based on the discovery that flow characteristics are specifically improved when oxynitride powder is used as a filler.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

すなわち、本発明は、次の粒度特性を有する窒化物粉末
及び/又は酸窒化物粉末を含有してなる無機粉末からな
ることを特徴とする樹脂用充填材である。
That is, the present invention is a filler for resin characterized by being made of an inorganic powder containing a nitride powder and/or an oxynitride powder having the following particle size characteristics.

(粒度分布) 1μ     5〜10% 2μ     6〜12% 3μ     10〜16% 8μ     35〜47% 24μ     51〜63% 48μ     67〜75% 一96μ     88〜92% (平均粒径)   9〜22μm (RR5−n値)  ≦0.80 以下、さらに詳しく本発明について説明する。(particle size distribution) 1μ 5-10% 2μ    6~12% 3μ    10~16% 8μ 35-47% 24μ 51~63% 48μ 67-75% -96μ   88~92% (Average particle size) 9 to 22 μm (RR5-n value) ≦0.80 The present invention will be explained in more detail below.

本発明における窒化物、酸窒化物の例としては、窒化硅
素、窒化アルミニウムのような窒化物、シリコンオキシ
ナイトライド、アルミニウムオキシナイトライド、サイ
アロン等の酸窒化物が挙げられる。より高熱伝導性を樹
脂組成物に付与したい場合には、窒化アルミニウム、窒
化硅素、サイアロンを、より耐熱衝撃性を付与したい場
合には、シリコンオキシナイトライド、アルミニウムオ
キシナイトライドを選択する。なお、窒化硅素、サイア
ロンには、α型及びβ型の2種類の結晶形が存在するが
どちらでもよく、勿論両者の混合物であってもよい。ま
た、シリコンオキシナイトライドやアルミニウムオキシ
ナイトライドの酸窒化物の場合、結晶物だけでなく非晶
質のものも共存してもよい。
Examples of nitrides and oxynitrides in the present invention include nitrides such as silicon nitride and aluminum nitride, and oxynitrides such as silicon oxynitride, aluminum oxynitride, and sialon. When it is desired to impart higher thermal conductivity to the resin composition, aluminum nitride, silicon nitride, and sialon are selected, and when it is desired to impart higher thermal shock resistance, silicon oxynitride and aluminum oxynitride are selected. Note that silicon nitride and Sialon have two types of crystal forms, α type and β type, and either type may be used, and of course, a mixture of the two types may be used. Furthermore, in the case of oxynitrides of silicon oxynitride and aluminum oxynitride, not only crystalline substances but also amorphous substances may coexist.

本発明に係る窒化物粉末、酸窒化物粉末は、(1)金属
シリコン、金属アルミニウムやシリコン−アルミニウム
合金等の金属を直接窒化する方法、(2)シリカ、アル
ミナ、カオリン、ムライト等の金属酸化物を還元窒化す
る方法、(3)前述の金属と酸窒化物、窒化物及び/又
は金属酸化物を(還元)窒化する方法、(4)金属酸化
物と窒化物とを(還元)窒化する方法、(5)4塩化硅
素、塩化アルミニウム等の金属ハロゲン化物及び/又は
硅酸メチル、トリエトキシアルミニウム等の有機金属化
合物とアンモニアから直接気相合成もしくは金属イミド
、金属アミドを経由して製造する方法等により得ること
ができる。
The nitride powder and oxynitride powder according to the present invention can be produced by (1) directly nitriding metals such as metal silicon, metal aluminum, and silicon-aluminum alloys, (2) oxidizing metals such as silica, alumina, kaolin, and mullite. (3) Method of (reducing) nitriding the aforementioned metal and oxynitride, nitride and/or metal oxide, (4) (Reducing) nitriding metal oxide and nitride. Method, (5) Direct vapor phase synthesis from metal halides such as silicon tetrachloride and aluminum chloride and/or organometallic compounds such as methyl silicate and triethoxyaluminum and ammonia or via metal imide or metal amide. It can be obtained by a method etc.

以上の製造のうち、粒度や比表面積を調節しやすく、樹
脂組成物の放熱性、耐熱衝撃性、成形性をより改良でき
る点では(1)や(3)の方法が好ましく、一方、低α
線化された充填材を得やすい点では、(5)の方法が好
ましい。なお、上記(1)〜(5)の方法により窒化物
及び/又は酸窒化物を得る際に、必要ならば、カーボン
やCa、Mg、、Mn、 Y及びランクニド金属の酸化
物、炭酸塩及び蓚酸塩等から選ばれた少くとも1種を配
合してもよい。
Among the above production methods, methods (1) and (3) are preferable in that they are easy to adjust the particle size and specific surface area and can further improve the heat dissipation, thermal shock resistance, and moldability of the resin composition.
The method (5) is preferable in that it is easy to obtain a linearized filler. In addition, when obtaining nitrides and/or oxynitrides by the methods (1) to (5) above, if necessary, oxides, carbonates, and At least one selected from oxalates and the like may be blended.

本発明の充填材である窒化物粉末及び/又は酸窒化物粉
末の純度は、70%以上好ましくは80%以上特に好ま
しくは90%以上である。純度が90%未満であると得
られる樹脂組成物の電気絶縁性、熱伝導性、耐熱衝撃性
の少くとも1つが損われる。
The purity of the nitride powder and/or oxynitride powder that is the filler of the present invention is 70% or more, preferably 80% or more, particularly preferably 90% or more. If the purity is less than 90%, at least one of electrical insulation, thermal conductivity, and thermal shock resistance of the resulting resin composition will be impaired.

