JPH0482895A - Dithiolene type organic metal complex, preparation thereof, benzoin compound and benzyl compound - Google Patents
Dithiolene type organic metal complex, preparation thereof, benzoin compound and benzyl compoundInfo
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ジチオレン型有機金属錯体、その製造法、ベ
ンゾイン化合物及びベンジル化合物に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a dithiolene-type organometallic complex, a method for producing the same, a benzoin compound, and a benzyl compound.
従来、ジチオレン型有機金属錯体誘導体としては、ビス
(4−ジメチルアミノ−ジチオベンジル)ニッケル、ビ
ス(4−ジエチルアミノ−ジチオベンジル)ニッケル、
ビス(4−ジメトキシ−ジチオベンジル)ニッケル、ビ
ス(It2−ジチオフェル−1−)ニツケルーテ1〜ラ
ーn−ブチルアンモニウム、ビス(4−メチル−1,2
−ジチオフェルレート)ニッケルーテトラ−n−ブチル
アンモニウム、ビス(3,4,5,6−テトラメチル−
1,2−ジチオフエル−1へ)ニッケルーテトラ−n−
プチルアンモニウ11、ビス(3,4,5゜6−テトラ
クロロ−1,2−ジチオフエル−ト)ニッケルーテトラ
−〇−ブチルアンモニウムなどが知られており、これら
は半導体レーザの発振波長領域に吸収を有することから
、光デイスク用有機記録材料として利用されている(特
開昭57195336号公報など)。また、この錯体は
、−重項酸素クエンチャーとして働くため、シアニン色
素などの安定性のよくない記録材料の耐光性を向上させ
るための添加剤として使用されている(特開昭59−1
85694号公報など)。これらの有機金属錯体を用い
た記録媒体においては、ヒーI・モードを利用した孔あ
け方式による記録を行っていたが、記録の高速化に対応
するためには、さらに高感度な記録媒体が望まれる。Conventionally, dithiolene-type organometallic complex derivatives include bis(4-dimethylamino-dithiobenzyl)nickel, bis(4-diethylamino-dithiobenzyl)nickel,
Bis(4-dimethoxy-dithiobenzyl)nickel, bis(It2-dithiopher-1-)nickelute 1-ra n-butylammonium, bis(4-methyl-1,2
-dithioferrate)nickel-tetra-n-butylammonium, bis(3,4,5,6-tetramethyl-
to 1,2-dithiophel-1) nickel-tetra-n-
Butylammonium-11, bis(3,4,5゜6-tetrachloro-1,2-dithioferto)nickel-tetra-〇-butylammonium, etc. are known, and these absorb in the oscillation wavelength region of semiconductor lasers. Because of this, it is used as an organic recording material for optical disks (Japanese Patent Application Laid-Open No. 57195336, etc.). In addition, since this complex acts as a -heavyt oxygen quencher, it is used as an additive to improve the light resistance of recording materials with poor stability such as cyanine dyes (JP-A-59-1
85694, etc.). In recording media using these organometallic complexes, recording was performed using a hole punching method using the Hee I mode, but in order to support faster recording speeds, recording media with even higher sensitivity are desired. It will be done.
従来知られている前記ジチオレン型有機金属錯体を前記
したような孔あけ方式による記録に用いる場合、高感度
化のためには、該錯体を含む記録層を薄くすることが考
えられるが、この場合、吸光度又は反射率が低くなり、
読み取り時において十分なS/N比がとれなくなる。When using the conventionally known dithiolene-type organometallic complex for recording by the above-mentioned hole punching method, it is conceivable to make the recording layer containing the complex thinner in order to increase the sensitivity. , the absorbance or reflectance decreases,
A sufficient S/N ratio cannot be obtained during reading.
これに対して、本発明者らは、熱により会合状態又は配
向状態が変化し、これにより膜の吸収スペクトル又は反
射スペク1−ルが変化する新規なジチオレン型有機金属
錯体を見い出し、この錯体が上記問題点を解決するもの
と考えている。In contrast, the present inventors have discovered a novel dithiolene-type organometallic complex whose association state or orientation state changes with heat, thereby changing the absorption spectrum or reflection spectrum of the film. We believe that this will solve the above problems.
そこで、本発明は、このような新規なジチオレン型有機
金属錯体及びその製造法並びにその原料となるベンゾイ
ン化合物及びベンジル化合物を提供するものである。Therefore, the present invention provides such a novel dithiolene-type organometallic complex, a method for producing the same, and a benzoin compound and a benzyl compound as raw materials thereof.
本発明におけるジチオレン型有機金属錯体は、−形成(
I)
(ただし、式中、R1とR2のうち一方はオクタデシロ
キシ基を示し、他方は水素、ハロゲン、アルキル基又は
アルコキシ基を示し、R3とR4のうち一方はオクタデ
シロキシ基を示し、他方は、水素、ハロゲン、アルキル
基又はアルコキシ基を示し、MはNi、Pd又はptを
示す)で表わされる。The dithiolene-type organometallic complex in the present invention has -formation (
I) (In the formula, one of R1 and R2 represents an octadecyloxy group, the other represents hydrogen, halogen, an alkyl group, or an alkoxy group, and one of R3 and R4 represents an octadecyloxy group, The other is hydrogen, halogen, alkyl group or alkoxy group, M is Ni, Pd or pt).
このようなジチオレン型有機金属錯体としては、ビス(
4,4’−ジ−n−オクタデシロキシ−ジチオベンジル
)ニッケル、ビス(4−n−オクタデシロキシ−ジチオ
ベンジル)ニッケル、ビス(4−n−オクタデシロキシ
−4′−クロロ−ジチオベンジル)ニッケル、ビス(4
−n−オクタデシロキシ−4′−メチル−ジチオベンジ
ル)ニッケル、ビス(4,4’−ジ−n−オクタデシロ
キシ−ジチオベンジル)パラジウム、ビス(4n−オク
タデシロキシ−ジチオベンジル)パラジウム、ビス(4
−n−オクタデシロキシ−4′クロロ−ジチオベンジル
)パラジウl\、ビス(4−n−オクタデシロキシ−4
′−メチル−ジチオベンジル)パラジウム、ビス(4,
4’−ジ−n−オクタデシロキシ−ジチオベンジル)白
金、ビス(4−n−オクタデシロキシ−ジチオベンジル
)白金、ビス(4−n−オクタデシロキシ−4′タロロ
ージチオベンジル)白金、ビス(4−n −オクタデシ
ロキシ−4′−メチル−ジチオベンジル)白金等がある
。Such dithiolene-type organometallic complexes include bis(
4,4'-di-n-octadecyloxy-dithiobenzyl)nickel, bis(4-n-octadecyloxy-dithiobenzyl)nickel, bis(4-n-octadecyloxy-4'-chloro-dithiobenzyl) ) Nickel, screws (4
-n-octadecyloxy-4'-methyl-dithiobenzyl)nickel, bis(4,4'-di-n-octadecyloxy-dithiobenzyl)palladium, bis(4n-octadecyloxy-dithiobenzyl)palladium, Screw (4
-n-octadecyloxy-4'chloro-dithiobenzyl)palladium\, bis(4-n-octadecyloxy-4
'-Methyl-dithiobenzyl)palladium, bis(4,
4'-di-n-octadecyloxy-dithiobenzyl) platinum, bis(4-n-octadecyloxy-dithiobenzyl) platinum, bis(4-n-octadecyloxy-4'talorodithiobenzyl) platinum, Examples include bis(4-n-octadecyloxy-4'-methyl-dithiobenzyl)platinum.
