JPH0480930B2 - - Google Patents

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JPH0480930B2
JPH0480930B2 JP17034983A JP17034983A JPH0480930B2 JP H0480930 B2 JPH0480930 B2 JP H0480930B2 JP 17034983 A JP17034983 A JP 17034983A JP 17034983 A JP17034983 A JP 17034983A JP H0480930 B2 JPH0480930 B2 JP H0480930B2
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JP
Japan
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compound
parts
water
compounds
phase
Prior art date
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JP17034983A
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Japanese (ja)
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JPS6060123A (en
Inventor
Satoshi Taguchi
Yoshio Inoe
Kazuyoshi Hirabayashi
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Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
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Publication date
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明はエポキシ化物の製造法に関する。[Detailed description of the invention] The present invention relates to a method for producing an epoxide.

更に詳しくは、本発明は特に電気、電子部品材
料として有用なエポキシ化物の製造法に関する。
More specifically, the present invention relates to a method for producing epoxides particularly useful as materials for electrical and electronic components.

近年、電気、電子部品用材料、特に半導体封止
材料は量産性、コスト面から従来のセラミツクに
代わり、樹脂による封止が主流となっている。封
止用樹脂としては、その耐熱性、耐水性の優秀さ
から、ノボラツク型エポキシ樹脂が主として使用
されているが、集積度の増大とともに電気特性の
低下を招くハロゲン(特に加水分解性ハロゲン)
含量の少ない高品質の樹脂の出現が強く望まれて
いる。
In recent years, resin encapsulation has become mainstream in materials for electrical and electronic components, especially semiconductor encapsulation materials, instead of conventional ceramics from the standpoint of mass production and cost. Novolac-type epoxy resins are mainly used as sealing resins due to their excellent heat resistance and water resistance, but halogens (especially hydrolyzable halogens) cause a decrease in electrical characteristics as the degree of integration increases.
The emergence of high quality resins with low content is strongly desired.

従来知られているノボラツク型エポキシ樹脂の
製造方法は、フエノール類ノボラツク樹脂とエピ
ハロヒドリンを反応させるものであり、後処理に
より無機性ハロゲンは殆んど含有しないものの、
高温高湿下で分解する有機性ハロゲンを1000ppm
程度含有していた。このような有機性ハロゲンを
含むノボラツク型エポキシ樹脂は、モノマー等に
用いられる蒸留等のような容易な分離手段を用い
ることが出来ず、含有する高ハロゲン濃度から高
集積用の封止材料としては使用出来ないという欠
点があった。
The conventionally known method for producing novolac type epoxy resin involves reacting a phenolic novolac resin with epihalohydrin, and although it contains almost no inorganic halogen through post-treatment,
1000ppm of organic halogens that decompose under high temperature and high humidity
It contained some amount. Novolak-type epoxy resins containing such organic halogens cannot be used as easy separation methods such as distillation, which are used for monomers, and are not suitable as sealing materials for high integration due to the high halogen concentration they contain. The drawback was that it could not be used.

本発明者らはエピハロヒドリンを使用しないエ
ポキシ化方法として、オレフインの酸化によるエ
ポキシ化に着目し、鋭意研究の結果、アリルエー
テル化物を、4級アンモニウム塩、バナジウ
ム化合物、タングステン化合物及びモリブデン化
合物の少なくとも一種、及びリン化合物を触媒
として用い有機溶媒の存在下、二相系で過酸化水
素と反応せしめることにより、上述した問題なく
目的とするエポキシ化物を工業的有利に製造する
ことを見出し本発明を完成するに至つた。
The present inventors focused on epoxidation by oxidation of olefin as an epoxidation method that does not use epihalohydrin, and as a result of intensive research, the allyl ether compound was combined with at least one of a quaternary ammonium salt, a vanadium compound, a tungsten compound, and a molybdenum compound. and a phosphorus compound as a catalyst to react with hydrogen peroxide in a two-phase system in the presence of an organic solvent, thereby completing the present invention by discovering that the desired epoxidized product can be industrially advantageously produced without the above-mentioned problems. I came to the conclusion.