本発明の充填材を前述の(1)もしくは(3)の方法で
得る場合、良好な電気絶縁性や耐熱衝撃性を確保するた
めには、未反応金属の残存率が1%以下好ましくは0.
5%以下特に好ましくは0.3%以下になるように窒化
条件を決めることが重要である。
When the filler of the present invention is obtained by the method (1) or (3) described above, in order to ensure good electrical insulation and thermal shock resistance, the residual rate of unreacted metal must be 1% or less, preferably 0. ..
It is important to determine the nitriding conditions so that the content is 5% or less, particularly preferably 0.3% or less.

本発明の充填材の純度はX線回折チャートから得られる
種々の不純物結晶性粉末と本発明の充填材との所定位置
のピークの高さの和に対する本発明の充填材のピークの
比で代表させるものとする。
The purity of the filler of the present invention is represented by the ratio of the peak of the filler of the present invention to the sum of the peak heights of various impurity crystalline powders and the filler of the present invention at predetermined positions obtained from an X-ray diffraction chart. shall be allowed to do so.

シリコンオキシナイトライドやアルミニウムオキシナイ
トライドの場合、結晶化物のみでなく非晶質のものも存
在しうるが、非晶質に起因するブロードなピークは、純
度算出の際に計算から除外するものとする。
In the case of silicon oxynitride and aluminum oxynitride, not only crystalline products but also amorphous products may exist, but broad peaks due to amorphous products should be excluded from purity calculations. do.

本発明における未反応金属の残存率はX線回折チャート
から得られる金属粉末と窒化物粉末及び/又は酸窒化物
粉末との所定位置のピークの高さの相に対する未反応金
属の金属粉末のピークの比で代表させるものとする。具
体的なピークは以下のとおりである。
The residual rate of unreacted metal in the present invention is the peak of the metal powder of the unreacted metal relative to the phase of the peak height of the metal powder and the nitride powder and/or oxynitride powder at a predetermined position obtained from the X-ray diffraction chart. shall be represented by the ratio of The specific peaks are as follows.

本発明の充填材 α−サイアロンの (210)面〃 
   β−サイアロンの (101)面〃      
  シリコンオキシナイトライド の   (110)
面〃        アルミニウムオキシナイトライド
 の (440) 面〃    α−窒化硅素の  (
210)面〃    β−窒化硅素の  (101)面
〃    窒化アルミニウムの(101)面不純物  
 クリストバライトの(101)面α−クウオーツ の
(101)面 α−アルミナ  の(113面 〃    ムライト    の(120面金属シリコン
  の(111面 金属アルミニウムの(111面 〃   β−5iCの(111面 本発明の充填材に含まれるイオン性不純物としては、F
e” 5000ppm以下、Na” 1100pp以下
、cp50 ppm以下であり、好ましくはFe”10
00 ppm以下、Na−30ppm以下、C1−20
ppm以下、特に好ましくはFe”100ppln以下
、Na” 10ppm以下、C/!−10ppm以下で
ある。特にNa”が1100ppを超えたりCf−が5
0 ppmを超えたりすると耐湿信顧性が劣る。
(210) plane of the filler α-sialon of the present invention
(101) face of β-Sialon
Silicon oxynitride (110)
(440) plane of aluminum oxynitride (440) plane of α-silicon nitride (
210) plane (101) plane of β-silicon nitride (101) plane impurity of aluminum nitride
(101) plane of cristobalite α-quartz (101) plane α-alumina (113 plane) Mullite (120 plane metal silicon (111 plane) Metal aluminum (111 plane) β-5iC (111 plane of the present invention Ionic impurities contained in the filler include F
e"5000 ppm or less, Na"1100 ppm or less, cp50 ppm or less, preferably Fe"10
00 ppm or less, Na-30 ppm or less, C1-20
ppm or less, particularly preferably Fe"100 ppm or less, Na"10 ppm or less, C/! -10 ppm or less. Especially when Na” exceeds 1100pp and Cf- is 5
If it exceeds 0 ppm, moisture resistance will be poor.

本発明の充填材は、表−1に示す粒度分布、平均粒径、
RRS−n値を有することが必要であり、好ましくは、
同表に示すとおりである。
The filler of the present invention has a particle size distribution, average particle diameter, and
It is necessary to have an RRS-n value, preferably,
As shown in the same table.

粒度分布及び平均粒径が表−1の本発明の範囲をこえて
微粉粒度になると、微粒子含有率が太きすぎて樹脂粘度
が上昇し、その結果フローが低下したり、また混練不足
を招いてハリの発生を抑制できなくなる。一方、粒度分
布及び平均粒径が表−1の本発明の範囲をこえて粗粉粒
度になったり、また例え粒度分布及び平均粒径が表−1
の本発明の範囲内にあっても、RRS−n値が0.80
をこえるとダイラタンシー性が強くなり、フローが低下
する。
When the particle size distribution and average particle size exceed the range of the present invention shown in Table 1 and become fine particles, the fine particle content becomes too thick and the resin viscosity increases, resulting in a decrease in flow and insufficient kneading. This makes it impossible to suppress the occurrence of firmness. On the other hand, if the particle size distribution and average particle size exceed the range of the present invention shown in Table 1 and become coarse particle size, or even if the particle size distribution and average particle size
Even within the scope of the present invention, the RRS-n value is 0.80.
When it exceeds , dilatancy becomes stronger and the flow decreases.