前記ジチオレン型有機金属錯体は、ベンゾイン化合物又
はベンジル化合物を硫化リンと反応させた後、ニッケル
、パラジウム又は白金の金属ハロゲン化物又はハロゲン
化金属酸カリウムを反応させることにより製造すること
ができる。The dithiolene-type organometallic complex can be produced by reacting a benzoin compound or a benzyl compound with phosphorus sulfide and then reacting a metal halide of nickel, palladium, or platinum or a potassium metal halide.
上記したベンゾイン化合物は、一般式(ff)H○
(ただし、大中、R5とRG のうち一方はオクタデシ
ロキシ基を示し、他方は、水素、ハロゲン。The above-mentioned benzoin compound has the general formula (ff) H○ (Onaka, one of R5 and RG represents an octadecyloxy group, and the other represents hydrogen or a halogen.
アルキル基又はアルコキシ基を示す)で表わされる化合
物である。This is a compound represented by an alkyl group or an alkoxy group).
上記ベンゾイン化合物としては、4,4′−ジ−オクタ
デシロキシベンゾイン、4− n−オクタデシロキシベ
ンゾイン、4−n−オクタデシロキシ−47−クロロベ
ンゾイン、4−n−オクタデシロキシ−4′−メチルベ
ンゾイン等がある。The above benzoin compounds include 4,4'-di-octadecyloxybenzoin, 4-n-octadecyloxybenzoin, 4-n-octadecyloxy-47-chlorobenzoin, 4-n-octadecyloxy-4' -Methylbenzoin, etc.
また、上記したベンジル化合物は、一般式(I(ただし
、式中、R5とR6は一般式(II)と同じである)で
表わされる化合物である。Further, the above-mentioned benzyl compound is a compound represented by the general formula (I (in the formula, R5 and R6 are the same as in the general formula (II)).
上記ベンジル化合物としては、4,4′−ジ−オクタデ
シロキシベンゾイン
デシロキシベンジル、4−n−オクタデシロキシ4′−
クロロベンジル、4−n−オクタデシロキシ−4′−メ
チルベンジル等がある。The above benzyl compounds include 4,4'-di-octadecyloxybenzoindecyloxybenzyl, 4-n-octadecyloxy4'-
Examples include chlorobenzyl, 4-n-octadecyloxy-4'-methylbenzyl, and the like.
前記ジチオレン型有機金属錯体は、ジャーナル・オブ・
ジ・アメリカン・ケミカル・ソサイアテイ(Jouna
]、 of the American Chemic
al、 5ociety)87巻、3583〜3592
頁(I965年)に示されるシュラウツアー(Schr
auzer)らの方法に準じて製造することができる。The dithiolene type organometallic complex is described in the Journal of
The American Chemical Society (Jouna)
], of the American Chemistry
al, 5ociety) Volume 87, 3583-3592
Schroutzer (I965)
It can be manufactured according to the method of Auzer et al.
すなわち、一般式(n)で表わされるベンゾイン化合物
又は一般式(III)で表わされるベンジル化合物を過
剰量(特に、該化合物に対して約1.5倍モル)のp2
s。That is, the benzoin compound represented by the general formula (n) or the benzyl compound represented by the general formula (III) is added to an excess amount (particularly about 1.5 times the mole of the compound) of p2.
s.
及び必要に応じて(N H4)2 S○7Iと共に、ジ
オキサン等の有機溶剤中で還流し、上記化合物に対応す
るチオリン酸エステルを生成させた後、上記化O○
合物の約1/2モルの金属ハロゲン化物又はハロゲン化
金属酸カリウムを添加し還流することによりジチオレン
型有機金属錯体を得ることができる。After refluxing in an organic solvent such as dioxane with (N H4)2 S○7I as necessary to produce a thiophosphoric acid ester corresponding to the above compound, about 1/2 of the above compound O○ A dithiolene type organometallic complex can be obtained by adding molar amount of a metal halide or potassium metal halide and refluxing the mixture.
前記金属ハロゲン化合物としては、塩化ニッケル(NI
CQ2)、塩化パラジウム(P d CQ2)。As the metal halide compound, nickel chloride (NI
CQ2), palladium chloride (P d CQ2).
塩化白金(PtCQ2)等の金属塩化物等があり、前記
ハロゲン化金属酸カリウムとしては、塩化白金酸カリウ
ム(K2P t c R4) 、塩化ニッケル酸カリウ
ム(K2N i CQ4) l塩化パラジウム酸カリウ
ム(K2PclCQ、)等の塩化金属酸カリウム等があ
り、このような金属ハロゲン化物又はハロゲン化金属酸
カリウムは水和物であってもよい。There are metal chlorides such as platinum chloride (PtCQ2), and the potassium metal halides include potassium chloroplatinate (K2P t c R4), potassium chloride nickelate (K2N i CQ4), and potassium chloride palladate (K2PclCQ). , ), etc., and such metal halides or potassium metal halides may be hydrates.
このようにして得られるジチオレン型有機金属錯体は、
反応後沈殿として生成するが、これはアセトン等により
洗浄後、酢酸エチル等から再結晶することにより精製す
ることができる。The dithiolene type organometallic complex obtained in this way is
After the reaction, a precipitate is produced, which can be purified by washing with acetone or the like and recrystallizing it from ethyl acetate or the like.
一般式(II)で表わされるベンゾイン化合物は、ベン
ズアルデヒド化合物をシアン化アルカリの存在下にベン
ゾイン縮合させることにより得ることができる。The benzoin compound represented by the general formula (II) can be obtained by subjecting a benzaldehyde compound to benzoin condensation in the presence of an alkali cyanide.
