JPH0483251A - Photosensitive material processing device - Google Patents
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- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 93
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 89
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 18
- 238000002347 injection Methods 0.000 abstract description 4
- 239000007924 injection Substances 0.000 abstract description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 23
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 14
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 11
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 10
- 238000004061 bleaching Methods 0.000 description 8
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 7
- -1 halogen ions Chemical class 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 6
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 6
- 239000011231 conductive filler Substances 0.000 description 5
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 5
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- 239000007844 bleaching agent Substances 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 3
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 239000000417 fungicide Substances 0.000 description 2
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 2
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 2
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000004060 metabolic process Effects 0.000 description 2
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 239000003755 preservative agent Substances 0.000 description 2
- GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L sodium sulfite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])=O GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea Chemical compound NC(N)=S UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTLHLXYADXCVCF-UHFFFAOYSA-N 2-(4-amino-n-ethyl-3-methylanilino)ethanol Chemical compound OCCN(CC)C1=CC=C(N)C(C)=C1 QTLHLXYADXCVCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFXLRLQSHRNHCE-UHFFFAOYSA-N 2-(4-amino-n-ethylanilino)ethanol Chemical compound OCCN(CC)C1=CC=C(N)C=C1 WFXLRLQSHRNHCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDAWCLOXVUBKRW-UHFFFAOYSA-N 2-aminophenol Chemical class NC1=CC=CC=C1O CDAWCLOXVUBKRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HDGMAACKJSBLMW-UHFFFAOYSA-N 4-amino-2-methylphenol Chemical compound CC1=CC(N)=CC=C1O HDGMAACKJSBLMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBTWVJKPQPQTDW-UHFFFAOYSA-N 4-n,4-n-diethyl-2-methylbenzene-1,4-diamine Chemical compound CCN(CC)C1=CC=C(N)C(C)=C1 XBTWVJKPQPQTDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QNGVNLMMEQUVQK-UHFFFAOYSA-N 4-n,4-n-diethylbenzene-1,4-diamine Chemical compound CCN(CC)C1=CC=C(N)C=C1 QNGVNLMMEQUVQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FFAJEKUNEVVYCW-UHFFFAOYSA-N 4-n-ethyl-4-n-(2-methoxyethyl)-2-methylbenzene-1,4-diamine Chemical compound COCCN(CC)C1=CC=C(N)C(C)=C1 FFAJEKUNEVVYCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000894006 Bacteria Species 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000049 Carbon (fiber) Polymers 0.000 description 1
- 241000195493 Cryptophyta Species 0.000 description 1
- QPCDCPDFJACHGM-UHFFFAOYSA-N N,N-bis{2-[bis(carboxymethyl)amino]ethyl}glycine Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(=O)O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O QPCDCPDFJACHGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021543 Nickel dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Natural products NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000001154 acute effect Effects 0.000 description 1
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 1
- AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N alumane Chemical class [AlH3] AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYXNTHIYBIDHGM-UHFFFAOYSA-N ammonium thiosulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S([O-])(=O)=S XYXNTHIYBIDHGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- XNSQZBOCSSMHSZ-UHFFFAOYSA-K azane;2-[2-[bis(carboxylatomethyl)amino]ethyl-(carboxymethyl)amino]acetate;iron(3+) Chemical compound [NH4+].[Fe+3].[O-]C(=O)CN(CC([O-])=O)CCN(CC([O-])=O)CC([O-])=O XNSQZBOCSSMHSZ-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000003899 bactericide agent Substances 0.000 description 1
- 239000008280 blood Substances 0.000 description 1
- 210000004369 blood Anatomy 0.000 description 1
- SXDBWCPKPHAZSM-UHFFFAOYSA-N bromic acid Chemical class OBr(=O)=O SXDBWCPKPHAZSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000872 buffer Substances 0.000 description 1
- 230000003139 buffering effect Effects 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 239000004917 carbon fiber Substances 0.000 description 1
- 239000003575 carbonaceous material Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 230000002860 competitive effect Effects 0.000 description 1
- 239000000645 desinfectant Substances 0.000 description 1
- 150000005205 dihydroxybenzenes Chemical class 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 125000002485 formyl group Chemical class [H]C(*)=O 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 159000000014 iron salts Chemical class 0.000 description 1
- 210000003127 knee Anatomy 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 159000000003 magnesium salts Chemical class 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- NPKFETRYYSUTEC-UHFFFAOYSA-N n-[2-(4-amino-n-ethyl-3-methylanilino)ethyl]methanesulfonamide Chemical compound CS(=O)(=O)NCCN(CC)C1=CC=C(N)C(C)=C1 NPKFETRYYSUTEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- FWFGVMYFCODZRD-UHFFFAOYSA-N oxidanium;hydrogen sulfate Chemical compound O.OS(O)(=O)=O FWFGVMYFCODZRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 239000006174 pH buffer Substances 0.000 description 1
- 229960003330 pentetic acid Drugs 0.000 description 1
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 1
- 150000004986 phenylenediamines Chemical class 0.000 description 1
- 239000004848 polyfunctional curative Substances 0.000 description 1
- 150000003142 primary aromatic amines Chemical class 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- NDGRWYRVNANFNB-UHFFFAOYSA-N pyrazolidin-3-one Chemical class O=C1CCNN1 NDGRWYRVNANFNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008237 rinsing water Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- MKWYFZFMAMBPQK-UHFFFAOYSA-J sodium feredetate Chemical compound [Na+].[Fe+3].[O-]C(=O)CN(CC([O-])=O)CCN(CC([O-])=O)CC([O-])=O MKWYFZFMAMBPQK-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 235000010265 sodium sulphite Nutrition 0.000 description 1
- AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L sodium thiosulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=S AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000019345 sodium thiosulphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N zinc oxide Inorganic materials [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- Photographic Processing Devices Using Wet Methods (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、例えばフィルム状の感光材料を、幅狭の処理
空間にて現像処理するための感光材料処理装置に関する
ものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION <Industrial Application Field> The present invention relates to a photosensitive material processing apparatus for developing, for example, a film-like photosensitive material in a narrow processing space.
〈従来の技術〉
従来、感光材料の厚さ方向の幅が狭い処理空間を有する
スリット型の処理槽を用いて感光材料を現像処理する技
術(以下スリット現像という)が知られている(特開昭
63.−131138号)。<Prior Art> Conventionally, a technique (hereinafter referred to as slit development) of developing a photosensitive material using a slit-type processing tank having a narrow processing space in the thickness direction of the photosensitive material is known (Japanese Patent Application Laid-open No. (Sho 63.-131138).
このスリット現像は、処理空間の開放部分、即ち大気と
の接触部分の面積が小さいため、処理液の蒸発や劣化(
酸化)が少(、また処理空間の体積が小さいため、補充
方式で処理する場合には新液である補充液の交換比率が
高(なり、少量処理のランニングでも液の蒸発や酸化劣
化の影響を受けにくい。 また、補充方式でない時には
、充填する処理液が少量で済む。In this slit development, the area of the open part of the processing space, that is, the part that comes into contact with the atmosphere, is small, so there is no risk of evaporation or deterioration of the processing solution.
(Also, since the volume of the processing space is small, when processing with the replenishment method, the exchange rate of new replenisher is high. Even when processing small quantities, the effects of evaporation and oxidative deterioration of the solution are small. Also, when not using the replenishment method, only a small amount of processing liquid is required.
従って、前記補充方式や充填方式のいずれの場合にも、
ランニング液量は少くてよいという利点がある。Therefore, in both the replenishment method and filling method,
It has the advantage that a small amount of running fluid is required.
一方、このようなスリット現像をフィルムの自動現像機
に適用した場合、以下のような問題点がある。On the other hand, when such slit development is applied to an automatic film processor, there are the following problems.