表−1 本発明の充填材の粒度の測定は、レーザー回折法による
が、他の測定原理による粒度測定、例えば、光透過式自
然沈降・遠心沈降、電子顕微鏡、ガスケートインバクタ
ー法、コールタ−カウンター法等による粒度測定を使用
しても、レーザー回折式との補正を行なう限り何ら支障
はないことは勿論である。なお、現在市販されているレ
ーザー回折式粒度測定針は、使用している波長のため、
0.1 μm以下の粒子は検出できない。したがって、
本発明の充填材に含まれる0、1 μm以下の粒子の含
有量はいくらでもよいが、0.16m以下の粒子の含有
量が多いと非常に嵩ぼり作業性に劣り粉じんが発生しや
すい等の欠点が場合によってあられれるので、それが問
題となる場合は、0.1 μm以下の粒子の含有量が制
限されることがある。
Table 1 The particle size of the filler of the present invention is measured by a laser diffraction method, but particle size measurement using other measurement principles, such as light transmission natural sedimentation, centrifugal sedimentation, electron microscopy, gasket invactor method, coulter method, etc. It goes without saying that there is no problem in using particle size measurement using a counter method or the like, as long as it is corrected with the laser diffraction method. Please note that currently commercially available laser diffraction particle size measuring needles use different wavelengths,
Particles smaller than 0.1 μm cannot be detected. therefore,
The content of particles of 0.1 μm or less in the filler of the present invention may be any amount, but if the content of particles of 0.16 m or less is too large, the filler will become very bulky, resulting in poor workability and easy generation of dust. Since drawbacks may occur in some cases, if this becomes a problem, the content of particles of 0.1 μm or less may be limited.

RRS−n値とは、RRS粒度線図の最大粒径からの累
積重量%が10〜30重量%の1点と70〜90重量%
の1点とを結んだ直線で代表されるRos inRam
mlerの式のn値のことをいう。なお、実際の粒度測
定において、最大粒径からの累積重量%の10〜30重
量%の範囲の1点と70〜90重量%の範囲の1点を結
ぶ直線が2本以上引き得る場合には、これらの直線のう
ちで最小の勾配で代表させることとする。
The RRS-n value refers to one point where the cumulative weight% from the maximum particle size on the RRS particle size diagram is 10 to 30% by weight and 70 to 90% by weight.
Ros inRam is represented by a straight line connecting one point of
It refers to the n value in the mler formula. In addition, in actual particle size measurement, if two or more straight lines can be drawn connecting one point in the range of 10 to 30 weight % and one point in the range of 70 to 90 weight % of the cumulative weight % from the maximum particle size, , are represented by the minimum gradient among these straight lines.

ここでRR3粒度線図とは、Rosin−Rammle
rの次式に従う粒度分布を表わす粒度線図のことである
Here, the RR3 particle size diagram is Rosin-Rammle
This is a particle size diagram showing the particle size distribution of r according to the following equation.

R(Dp) =100 exp(−b Dp”)(但し
、式中R(Dp)は最大粒径から粒径Dpまでの累積重
量%、Dpは粒径、b及びnは定数である)本発明の充
填材の粒度調整は、粉砕条件の制御する方法のみでも可
能であるが、必要ならば、風篩、サイクロン等の重力沈
降式、遠心式、慣性力式等の乾式分級、水篩、沈降分級
、液体サイクロン、デカンタ−等の湿式分級、篩分は等
により微粉を除去させることもできる。
R (Dp) = 100 exp (-b Dp") (wherein R (Dp) is the cumulative weight % from the maximum particle size to the particle size Dp, Dp is the particle size, and b and n are constants) The particle size of the filler of the invention can be adjusted only by controlling the crushing conditions, but if necessary, dry classification using a gravity settling type, centrifugal type, or inertial force type such as an air sieve or cyclone, a water sieve, Fine particles can also be removed by sedimentation classification, wet classification using a liquid cyclone, decanter, etc., or sieving.

本発明の窒化物粉末及び/又は酸窒化物粉末の合計重量
に対して、10倍重量以下好ましくは3倍重量以下特に
好ましくは1倍重量以下(いずれも0を含む)の形状が
破砕状、球状、ウィスカー状、繊維状又は鱗片状である
溶融シリカ、生シリカ、シリカチタニアガラス、クリス
トバライト化シリカ、珪酸アルミニウム、アルミナ、窒
化チタン、窒化ホウ素等の他の充填材を併用してもよい
。10倍重量を超えると放熱性、耐熱衝撃性、耐湿信頼
性の少くとも1つの特性が損われる。なお、窒化物粉末
及び/又は酸窒化物粉末以外の充填材を使用する場合、
要求される封止材の特性に応じて充填材を使いわけるこ
とが大切である。すなわち、耐熱衝撃性及び耐湿信頼性
を重視する場合は溶融シリカやシリカチタニアガラスを
選び、熱伝導性を重視する場合は窒化チタン、窒化ホウ
素、アルミナを選び、金型等の摩耗抑制とほどほどの熱
伝導性及びコスト低減のためには生シリカ、クリストバ
ライト化シリカ、珪酸アルミニウム等を選ぶ。
10 times the weight or less, preferably 3 times the weight or less, particularly preferably 1 times the weight or less (all including 0) of the total weight of the nitride powder and/or oxynitride powder of the present invention, and the shape is crushed; Other fillers such as spherical, whisker-like, fibrous or scale-like fused silica, raw silica, silica titania glass, cristobalitized silica, aluminum silicate, alumina, titanium nitride, boron nitride, etc. may be used in combination. If it exceeds 10 times the weight, at least one of the characteristics of heat dissipation, thermal shock resistance, and moisture resistance reliability will be impaired. In addition, when using fillers other than nitride powder and/or oxynitride powder,
It is important to use fillers appropriately depending on the required properties of the sealant. In other words, if thermal shock resistance and moisture resistance reliability are important, choose fused silica or silica titania glass, and if thermal conductivity is important, choose titanium nitride, boron nitride, or alumina. Raw silica, cristobalitized silica, aluminum silicate, etc. are selected for thermal conductivity and cost reduction.