」記構ベンズアルデヒド化合物としては、4−オクタデ
シロキシベンズアルデヒドと共に、他のベンズアルデヒ
ド化合物を併用する。一般式(TI)において、R”及
びR″′ のうち一方のみがオクタデシロキシ基である
ベンゾイン化合物を製造するときはp−オクタデシロキ
シベンズアルデヒドと他のベンズアルデヒド化合物をほ
ぼ等モル使用するのが好ましい。一般式(I1)におい
て、R5及びR6の両方がオクタデシロキシ基であるベ
ンゾイン化合物(4,4’−ジ−オクタデシロキシベン
ゾイン)を製造するときはP−オクタデシロキシベンゾ
アルデヒドと他のベンズアンプヒト化合物を前者/後者
がモル比で90/10〜約5015oで反応させるのが
好ましい。この場合、4オクタデシロキシベンズアルデ
ヒドのみを原料として用いると反応は進行しないため、
他のベンズアルデヒド化合物の併用は必須である。他の
ベンズアルデヒド化合物としては、ベンズアルデヒド、
4−クロルベンズアルデヒド、4−ブロムベンズアルデ
ヒド等の4−ハロベンズアルデヒド、4]O
メチルベンズアルデヒド、4−エチルベンズアルデヒド
、4−プロピルベンズアルデヒド、4−ブチルベンズア
ルデヒド、4−ペンチルベンズアルデヒド、4−オクチ
ルベンズアルデヒド、4−デシルベンズアルデヒド、4
−ドデシルベンスアルデヒド等の4−アルキルベンズア
ルデヒド、4メI−キシベンズアルデヒド、4−工1〜
キシベンズアルデヒド、4−プロポキシベンズアルデヒ
ド、4−ブ1へキシベンズアルデヒIく、4−オクチロ
キシベンズアルデヒド、4−デシロキシベンズアルデヒ
ド、4−ドブシロキシベンズアルデヒド、等の4−オク
タデシロキシベンズアルデヒドを除く4−アルコキシベ
ンズアルデヒド
うち、4−アルキルベンズアルデヒド及び4−アルコキ
シベンズアルデヒドとしては、アルキル基又はアルコキ
シ基中のアルキル基が低級アルキル基のものが好ましく
、該アルキル基が大きくなるとやはりベンゾイン縮合が
進行しにくくなるため、さらに他のベンズアルデヒド化
合物を併用した方が好ましい。As the benzaldehyde compound having the following structure, 4-octadecyloxybenzaldehyde and other benzaldehyde compounds are used in combination. In the general formula (TI), when producing a benzoin compound in which only one of R" and R"' is an octadecyloxy group, it is recommended to use approximately equal moles of p-octadecyloxybenzaldehyde and other benzaldehyde compounds. preferable. In general formula (I1), when producing a benzoin compound (4,4'-di-octadecyloxybenzoin) in which both R5 and R6 are octadecyloxy groups, P-octadecyloxybenzaldehyde and other benzyl Preferably, the amphipathic compounds are reacted at a molar ratio of 90/10 to about 5015°C. In this case, if only 4-octadecyloxybenzaldehyde is used as a raw material, the reaction will not proceed.
Concomitant use of other benzaldehyde compounds is essential. Other benzaldehyde compounds include benzaldehyde,
4-Halobenzaldehyde such as 4-chlorobenzaldehyde, 4-bromobenzaldehyde, 4]O methylbenzaldehyde, 4-ethylbenzaldehyde, 4-propylbenzaldehyde, 4-butylbenzaldehyde, 4-pentylbenzaldehyde, 4-octylbenzaldehyde, 4-decyl Benzaldehyde, 4
-4-alkylbenzaldehyde such as dodecylbenzaldehyde, 4-methyl-xybenzaldehyde, 4-ethylbenzaldehyde, etc.
4-Alkoxy other than 4-octadecyloxybenzaldehyde, such as oxybenzaldehyde, 4-propoxybenzaldehyde, 4-butylhexybenzaldehyde, 4-octyloxybenzaldehyde, 4-decyloxybenzaldehyde, 4-dobutyloxybenzaldehyde, etc. Among benzaldehydes, 4-alkylbenzaldehyde and 4-alkoxybenzaldehyde are preferably those in which the alkyl group or the alkyl group in the alkoxy group is a lower alkyl group, and as the alkyl group becomes larger, benzoin condensation becomes difficult to proceed. It is preferable to use other benzaldehyde compounds together.
ベンズアルデヒド化合物として、上記のように二種以」
二併用するため、生成物は反応液中に二種以上含まれる
ことになるが、適当な精製手段によって、目的化合物を
単離することができる。例えば、4,4′−ジーオクタ
デシロギシベンゾインは、反応液を冷却することにより
析出させ、分離することができ、この反応液から析出し
た4,4′ジ−オクタデシロキシベンゾインを分離した
残りの液を濃縮又は乾固した後、エタノール等から再結
晶することにより一般式(II)において、R5及びR
6 のうち一方のみがオクタデシロキシ基であるベンゾ
イン化合物を分離することができる。As a benzaldehyde compound, two or more types as mentioned above.
Since two or more products are used in combination, two or more types of products will be contained in the reaction solution, but the target compound can be isolated by appropriate purification means. For example, 4,4'-di-octadecyloxybenzoin can be precipitated and separated by cooling the reaction solution, and 4,4'-di-octadecyloxybenzoin precipitated from this reaction solution can be separated. After concentrating or drying the remaining liquid, by recrystallizing from ethanol etc., R5 and R
A benzoin compound in which only one of 6 is an octadecyloxy group can be separated.
また、反応液を飽和塩化すl−リウム水溶液中に投入し
、析出した固体をエタノール等からの再結晶(I回目の
再結晶)によって析出する4,4′ジ−オクタデシロキ
シベンゾインを分離し、残りの液を濃縮又は乾固してエ
タノール等からの再結晶により一般式(II)において
R5及びR6 の−方のみがオクタデシロキシ基である
ベンゾイン化合物を分離することができる。また、反応
液の濃細物又は反応液を飽和塩化すI〜リウム水溶液に
投入したときに析出する固体をシリカゲル等の充填剤を
用いるカラムクロマトグラフィーに供することにより、
目的生成物を分取することができる。In addition, the reaction solution was poured into a saturated l-lium chloride aqueous solution, and the precipitated solid was recrystallized from ethanol etc. (first recrystallization) to separate the precipitated 4,4' di-octadecyloxybenzoin. By concentrating or drying the remaining liquid and recrystallizing it from ethanol or the like, it is possible to separate a benzoin compound in general formula (II) in which only the - side of R5 and R6 is an octadecyloxy group. In addition, by subjecting the concentrated substance of the reaction liquid or the solid that precipitates when the reaction liquid is poured into a saturated aqueous solution of chloride to column chromatography using a packing material such as silica gel,
The desired product can be fractionated.
上記ベンゾイン縮合において、シアン化アルカリとして
は、青酸カリウム、青酸ナトリウム等があり、触媒量で
使用され、好ましくは、ベンズアルデヒド化合物に対し
て等モル又はほぼ等モルで使用される。また、反応は、
N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセ
1−アミド、ジメチルスルホキシド、メタノール、エタ
ノール等の極性溶媒中で行なうのが好ましく、必要に応
じて水を添加してもよい。反応温度は、40〜1.00
°Cが好ましい。In the above benzoin condensation, the alkali cyanide includes potassium cyanide, sodium cyanide, etc., and is used in a catalytic amount, preferably in an equimolar or approximately equimolar amount to the benzaldehyde compound. Also, the reaction is
The reaction is preferably carried out in a polar solvent such as N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylace1-amide, dimethylsulfoxide, methanol, or ethanol, and water may be added if necessary. The reaction temperature is 40-1.00
°C is preferred.