この方法によれば、アリルエーテル化物を有機
相中に溶解し、過酸化水素を含む水相との二相系
で反応を行う結果、目的のエポキシ化物は有機相
中に得られ、過剰の過酸化水素および触媒は水相
中に残存するため、反応終了後、水洗、分液を行
うことによりこれらを容易に分離することができ
る。
According to this method, an allyl ether compound is dissolved in an organic phase and reacted with an aqueous phase containing hydrogen peroxide in a two-phase system. As a result, the desired epoxide compound is obtained in the organic phase, and an excess of Since hydrogen oxide and the catalyst remain in the aqueous phase, they can be easily separated by washing with water and separating the liquids after the reaction is completed.

しかし、有機相を濃縮することにより目的とす
るエポキシ化物を取り出すに当つて、触媒の一つ
として水溶性の高い4級アンモニウム塩を用いた
場合は上記した水洗分液によりそれを除去できる
ものの、水溶性の低いものはエポキシ化物ととも
に有機相中に残存するため、高温濃縮を行なう
と、生成したエポキシ基が、開環重合してゲル化
し、エポキシ当量が高くなり、また低温濃縮で
は、溶媒が残存して、半導体封上材料として性能
の低下をきたす。
However, when extracting the desired epoxidized product by concentrating the organic phase, if a highly water-soluble quaternary ammonium salt is used as one of the catalysts, it can be removed by the water washing and separation described above. Since those with low water solubility remain in the organic phase together with epoxides, when high temperature concentration is performed, the generated epoxy groups undergo ring-opening polymerization and gel, increasing the epoxy equivalent. It remains and causes a decline in performance as a semiconductor packaging material.

そこで、本発明者らは更に検討を加え、エポキ
シ化物の劣化をきたさずに濃縮し、高品質のエポ
キシ化合物を取り出す方法を鋭意研究の結果、エ
ポキシ化反応を行なつて、水洗、分液した有機相
中より、溶媒の大部分を、低温留去したのち、ア
ルコールで洗浄することにより、4級アンモニウ
ム塩を除去することが可能となり、その後、高温
濃縮しても、エポキシ化物の劣化をきたさないこ
とを見い出し、本発明を完成するに至つた。
Therefore, the inventors of the present invention further investigated and conducted intensive research on a method to concentrate and extract high-quality epoxy compounds without causing deterioration of the epoxide compound.As a result, they conducted an epoxidation reaction, washed with water, and separated the liquids. It is possible to remove the quaternary ammonium salt by distilling off most of the solvent from the organic phase at a low temperature and then washing with alcohol. They discovered that there is no such thing and completed the present invention.

すなわち、本発明は、下記一般式()、 (式中、nは2〜20の数であり、R1、R2 R3およ
びR4は同じでも異なつていてもよく、それぞれ
水素又はメチル基を意味する。) で表わされるアリルエーテル化物を、酸化剤とし
て過酸化水素、触媒として4級アンモニウム
塩、バナジウム化合物、タングステン化合物及
びモリブデン化合物の少なくとも一種、及びリ
ン化合物を用い、有機溶媒の存在下、二相系で反
応させることを特徴とする下記一般式()、 (式中、n、R1、R2、R3およびR4は前記と同じ
意味を有す。) で表わされるエポキシ化物の製造法を提供する。
That is, the present invention provides the following general formula (), (In the formula, n is a number from 2 to 20, and R 1 , R 2 R 3 and R 4 may be the same or different and each represents hydrogen or a methyl group.) is reacted in a two-phase system in the presence of an organic solvent using hydrogen peroxide as an oxidizing agent, at least one of a quaternary ammonium salt, a vanadium compound, a tungsten compound and a molybdenum compound, and a phosphorus compound as a catalyst. The following general formula (), (wherein, n, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 have the same meanings as above).