本発明の充填材の最大粒径としては、小さいほど成型時
における素子表面の配線、パッシベーション膜、ボンデ
ィングワイヤ等に傷をつけたり破損をさせたりすること
が少なくなるが、トランスファー成形時のゲート詰りを
考慮した最大粒径は、500μm以下好ましくは149
μm以下特に好ましくは74μm以下である。
The smaller the maximum particle size of the filler of the present invention, the less likely it is to damage or damage wiring, passivation films, bonding wires, etc. on the element surface during molding, but it is less likely to cause gate clogging during transfer molding. The maximum particle size considered is 500 μm or less, preferably 149
It is preferably 74 μm or less, particularly preferably 74 μm or less.

本発明の充填材の樹脂組成物中の含有率は、20〜97
重量%好ましくは30〜95重量%特に好ましくは40
〜90重量%である。充填材の含有率が20重量%未満
であると、樹脂組成物の成形性は優れるが、熱応力が大
きく耐熱衝熱性や耐湿信頼性が低下する。一方、97重
量%を超えると、樹脂組成物の成形性が損われ、未充填
部やボイドが多発し、電気絶縁性や信頼性が損われる。
The content of the filler of the present invention in the resin composition is 20 to 97
% by weight, preferably 30-95% by weight, particularly preferably 40% by weight
~90% by weight. When the content of the filler is less than 20% by weight, the moldability of the resin composition is excellent, but thermal stress is large and heat shock resistance and moisture resistance reliability are reduced. On the other hand, if it exceeds 97% by weight, the moldability of the resin composition will be impaired, unfilled areas and voids will occur frequently, and electrical insulation and reliability will be impaired.

本発明の充填材が使用される樹脂としては、ビスフェノ
ール型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ
樹脂、脂環型エポキシ樹脂、複素環型エポキシ樹脂、グ
リシジルエステル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型
エポキシ樹脂、ハロゲン化エポキシ樹脂などのエポキシ
樹脂、ポリベンズイミダゾール、ポリベンズオキサゾー
ル、ポリベンズチアゾール、ポリオキサジアゾール、ポ
リピラゾール、ポリキノキサリン、ポリキナゾリンジオ
ン、ポリベンズオキサジノン、ポリインドロン、ポリキ
ナゾロン、ポリインドキシル、シリコン樹脂、シリコン
−エポキシ樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ユリ
ア樹脂、不飽和ポリエステル、ポリアミノビスマレイミ
ド、ジアリルフタレート樹脂、フッ素樹脂、TPχ樹脂
(メチルペンテンポリマー「三井石油化学社製商品名コ
)、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミ
ド、6ローナイロン及びMXD−ナイロン、アモルファ
スナイロン等のポリアミド、ポリブチレンテレフタレー
ト及びポリエチレンテレフタレート等のポリエステル、
ポリフェニレンスルフィド、変性ポリフェニレンエーテ
ル、ボリアリレート、全芳香族ポリエステル、ポリスル
ホン、液晶ポリマ、ポリエーテルエーテルケトン、ポリ
エーテルスルホン、ポリカーボネート、マレイミド変性
樹脂、ABS樹脂、八AS  (アクリロニトリル・ア
クリルゴム・スチレン)樹脂、AES  (アクリロニ
トリル−エチレン・プロピレン・ジエンゴム−スチレン
)樹脂等が挙げられるが、封止材、電気絶縁ぺ−スト等
には、通常、エポキシ樹脂やシリコンエポキシ樹脂、よ
り高温下での金属との接着強度や曲げ強度等の保持のた
めには、ケルイミド(三菱瓦斯化学社製商品名)、BT
樹脂(三菱瓦斯化学社製商品名)等のポリアミノビスマ
レイミド系樹脂、ゲートやランナーを再利用できる封止
用樹脂としては、ポリフェニレンスルフィド、ポリフェ
ニレンスルフィドと液晶ポリマー及び/又はエポキシ基
含有ポリマー七のアロイ等が好ましい。
Resins for which the filler of the present invention can be used include bisphenol-type epoxy resins, phenol novolak-type epoxy resins, alicyclic-type epoxy resins, heterocyclic-type epoxy resins, glycidyl ester-type epoxy resins, glycidylamine-type epoxy resins, and halogenated epoxy resins. Epoxy resins such as epoxy resins, polybenzimidazole, polybenzoxazole, polybenzthiazole, polyoxadiazole, polypyrazole, polyquinoxaline, polyquinazolinedione, polybenzoxazinone, polyindolone, polyquinazolone, polyindoxyl, silicone resin, Silicone-epoxy resin, phenolic resin, melamine resin, urea resin, unsaturated polyester, polyamino bismaleimide, diallyl phthalate resin, fluororesin, TPχ resin (methylpentene polymer (trade name manufactured by Mitsui Petrochemicals)), polyimide, polyamideimide , polyetherimide, polyamides such as 6-row nylon and MXD-nylon, amorphous nylon, polyesters such as polybutylene terephthalate and polyethylene terephthalate,
Polyphenylene sulfide, modified polyphenylene ether, polyarylate, fully aromatic polyester, polysulfone, liquid crystal polymer, polyether ether ketone, polyether sulfone, polycarbonate, maleimide modified resin, ABS resin, 8AS (acrylonitrile/acrylic rubber/styrene) resin, Examples include AES (acrylonitrile-ethylene-propylene-diene rubber-styrene) resin, but for sealing materials, electrical insulation pastes, etc., epoxy resins, silicone epoxy resins, and adhesives that adhere to metals at higher temperatures are usually used. In order to maintain strength and bending strength, kerimide (trade name manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.), BT
Polyamino bismaleimide resins such as resin (trade name manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.), sealing resins that can reuse gates and runners include polyphenylene sulfide, alloys of polyphenylene sulfide, liquid crystal polymers, and/or epoxy group-containing polymers. etc. are preferred.