一般式(III)で表わされるベンジル化合物は、−形
成(II)で表わされるベンゾイン化合物を酸化するこ
とにより製造することができる。酸化方法としては、上
記ベンゾイン化合物を硫酸銅のピリジン溶液中で加熱す
る方法(硫酸銅の使用量はベンゾイン化合物に対して等
モル以」二が好ましく、2倍モル程度が特に好ましい)
、硝酸の存在下に加熱する方法(硝酸の使用量はベンゾ
イン化合物に対して等モル以上が好ましく、特に3倍モ
ル程度が特に好ましい)、硝酸アンモニウムの存在下に
加熱する方法(硝僧アンモニウムの使用量はベンゾイン
化合物に対して等モル以上が好ましく、特に3倍モル程
度が好ましい。また、少量の酢酸銅を触媒として存在さ
せるのが好ましい)、ジメチルスルホキシド−酢酸混合
溶媒中室温付近で攪拌する方法等がある。これらの方法
において、生成物は再結晶等の方法により精製すること
ができる。The benzyl compound represented by the general formula (III) can be produced by oxidizing the benzoin compound represented by the -formation (II). The oxidation method is a method of heating the above-mentioned benzoin compound in a pyridine solution of copper sulfate (the amount of copper sulfate used is preferably equal to or more than 2 times the mole of the benzoin compound, and particularly preferably about 2 times the mole).
, a method of heating in the presence of nitric acid (the amount of nitric acid used is preferably equal to or more than the mole of the benzoin compound, particularly preferably about 3 times the mole), a method of heating in the presence of ammonium nitrate (use of ammonium nitric acid) The amount is preferably equal to or more than the mole of the benzoin compound, particularly preferably about 3 times the mole.Also, it is preferable that a small amount of copper acetate be present as a catalyst), a method of stirring in a dimethyl sulfoxide-acetic acid mixed solvent at around room temperature. etc. In these methods, the product can be purified by methods such as recrystallization.
また、−形成(TIT)において、R5及びRG がア
ルコキシ基であるベンジル化合物は、4,4′−ジヒド
ロキシベンジルのアルカリ金属塩とハロゲン化アルキル
を反応させることを特徴とする方法により製造すること
ができる。Furthermore, in - formation (TIT), a benzyl compound in which R5 and RG are alkoxy groups can be produced by a method characterized by reacting an alkali metal salt of 4,4'-dihydroxybenzyl with an alkyl halide. can.
」記構4,4′ージヒドロキシベンジルのアルカリ金属
塩は、4,4′−ジヒドロキシベンジルと丁、3. 、
N a 、 K等のアルカリ金属,■, jH,Na
H。The alkali metal salt of 4,4'-dihydroxybenzyl has the structure 4,4'-dihydroxybenzyl and 3. ,
Alkali metals such as Na, K, ■, jH, Na
H.
K H等のアルカリ金属の水素化物、LjOH。Alkali metal hydrides such as KH, LjOH.
NaOH,KOI−I等のアルカリ金属の水酸化物等と
を反応させることにより得られる。アルカリ金属、その
水素化物又はその水酸化物は4,4′ジヒドロキシベン
ジルに対して2倍モル以上使用するのが好ましい。上記
ハロゲン化アルキルとしては、塩化オクタデシル、臭化
オクタデシル、ヨウ化オクタデシル等のハロゲン化オク
タデシルを必須成分として用い、必要に応じて他のハロ
ゲン化アルキルが併用される。他のハロゲン化アルキル
はハロゲン化アルキルの総量に対して50モル%以下で
用いるのが好ましい。また、ハロゲン化アルキルを2種
以上併用する場合、その添加順序は任意である。ハロゲ
ン化アルキルは4,4′ジヒドロキシベンジルに対して
等モル又はほぼ等モルで使用するのが好ましい。以上の
反応は、N。It can be obtained by reacting with an alkali metal hydroxide such as NaOH or KOI-I. It is preferable to use the alkali metal, its hydride, or its hydroxide in an amount of at least twice the mole of 4,4' dihydroxybenzyl. As the alkyl halide, octadecyl halides such as octadecyl chloride, octadecyl bromide, and octadecyl iodide are used as an essential component, and other alkyl halides are used in combination as necessary. Other alkyl halides are preferably used in an amount of 50 mol % or less based on the total amount of alkyl halides. Furthermore, when two or more types of alkyl halides are used in combination, the order of addition is arbitrary. The alkyl halide is preferably used in equimolar or approximately equimolar amounts relative to 4,4' dihydroxybenzyl. The above reaction is N.
N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメチルアセトア
ミド、ジメチルスルホキシド等の極性溶媒中で行なうの
が好ましく、反応温度は40〜70°Cが好ましい。目
的生成物は、再結晶等の方法により精製することができ
、また、シリカゲル等の充填剤を用いるカラムクロマト
グラフィーにより分取精製することができる。The reaction is preferably carried out in a polar solvent such as N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide or dimethylsulfoxide, and the reaction temperature is preferably 40 to 70°C. The desired product can be purified by a method such as recrystallization, or can be fractionated and purified by column chromatography using a packing material such as silica gel.
前記したジチオレン型有機金属錯体は、種々の方法で基
板上に膜化てき、該錯体の膜にレーザ光等の熱エネルギ
ーを負荷すると、その部分の錯体の会合状態又は配向状
態が変化し、吸光スペクトルが変化する。この現象を利
用して、上記錯体の膜を記録材料として使用することが
できる。The dithiolene-type organometallic complex described above is formed into a film on a substrate by various methods, and when thermal energy such as laser light is applied to the film of the complex, the association state or orientation state of the complex in that part changes, causing light absorption. The spectrum changes. Utilizing this phenomenon, a film of the above complex can be used as a recording material.
上記錯体の膜化方法としては、錯体を、場合によりポリ
マーと共に、有機溶剤に溶解した溶液をスピン塗布する
方法、真空蒸着法、ラングミュア・プロジェット法(L
B法)等がある。Methods for forming a film from the above complex include a method in which a solution of the complex and, if necessary, a polymer is dissolved in an organic solvent is spin-coated, a vacuum evaporation method, a Langmuir-Prodgett method (L
Method B) etc.
このうちラングミュア・ブロジェット法(LB法)で膜
化すればピンホールなどの欠陥のない均質な膜が得られ
、薄膜化に有利であり、さらに、分子の配向状態の制御
もある程度可能となる。Among these methods, if the Langmuir-Blodgett method (LB method) is used to form a film, a homogeneous film without defects such as pinholes can be obtained, which is advantageous for thinning the film, and furthermore, it is possible to control the orientation state of molecules to some extent. .
上記基板としては、石英ガラス、はうけい酸ガラスなど
の無機ガラス類、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリ
カーボネート樹脂、エポキシ樹脂等のプラスチック類が
用いられる。上記基板上には、1−ランキングサーボ用
に、あらかじめ基板にグループを形成しておくほうが望
ましい。上記基板と記録膜の他に、必要に応じて反射層
、保護層。As the substrate, inorganic glasses such as quartz glass and silicate glass, and plastics such as polymethyl methacrylate resin, polycarbonate resin, and epoxy resin are used. It is preferable to form a group on the board in advance for the 1-ranking servo. In addition to the above substrate and recording film, a reflective layer and a protective layer are added as necessary.