即ち、処理空間に充填されている処理液量が少いため、
感光材料から溶出した物質の濃度上昇速度が速く、また
処理空間が狭いために処理液が混合されにくい。In other words, since the amount of processing liquid filled in the processing space is small,
The concentration of the substance eluted from the photosensitive material increases rapidly, and the processing space is narrow, making it difficult to mix the processing solutions.
このため、感光材料の搬送方向に沿って液組成の不均一
化が生じやすく、−旦不均一が生じると、感光材料の搬
送方向に沿って処理液中に前記液組成の不均一化が拡大
する傾向がある。Therefore, non-uniformity of the liquid composition tends to occur along the transport direction of the photosensitive material, and once non-uniformity occurs, the non-uniformity of the liquid composition increases in the processing liquid along the transport direction of the photosensitive material. There is a tendency to
このため、処理むらや写真性のバラツキが大きくなると
いう欠点があった。For this reason, there was a drawback that processing unevenness and variation in photographic properties became large.
さらには、処理空間内で感光材料が搬送されると、処理
液は感光材料に対して相対的に流れることになる。 感
光部分では処理に伴い溶出物質が生じるが、前述の相対
的液流により、感光部分の感光材料搬送方向と逆方向の
側端縁は、前記溶出物質の影響を受ける。 特に、現像
液の場合には、溶出物質としてハロゲンイオンや現像抑
制剤等の現像抑制成分が溶出するので、感光部分に隣接
した部分に、いわゆる尾びきが生ずるといった欠点があ
る。 また、この様に溶出した現像抑制成分は、感光面
の感度ムラを生じさせていた。Furthermore, when the photosensitive material is transported within the processing space, the processing liquid flows relative to the photosensitive material. In the photosensitive area, eluted substances are generated during processing, and due to the above-mentioned relative liquid flow, the side edge of the photosensitive area in the direction opposite to the direction in which the photosensitive material is conveyed is affected by the eluted substances. In particular, in the case of a developer, development inhibiting components such as halogen ions and development inhibitors are eluted as eluted substances, so there is a drawback that so-called tailing occurs in areas adjacent to photosensitive areas. Furthermore, the development inhibiting component eluted in this manner causes sensitivity unevenness on the photosensitive surface.
特に、感光材料が最初に処理液に漬かる搬入口近傍では
、感光材料からの溶比物質の量が多(、かつまた未処理
の感光材料が連続的に送り込まれて来る部分であるため
に、前述した処理液の不均一化が著しく拡大し、尾びき
ゃ感度ムラも顕著に発生するといった問題があった。In particular, near the entrance where the photosensitive material is first immersed in the processing solution, there is a large amount of soluble substances from the photosensitive material (and because this is the area where unprocessed photosensitive material is continuously fed, There was a problem in that the aforementioned non-uniformity of the processing liquid was significantly increased, and unevenness in tail sensitivity also occurred significantly.
〈発明が解決しようとする課題〉
本発明は、上記従来のスリット現像技術の利点を保持し
つつ、スリット状処理空間内での均一な処理液状態を確
保して、処理ムラや写真性のバラツキの発生を減少させ
るとともに、尾びきや感度ムラの発生を防止し、写真性
が良好な状態に処理された感光材料が得られる処理装置
を提供することを目的としている。<Problems to be Solved by the Invention> The present invention maintains the advantages of the conventional slit development technology described above, while ensuring a uniform processing liquid state within the slit-shaped processing space, and eliminating processing unevenness and variations in photographic properties. It is an object of the present invention to provide a processing apparatus that can reduce the occurrence of turbidity, prevent the occurrence of tailing and sensitivity unevenness, and obtain a photographic material processed to have good photographic properties.
〈課題を解決するための手段〉 上記目的は以下の発明により達成される。〈Means for solving problems〉 The above object is achieved by the following invention.
即ち、本発明は感光材料を収容搬送する幅狭の処理空間
に処理液を充填して該感光材料を処理する処理槽を有す
る感光材料処理装置に8いて、
前記処理空間内には感光材料の感光面に向けて処理液を
噴射するノズルを少なくとも感光材料搬入口近傍に設け
、
前記処理空間内の底部付近には処理液吸入口を設けると
共に、
前記ノズルと前記吸入口とは循環手段を介して連結し、
前記ノズルの噴射方向を感光材料に対して感光材料搬送
方向へ向けたことを特徴とする感光材料処理装置である
。That is, the present invention provides a photosensitive material processing apparatus having a processing tank for filling a processing liquid into a narrow processing space for storing and transporting a photosensitive material to process the photosensitive material, and in which the processing space contains the photosensitive material. A nozzle for spraying a processing liquid toward the photosensitive surface is provided at least near the photosensitive material inlet, a processing liquid suction port is provided near the bottom of the processing space, and the nozzle and the suction port are connected to each other through a circulation means. and connect,
The photosensitive material processing apparatus is characterized in that the ejection direction of the nozzle is directed toward the photosensitive material conveyance direction with respect to the photosensitive material.
〈作用〉
感光材料は、処理槽の処理空間内へ、搬入口から送り込
まれ、幅狭の処理空間内で処理液に漬かる。 感光材料
は前記処理空間内で、処理液に漬かった状態で処理され
ながら搬送される。<Function> The photosensitive material is fed into the processing space of the processing tank from the inlet and immersed in the processing liquid within the narrow processing space. The photosensitive material is transported within the processing space while being immersed in the processing solution.
前記処理空間内の前記搬入口近傍に設けられたノズルか
らは、処理液が感光材料の感光面へ向けて噴射される。A processing liquid is sprayed toward the photosensitive surface of the photosensitive material from a nozzle provided in the vicinity of the entrance in the processing space.
処理液は、前記処理空間底部付近に設けられた吸入口
から吸い込まれ、循環手段を介してノズルへ送られる。The processing liquid is sucked in from a suction port provided near the bottom of the processing space and sent to the nozzle via a circulation means.
従って処理空間内では、処理液は前記搬入口側から底
部方向へ循環する。Therefore, within the processing space, the processing liquid circulates from the carry-in port side toward the bottom.
前記ノズルからの処理液噴射方向は、感光材料搬送方向
へ向けられているため、感光材料搬送方向に対して感光
部分の逆方向側端縁に生ずる尾びきや処理ムラが防止さ
れる。 また、感度ムラも減少する。Since the processing liquid is ejected from the nozzle in the direction in which the photosensitive material is transported, tailing and processing unevenness occurring at the edge of the photosensitive portion on the opposite side to the direction in which the photosensitive material is transported is prevented. In addition, sensitivity unevenness is also reduced.
さらに、感光面に対して処理液が噴きつけられているた
め、感光面から処理液中に溶出した物質が払拭され、常
時感光面は均一な処理液によって処理される。Further, since the processing liquid is sprayed onto the photosensitive surface, substances eluted into the processing liquid from the photosensitive surface are wiped away, and the photosensitive surface is always processed with a uniform processing liquid.
この結果、良好な写真性を有する処理済感光材料を安定
的に得ることが可能となる。As a result, it becomes possible to stably obtain a processed light-sensitive material having good photographic properties.
〈具体的構成〉 以下本発明の一実施例について詳説する。<Specific configuration> An embodiment of the present invention will be explained in detail below.
第1図は本発明の第1実施例である処理装置lの側面断
面図である。 処理装置1を構成する処理槽3は、外部
材5と内部材7とから構成されている。 外部材5の内
部には、底部が円弧状に湾曲した凹部9が形成されてい
る。 また、内部材7の下端は側面視で円弧状に形成さ
れており、前記凹部9内に内部材7を挿入することによ
って、外部材5と内部材7の間に、感光材料Sを処理す
るための狭幅の処理空間11が形成される。FIG. 1 is a side cross-sectional view of a processing apparatus l which is a first embodiment of the present invention. The processing tank 3 constituting the processing apparatus 1 is composed of an outer member 5 and an inner member 7. A recess 9 whose bottom portion is curved in an arc shape is formed inside the outer member 5 . Further, the lower end of the inner material 7 is formed in an arc shape in a side view, and by inserting the inner material 7 into the recess 9, the photosensitive material S is processed between the outer material 5 and the inner material 7. A narrow processing space 11 is formed for this purpose.