本発明の充填材を使用した樹脂組成物には、耐熱衝撃性
を高めるために、ブチルゴム、アクリルゴム、エチレン
プロピレンゴム、シリコーンゴム、ポリエステルエラス
トマー、ポリブタジェン等のゴム成分をこれら樹脂中に
含有させることもできる。さらに必要に応じて、ベンゾ
グアナミン、2゜4−ジヒドラジン−6−メチルアミノ
−S−)リアジン、2−メチルイミダゾール、2−エチ
ル−4−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2エ
チル−4−メチルイミダゾール等のイミダゾール誘導体
、弗化ホウ素の各種アミン錯体、トリスジメチルアミノ
メチルフェノール、1.8−ジアザ・ビシクロ(5,4
,O)−ウンデセン−7゜ベンジルジメチルアミン等の
第3級アミン化合物、ジシアンジアミド、ビスフェノー
ル型エポキシ樹脂もしくはタレゾールノボラック型エポ
キシ樹脂とアンモニアとの反応により得られるアミノア
ルコール化合物、アジピン酸ヒドラジド等の含窒素硬化
(促進)剤、フェノールノボラック、クレゾールノボラ
ック等のフェノール系硬化剤、無水テトラヒドロフタル
酸、無水へキサヒドロフタル酸、無水メチルへキサヒド
ロフタル酸等の酸無水物系硬化剤、トリフェニルホスフ
ィン、トリシクロヘキシルホスフィン、メチルジフェニ
ルホスフィン、トリトリルホスフィン、1.2−ビス(
ジフェニルホスフィノ)エタン、ビス(ジフェニルホス
フィノ)メタン等の有機ホスフィン系硬化(促進)剤、
ビス−(トリブチル錫)オキシド、ジオクテン酸銀、オ
クタン酸アンチモン、酪酸銀、−酸化鉛、硫化鉛、炭酸
鉛等の硬化触媒、白金化合物等の重合触媒、ベンゾイル
ペルオキシド、ジクミルペルオキシド等の加硫剤、カル
ナバワックス、センタナワックス、ポリエステルオリゴ
マー、シリコン油、低分子量ポリエチレン、パラフィン
、直鎖脂肪酸の金属塩、酸アミド、エステル等の滑則・
離型剤、2,6−ジーt−ブチル−4−メチルフェノー
ル、1,3.5−)リス(2−メチル−4−ヒドロキシ
−5−t−ブチルフェノール)ブタン、ジステアリルチ
オジプロピオネート、トリノニルフェニルホスファイト
、トリデシルホスファイト等の安定剤、2.2′−ジヒ
ドロキシ−4=メトキシベンゾフエノン、2(2′−ヒ
ドロキシ−5−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、
4−t−7”チルフェニルサリチレート、エチル−2−
シアノ−3,3−ジフェニルアクリレート等の光安定剤
、ベンガラ、カーボンブラック等の着色剤、三酸化アン
チモン、四酸化アンチモン、トリフェニルスチビン、水
和アルミナ、フェロセン、ホスファゼン、ヘキサブロモ
ベンゼン、テトラブロモフタル酸無水物、トリクレジル
ホスフェート、テトラブロモビスフェノールA1臭素化
エポキシ誘導体等の難燃剤、ビニルトリメトキシシラン
、T−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、T−
ウレイドプロピルトリエトキシシラン、N−β−(アミ
ノエチル)−T−アミノプロピルトリメトキシシラン、
β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメ
トキシシラン等のシラン系カップリング剤、イソプロピ
ルトリインステアロイルチタネート、ジクミルフェニル
オキシアセテートチタネート、ビス(ジオクチルパイロ
ホスフェート)オキシアセテートナタネート、イソプロ
ピルトリデシルベンゼンスルホニルチタネート等のチタ
ン系カップリング剤、アセトアルコキシアルミニウムジ
イソプロピレート等のアルミ系カップリング剤等を配合
することができる。
The resin composition using the filler of the present invention may contain a rubber component such as butyl rubber, acrylic rubber, ethylene propylene rubber, silicone rubber, polyester elastomer, or polybutadiene in order to improve thermal shock resistance. You can also do it. Furthermore, as necessary, benzoguanamine, 2゜4-dihydrazine-6-methylamino-S-)riazine, 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2ethyl-4-methylimidazole imidazole derivatives such as, various amine complexes of boron fluoride, trisdimethylaminomethylphenol, 1,8-diaza bicyclo(5,4
, O)-Undecene-7° tertiary amine compounds such as benzyl dimethylamine, dicyandiamide, amino alcohol compounds obtained by the reaction of bisphenol type epoxy resins or talezol novolac type epoxy resins with ammonia, and adipic acid hydrazide. Nitrogen curing (accelerator) agents, phenolic curing agents such as phenol novolak and cresol novolak, acid anhydride curing agents such as tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, triphenylphosphine , tricyclohexylphosphine, methyldiphenylphosphine, tritolylphosphine, 1,2-bis(
organic phosphine curing (accelerator) agents such as diphenylphosphino)ethane and bis(diphenylphosphino)methane;
Curing catalysts such as bis-(tributyltin) oxide, silver dioctate, antimony octoate, silver butyrate, lead oxide, lead sulfide, lead carbonate, polymerization catalysts such as platinum compounds, vulcanization of benzoyl peroxide, dicumyl peroxide, etc. agent, carnauba wax, centana wax, polyester oligomer, silicone oil, low molecular weight polyethylene, paraffin, metal salts of straight chain fatty acids, acid amides, esters, etc.
Mold release agent, 2,6-di-t-butyl-4-methylphenol, 1,3.5-)lis(2-methyl-4-hydroxy-5-t-butylphenol)butane, distearylthiodipropionate, Stabilizers such as trinonylphenyl phosphite and tridecyl phosphite, 2,2'-dihydroxy-4=methoxybenzophenone, 2(2'-hydroxy-5-methylphenyl)benzotriazole,
4-t-7” tylphenyl salicylate, ethyl-2-
Light stabilizers such as cyano-3,3-diphenylacrylate, colorants such as red iron, carbon black, antimony trioxide, antimony tetroxide, triphenylstibine, hydrated alumina, ferrocene, phosphazene, hexabromobenzene, tetrabromophthal. Acid anhydrides, tricresyl phosphate, flame retardants such as tetrabromobisphenol A1 brominated epoxy derivatives, vinyltrimethoxysilane, T-glycidoxypropyltrimethoxysilane, T-
ureidopropyltriethoxysilane, N-β-(aminoethyl)-T-aminopropyltrimethoxysilane,
Silane coupling agents such as β-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, isopropyltriine stearoyl titanate, dicumylphenyloxyacetate titanate, bis(dioctylpyrophosphate)oxyacetate nathanate, isopropyltridecylbenzene A titanium-based coupling agent such as sulfonyl titanate, an aluminum-based coupling agent such as acetalkoxyaluminum diisopropylate, etc. can be blended.