断熱層等を設けてもよい。また、透明電極さらに必要に
応じて配向膜を有した基板で記録膜を挟持すれば、電場
による記録膜の配向制御が可能になり、記録の消去も可
能となる。A heat insulating layer or the like may be provided. Furthermore, if the recording film is sandwiched between substrates having transparent electrodes and, if necessary, an alignment film, it becomes possible to control the orientation of the recording film using an electric field, and it also becomes possible to erase the recording.
スピン塗布において必要に応じて使用されるポリマーと
してはジチオレン型有機金属錯体と相溶性があるもので
あればよく、具体的には、ポリメチルメタクリレート、
ポリブチルメタクリレ−1へ、ポリシクロへキシルメタ
クリレ−1・、ポリスチレン、ポリビニルトルエン、ポ
リーtert−ブチルスチレン等が挙げられる。ジチオ
レン型有機金属錯体とポリマの混合比は、希釈による光
学濃度の低下を抑えるためには、なるべく低いことが望
ましい。The polymer used as necessary in spin coating may be any polymer that is compatible with the dithiolene type organometallic complex, and specifically, polymethyl methacrylate, polymethyl methacrylate,
Polybutyl methacrylate-1, polycyclohexyl methacrylate-1, polystyrene, polyvinyltoluene, poly tert-butylstyrene, and the like can be mentioned. The mixing ratio of the dithiolene-type organometallic complex and the polymer is desirably as low as possible in order to suppress a decrease in optical density due to dilution.
ジチオレン型有機金属錯体のLB膜を形成する場合、炭
素数10〜24程度の長鎖アルキル基を有する両親媒性
製膜物質を併用してもよい。該製膜物質としては、ステ
アリン酸などの脂肪酸、ステアリルアルコールなどの脂
肪族アルコール、ステアリン酸メチルなどの脂肪酸エス
テルなどがあげられる。ジチオレン型有機金属錯体と製
膜物質の混合比は、モル比で前者:後者が1=1乃至1
:20程度であるが、希釈による光学濃度の低下を抑え
るためには、製膜物質の使用量はなるべく少なくするこ
とが望ましい。When forming an LB film of a dithiolene type organometallic complex, an amphiphilic film-forming substance having a long-chain alkyl group having about 10 to 24 carbon atoms may be used in combination. Examples of the film-forming substance include fatty acids such as stearic acid, aliphatic alcohols such as stearyl alcohol, and fatty acid esters such as methyl stearate. The mixing ratio of the dithiolene type organometallic complex and the film-forming substance is 1 to 1 in terms of molar ratio of the former to the latter.
:20, but in order to suppress the decrease in optical density due to dilution, it is desirable to use as little amount of the film-forming substance as possible.
以下実施例により本発明をさらに詳細に説明する。 The present invention will be explained in more detail with reference to Examples below.
実施例1 4−ヒドロキシベンズアルデヒト」−6g 。Example 1 4-Hydroxybenzaldehyde”-6g.
N a OH5、7g さらにヨード−n−オクタデ
カン50gをN、N−ジメチルホルムアミド(以下DM
Fと略記する)300mQ中、60℃で2時間反応させ
ることにより4−n−オクタデシロキシベンズアルデヒ
ド35gを得た。得られた4n−オクタデシロキシベン
ズアルデヒド25g(0,065モル)、4−クロロベ
ンズアルデヒド9.4 g (0,065モル)及びK
CN3.9g を用い、DMF250mMを溶媒とし
、90℃で3時間反応させた。ついで、反応液を冷却し
て析出した結晶をろ別し、該結晶をエタノールから再結
晶して4,4′−ジ−n−オクタデシロキシベンゾイン
]−2gを得た。これの’H−NMRスペク1−ル及び
IRスペクトル(KBr法)をそれぞれ第1図及び第2
図に示す。5.7 g of NaOH and 50 g of iodo-n-octadecane were added to N,N-dimethylformamide (hereinafter referred to as DM).
35 g of 4-n-octadecyloxybenzaldehyde was obtained by reacting in 300 mQ (abbreviated as F) at 60° C. for 2 hours. The obtained 4n-octadecyloxybenzaldehyde 25 g (0,065 mol), 4-chlorobenzaldehyde 9.4 g (0,065 mol) and K
Using 3.9 g of CN and 250 mM of DMF as a solvent, the reaction was carried out at 90° C. for 3 hours. Then, the reaction solution was cooled and the precipitated crystals were filtered off, and the crystals were recrystallized from ethanol to obtain 2 g of 4,4'-di-n-octadecyloxybenzoin. The 'H-NMR spectrum and IR spectrum (KBr method) of this are shown in Figures 1 and 2, respectively.
As shown in the figure.
実施例2
4.4′−ジ−オクタデシロキシベンゾイン7.0g
、P2S、3.1g 及び(NH4)2S041.9g
をジオキサン150mQに投入し2時間還流した。Example 2 7.0 g of 4.4'-di-octadecyloxybenzoin
, P2S, 3.1g and (NH4)2S041.9g
was added to 150 mQ of dioxane and refluxed for 2 hours.
反応液を冷却後過剰のP2S、をろ別し、ろ液にN j
CQ2 ・6 H203、3g を水50 m Qに
溶解したものを加え2時間還流した。反応液を冷却し、
析出した沈殿をろ別し、アセトンで洗浄後、酢酸エチル
から再結晶することにより茶白色結晶である下記式(a
)のビス(4,,4’ −ジローオクタデシロキシ−ジ
チオベンジル)ニッケル1.5g を得た。これの熱分
解温度は約250℃であり、”H−NMRスペクトル及
びIRスペクトル(KBr法)をそれぞれ第3図及び第
4図に示す。After cooling the reaction solution, excess P2S was filtered off, and the filtrate was injected with N j
A solution of 3 g of CQ2.6H203 dissolved in 50 mQ of water was added and the mixture was refluxed for 2 hours. Cool the reaction solution,
The deposited precipitate was filtered, washed with acetone, and then recrystallized from ethyl acetate to obtain brownish white crystals of the following formula (a
1.5 g of bis(4,,4'-zirooctadecyloxy-dithiobenzyl)nickel of ) was obtained. The thermal decomposition temperature of this is about 250 DEG C., and the H-NMR spectrum and IR spectrum (KBr method) are shown in FIGS. 3 and 4, respectively.
実施例3
実施例1と同様にして得られた4−n−オクタデシロキ
シベンズアルテヒド20g(0,053モル)とベンズ
アルデヒド5.7g (0,053モル)をKCN3.
1g の存在下にD M F 250 m fl中。Example 3 20 g (0,053 mol) of 4-n-octadecyloxybenzaltehyde obtained in the same manner as in Example 1 and 5.7 g (0,053 mol) of benzaldehyde were added to KCN3.
DM F in the presence of 1 g in 250 m fl.