本実施例の処理装置1においては、処理空間11は側断
面で縦U字状、横断面でスリット状に構成されている。In the processing apparatus 1 of this embodiment, the processing space 11 is configured to have a vertical U-shape in side section and a slit-shape in cross section.
なお、内部材7は、中実であっても中空であってもよ
く、中空構造とすれば処理液13の保温性が向上する点
で好ましい。Note that the internal member 7 may be solid or hollow, and a hollow structure is preferable because the heat retention of the processing liquid 13 is improved.
図示するように処理空間11の長手方向端部は、処理槽
3の上面に開口し、一方の口は感光材料Sを挿入する搬
入口12となっており、挿入された感光材料Sは処理空
間ll内を搬送されて、他方の搬出口14から送り出さ
れる。As shown in the figure, the longitudinal end of the processing space 11 opens on the upper surface of the processing tank 3, and one opening serves as a loading port 12 into which the photosensitive material S is inserted, and the inserted photosensitive material S enters the processing space. 1, and is sent out from the other outlet 14.
即ち、処理空間11は感光材料Sの搬送経路となる。That is, the processing space 11 becomes a conveyance path for the photosensitive material S.
前記スリット状横断面を有する処理空間11の厚さ方向
距離(スリット間隔)は、処理される感光材料Sの厚さ
の4〜100倍程度、特に8〜40倍程度とするのが好
ましい。The distance in the thickness direction (slit interval) of the processing space 11 having the slit-like cross section is preferably about 4 to 100 times, particularly about 8 to 40 times, the thickness of the photosensitive material S to be processed.
このような間隙とすることにより感光材料Sを支障なく
搬送することができ、搬送によるキズの発生も防止する
ことができる。By providing such a gap, the photosensitive material S can be transported without any hindrance, and the occurrence of scratches due to transport can also be prevented.
図面では感光材料Sの搬送手段は省略されているが、リ
ーダテープを用いた搬送方式、搬送ローラを用いた搬送
方式など各種の搬送方式を利用することができる。 な
お、本第1実施例の場合には、感光材料Sの感光面は外
部材5側へ対向せしめた状態で搬送される。Although the conveying means for the photosensitive material S is omitted in the drawing, various conveying methods such as a conveying method using a leader tape and a conveying method using a conveying roller can be used. In the case of the first embodiment, the photosensitive material S is transported with its photosensitive surface facing toward the outer material 5 side.
処理空間11内には処理液13が満たされている。 処
理液13の種類としては、処理装置1の用途によって異
なり、例えば現像液、漂白液、定着液、漂白・定着液、
洗浄水、安定液などが挙げられる。The processing space 11 is filled with a processing liquid 13 . The type of processing liquid 13 varies depending on the use of the processing device 1, and includes, for example, a developing solution, a bleaching solution, a fixing solution, a bleaching/fixing solution,
Examples include washing water and stabilizing liquid.
処理空間ll内において、上部開口部近傍には、それぞ
れ給液口15と排液口17が設けられており、給液口1
5は搬入口12側に配置されている。 給液口15より
新鮮な処理液13が処理空間11内に供給され、処理空
間11内において感光材料Sの処理に供される。 処理
空間ll内の処理液13は排液口17からオーバーフロ
ーにより排出される。In the processing space 11, a liquid supply port 15 and a liquid drain port 17 are provided near the upper opening, respectively.
5 is arranged on the loading port 12 side. A fresh processing liquid 13 is supplied into the processing space 11 from the liquid supply port 15, and is used for processing the photosensitive material S within the processing space 11. The processing liquid 13 in the processing space 11 is discharged from the drain port 17 by overflow.
一方第1図および第2図に示すように、外部材5の凹部
9を規定する壁部18には、複数の孔が凹部9側から上
方へ向けて傾斜して穿設され、処理液13を噴射するノ
ズル19を構成している。On the other hand, as shown in FIGS. 1 and 2, a plurality of holes are formed in the wall portion 18 defining the recess 9 of the outer member 5 so as to be inclined upward from the recess 9 side, and the processing liquid 13 It constitutes a nozzle 19 that injects.
一方、U字状に湾曲した処理空間11の底部湾曲部分、
即ち凹部9の底部には、処理液13の吸入口21が開口
している。On the other hand, the bottom curved part of the processing space 11 curved in a U-shape,
That is, an inlet 21 for the processing liquid 13 is opened at the bottom of the recess 9 .
該吸入口21は、外部材5内に内蔵されたヒータHに連
通し、さらに該ヒータHはポンプPに接続されている。The suction port 21 communicates with a heater H built in the outer member 5, and the heater H is further connected to a pump P.
前記ポンプpには、外部材5内に設けられた配液路2
3が接続され、前記ノズル19によって、処理空間11
と配液路23が連通する構造となっている。The pump p includes a liquid distribution path 2 provided in the external member 5.
3 is connected to the processing space 11 by the nozzle 19.
It has a structure in which the liquid distribution path 23 and the liquid distribution path 23 communicate with each other.
上記配液路23は、第1図に示す側面視において、処理
空間11の壁部18の外側に配設され、共に下部のポン
プPに接続されている。The liquid distribution path 23 is disposed outside the wall portion 18 of the processing space 11 in the side view shown in FIG. 1, and both are connected to the pump P at the bottom.
本実施例の処理装置lにおいては、ノズル19と吸入口
21は、上記したヒータH、ポンプPおよび配液路23
によって構成されている循環手段によって、連結される
。 なお、ヒータHには、センサーが内蔵されており、
循環する処理液13の温度を随時検出して、処理液13
を最適温度に維持するように、ヒータHが制御される。In the processing apparatus I of this embodiment, the nozzle 19 and the suction port 21 are connected to the heater H, the pump P and the liquid distribution path 23 described above.
are connected by circulation means constituted by. Furthermore, heater H has a built-in sensor.
The temperature of the circulating processing liquid 13 is detected at any time, and the processing liquid 13 is
The heater H is controlled to maintain the temperature at the optimum temperature.
また、このヒータHの補助として各種の面状発熱体
H3をポンプPの前後側に設け、あるいは、ヒータHの
代りに前記面状発熱体Htのみを設けた構成としても良
い。 この他面状発熱体の取付位置としては、内部材7
の外壁側に取付でも良(、この場合の具体的構成として
は、実願平2−29516号に開示されている。Further, as an auxiliary to the heater H, various planar heating elements H3 may be provided on the front and rear sides of the pump P, or the heater H may be replaced with only the planar heating element Ht. The mounting position of the other planar heating element is internal member 7.
It may be attached to the outer wall side of the wall (the specific structure in this case is disclosed in Utility Model Application No. 2-29516).
このような面状発熱体としては、ヒーター内蔵パネルヒ
ーター、オイル循環式パネルヒーター、各種導電性フィ
ラーを含有する面状発熱体、ヒーターエレメントを絶縁
材料で被覆したもの等が挙げられるが、その中でも特に
、導電性フィラーを含有するものやヒーターエレメント
を絶縁材料(有機材料、セラミックスまたはこれらの混
合材料等)で被覆したものが好ましい。 なお、導電性
フィラーとしては、例えば、カーボンブラック、グラフ
ァイト、炭素繊維等の炭素系材料のような有機導電性フ
ィラーや、鉄、アルミニウム、チタン、ニッケル等の金
属粉末または二酸化チタン、酸化鉄、酸化亜鉛、酸化マ
グネシウム等の金属酸化物粉末のような無機導電性フィ
ラーが挙げられる。Examples of such planar heating elements include panel heaters with built-in heaters, oil circulation panel heaters, planar heating elements containing various conductive fillers, and heater elements covered with insulating materials, among others. Particularly preferred are those containing a conductive filler and those in which the heater element is coated with an insulating material (such as an organic material, ceramics, or a mixture thereof). Examples of conductive fillers include organic conductive fillers such as carbon-based materials such as carbon black, graphite, and carbon fibers, metal powders such as iron, aluminum, titanium, and nickel, or titanium dioxide, iron oxide, and oxide. Examples include inorganic conductive fillers such as metal oxide powders such as zinc and magnesium oxide.