本発明の充填剤を含有する樹脂組成物は、前記した各成
分の所定量をヘンシェルミキサー等により充分混合後、
ロール、バンバリーミキサ−、ニーダ−1らいかい機、
アジホモミキサー、2軸押出機、1軸押出機等の公知の
混線手段により加熱混練して製造することができる。
The resin composition containing the filler of the present invention can be prepared by thoroughly mixing predetermined amounts of each of the above-mentioned components using a Henschel mixer or the like.
Roll, Banbury mixer, kneader 1 leveler,
It can be produced by heating and kneading using a known mixing means such as an Ajihomo mixer, a twin-screw extruder, and a single-screw extruder.

C実施例〕 以下本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明
はこれらの実施例に限定されるものではない。実施例お
よび比較例において「部」、「%」とあるのは、「重量
部」、「重量%」を意味する。
C Example] The present invention will be specifically explained below with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples. In Examples and Comparative Examples, "parts" and "%" mean "parts by weight" and "% by weight."

β−化 、粉末の製゛告 金属Si粉末(最大粒径149μm、平均粒径10u+
n、純度99.9%)100部、ランプブラック70部
、アエロジル0X−50(日本アエロジル社製)30部
、カルボキシメチルセルロースのアンモニウム塩5%水
溶液13部を■ブレンダーにて20分間混合後、金型プ
レス成形、乾燥、脱脂後窒素気流中で250″C/hr
の昇温速度で1450℃まで昇温し、1450″Cでさ
らに48hr時間反応させて、反応塊を得た。この反応
塊を粗砕後ボールミルで2hr粉砕し、目開き149μ
mの篩網で粗粒を除去分級して表−2に示す粉末A1〜
3を得た。これらの粉末のX線回折の結果、金属Si 
0.08%、シリコンオキシナイトライド0.6%、α
−窒化硅素14.3%、残りがβ−窒化硅素であった。
β- conversion, powder production of metal Si powder (maximum particle size 149μm, average particle size 10u+
n, purity 99.9%), 70 parts of lamp black, 30 parts of Aerosil 0X-50 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.), and 13 parts of a 5% aqueous solution of ammonium salt of carboxymethylcellulose were mixed in a blender for 20 minutes, and then gold was mixed. After mold press molding, drying, and degreasing, 250″C/hr in a nitrogen stream
The temperature was raised to 1450°C at a heating rate of
Powders A1~ as shown in Table 2 are obtained by removing coarse particles and classifying them using a sieve screen of
I got 3. As a result of X-ray diffraction of these powders, metallic Si
0.08%, silicon oxynitride 0.6%, α
- 14.3% silicon nitride, and the remainder was β-silicon nitride.

さらに粉末A−1〜3を分級点を変えてターボブラシフ
ァイア(日清エンジニアリング社製)空気分級機で分級
し粉末A−4〜12を得た。
Further, Powders A-1 to A-3 were classified using a Turbo Brush Fire (manufactured by Nisshin Engineering Co., Ltd.) air classifier with different classification points to obtain Powders A-4 to A-12.