さらに本発明は、前記一般式()で表わされ
るアリルエーテル化物を、酸化剤として過酸化水
素、触媒として4級アンモニウム塩及びバナ
ジウム化合物、タングステン化合物及びモリブデ
ン化合物の少なくとも一種、及びリン化合物を
用い、有機溶媒の存在下、二相系で反応させ、次
いで水洗、分液後有機相を低温濃縮して該有機溶
媒の大部分を留去した後アルコール類で洗浄する
ことを特徴とする前記一般式()で表わされる
エポキシ化物の製造法を提供する。
Furthermore, the present invention uses an allyl etherified product represented by the general formula () using hydrogen peroxide as an oxidizing agent, a quaternary ammonium salt and a vanadium compound as a catalyst, at least one of a tungsten compound and a molybdenum compound, and a phosphorus compound, The above general formula is characterized in that the reaction is carried out in a two-phase system in the presence of an organic solvent, then washed with water, separated, the organic phase is concentrated at a low temperature, most of the organic solvent is distilled off, and then washed with an alcohol. A method for producing an epoxide represented by () is provided.

本発明方法によれば低有機ハロゲン含量で高品
質のエポキシ化物を工業的有利に製造することが
できる。以下に本発明を詳細に説明する。
According to the method of the present invention, a high quality epoxidized product with a low organic halogen content can be industrially advantageously produced. The present invention will be explained in detail below.

原料として使用されるアリルエーテル化物の具
体例としては、ビスフエノールAジアリルエーテ
ル、ビスフエノールFジアリルエーテル、アリル
エーテル化フエノールノボラツク樹脂、アリルエ
ーテル化クレゾールノボラツク樹脂、アリルエー
テル化フエノールクレゾール共縮合ノボラツク樹
脂、アリルエーテル化クレゾールキシレノール共
縮合ノボラツク樹脂が例示される。これらは本発
明の主旨からハロゲン含有量の少ないものが好ま
しく、例えば、特願昭58−103039号に記載の方法
で合成することができる。これらの中、アリルエ
ーテル化ノボラツク樹脂が好適に用いられる。
Specific examples of allyl ether compounds used as raw materials include bisphenol A diallyl ether, bisphenol F diallyl ether, allyl etherified phenol novolak resin, allyl etherified cresol novolak resin, and allyl etherified phenol cresol cocondensation novolak resin. The resin is exemplified by allyl etherified cresol xylenol cocondensation novolak resin. In view of the purpose of the present invention, these materials preferably have a low halogen content, and can be synthesized, for example, by the method described in Japanese Patent Application No. 103039/1982. Among these, allyl etherified novolac resins are preferably used.

本発明で使用される過酸化水素は一般的に過酸
化水素含量10〜80%の水溶液が使用され、アリル
基に対して1当量以上用いればよい。
The hydrogen peroxide used in the present invention is generally an aqueous solution having a hydrogen peroxide content of 10 to 80%, and may be used in an amount of 1 equivalent or more based on the allyl group.

本発明で使用される4級アンモニウム塩として
は、トリオクチルメチルアンモニウム塩、セチル
ジメチルベンジルアンモニウム塩、ジセチルジメ
チルアンモニウム塩、N−ラウリルピリジニウム
塩、N−ラウリルピコリニウム塩、N−ベンジル
ピリジニウム塩、N−ベンジルピコリニウム塩等
を挙げることができる。これらの中、トリオクチ
ルメチルアンモニウム塩、セチルジメチルベンジ
ルアンモニウム塩及びN−ラウリルピリジニウム
またはピコリニウム塩が好ましくとりわけ、トリ
オクチルメチルアンモニウム塩が好ましく用いら
れる。
The quaternary ammonium salts used in the present invention include trioctylmethylammonium salt, cetyldimethylbenzylammonium salt, dicetyldimethylammonium salt, N-laurylpyridinium salt, N-laurylpicolinium salt, N-benzylpyridinium salt, N-benzylpicolinium salt and the like can be mentioned. Among these, trioctylmethylammonium salt, cetyldimethylbenzylammonium salt, and N-laurylpyridinium or picolinium salt are preferred, and trioctylmethylammonium salt is particularly preferably used.

4級アンモニウムの対イオンとしては、
NO3 -、OH-、HSO4 -、H2PO4 -、HWO4 -等があ
げられる。
As a counter ion for quaternary ammonium,
Examples include NO 3 , OH , HSO 4 , H 2 PO 4 , HWO 4 and the like.