その他具体的構成は、本願畠願人による、平成2年6月
26日付特許出願(2)乾燥装置において開示されてい
る。Other specific configurations are disclosed in Patent Application (2) Drying Apparatus filed on June 26, 1990 by Ganto Hatake.
既述の如く、外部材5の壁部18に穿孔された孔によっ
て、処理空間11と配液路23は連通されるが、本実施
例におけるノズル角度αは、重力方向(吸入口21より
搬入口12側においては感光材料Sの搬送方向)に傾斜
しており、感光材料Sの表面と成す角の鋭角側の角度α
は、20〜70度、好ましくは35〜55度であると良
い。As described above, the processing space 11 and the liquid distribution path 23 are communicated with each other through the hole bored in the wall 18 of the external member 5, but the nozzle angle α in this embodiment is On the side of the opening 12, it is inclined in the conveying direction of the photosensitive material S, and the angle α on the acute side of the angle formed with the surface of the photosensitive material S is
is preferably 20 to 70 degrees, preferably 35 to 55 degrees.
このため、ノズル19から噴射される処理液13は、感
光材料S搬入口12側においては、パラレルフローとな
り、搬比口14側においてはカウンタフローとなる。Therefore, the processing liquid 13 injected from the nozzle 19 has a parallel flow on the photosensitive material S loading port 12 side, and a counter flow on the loading ratio port 14 side.
以上説明したノズル19、吸入口21および循環手段に
よって、処理空間11内の処理液13は、吸入口21を
中心とした搬入口12側と搬出口14側とでそれぞれ循
環する。By the nozzle 19, suction port 21, and circulation means described above, the processing liquid 13 in the processing space 11 is circulated around the suction port 21 on the carry-in port 12 side and the carry-out port 14 side, respectively.
本第1実施例の装置においては、第1図に示すように、
上部の搬入口12および搬出口14近傍から、底部付近
までの全域に渡ってノズル19が設けられている。In the device of the first embodiment, as shown in FIG.
Nozzles 19 are provided over the entire area from the vicinity of the carry-in port 12 and the carry-out port 14 at the top to the vicinity of the bottom.
ノズル19の配置位置は、本実施例の場合に限らず、搬
入口12の近傍にのみ設けていても良い。 搬入口12
の近傍とは、具体的には、感光材料Sが処理液13に最
初に漬かる処理液面直下から、搬送されている感光材料
Sから最初に溶出物質が溶出し始める位置の搬送方向側
付近まででよ(、溶出物質の前記溶出位置や、処理液面
直下にのみ設けてあっても良い。The arrangement position of the nozzle 19 is not limited to the case of this embodiment, and may be provided only in the vicinity of the entrance 12. Loading entrance 12
Specifically, the vicinity of is from just below the surface of the processing liquid where the photosensitive material S is first immersed in the processing liquid 13 to near the transport direction side where the eluted substance first starts to elute from the photosensitive material S being transported. It may be provided only at the elution position of the eluted substance or just below the surface of the processing liquid.
通常は、搬入口12から処理空間11全長の1/100
〜1/20程度の位置とすれば良い。 ノズル19の形
状は、第2図に示すような円形で、千鳥状に設けられて
いる。 ここでノズル19の径は、0.5〜3mm程度
であり、ノズル19(孔)の深さは3mm以上とするの
が好ましい。 ノズル19の噴射圧力は01〜10 k
g/ cmまた処理’tM l 3のノズル19での線
速度は0.1〜10m/秒とする。Normally, 1/100 of the total length of the processing space 11 from the loading port 12
It is sufficient to set the position to about 1/20. The nozzles 19 have a circular shape as shown in FIG. 2, and are arranged in a staggered manner. Here, the diameter of the nozzle 19 is preferably about 0.5 to 3 mm, and the depth of the nozzle 19 (hole) is preferably 3 mm or more. The injection pressure of the nozzle 19 is 01 to 10 k
g/cm, and the linear velocity at the nozzle 19 of the treatment 'tM13 is 0.1 to 10 m/sec.
この際、ノズル部分は、指向性を良(するために、例え
ばノズルの入口側のノズル径を大きく、出口側のノズル
径を小さくしたり、ノズル径にうずまき状のらせん溝を
設けたりすることが好ましい。At this time, in order to improve the directivity of the nozzle part, for example, the nozzle diameter on the inlet side of the nozzle should be made large and the nozzle diameter on the outlet side small, or a spiral groove should be provided in the nozzle diameter. is preferred.
一方、第3図は、ノズル19の横断面形状をスリット状
とした第2実施例を示す凹部9壁面斜視図である。On the other hand, FIG. 3 is a perspective view of the wall surface of the recess 9 showing a second embodiment in which the cross-sectional shape of the nozzle 19 is slit-like.
該実施例の場合においては、ノズル口の形状は0.1〜
2X35〜180mm程度としている。In the case of this example, the shape of the nozzle opening is 0.1~
The size is approximately 2 x 35 to 180 mm.
第1および第2実施例の場合には、ノズル19が壁部1
8のほぼ全域に渡って設けられているため、処理空間1
1から各ノズル口に加わる圧力は上下方向に一次的に変
化する。In the case of the first and second embodiments, the nozzle 19
Since it is provided over almost the entire area of 8, processing space 1
The pressure applied to each nozzle port from No. 1 changes primarily in the vertical direction.
即ち、処理空間11内の処理液13の水圧によって、上
部位置に有るノズル19に対する圧力が低くなり、底部
のノズル19に加わる圧力が高(なる。 そして、各ノ
ズル19には共通する圧力手段から処理液13が供給さ
れるため、上部に位置する(搬入口12および搬出口1
4近傍に位置する)ノズル19からの噴流の線速度が最
も速くなり、処理空間11の底部方向へ向けて遅くなる
。That is, due to the water pressure of the processing liquid 13 in the processing space 11, the pressure applied to the nozzle 19 at the upper position becomes low, and the pressure applied to the nozzle 19 at the bottom becomes high. Because the processing liquid 13 is supplied, it is located at the upper part (carrying inlet 12 and
The linear velocity of the jet flow from the nozzle 19 (located in the vicinity of No. 4) is the highest, and becomes slower toward the bottom of the processing space 11.
この結果、特に感光材料Sからの溶比物質の量が最も多
い搬入口12近傍において、ノズル19による処理液1
3の撹拌および・または循環作用が最も良好に発揮され
、処理ムラや写真性のバラツキが有効に防止される。As a result, the processing liquid 1 is ejected from the nozzle 19 in the vicinity of the inlet 12 where the amount of soluble substances from the photosensitive material S is the largest.
The agitation and/or circulation action of 3 is best exhibited, and processing unevenness and variations in photographic properties are effectively prevented.
かつまた、処理液13の噴射方向が感光材料Sの搬送方
向に傾けて向けられている為に、感光面に対して尾びき
が発生する搬送逆方向側から、処理液13を噴きつける
こととなり、尾びきの防止効果が飛躍的に増大する他、
感度バラ′ツキも減少する。Furthermore, since the spraying direction of the processing liquid 13 is tilted toward the conveyance direction of the photosensitive material S, the processing liquid 13 is sprayed from the side opposite to the conveyance direction where tailing occurs on the photosensitive surface. In addition to dramatically increasing the effectiveness of preventing tail tail,
Sensitivity variations are also reduced.