α−窒化硅素粉末の製造 金属Si粉末(最大粒径149μm、平均粒径10μm
、M度99.9%)100部、カルボキシメチルセルロ
ースのアンモニウム塩5%水溶液10部を■ブレンダー
にて20分間混合し、金型プレス成形、乾燥、脱脂後窒
素気流中で1000°Cまで200″C/hrで昇温し
、1000〜1450°Cの間を10°C/hrで昇温
し、1450°Cでさらに10hr反応をさせて反応塊
を得た。この反応塊を粗砕後、ボールミルで6hr及び
2hr微粉砕し目開き141 μ蒙の篩網で粗粒を除去
し、表−2に示す粉末A−13及びA−14を得た。X
線回折の結果、金属Si 0.04%、α−窒化硅素9
1.2%、残りがβ−窒化硅素であった。
Production of α-silicon nitride powder Metallic Si powder (maximum particle size 149 μm, average particle size 10 μm
, M degree 99.9%) and 10 parts of a 5% aqueous solution of ammonium salt of carboxymethylcellulose were mixed in a blender for 20 minutes, mold press-molded, dried, and degreased, then heated to 1000°C in a nitrogen stream for 20''. The temperature was raised at a rate of C/hr, the temperature was raised between 1000 and 1450°C at a rate of 10°C/hr, and the reaction was further carried out at 1450°C for 10 hours to obtain a reaction mass. After crushing this reaction mass, The powders A-13 and A-14 shown in Table 2 were obtained by finely pulverizing them in a ball mill for 6 hours and 2 hours, and removing coarse particles with a sieve screen with an opening of 141 μm.X
As a result of line diffraction, metallic Si 0.04%, α-silicon nitride 9
1.2%, and the remainder was β-silicon nitride.

さらに粉末A−13を分級点を変えてターボブラシファ
イア(日清エンジニアリング社製)空気分級機で分級し
粉末A−15を得た。
Further, Powder A-13 was classified using a Turbo Brush Fire (manufactured by Nissin Engineering Co., Ltd.) air classifier with different classification points to obtain Powder A-15.

窒化アルミニウム破砕粉末の製造 アトマイズアルミニウム粉末(最大粒径200 a m
、純度99.99%)100部を黒鉛トレーに厚さ3c
mになるように均一に充填し、0.3気圧の窒素雰囲気
正中、650°Cで3hr、 750°Cで2hr反応
させたのち、さらに1000°Cまで30°C/hrで
昇温し、その温度で1気圧の窒素雰囲気にし5hr反応
させて反応塊を得た。これを前述のα−窒化硅素粉末の
製造の場合と同様に粗粒を除去後分級して粉末A−16
を得た。X線回折の結果、未反応アルミニウム0.13
%を含む窒化アルミニウムであった。
Production of crushed aluminum nitride powder Atomized aluminum powder (maximum particle size 200 am
, purity 99.99%) in a graphite tray with a thickness of 3 cm.
After reacting for 3 hours at 650°C and 2 hours at 750°C in a nitrogen atmosphere of 0.3 atm, the temperature was further raised to 1000°C at a rate of 30°C/hr. At that temperature, the reaction was carried out in a nitrogen atmosphere of 1 atm for 5 hours to obtain a reaction mass. After removing coarse particles, this was classified into powder A-16 in the same manner as in the production of α-silicon nitride powder.
I got it. As a result of X-ray diffraction, unreacted aluminum 0.13
% aluminum nitride.

−サイアロンの製造 金属Si粉末(最大粒径149μ個、平均粒径10un
、純度99.9%)42部、溶融シリカ粉末(最大粒径
44μ鋼、平均粒径5μm、純度99.9%)29部、
金属Si粉末(最大粒径44μm、平均粒径1oμ霧、
純度99.9%)47部及びα−アルミナ68部配合し
た。
- Production of Sialon Metallic Si powder (maximum particle size 149μ, average particle size 10un)
, purity 99.9%) 42 parts, fused silica powder (maximum particle size 44 μm steel, average particle size 5 μm, purity 99.9%) 29 parts,
Metal Si powder (maximum particle size 44μm, average particle size 1oμm mist,
47 parts (purity 99.9%) and 68 parts α-alumina were blended.

これを■型ブレンダーにて20分間混合した後、カルボ
キシメチルセルロースのアンモニウム塩の10%水溶液
を外削で8%添加しロールミルにて混練後成形し、それ
を窒素ガス雰囲気中1400〜1500°Cで15時間
加熱して窒化焼結体を製造し、6hr粉砕後分級して、
粉末A−17を得た。X線回折の結果、金属510.0
6%、金属アルミニウム0.11%、α−アルミナ2.
5%、残りがβ−サイアロンであった。
After mixing this in a Type B blender for 20 minutes, 8% of a 10% aqueous solution of ammonium salt of carboxymethylcellulose was added by external grinding, kneaded in a roll mill, and then shaped. A nitrided sintered body was produced by heating for 15 hours, and after being crushed for 6 hours, it was classified.
Powder A-17 was obtained. As a result of X-ray diffraction, metal 510.0
6%, metallic aluminum 0.11%, α-alumina 2.
5%, and the remainder was β-sialon.

シリコンオキシナイトライド結晶の製造金属Si粉末(
最大粒径74μm、平均粒径12μm、純度99.9%
)60部と生シリカ粉末(最大粒径44μm、平均粒径
10μm、純度99.9%)40部を■型ブレンダーに
て20分間混合した後カルボキシメチルセルロースのア
ンモニウム塩の10%水溶液ヲ外割で8%添加しロール
ミルにて混練した。これをプレス成型により成形し乾燥
後窒素ガス雰囲気中1450〜1500”Cで5時間加
熱して窒化物を製造した。
Production of silicon oxynitride crystals Metallic Si powder (
Maximum particle size 74μm, average particle size 12μm, purity 99.9%
) and 40 parts of raw silica powder (maximum particle size 44 μm, average particle size 10 μm, purity 99.9%) were mixed in a ■ type blender for 20 minutes, and then mixed with a 10% aqueous solution of ammonium salt of carboxymethyl cellulose. 8% was added and kneaded using a roll mill. This was molded by press molding, dried, and then heated at 1450 to 1500''C for 5 hours in a nitrogen gas atmosphere to produce a nitride.