4級アンモニウム塩の使用量は、アリルエーテ
ル化物に対し0.001〜0.5重量比である。
The amount of the quaternary ammonium salt used is 0.001 to 0.5 weight ratio to the allyl ether compound.

バナジウム化合物、タングステン化合物及びモ
リブデン化合物としては、バナジン酸、タングス
テン酸、及びモリブデン酸、並びにそのアルカリ
金属及びアルカリ土類金属の対応する中性塩、又
は酸性塩、金属カルボニル、酸化物、硫化物、ナ
フテン酸塩、ステアリン酸塩などがあり、これら
の中、タングステン化合物、とりわけタングステ
ン酸のアルカリ金属塩が好適である。使用量はバ
ナジウム、タングステン及びモリブデンとしてア
リルエーテル化物に対し0.0005〜0.5重量比であ
る。
Vanadium compounds, tungsten compounds, and molybdenum compounds include vanadic acid, tungstic acid, and molybdic acid, and their corresponding neutral or acid salts of alkali metals and alkaline earth metals, metal carbonyls, oxides, sulfides, These include naphthenates, stearates, etc. Among these, tungsten compounds, particularly alkali metal salts of tungstic acid, are preferred. The amount used is 0.0005 to 0.5 weight ratio of vanadium, tungsten and molybdenum to the allyl etherified product.

リン化合物としては、リン酸、亜リン酸、ポリ
リン酸、ピロリン酸や酸化物、例えばP2O5 P2O3
等があり、とりわけリン酸が好適である。使用量
はリンとして、アリルエーテル化物に対し0.0005
〜0.5重量比である。
Examples of phosphorus compounds include phosphoric acid, phosphorous acid, polyphosphoric acid, pyrophosphoric acid and oxides such as P 2 O 5 P 2 O 3
etc., with phosphoric acid being particularly preferred. The amount used is 0.0005 as phosphorus for allyl ether compound.
~0.5 weight ratio.

これらの触媒は、上記使用範囲以下では、エポ
キシ化反応への触媒効果が少なく、それ以上用い
ても工業的に有利とはいい難い。
These catalysts have little catalytic effect on the epoxidation reaction below the above-mentioned usage range, and even if they are used beyond that range, it cannot be said to be industrially advantageous.

これらの触媒の効果としては、リン化合物はバ
ナジウム化合物、タングステン化合物、及びモリ
ブデン化合物がそれぞれ過酸化水素と反応して過
バナジウム化合物、過タングステン化合物及び過
モリブデン化合物となるのを促進し、過バナジウ
ム化合物、過タングステン化合物及び、過モリブ
デン化合物は、アリル基のエポキシ化を促進し、
4級アンモニウム塩は過バナジウム化合物、過タ
ングステン化合物及び過モリブデン化合物を、水
相から、有機相へ移行させるためのものであると
考えられる。
The effect of these catalysts is that phosphorus compounds promote the reaction of vanadium compounds, tungsten compounds, and molybdenum compounds with hydrogen peroxide to become pervanadium compounds, pertungsten compounds, and permolybdenum compounds, respectively, and pervanadium compounds , pertungsten compounds and permolybdenum compounds promote epoxidation of allyl groups,
It is believed that the quaternary ammonium salt is for transferring pervanadium compounds, pertungsten compounds, and permolybdenum compounds from the aqueous phase to the organic phase.

本発明で用いる有機溶媒としては反応条件下で
安定であり、常温で液体で、水と分液し、アリル
エーテル化物及びエポキシ化物を溶解するもので
あればよい。
The organic solvent used in the present invention may be any organic solvent as long as it is stable under the reaction conditions, is liquid at room temperature, separates from water, and dissolves the allyl ether compound and the epoxide compound.