さらに、搬入口12、搬出口14近傍におけるノズル1
9は、処理液面下に配置され、かつ重力方向(下方)へ
向けられているので、処理7夜13の噴射線速度が速く
ても、感光材料Sに噴きつけられた処理液の飛沫が処理
槽3の外側に飛散したり、あるいは処理液面の下側から
噴射流が湧きだして、処理槽3外に処理液13がこぼれ
るといったがトラブルが回避される。Furthermore, the nozzle 1 near the carry-in port 12 and the carry-out port 14
9 is placed below the surface of the processing liquid and is oriented in the direction of gravity (downward), so that even if the linear jetting velocity in the processing 7 and 13 is high, the droplets of the processing liquid sprayed onto the photosensitive material S will not Problems such as splashing to the outside of the processing tank 3 or spilling of the processing liquid 13 outside the processing tank 3 due to jet flow gushing out from below the surface of the processing liquid can be avoided.
一方、ノズル19は吸入口21方向へ傾斜して設けられ
ているので、循環流に乱れが少(、循環効率が良好であ
る。On the other hand, since the nozzle 19 is inclined toward the suction port 21, there is little turbulence in the circulation flow (and the circulation efficiency is good).
なお、感光面に対して、処理液13が直接噴きつけられ
るために、処理液13中に溶出してきた溶出物質は直ち
に払拭され、処理液13の乳剤層への浸透が容易となり
、処理液13による処理が促進される。 このため、処
理時間の短縮が可能となり、かつ・または処理液13中
の処理剤濃度を薄めることや、補充量を少くすることが
可能となるので、従来のスリット現像手段に比較しても
、さらに−層、処理能力の拡張や、処理液13のランニ
ングコストの低減を図ることができる。Note that since the processing liquid 13 is directly sprayed onto the photosensitive surface, the eluted substances eluted into the processing liquid 13 are immediately wiped away, making it easier for the processing liquid 13 to permeate into the emulsion layer. processing is facilitated. Therefore, the processing time can be shortened, and/or the concentration of the processing agent in the processing liquid 13 can be diluted, and the amount of replenishment can be reduced. Furthermore, it is possible to expand the processing capacity and reduce the running cost of the processing liquid 13.
特に本第1実施例の場合には、壁部18の全域に渡って
ノズル19が配置されているので、前記効果をさらに顕
著に奏せしめることが可能である。Particularly in the case of the first embodiment, since the nozzles 19 are arranged over the entire area of the wall portion 18, it is possible to bring out the above-mentioned effects even more markedly.
処理液13の希釈度は1例えば現像液の場合には通常の
処理液の5〜25%の水を加えることができる。 また
は、補充量は5〜25%減らすことができる。The dilution level of the processing liquid 13 is 1. For example, in the case of a developer, 5 to 25% of water can be added to the normal processing liquid. Alternatively, the replenishment amount can be reduced by 5-25%.
第2実施例の場合には、上記効果の他、ノズル25が感
光材料Sの幅方向に長いスリット状であるため、感光面
の幅方向において常時処理液13が均一に噴きつけられ
、より良い安定した写真性を得ることができる。In the case of the second embodiment, in addition to the above-mentioned effects, since the nozzle 25 has a long slit shape in the width direction of the photosensitive material S, the processing liquid 13 is constantly sprayed uniformly in the width direction of the photosensitive surface. Stable photographic properties can be obtained.
第4図は第3実施例の側面断面図である。FIG. 4 is a side sectional view of the third embodiment.
処理槽31は、第1実施例と同様に、外部材33と、内
部材35とによって構成されている。 外部材33に縦
方向に形成された0字状の凹部37には、前記内部材3
5が挿入され、外部材33と内部材35の間に、前記第
1および第2実施例と同様なスリット状断面の処理空間
38が形成される。 本第3実施例では、感光材料Sは
感光面を内部材35側へ向けた状態で、処理空間38内
を搬送される。The processing tank 31 is composed of an outer member 33 and an inner member 35, as in the first embodiment. The inner member 3 is inserted into the O-shaped recess 37 formed in the longitudinal direction of the outer member 33.
5 is inserted, and a processing space 38 having a slit-like cross section similar to that of the first and second embodiments is formed between the outer member 33 and the inner member 35. In the third embodiment, the photosensitive material S is conveyed within the processing space 38 with the photosensitive surface facing toward the internal material 35 side.
内部材35の外側面には、ノズル39が設けられている
。A nozzle 39 is provided on the outer surface of the internal member 35 .
内部材35の下端部には、吸入口41が設けられ、該吸
入口41は内部材35内に内蔵されているヒータHに接
続されており、該ヒータHはさらにポンプPに連通して
いる。 ヒータHには既述の第1実施例と同様にセンサ
ーHが内蔵されている。 また、ヒータは第1実施例と
同様に面状ヒータとして、ポンプPの前後側に設けても
良い。A suction port 41 is provided at the lower end of the internal member 35, and the suction port 41 is connected to a heater H built in the internal member 35, and the heater H is further communicated with a pump P. . The heater H has a built-in sensor H as in the first embodiment described above. Further, the heater may be provided as a planar heater on the front and rear sides of the pump P as in the first embodiment.
一方、内部材35内には、前記ポンプPに連通している
配液路47が縦方向に設けられ、該配液路47には前記
ノズル39のノズル孔が連通しており、配液路47を介
してポンプPからノズル39へ処理液13が配液される
。On the other hand, inside the internal member 35, a liquid distribution path 47 communicating with the pump P is provided in the vertical direction, and a nozzle hole of the nozzle 39 communicates with the liquid distribution path 47. The processing liquid 13 is distributed from the pump P to the nozzle 39 via the nozzle 39 .
以上説明したように、ヒータH、ポンプPおよび配液路
47とからなる循環手段は、内部材35内に設けられて
いる。As explained above, the circulation means consisting of the heater H, the pump P, and the liquid distribution path 47 is provided within the internal member 35.
なお、ノズル口の形状は、既述の第1または第2実施例
の形状と同様とする。Note that the shape of the nozzle opening is similar to the shape of the first or second embodiment described above.
上記構成を有する第3実施例においては、前記第1およ
び第2実施例の奏する効果の他、内部材35内に循環手
段がユニット化されているので、外部材33の大きさが
小さくなって、装置のコンパクト化が図られる。 また
、内部材35を取り外すことによって、循環手段の修理
や補修が容易となるといった利点が有る。In the third embodiment having the above configuration, in addition to the effects of the first and second embodiments, since the circulation means is unitized within the inner member 35, the size of the outer member 33 is reduced. , the device can be made more compact. Further, by removing the internal member 35, there is an advantage that the circulation means can be easily repaired or repaired.
内部材35の製造方法としては、第4図に示すような側
面視で、配液路47部分から左右に分割された構成部材
に、ノズル39と貼り合せ状態で配液路47を構成する
溝を形成し、これを貼りあわせて製造する手段が考えら
れる。As a method for manufacturing the internal member 35, as shown in a side view as shown in FIG. One possible method is to form a sheet and bond them together.
この場合には左右の構成部材共に、同一規格のものを製
造すれば良く、製造コストも安価となる。 また、配液
路が1つですむため、処理槽31内を循環する処理液1
3の量も少くてすみ、処理液13のランニングコストが
さらに安価となる他、疲労した処理液と補充処理液との
代謝が良くなり、処理効率が向上する。In this case, it is sufficient to manufacture both the left and right components of the same standard, and the manufacturing cost is also low. In addition, since only one liquid distribution path is required, the processing liquid 1 circulating in the processing tank 31 is
3 is also required, and the running cost of the processing liquid 13 is further reduced, and the metabolism of the exhausted processing liquid and the replenishing processing liquid is improved, improving processing efficiency.