60℃で3時間反応させた。反応後、反応液を飽和N
a Cω水溶液中に投入して冷却した。析出した固体を
ろ別し、エタノールから再結晶した。析出した結晶をろ
別して分離し、ろ液を乾固した。The reaction was carried out at 60°C for 3 hours. After the reaction, the reaction solution was saturated with N
a Cω aqueous solution and cooled. The precipitated solid was filtered off and recrystallized from ethanol. The precipitated crystals were separated by filtration, and the filtrate was dried.
残渣をエタノールから再結晶して4−n−オクタデシロ
キシベンゾイン7.3g を得た。これのiH−NMR
スペクトル及びIRスペクトル(KBr法)をそれぞれ
第5図及び第6図に示す。The residue was recrystallized from ethanol to obtain 7.3 g of 4-n-octadecyloxybenzoin. iH-NMR of this
The spectrum and IR spectrum (KBr method) are shown in FIGS. 5 and 6, respectively.
実施例4 4−n−オクタデシロキシベンゾイン5.0g。Example 4 5.0 g of 4-n-octadecyloxybenzoin.
P2S、3.5g 及び(NH4)2SO42,1g
をジオキサン150mRに投入し2時間還流した。反
応後、過剰のp2s、をろ別し、ろ液にN i CΩ2
−6H203,7g を水55 m nに溶解したも
のを加え2時間還流した。反応液を冷却し、生成した沈
殿をろ別し、該沈殿をアセトンで洗浄後、シリカゲル・
カラムクロマ1へグラフィー〔溶離液:ヘキサン/クロ
ロホルム−8/2(容量比)の混合溶媒〕で精製するこ
とにより緑白色結晶である下式(b)のビス(4−オク
タデシロキシジチオベンジル)ニッケル1.1g を得
た。これの熱分解温度は約260℃であり、1H−NM
Rスペクトル及びIRスペクトル(KBr法)をそれぞ
れ第7図及び第8図に示す。P2S, 3.5g and (NH4)2SO42, 1g
was added to 150 mR of dioxane and refluxed for 2 hours. After the reaction, excess p2s was filtered off, and the filtrate was added with N i CΩ2.
A solution of 203.7 g of -6H dissolved in 55 mn of water was added and refluxed for 2 hours. The reaction solution was cooled, the generated precipitate was filtered, and the precipitate was washed with acetone, and then filtered with silica gel.
Bis(4-octadecyloxydithiobenzyl)nickel of the following formula (b), which is a greenish-white crystal, is purified by column chroma 1 using a mixed solvent of hexane/chloroform-8/2 (volume ratio)]. 1.1g was obtained. The thermal decomposition temperature of this is about 260°C, and 1H-NM
The R spectrum and IR spectrum (KBr method) are shown in FIGS. 7 and 8, respectively.
(ただし、式中、2個のX″ のうち一方が水素、他方
がn−オクタデシロキシ基であり、2個のX2 のうち
一方が水素、他方がn−オクタデシロキシ基である。)
実施例5
実施例3においてベンズアルデヒド5.7g の代わり
に4−クロロベンズアルデヒド7.5g(0,053モ
ル)を用いること以外は実施例3と同様にして4−n−
オクタデシロキシ−4′−クロロベンゾイン7.7g
を得た。これの″I−I−NMRスペク1ヘル及びIR
スペクトル(KBr法)をそれぞれ第9図及び第10図
に示す。(However, in the formula, one of the two X's is hydrogen and the other is an n-octadecyloxy group, and one of the two X's is hydrogen and the other is an n-octadecyloxy group.) Example 5 4-n-
Octadesyloxy-4'-chlorobenzoin 7.7g
I got it. This's ``I-I-NMR Spec 1 HEL and IR
The spectra (KBr method) are shown in FIGS. 9 and 10, respectively.
実施例6
4−n−オクタデシロキシ−4′−クロロベンゾイン5
.0 g 、 P2S53.3 g及び(NH4)、、
5O42,Ogをジオキサンコ−50m flに投入し
2時間還流した。反応液を冷却後過剰のP2S、をろ別
し、ろ液にNJ、CQ、、・6H203,6gを水55
mQに溶解したものを加え2時間還流した。反応後、反
応液を冷却し、生成した沈殿をろ刑し、該沈殿をアセ1
ヘンで洗浄後、シリカゲル・カラムクロマトグラフィー
〔溶離液:ヘキサン/クロロホルム−7/3(容量比)
の混合溶媒〕で精製することにより緑白色結晶である下
式(c)のヒス(4−n−オクタデシロキシ−4′−ク
ロロ−ジチオベンジル)ニッケル0.8 g を得た
。Example 6 4-n-octadecyloxy-4'-chlorobenzoin 5
.. 0 g, P2S53.3 g and (NH4),
5O42,0g was added to 50 m fl of dioxanco and refluxed for 2 hours. After cooling the reaction solution, remove excess P2S by filtration, and add 203,6 g of NJ, CQ, .6H to the filtrate and 55 g of water
A solution dissolved in mQ was added and the mixture was refluxed for 2 hours. After the reaction, the reaction solution is cooled, the generated precipitate is filtered, and the precipitate is
After washing with hexane, silica gel column chromatography [eluent: hexane/chloroform-7/3 (volume ratio)
0.8 g of his(4-n-octadecyloxy-4'-chloro-dithiobenzyl)nickel of the following formula (c) as green-white crystals was obtained.
これの熱分解温度は約260℃であり、1H−NMRス
ペク1ヘル及びTRスペクトル(KBr法)をそれぞれ
第11図及び第12図に示す。The thermal decomposition temperature of this is about 260 DEG C., and the 1H-NMR spectra and TR spectra (KBr method) are shown in FIGS. 11 and 12, respectively.
(ただし、式中、2個のX3は一方が塩素、他方がn−
オクタデシロキシ基、2個のX4 は一方が塩素、他方
がn−オクタデシロキシ基である。)試験例1
ビス(4,4’ −ジ−n−オクタデシロキシ−ジチオ
ベンジル)ニッケルのトルエン溶液(ImmoQ/Q)
を耐熱ガラス基板上に滴下し、回転塗布した。塗布条件
は、400rpmで20秒、次いで] 2 Q Orp
+nで30秒とした。得られた膜の吸収スペクトルを第
13図中グラフ千として示した。(However, in the formula, one of the two X3s is chlorine and the other is n-
In the octadecyloxy group, one of the two X4's is chlorine and the other is n-octadecyloxy group. ) Test Example 1 Toluene solution of bis(4,4'-di-n-octadecyloxy-dithiobenzyl)nickel (ImmoQ/Q)
was dropped onto a heat-resistant glass substrate and spin coated. The coating conditions were 400 rpm for 20 seconds, then] 2 Q Orp
+n for 30 seconds. The absorption spectrum of the obtained film is shown as a graph in FIG.
得られた膜を空気中で80’Cまで加熱した後空気中で
室温まで冷却したところ、第13図にグラフ2として示
すようにわずかに吸収極太が長波長側にシフトするとと
もに吸光度もわずかに上昇した。When the obtained film was heated to 80'C in air and then cooled to room temperature in air, the thickest absorption shifted slightly to the longer wavelength side and the absorbance also slightly decreased, as shown in graph 2 in Figure 13. Rose.