例示すれば、ベンゼン、トルエン、キシレン等
の芳香族炭化水素、クロロホルム、1,2−ジク
ロルエタン、クロルベンゼン等のハロゲン化炭化
水素、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケ
トン等のケトン類、酢酸ブチル、酢酸エチル、プ
ロピオン酸エチル等のカルボン酸のエステル類、
ニトロメタン、ニトロベンゼン等のニトロ化合物
を挙げる事ができる。これらの中、芳香族炭化水
素が好適である。
Examples include aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, and xylene; halogenated hydrocarbons such as chloroform, 1,2-dichloroethane, and chlorobenzene; ketones such as methyl isobutyl ketone and methyl ethyl ketone; butyl acetate, ethyl acetate, and propion. esters of carboxylic acids such as ethyl acid;
Mention may be made of nitro compounds such as nitromethane and nitrobenzene. Among these, aromatic hydrocarbons are preferred.

本発明のエポキシ化反応は通常20〜100℃好ま
しくは30℃〜80℃の温度で行なわれる。20℃以下
では反応速度が著しく遅くなり100℃以上でも反
応できるが、加圧装置を必要とし工業的に特に有
利とはいい難い。
The epoxidation reaction of the present invention is usually carried out at a temperature of 20 to 100°C, preferably 30 to 80°C. The reaction rate is extremely slow at temperatures below 20°C, and although the reaction can be carried out at temperatures above 100°C, it requires a pressurizing device and is not particularly advantageous industrially.

エポキシ化反応後の水洗は室温〜100℃で行な
うことができる。水洗後の分液性を上げるために
は反応後に更に溶媒を加えて稀釈する事ができ
る。
Washing with water after the epoxidation reaction can be carried out at room temperature to 100°C. In order to improve the liquid separation properties after washing with water, a solvent can be further added to dilute the solution after the reaction.

エポキシ化後の溶媒の留去は、エポキシ基の開
環重合を抑制するため低温で行なうのがよいが、
余り低すぎる場合には、エポキシ樹脂中に溶媒が
多量に残存するため、室温〜100℃、好ましくは
40°〜80℃で行なうのがよい。
It is best to distill off the solvent after epoxidation at a low temperature to suppress ring-opening polymerization of the epoxy group.
If the temperature is too low, a large amount of solvent will remain in the epoxy resin, so the temperature should be between room temperature and 100°C, preferably
It is best to do this at a temperature of 40° to 80°C.

洗浄に用いるアルコールとしては、室温で液状
のもので、エポキシ化物の溶解度が小さく、4級
アンモニウム塩をよくとかすものであればよく、
例示すれば、メタノール、エタノール、iso−プ
ロピルアルコール、n−プロピルアルコール、n
−ブチルアルコール、iso−ブチルアルコール、
ベンジルアルコール、シクロヘキシルアルコール
等をあげることができる。
The alcohol used for cleaning may be one that is liquid at room temperature, has low solubility for epoxides, and dissolves quaternary ammonium salts well.
Examples include methanol, ethanol, iso-propyl alcohol, n-propyl alcohol, n-propyl alcohol,
-butyl alcohol, iso-butyl alcohol,
Examples include benzyl alcohol and cyclohexyl alcohol.

アルコールの使用量としては、エポキシ化物に
対して0.5〜50重量比であり好ましくは1〜10重
量比である。上記範囲より、アルコール使用量が
少ない場合には、洗浄後冷却すると全体が粘調液
となり4級アンモニウム塩の除去効果が少なく、
アルコールの使用料が多い場合には、エポキシ化
物がわずかではあるがアルコールに溶解するた
め、ロスが大きくなり工業的見地から好ましくな
い。
The amount of alcohol used is 0.5 to 50 weight ratio, preferably 1 to 10 weight ratio, based on the epoxidized product. If the amount of alcohol used is less than the above range, the whole will become a viscous liquid when cooled after cleaning, and the removal effect of quaternary ammonium salts will be small.
If a large amount of alcohol is used, a small amount of the epoxidized product will be dissolved in the alcohol, resulting in large losses, which is not preferred from an industrial standpoint.

洗浄は室温〜100℃好ましくは、エポキシ化物
の軟化点付近で行なう。すなわち温度が低い場合
には洗浄効果が低く、高い場合にはエポキシ基の
開環をひきおこす。洗浄時間は数分以上であれば
よく、1回〜数回洗浄を行なえばよい。
The washing is carried out at room temperature to 100°C, preferably around the softening point of the epoxide. That is, when the temperature is low, the cleaning effect is low, and when the temperature is high, ring opening of the epoxy group is caused. The cleaning time may be several minutes or more, and the cleaning may be performed once to several times.