なお、以上説明した実施例と同様の構成において、ノズ
ル19の配置位置を、感光材料Sの搬入口12側にのみ
設けた構成とすることも可能である。 この場合におい
ては、ノズルが起す噴射流によって、補充液の給液口1
5から排液口17への処理液の流れが起こり、処理液の
代謝が促進されるといった利点がある。In addition, in the same structure as the embodiment described above, it is also possible to arrange the nozzle 19 only on the loading port 12 side of the photosensitive material S. In this case, the jet flow generated by the nozzle causes the replenisher to be supplied to the replenisher
5 to the drain port 17, which has the advantage of promoting the metabolism of the processing liquid.
以上説明したように、本発明の装置における各効果は、
感光材料Sが処理液中の溶出物質によって受ける影響が
最も大きい現像処理に利用した場合に、最も顕著に発揮
される。As explained above, each effect of the device of the present invention is as follows:
This effect is most noticeable when the photosensitive material S is used for development processing, where it is most affected by substances eluted in the processing solution.
本発明において、現像機能を有する処理液として、現像
液を使用する時は、黒白現像液、カラー現像液のいずれ
かであってもよく、処理される感光材料に応じて適宜選
択すればよく、浴現像(漂白)定着液であってもよい。In the present invention, when a developer is used as a processing solution having a developing function, it may be either a black and white developer or a color developer, which may be selected as appropriate depending on the photosensitive material to be processed. It may also be a bath developer (bleach) fixer.
本発明を用いる感光材料の処理方法としては、
黒白現像一定看一乾燥
発色現像一漂白定看一水洗→乾燥
発色現像−漂白一定看一水洗一乾燥
発色現像→漂白−漂白定着→水洗→乾燥黒白現像→水洗
−反転処理(カブらせ露光またはカブらせ浴処理)−カ
ラー現像−漂白一定着一水洗→乾燥
黒白現像−水洗−カラー現像−漂白定着→水洗→乾燥等
が挙げられる。The method of processing a light-sensitive material using the present invention is as follows: black and white development (constant) - drying color development - bleaching (constant) - washing with water → drying color development - bleaching (constant) - washing with water - drying color development - bleach - bleach-fixing - washing - dry black and white Examples include development, washing with water, reversal treatment (fogging exposure or fogging bath treatment), color development, constant bleaching, washing with water, drying, black and white development, washing with water, color development, bleach-fixing, washing with water, and drying.
その他、必要に応じて前硬膜浴、中和塔、画像安定浴等
の諸工程が組合わされる。In addition, various steps such as a pre-hardening bath, a neutralization tower, and an image stabilizing bath may be combined as necessary.
さらには、水洗処理のかわりに実質的な水洗工程を設け
ず、いわゆる“安定化処理”だけを行うなどの簡便な処
理の処理装置に利用することもできる。Furthermore, it can also be used in a processing device for simple processing, such as performing only a so-called "stabilization treatment" without providing a substantial water washing step instead of a water washing treatment.
また、−浴現像(漂白)定着処理であってもよい。Alternatively, -bath development (bleaching) fixing treatment may be used.
本発明においては、現像処理を行う場合に限られず、図
示の処理装置を複数並設して、各処理装置の間にはクロ
スオーバ手段を設け、上記各種処理を本発明の装置によ
って連続的に行う構成とすることもできる。In the present invention, the present invention is not limited to the case where a developing process is performed, but a plurality of processing apparatuses as shown in the figure are installed in parallel, a crossover means is provided between each processing apparatus, and the various processes described above are continuously performed by the apparatus of the present invention. It is also possible to have a configuration in which this is done.
本発明の処理装置にて処理される感光材料の種類は特に
限定されず、例えばカラーネガフィルム、カラー反転フ
ィルム、カラー印画紙、カラーポジフィルム、カラーペ
ーパー、カラー反転ペーパー、製版用写真感光材料、X
線写真感光材料、黒白ネガフィルム、黒白印画紙、マイ
クロ用感光材料等、各種感光材料が挙げられる。The type of photosensitive material processed by the processing apparatus of the present invention is not particularly limited, and examples include color negative film, color reversal film, color photographic paper, color positive film, color paper, color reversal paper, photosensitive material for plate making,
Various photosensitive materials include line photographic photosensitive materials, black and white negative films, black and white photographic paper, and microphotosensitive materials.
なお、本発明の処理槽は、例えば、湿式の複写機、自動
現像機、プリンタープロセッサービデオプリンタープロ
セッサー、写真プリント作成コインマシーン、検版用カ
ラーペーパー処理機等の各種感光材料処理装置に組み込
んで用いることができる。The processing tank of the present invention can be used by being incorporated into various photosensitive material processing devices, such as wet copying machines, automatic developing machines, printer processors, video printer processors, coin machines for making photo prints, and color paper processing machines for plate inspection. be able to.
本発明を白黒現像処理に用いる場合において、使用され
る黒白現像液には、ジヒドロキシベンゼン類(例えばハ
イドロキノン)、3−ピラゾリドン類(例えば1−フェ
ニル−3−ビラゾリドン)、アミノフェノール類(例え
ばN−メチル−p−アミノフェノール)等の公知の現像
主薬を単独あるいは組合わせて用いることができる。When the present invention is used for black and white development processing, the black and white developer used includes dihydroxybenzenes (e.g. hydroquinone), 3-pyrazolidones (e.g. 1-phenyl-3-virazolidone), aminophenols (e.g. N- Known developing agents such as (methyl-p-aminophenol) can be used alone or in combination.
一方、本発明をカラー現像処理に用いる場合に使用され
るカラー現像液は、一般に、発色現像主薬を含むアルカ
リ性水溶液から構成される。On the other hand, the color developer used when the present invention is used for color development processing is generally composed of an alkaline aqueous solution containing a color developing agent.
発色現像主薬は公知の一級芳香族アミン現像剤、例えば
フェニレンジアミン類(例えば4−アミツーN、N−ジ
エチルアニリン、3−メチル−4−アミノ−N、N−ジ
エチルアニリン、4−アミノ−N−エチル−N−β−ヒ
ドロキシエチルアニリン、3−メチル−4−アミノ−N
−エチル−N−β−ヒドロキシエチルアニリン、3−メ
チル−4−アミノ−N−エチル−N−β−メタンスルホ
ンアミドエチルアニリン、4−アミノ−3−メチル−N
−エチル−N−β−メトキシエチルアニリン等)を用い
ることができる。The color developing agent is a known primary aromatic amine developer, such as phenylene diamines (e.g. 4-amino-N, N-diethylaniline, 3-methyl-4-amino-N, N-diethylaniline, 4-amino-N- Ethyl-N-β-hydroxyethylaniline, 3-methyl-4-amino-N
-ethyl-N-β-hydroxyethylaniline, 3-methyl-4-amino-N-ethyl-N-β-methanesulfonamidoethylaniline, 4-amino-3-methyl-N
-ethyl-N-β-methoxyethylaniline, etc.) can be used.
発色現像液はそのほかpH緩衝剤、現像抑制剤ないしカ
ブリ防止剤等を含むことができる。The color developing solution may also contain a pH buffer, a development inhibitor, an antifoggant, and the like.
また必要に応じて、硬水軟化剤、保恒剤、有機溶剤、現
像促進剤、色素形成カプラー、競争カプラー、かぶらせ
剤、補助現像薬、粘性付与剤、ポリカルボン酸系キレー
ト剤、酸化防止剤、アルカリ剤、溶解助剤、界面活性剤
、消泡剤等を含んでいてもよい。In addition, water softeners, preservatives, organic solvents, development accelerators, dye-forming couplers, competitive couplers, fogging agents, auxiliary developers, viscosity-imparting agents, polycarboxylic acid chelating agents, and antioxidants are added as necessary. , an alkaline agent, a solubilizing agent, a surfactant, an antifoaming agent, etc.