この窒化物をクラッシャーで1次粗砕後ボールミルで微
粉砕し、149μの篩網で粗粒を除去し、分級・粒度調
整して粉末A−18を得た。X線回折の結果、金属Si
 0.11%、β−窒化硅素2.2%、α−窒化硅素1
.3%、残りがシリコンオキシナイトライドであった。
This nitride was firstly crushed with a crusher, then finely pulverized with a ball mill, coarse particles were removed with a 149μ sieve, and the powder A-18 was obtained by classification and particle size adjustment. As a result of X-ray diffraction, metal Si
0.11%, β-silicon nitride 2.2%, α-silicon nitride 1
.. 3%, and the remainder was silicon oxynitride.

エポキシ樹脂組成物の製造 クレゾールノボラックエポキシ樹脂(エポキシ当量21
5) 150部、臭素化クレゾールノボラックエポキシ
樹脂(エポキシ当量350) 45部、フェノールノボ
ラック樹脂(フェノール当量107)87部からなる樹
脂組成物に表−2で示す充填剤、二酸化アンチモン5.
6部、カーボンブラック3部、カルナバワックス4.4
部および硬化促進剤として2−ウンデシルイミダゾール
2.5部、T−グリシドキシプロピルトリメトキシシラ
ン5部をミキシングロールで混練後粉砕してエポキシ樹
脂組成物を調整した。これらの樹脂組成物を次に示す評
価試験を実施した。その結果を表−3に示す。
Production of epoxy resin composition Cresol novolak epoxy resin (epoxy equivalent: 21
5) A resin composition consisting of 150 parts, 45 parts of brominated cresol novolak epoxy resin (epoxy equivalent: 350), and 87 parts of phenol novolac resin (phenol equivalent: 107) was mixed with the fillers shown in Table 2, and 5.5 parts of antimony dioxide.
6 parts, carbon black 3 parts, carnauba wax 4.4
2.5 parts of 2-undecylimidazole as a curing accelerator, and 5 parts of T-glycidoxypropyltrimethoxysilane were kneaded with a mixing roll and pulverized to prepare an epoxy resin composition. These resin compositions were subjected to the following evaluation tests. The results are shown in Table-3.

表−2〜3において記載した測定値は次の方法によった
The measured values listed in Tables 2 and 3 were determined by the following method.

(1)粒度 レーザー回折式法による粒度測定(シーラス社製Gra
nuloo+eterモデル715型)を行なった。
(1) Particle size measurement by laser diffraction method (Gra
nuloo+eter model 715).

(2)成形性(スパイラルフロー) EMMI規格に準じた金型を使用し成形温度170°C
1成形圧カフ0kg/c−dで測定した。
(2) Formability (spiral flow) Molding temperature is 170°C using a mold that complies with EMMI standards.
1 Measured at a molding pressure cuff of 0 kg/c-d.

(3)  パリ 2、 5.10.30μmの所定厚みのスリットを持つ
金型を用い成形温度170°C1成形圧カフ0kg/c
tllで流動長を測定し、その最大値を示した。
(3) Paris 2, 5.10. Using a mold with a slit of a predetermined thickness of 30 μm, molding temperature: 170°C, molding pressure: 0 kg/c
The flow length was measured at tll, and its maximum value was shown.

(4)放熱性 熱伝導率測定装置(アグネ社製「^RC−TC−1型」
)を用い、室温において温度傾斜法で測定した。
(4) Heat dissipation thermal conductivity measuring device (“RC-TC-1 type” manufactured by Agne)
) was measured by the temperature gradient method at room temperature.

(5)耐ヒートシヨツク性評価(耐T/S性)アイラン
ドサイズ4X7.5mの16ピンリードフレームを各組
成物によりトランスファー成形し、その16ピンDIP
型成形体を一196°Cの液体と 260°Cの液体に
30秒ずつ浸漬を200回繰り返して成形体表面のクラ
ンクの発生率を試料個数50個から求めた。
(5) Heat shock resistance evaluation (T/S resistance) A 16-pin lead frame with an island size of 4 x 7.5 m was transfer molded using each composition, and the 16-pin DIP
The molded body was immersed 200 times in a liquid at -196°C and a liquid at 260°C for 30 seconds each, and the occurrence rate of cranks on the surface of the molded body was determined from 50 samples.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明の充填材を使用することにより、スパイラルフロ
ー特性、ハリ特性及び放熱性のいずれにおいても優れた
樹脂組成物を得ることができる。
By using the filler of the present invention, it is possible to obtain a resin composition that is excellent in all of spiral flow properties, firmness properties, and heat dissipation properties.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、次の粒度特性を有する窒化物粉末及び/又は酸窒化
物粉末を含有してなる無機粉末からなることを特徴とす
る樹脂用充填材。 (粒度分布) −1μ:5〜10% −2μ:6〜12% −3μ:10〜16% −8μ:35〜47% −24μ:51〜63% −48μ:67〜75% −96μ:88〜92% (平均粒径)9〜22μm (RRS−n値)≦0.80
[Scope of Claims] 1. A filler for resin, characterized in that it is made of an inorganic powder containing nitride powder and/or oxynitride powder having the following particle size characteristics. (Particle size distribution) -1μ: 5-10% -2μ: 6-12% -3μ: 10-16% -8μ: 35-47% -24μ: 51-63% -48μ: 67-75% -96μ: 88 ~92% (average particle size) 9-22 μm (RRS-n value) ≦0.80
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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