アルコール洗浄後は室温以下に冷却し、アルコ
ール相を分離後、そのまま濃縮することもできる
が、洗浄後のエポキシ化物を溶媒に再溶解し、水
洗後の処理をしたのち濃縮すれば更に好ましい。
この場合の濃縮は100℃以上の高濃縮が可能であ
り、高品質のエポキシ化物を得ることができる。
After washing with alcohol, the mixture may be cooled to room temperature or lower, the alcohol phase may be separated, and the mixture may be directly concentrated, but it is more preferable to redissolve the epoxidized product after washing in a solvent, wash with water, and then concentrate.
In this case, high concentration at 100°C or higher is possible, and a high quality epoxide can be obtained.

以下本発明を実施例により更に詳細に説明する
が、本発明はこれらにより限定されるものではな
い。なお例中、部とあるのは、重量単位をあらわ
す。
EXAMPLES The present invention will be explained in more detail with reference to Examples below, but the present invention is not limited thereto. Note that in the examples, parts represent weight units.

実施例 1 Cl含有量が20ppmのアリルエーテル化クレゾー
ルノボラツク樹脂50部とトリオクチルメチルアン
モニウムヒドロサルフエート2部をトルエン50部
に溶解し、撹拌機、コンデンサー、温度計付きの
4ツ口フラスコに仕込んだ。これにタングステン
酸ナトリウム・二水塩3.5部、85%リン酸1.5部
を、10部の水に溶解して加え60℃に昇温した。昇
温後撹拌しながら66w/v%の過酸化水素20.5部
を滴下し、その後60℃で14時間エポキシ化反応を
行つた。
Example 1 50 parts of allyl etherified cresol novolak resin with a Cl content of 20 ppm and 2 parts of trioctylmethylammonium hydrosulfate were dissolved in 50 parts of toluene and placed in a 4-necked flask equipped with a stirrer, condenser, and thermometer. I prepared it. To this was added 3.5 parts of sodium tungstate dihydrate and 1.5 parts of 85% phosphoric acid dissolved in 10 parts of water, and the temperature was raised to 60°C. After raising the temperature, 20.5 parts of 66 w/v% hydrogen peroxide was added dropwise with stirring, and then an epoxidation reaction was carried out at 60°C for 14 hours.

反応終了後、トルエン60部、水250部を加えて
水洗分液を行なつた。分液後トルエンの大部分を
40℃で留去し、メタノール120部を加え60℃で20
分保温した。これを冷却して、メタノール相を除
き再度メタノール120部を加えて60℃で20分保温
した。冷却後メタノール相を除去し、折出物を、
メチルイソブチルケトン120部に溶解し、水洗等
の処理を行なつた後、5mmHg、150℃で減圧濃縮
し、淡黄色の半固体状の樹脂40部を得た。この樹
脂はエポキシ当量222g/eq、全クロル含有量
30ppmであつた。
After the reaction was completed, 60 parts of toluene and 250 parts of water were added to perform water washing and separation. After separation, most of the toluene is
Distill at 40℃, add 120 parts of methanol and boil at 60℃ for 20 minutes.
It was kept warm for minutes. This was cooled, the methanol phase was removed, 120 parts of methanol was added again, and the mixture was kept at 60°C for 20 minutes. After cooling, the methanol phase was removed and the precipitate was
The mixture was dissolved in 120 parts of methyl isobutyl ketone, washed with water, etc., and then concentrated under reduced pressure at 5 mmHg and 150°C to obtain 40 parts of a pale yellow semi-solid resin. This resin has an epoxy equivalent of 222g/eq and a total chlorine content.
It was 30ppm.