本発明におけるカラー(発色)ないし黒白現像液の処理
温度は、30℃〜50℃が好ましく、さらに好ましくは
33℃〜42℃である。The processing temperature of the color (color development) or black and white developer in the present invention is preferably 30°C to 50°C, more preferably 33°C to 42°C.
また、本発明における現像処理は、前記のように、現像
液を補充する補充方式であっても、また無補充方式であ
ってもよい。Further, the development process in the present invention may be performed by a replenishment method in which the developer is replenished as described above, or a non-replenishment method.
本発明において使用される定着液ないし漂白定着液には
、定着剤が含有される。The fixing solution or bleach-fixing solution used in the present invention contains a fixing agent.
定着剤としてはチオ硫酸アンモニウム、チオ硫酸ナトリ
ウム(ハイポ)、ハロゲン化アンモニウム、チオ尿素、
チオエーテル等が挙げられる。Fixing agents include ammonium thiosulfate, sodium thiosulfate (hypo), ammonium halides, thiourea,
Examples include thioether.
そして、漂白定着液である場合は、これらの定着剤に加
えて、漂白剤を含み、具体的IこGまポリカルボン酸の
鉄塩、赤血塩、ブロメート化合物、コバルトへキサジン
等が挙げられる。 これらのうちフェリシアン化カリ、
エチレンジアミン四を酸鉄(III)ナトリウムおよび
エチレンジアミン四酢酸鉄(III)アンモニウムは特
に有用である。In the case of a bleach-fixing solution, it contains a bleaching agent in addition to these fixing agents, and specific examples thereof include iron salts of iron polycarboxylic acids, red blood salts, bromate compounds, cobalt hexazine, etc. . Among these, potassium ferricyanide,
Sodium iron(III) ethylenediaminetetraacetate and ammonium iron(III) ethylenediaminetetraacetate are particularly useful.
定着液ないし漂白定着液には、定着剤の他に、通常、亜
硫酸ナトリウム等の保恒剤、酸剤、緩衝剤、硬膜剤など
の定着助剤を含有させることができる。In addition to the fixing agent, the fixing solution or bleach-fixing solution can usually contain fixing aids such as preservatives such as sodium sulfite, acid agents, buffers, and hardening agents.
また、漂白ないし漂白定着液には、米国特許筒3,04
2,520号、同第3.241゜966号、特公昭45
−8506号、特公昭45−8636号などに記載の漂
白促進剤、特開昭53−65732号に記載のチオール
化合物の他、種々の添加剤を加えることもできる。In addition, for bleaching or bleach-fixing solutions, U.S. Patent No. 3,04
No. 2,520, No. 3.241゜966, Special Publication No. 1973
In addition to the bleaching accelerators described in Japanese Patent Publication No. 8506-8506 and Japanese Patent Publication No. 45-8636, and the thiol compounds described in Japanese Patent Application Laid-open No. 65732-1983, various additives can also be added.
水洗工程に用いられる水洗水には、必要に応じて公知の
添加剤を含有させることができる。The rinsing water used in the rinsing step can contain known additives, if necessary.
例えば、無機リン酸、アミノポリカルボン酸、有機リン
酸等のキレート剤、各種バクテリアや藻の増殖を防止す
る殺菌剤、防ばい剤、マグネシウム塩、アルミニウム塩
等の硬膜剤、乾燥負荷、ムラを防止するための界面活性
剤などを用いることができる。For example, chelating agents such as inorganic phosphoric acid, aminopolycarboxylic acid, and organic phosphoric acid, disinfectants that prevent the growth of various bacteria and algae, fungicides, hardening agents such as magnesium salts and aluminum salts, drying load, and unevenness. A surfactant or the like can be used to prevent this.
または、L、 E、 West、 −Water Qu
alityCriteria″Phot、 Sci、
and Eng、、 vol、9 No、6P344〜
359 (1965)等に記載の化合物を用いることも
できる。 安定化工程に用いる安定液としては、色素画
像を安定化する処理液が用いられる。 例えば、pH3
〜6の緩衝能を有する液、アルデヒド(例えば、ホルマ
リン)を含有した液などを用いることができる。 安定
液には、必要に応じて蛍光増白剤、キレート剤、殺菌剤
、防ばい剤、硬膜剤、界面活性剤等を用いることができ
る。Or L, E, West, -Water Qu
arityCriteria″Photo, Sci,
and Eng,, vol, 9 No, 6P344~
359 (1965) and the like can also be used. As the stabilizing liquid used in the stabilizing step, a processing liquid that stabilizes the dye image is used. For example, pH3
A solution having a buffering capacity of ~6, a solution containing an aldehyde (for example, formalin), etc. can be used. Optical brighteners, chelating agents, bactericidal agents, fungicides, hardeners, surfactants, and the like can be used in the stabilizing liquid as necessary.
本発明における感光材料は種々のカラーおよび黒白感光
材料のいずれであってもよい。 例えば、カラーネガフ
ィルム、カラー反転フィルム、カラー印画紙、カラーポ
ジフィルム、カラー反転印画紙、製版用写真感光材料、
X線写真感光材料、黒白ネガフィルム、黒白印画紙、マ
イクロ用感光材料等が挙げられる。The light-sensitive material in the present invention may be any of various color and black and white light-sensitive materials. For example, color negative film, color reversal film, color photographic paper, color positive film, color reversal photographic paper, photosensitive material for plate making,
Examples include X-ray photosensitive materials, black and white negative films, black and white photographic paper, and microphotosensitive materials.
以上、本発明の構成例を挙げて説明したが、本発明は、
これらに限定されるものではなシ入ことは言うまでもな
い。Although the present invention has been described above with reference to configuration examples, the present invention has the following features:
Needless to say, the invention is not limited to these.
〈実施例〉 以下、本発明を実施例によって具体的に説明する。<Example> Hereinafter, the present invention will be specifically explained with reference to Examples.
第1図に示される処理装置1を、富士写真フィルム■製
チャンピオン23用カラーネガフィルム処理機の現像処
理部分に設置した。The processing apparatus 1 shown in FIG. 1 was installed in the development processing section of a color negative film processing machine for Champion 23 manufactured by Fuji Photo Film ■.
処理する感光材料は、特許公開公報昭和63年第708
57号公報記載の第5実施例に示されているものを使用
した。The photosensitive material to be processed is disclosed in Patent Publication No. 708 of 1988.
The material shown in Example 5 described in Publication No. 57 was used.
処理液は表1に示された組成の発色現像液を水にて20
%希釈した液を利用した。The processing solution was a color developer with the composition shown in Table 1 mixed with water for 20 minutes.
% diluted solution was used.
表 1
ジエチレン
トリアミン五酢酸
1−ヒドロキシ
エチリデン−1゜
1−ジホスホン酸
亜硫酸ナトリウム
炭酸カリウム
臭化カリウム
沃化カリウム
ヒドロキシアミン
4−(N−エチル−
N−6−ヒドロキシ
エチルアミノ)−2−
メチルアニリン硫酸塩
水を加えて
1.0
1.1
2.0
2.2
4.0
30.0
1.4
1.3mg
2.4
4.5
4.4
32.0
0.7
2.6
5.0
1 リットル
1 リットル
また処理空間11のスリット断面の厚さ方向幅は2.5
mmとし、縦方向深さは900mmとした。Table 1 Diethylenetriaminepentaacetic acid 1-hydroxyethylidene-1゜1-diphosphonic acid Sodium sulfite Potassium carbonate Potassium bromide Potassium iodide Hydroxyamine 4-(N-ethyl-N-6-hydroxyethylamino)-2-methylaniline sulfate water Add 1.0 1.1 2.0 2.2 4.0 30.0 1.4 1.3mg 2.4 4.5 4.4 32.0 0.7 2.6 5.0 1 liter 1 liter The width of the slit cross section of the processing space 11 in the thickness direction is 2.5
mm, and the longitudinal depth was 900 mm.