さらにこの膜を125℃まで加熱した後空気中で室温ま
で冷却したところ、第13図にグラフ3として示すよう
に吸収極大が50nm程短波長側にシフl−した。When this film was further heated to 125 DEG C. and then cooled to room temperature in air, the absorption maximum shifted to the shorter wavelength side by about 50 nm, as shown in graph 3 in FIG.
試験例2
試験例1において、ビス(4,,4,’−ジーn −オ
クタデシロキシ−ジチオベンジル)ニッケルの代わりに
実施例4で得られたビス(4−n−オクタデシロキシ−
ジチオベンジル)ニッケルを用いたほかは、試験例1と
同様な条件で回転塗布膜を作製した。得られた膜の吸収
スペク1〜ルを第14図にグラフ4として示した。得ら
れた膜を空気中で70’Cまて加熱した後空気中で室温
まで冷却したところ、第14図にグラフ5として示すよ
うに吸光度が増加するとともに吸収極大が50nm程短
波長側にシフ1−シた。さらにこの膜を125°Cまで
加熱した後空気中で室温まで冷却したところ、第14図
にグラフ6として示すように吸収極大が55nm程長波
長側にシフI〜した。Test Example 2 In Test Example 1, bis(4-n-octadecyloxy-dithiobenzyl) obtained in Example 4 was used instead of bis(4,,4,'-di-n-octadecyloxy-dithiobenzyl)nickel.
A spin-coating film was prepared under the same conditions as Test Example 1 except that dithiobenzyl) nickel was used. The absorption spectra 1 to 1 of the obtained film are shown as graph 4 in FIG. When the obtained film was heated in air to 70'C and then cooled to room temperature in air, the absorbance increased and the absorption maximum shifted to the shorter wavelength side by about 50 nm, as shown in graph 5 in Figure 14. 1-Shit. When this film was further heated to 125° C. and then cooled to room temperature in air, the absorption maximum shifted to the longer wavelength side by about 55 nm, as shown in graph 6 in FIG.
試験例3
試験例1において、ビス(4,4’ −ジ−nオクタデ
シロキシ−ジチオベンジル)ニッケルの代わりに実施例
6で得られたビス(4−オクタデシロキシ−4−クロロ
−ジチオベンジル)ニッケルを用いたほかは、試験例1
と同様な条件で回転塗布膜を作製した。得られた膜の吸
収スペクトルを第15図にグラフ7として示した。得ら
れた膜を空気中で125°Cまで加熱した後空気中で室
温まで冷却したところ、第15図にグラフ8として示す
ように吸収極大が60nm程短波長側にシフ1−シた。Test Example 3 In Test Example 1, bis(4-octadecyloxy-4-chloro-dithiobenzyl) obtained in Example 6 was used instead of bis(4,4'-di-n-octadecyloxy-dithiobenzyl)nickel. ) Test Example 1 except that nickel was used.
A spin coating film was prepared under the same conditions as above. The absorption spectrum of the obtained film is shown as graph 7 in FIG. When the obtained film was heated to 125° C. in air and then cooled to room temperature in air, the absorption maximum shifted to the shorter wavelength side by about 60 nm, as shown in graph 8 in FIG.
比較試験例1
試験例1において、ビス(4,4’ −ジーn−オクタ
デシロキシ−ジチオベンジル)ニッケルの代わりにビス
(ジチオベンジル)ニッケルを用いたほかは、試験例1
と同様な条件で回転塗布膜を作製した。得られた膜に対
し試験例1と同様な加熱処理を行ったが、吸収極大のシ
フトは認められず、吸光度も変化しなかった。また、加
熱温度の上昇と共に結晶化の進行が認められた。Comparative Test Example 1 Test Example 1 except that bis(dithiobenzyl)nickel was used instead of bis(4,4'-di-n-octadecyloxy-dithiobenzyl)nickel in Test Example 1.
A spin coating film was prepared under the same conditions as above. The obtained film was subjected to the same heat treatment as in Test Example 1, but no shift in absorption maximum was observed and no change in absorbance was observed. Furthermore, progress of crystallization was observed as the heating temperature increased.
実施例7
4.4′−ジヒドロキシベンジル2.0 g をDM
F50rnQに溶解し、水素化す1ヘリウム(流動パラ
フィン約55%含有)0.5g を徐々に添加し、そ
の後ヨード−ローオクタデカン9.4gを添加し60℃
で2時間反応させた。反応溶液を冷却することによって
得られた固体をろ別後、エタノールから再結晶すること
により、4,4′ジーn−オクタデシロキシベンジル2
.2g を得た。’ I−■−N M Rスペク1〜ル
及びIRスペク)〜ル(KBr法)をそれぞれ第16図
及び第17図に示す。Example 7 2.0 g of 4.4'-dihydroxybenzyl in DM
Dissolved in F50rnQ, gradually added 0.5 g of helium hydride (containing about 55% liquid paraffin), then added 9.4 g of iodo-ro-octadecane, and heated at 60°C.
The mixture was allowed to react for 2 hours. The solid obtained by cooling the reaction solution was filtered and recrystallized from ethanol to obtain 4,4'-n-octadecyloxybenzyl 2.
.. 2g was obtained. 'I-■-N MR spectra 1 to IR spectra) to IR spectra (KBr method) are shown in FIGS. 16 and 17, respectively.
得られた4、4.’ −ジーn−オクタデシロキシ6一
ベンジル2.0g を4,4′−ジ−n−オクタデシロ
キシベンゾイン7.0 g の代わりに使用し、p
z s s 、 (N H4) S O4及びN i
Cfl 、、・6H20の使用量をそれぞれ0.89g
、0.53g 及び0.95g としたこと以外は
実施例2に準じて行い、同様にビス(4,,4’ −ジ
−n−オクタデシロキシ−ジチオベンジル)ニッケル0
.65 g を得た。Obtained 4, 4. 2.0 g of '-di-n-octadecyloxy6-benzyl was used in place of 7.0 g of 4,4'-di-n-octadecyloxybenzoin, and p
z s s , (NH4) SO4 and N i
The amount of Cfl, , 6H20 used is 0.89g each.
, 0.53 g and 0.95 g, and in the same manner, bis(4,,4'-di-n-octadecyloxy-dithiobenzyl)nickel 0
.. 65 g was obtained.
請求項]におけるジチオレン型金属錯体は、新規であり
、熱によりその会合状態又は配列状態が変化し、吸収ス
ペクトルが変化し、記録媒体の記録材料として有用であ
る。The dithiolene-type metal complex in Claim] is novel, and its association state or arrangement state changes with heat, and its absorption spectrum changes, making it useful as a recording material for a recording medium.
請求項2におけるベンゾイン化合物及び請求項3におけ
るベンジル化合物は、いずれも新規であって上記ジチオ
レン型金属錯体の原料として有用である。Both the benzoin compound in claim 2 and the benzyl compound in claim 3 are new and useful as raw materials for the dithiolene metal complex.
請求項4における方法により、上記ジチオレン型金属錯
体を容易に製造することができる。According to the method according to claim 4, the dithiolene metal complex can be easily produced.
第1図は実施例1で得られた4、4′−ジ−n−オクタ
デシロキシベンゾインの11−I −N M Rスペク
1〜ル、第2図は該化合物のIRスペクトル、第3図は
実施例2で得られたビス(4,4’ −ジ−n−オクタ
デシロキシ−ジチオベンジル)ニッケルの1H−N M
Rスペクトル、第4図は該錯体のIRスペクトル、第
5図は実施例3で得られた4−n−オクタデシロキシベ
ンゾインのJ(−NMRスペク1ヘル、第6図は該化合
物のIRスペクトル、第7図はビス(4−n−オクタデ
シロキシ−ジチオベンジル)ニッケルの’ H−N M
Rスペクトル、゛第8図は該錯体のIRスペクI−ル
、第9図は4−n−オクタデシロキシ−4′−クロロベ
ンツインの1H−NMRスペクトル、第10図は該化合
物のIRスペクトル、第11図はビス(4−n−オクタ
デシロキシ−4′−クロロ−ジチオベンジル)ニッケル
の’ F(−N M Rスペクトル、第12図は該錯体
のIRスペクトル、第13図はビス(4゜4′−ジ−n
−オクタデシロキシ−ジチオベンジル)ニッケルの吸収
スペクトル、第14図はビス(4−n−オクタデシロキ
シ−ジチオベンジル)ニッケルの吸収スペクトル、第1
5図はビス(4r)−オクタデシロキシ−4′−クロロ
−ジチオベンジル)ニッケルの吸収スペクl〜ル、第1
6図は実施例7で得られた4、4′−ジ−n−オクタデ
シロキシベンジルの1H−N M Rスペク(〜ル、第
17図は該化合物のIRスペク1−ルを示す。
1、.4..7・・熱処理前の吸収スペクトル、2,5
70”Cで熱処理後の吸収スペクトル、3,6゜8・・
125℃で熱処理後の吸収スペクトル。
■Figure 1 shows the 11-I-NMR spectra of 4,4'-di-n-octadecyloxybenzoin obtained in Example 1, Figure 2 shows the IR spectrum of the compound, and Figure 3 shows the IR spectrum of the compound. is 1H-N M of bis(4,4'-di-n-octadecyloxy-dithiobenzyl)nickel obtained in Example 2.
4 is the IR spectrum of the complex, FIG. 5 is the J(-NMR spectrum of 4-n-octadecyloxybenzoin obtained in Example 3, and FIG. 6 is the IR spectrum of the compound. , Figure 7 shows the 'H-N M of bis(4-n-octadecyloxy-dithiobenzyl)nickel.
R spectrum, Figure 8 is the IR spectrum of the complex, Figure 9 is the 1H-NMR spectrum of 4-n-octadecyloxy-4'-chlorobenzene, and Figure 10 is the IR spectrum of the compound. , Fig. 11 shows the 'F(-NMR spectrum of bis(4-n-octadecyloxy-4'-chloro-dithiobenzyl)nickel), Fig. 12 shows the IR spectrum of the complex, and Fig. 13 shows the bis(-NMR spectrum of bis(4-n-octadecyloxy-4'-chloro-dithiobenzyl)nickel). 4゜4'-J-n
-octadecyloxy-dithiobenzyl) nickel absorption spectrum, Figure 14 is the absorption spectrum of bis(4-n-octadecyloxy-dithiobenzyl) nickel, Figure 1
Figure 5 shows the absorption spectra of bis(4r)-octadecyloxy-4'-chloro-dithiobenzyl)nickel, 1st
Figure 6 shows the 1H-NMR spectrum of 4,4'-di-n-octadecyloxybenzyl obtained in Example 7. Figure 17 shows the IR spectrum of the compound. ,.4..7...Absorption spectrum before heat treatment, 2,5
Absorption spectrum after heat treatment at 70"C, 3.6°8...
Absorption spectrum after heat treatment at 125°C. ■
Claims (1)
シロキシ基を示し、他方は水素、ハロゲン、アルキル基
又はアルコキシ基を示し、R^3とR^4のうち一方は
オクタデシロキシ基を示し、他方は、水素、ハロゲン、
アルキル基又はアルコキシ基を示し、MはNi、Pd又
はptを示す)で表わされるジチオレン型有機金属錯体
。 2、一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (ただし、式中、R^5とR^6のうち一方はオクタデ
シロキシ基を示し、他方は水素、ハロゲン、アルキル基
又はアルコキシ基を示す)で表わされるベンゾイン化合
物。 3、一般式(III) ▲数式、化学式、表等があります▼(III) (ただし、式中、R^7とR^8のうち、一方はオクタ
デシロキシ基、他方は水素、ハロゲン、アルキル基又は
アルコキシ基を示す)で表わされるベンジル化合物。 4、請求項2に記載の一般式(II)で表わされるベンゾ
イン化合物又は請求項3に記載の一般式(III)で表わ
されるベンジル化合物を硫化リンと反応させた後、ニッ
ケル、パラジウム又は白金の金属ハロゲン化物又はハロ
ゲン化金属酸カリウムを反応させることを特徴とする請
求項1に記載の一般式( I )で表わされるジチオレン
型有機金属錯体の製造法。[Claims] 1. General formula (I) ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(I) (However, in the formula, one of R^1 and R^2 represents an octadecyloxy group, The other represents hydrogen, halogen, an alkyl group, or an alkoxy group, one of R^3 and R^4 represents an octadecyloxy group, and the other represents hydrogen, halogen,
A dithiolene-type organometallic complex represented by an alkyl group or an alkoxy group, and M represents Ni, Pd or pt. 2. General formula (II) ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (II) (However, in the formula, one of R^5 and R^6 represents an octadecyloxy group, and the other represents hydrogen, halogen, A benzoin compound represented by an alkyl group or an alkoxy group. 3. General formula (III) ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (III) (However, in the formula, one of R^7 and R^8 is an octadecyloxy group, and the other is hydrogen, halogen, alkyl or an alkoxy group). 4. After reacting the benzoin compound represented by the general formula (II) according to claim 2 or the benzyl compound represented by the general formula (III) according to claim 3 with phosphorus sulfide, nickel, palladium or platinum is added. 2. The method for producing a dithiolene type organometallic complex represented by the general formula (I) according to claim 1, which comprises reacting a metal halide or a potassium metal halide.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19338790A JPH0482895A (en) | 1990-07-20 | 1990-07-20 | Dithiolene type organic metal complex, preparation thereof, benzoin compound and benzyl compound |
Applications Claiming Priority (1)
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Publication Number | Publication Date |
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JPH0482895A true JPH0482895A (en) | 1992-03-16 |
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Family Applications (1)
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JP19338790A Pending JPH0482895A (en) | 1990-07-20 | 1990-07-20 | Dithiolene type organic metal complex, preparation thereof, benzoin compound and benzyl compound |
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Country | Link |
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JP (1) | JPH0482895A (en) |
-
1990
- 1990-07-20 JP JP19338790A patent/JPH0482895A/en active Pending
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