現像液(処理液)の液量は1.5ρとし、ポンプにより
、現像液を8β/分の割合で循環させ、ノズル19から
ジェット噴射させた。 この場合ノズル19の深さは、
8mm、ノズル孔の大きさは0.、9aa+径(第2図
参照)とし、噴射圧は1 、3 kg/cm”にて、ノ
ズル19の液線速を05〜2m/秒とした。 千鳥状に
配置されたノズル19の間隔は、上下左右方向に12m
mとした。 また、ノズルの噴射方向と、感光材料Sと
のなす角αを40度とした。The amount of the developer (processing solution) was 1.5ρ, the developer was circulated by a pump at a rate of 8β/min, and jetted from the nozzle 19. In this case, the depth of the nozzle 19 is
8mm, nozzle hole size is 0. , 9aa + diameter (see Fig. 2), the injection pressure was 1.3 kg/cm'', and the linear velocity of the nozzle 19 was 05 to 2 m/sec. The intervals between the nozzles 19 arranged in a staggered manner were , 12m vertically and horizontally
It was set as m. Further, the angle α between the nozzle jet direction and the photosensitive material S was set to 40 degrees.
また感光材料の搬送速度は0.62m/分とした。 そ
の他処理工程は表2に示す。Further, the conveyance speed of the photosensitive material was 0.62 m/min. Other processing steps are shown in Table 2.
表 2
ニー1 矩野瀾 矩し匡 ム±」 彫i−発色現像
3分15秒 38℃ 81245mj漂
白 1分00秒 38℃ 4 Q
20mN漂白定着 3分15秒 38℃
8C30耐安 定 40秒 3
5℃ 41220m1市感光材料35m/m巾
1m長さ当たり上記条件で実施した結果を表3に示す。Table 2 Knee 1 Kuruno Ran Kurushi Masa Mu±” Carved i-Color development
3 minutes 15 seconds 38℃ 81245mj floating
White 1 minute 00 seconds 38℃ 4 Q
20mN bleach fixing 3 minutes 15 seconds 38℃
8C30 stable stability 40 seconds 3
Table 3 shows the results obtained under the above conditions per 35 m/m width and 1 m length of photosensitive material at 5°C and 41,220 m1.
比較例は、上記本発明の実施例と同様の条件で、ノズル
を設けていない構造において実施したものである。The comparative example was carried out in a structure without a nozzle under the same conditions as the above-mentioned example of the present invention.
感光材料には、センシトメトリー露光と、ハーフ露光と
、1010X10の矩形波画像を焼付けた後、処理した
。The photosensitive material was processed after sensitometric exposure, half exposure, and printing of a 1010×10 square wave image.
処理ムラの有無は5ハ一フ露光部の現像ムラを目視観察
して判断した。The presence or absence of processing unevenness was determined by visually observing development unevenness in the 5-half exposed area.
尾びきは、矩形波画像部の白部と黒部の境をカラープリ
ントにして、目視判定で求めた。The tail tail was determined visually by making a color print of the border between the white and black areas of the square wave image area.
符号の説明
l・・・処理装置
3・・・処理槽
5・・・外部材
7・・・内部材
9・・・凹部
11・・・処理空間
12・・・搬入口
13・・・処理液
14・・・搬出口
15・・・給液口
17・・・排液口
18・・・壁部
19・・・ノズル
21・・・吸入口
23・・・配液路
25・・・ノズル
31・・・処理槽
33・・・外部材
35・・・内部材
〈発明の効果〉
本発明の装置によれば、スリット現像技術の利点を本実
施例したまま、さらに感度、諧調等の写真性が良好で、
感度ムラや尾びきの発生が抑制された処理済感光材料を
得ることができる。Explanation of symbols 1... Processing device 3... Processing tank 5... External material 7... Internal material 9... Concavity 11... Processing space 12... Carrying in port 13... Processing liquid 14...Export port 15...Liquid supply port 17...Drain port 18...Wall portion 19...Nozzle 21...Suction port 23...Liquid distribution path 25...Nozzle 31 . . . Processing tank 33 . is good,
It is possible to obtain a processed photosensitive material in which the occurrence of sensitivity unevenness and tailing is suppressed.
第1図は本発明の第1実施例である処理装置の側面断面
図である。
第2図は第1実施例におけるノズル孔の形状および配置
状態を示す外部材の凹部内壁の部分斜視図である。
第3図は同じく第2実施例における外部材の凹部内壁の
部分斜視図である。
第4図は第3実施例の装置を示す側面断面図である。
37・・・凹部
38・・・処理空間
39・・・ノズル
41・・・吸入口
47・・・配液路
H・・・ヒータ
Hl・・・面状発熱体
P・・・ポンプ
特許比願人 冨士写真フィルム株式会社代 理 人
弁理士 石 井 隔間 弁理士
増 1) 達 哉G
IG
IGFIG. 1 is a side sectional view of a processing apparatus according to a first embodiment of the present invention. FIG. 2 is a partial perspective view of the inner wall of the recess of the outer member showing the shape and arrangement of the nozzle holes in the first embodiment. FIG. 3 is a partial perspective view of the inner wall of the recess of the outer member in the second embodiment. FIG. 4 is a side sectional view showing the device of the third embodiment. 37... Concavity 38... Processing space 39... Nozzle 41... Suction port 47... Liquid distribution path H... Heater Hl... Planar heating element P... Pump patent application Representative of Fuji Photo Film Co., Ltd. Patent Attorney Ishii Seikan Patent Attorney
Increase 1) Tatsuya G IG IG
Claims (1)
を充填して該感光材料を処理する処理槽を有する感光材
料処理装置において、 前記処理空間内には感光材料の感光面に向けて処理液を
噴射するノズルを少なくとも感光材料搬入口近傍に設け
、 前記処理空間内の底部付近には処理液吸入口を設けると
共に、 前記ノズルと前記吸入口とは循環手段を介して連結し、
前記ノズルの噴射方向を感光材料に対して感光材料搬送
方向へ向けたことを特徴とする感光材料処理装置。(1) In a photosensitive material processing apparatus having a processing tank that processes the photosensitive material by filling a narrow processing space for storing and transporting a photosensitive material with a processing liquid, the processing space has a liquid that is directed toward the photosensitive surface of the photosensitive material. a nozzle for injecting a processing liquid is provided at least near a photosensitive material loading port, a processing liquid suction port is provided near the bottom of the processing space, and the nozzle and the suction port are connected via a circulation means,
A photosensitive material processing apparatus characterized in that the jetting direction of the nozzle is directed toward the photosensitive material conveyance direction with respect to the photosensitive material.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19878990A JPH0483251A (en) | 1990-07-26 | 1990-07-26 | Photosensitive material processing device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19878990A JPH0483251A (en) | 1990-07-26 | 1990-07-26 | Photosensitive material processing device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0483251A true JPH0483251A (en) | 1992-03-17 |
Family
ID=16396936
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19878990A Pending JPH0483251A (en) | 1990-07-26 | 1990-07-26 | Photosensitive material processing device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0483251A (en) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0683017A (en) * | 1992-03-02 | 1994-03-25 | Eastman Kodak Co | Device for treating photosensitive material |
US5452044A (en) * | 1993-04-27 | 1995-09-19 | Eastman Kodak Company | Processing apparatus |
US5747350A (en) * | 1993-04-02 | 1998-05-05 | Boehringer Mannheim Gmbh | System for dosing liquids |
US5809362A (en) * | 1996-01-31 | 1998-09-15 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive material processing device |
JP2008209331A (en) * | 2007-02-28 | 2008-09-11 | Hitachi High-Technologies Corp | Automatic analyzer |
-
1990
- 1990-07-26 JP JP19878990A patent/JPH0483251A/en active Pending
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