実施例 2 Cl含有率が20ppmのアリルエーテル化クレゾー
ルノボラツク樹脂10部とトリオクチルメチルアン
モニウムヒドロオキサイド0.6部をトルエン10部
に溶解し撹拌機、コンデンサー、温度計付の4ツ
口フラスコに仕込んだ。これにタングステン酸ナ
トリウム・二水塩0.7部、85%リン酸0.4部を水2
部に溶解して加え、70℃に昇温した。昇温後撹拌
下に、69%過酸化水素水4.1部を滴下し、70℃で
8時間、エポキシ化反応を行なつた。反応終了後
トルエン12.1部と水50部を加えて水洗、分液を行
なつた。分液後50℃でトルエンを留去し、メタノ
ール24部を加え、65℃で20分洗浄した。これを冷
却して、メタノール相を除去し、再度メタノール
24部を加えて65℃で20分保温した。冷却後メタノ
ール相を除去し析出物をメチルイソブチルケトン
24部に溶解し、水洗等の処理を行なつたのち、5
mmHg150℃で減圧濃縮し、エポキシ当量244g/
eq、全クロル含有量25ppmの淡黄色の半固体状
の樹脂7.2部を得た。
Example 2 10 parts of allyl etherified cresol novolak resin with a Cl content of 20 ppm and 0.6 parts of trioctylmethylammonium hydroxide were dissolved in 10 parts of toluene and charged into a 4-necked flask equipped with a stirrer, condenser, and thermometer. . To this, add 0.7 parts of sodium tungstate dihydrate and 0.4 parts of 85% phosphoric acid to 2 parts of water.
The solution was added to the solution and the temperature was raised to 70°C. After raising the temperature, 4.1 parts of 69% hydrogen peroxide solution was added dropwise while stirring, and an epoxidation reaction was carried out at 70°C for 8 hours. After the reaction was completed, 12.1 parts of toluene and 50 parts of water were added to perform water washing and liquid separation. After separation, toluene was distilled off at 50°C, 24 parts of methanol was added, and the mixture was washed at 65°C for 20 minutes. Cool this, remove the methanol phase, and methanol again.
24 parts were added and kept at 65°C for 20 minutes. After cooling, remove the methanol phase and convert the precipitate to methyl isobutyl ketone.
After dissolving in 24 parts and processing such as washing with water,
Concentrate under reduced pressure at mmHg 150℃, epoxy equivalent 244g/
eq, 7.2 parts of a pale yellow semi-solid resin with a total chlorine content of 25 ppm was obtained.

実施例 3 実施例1と同様に、反応、水洗、分液、溶媒留
去を行なつた濃縮物に、イソプロパノールを加え
70℃で20分保温した。
Example 3 In the same manner as in Example 1, isopropanol was added to the concentrate that had been subjected to reaction, water washing, liquid separation, and solvent distillation.
It was kept warm at 70°C for 20 minutes.

冷却後イソプロパノール相を除去し再度イソプ
ロパノールを加えて、70℃で20分保温した。冷却
後イソプロパノール相を除去し析出物をトルエン
に溶解し、水洗等の処理を行なつたのち、5mm
Hg150℃で減圧、濃縮し、エポキシ当量241g/
eqの薄茶色の半固体状の樹脂を得た。
After cooling, the isopropanol phase was removed, isopropanol was added again, and the mixture was kept at 70°C for 20 minutes. After cooling, the isopropanol phase was removed, the precipitate was dissolved in toluene, washed with water, etc.
Concentrate under reduced pressure at Hg 150℃, epoxy equivalent: 241g/
A light brown semi-solid resin of eq was obtained.

比較例 実施例1と同様に反応、水洗、分液を行なつた
トルエン相をそのまま5mmHg、150℃で減圧濃縮
を行なつたところ、茶褐色のゲル化物が得られ
た。このものはエポキシ当量測定用のジオキサン
に不溶であつた。
Comparative Example The toluene phase, which had been reacted, washed with water, and separated in the same manner as in Example 1, was directly concentrated under reduced pressure at 5 mmHg and 150°C to obtain a brown gelled product. This product was insoluble in dioxane for measuring epoxy equivalent.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 一般式 (式中、nは2〜20の数であり、R1、R2、R3
よびR4は、同じでも異なつていてもよく、それ
ぞれ水素またはメチル基を意味する。) で表わされるアリルエーテル化物を、酸化剤とし
て過酸化水素を用い、触媒として、4級アンモ
ニウム塩、バナジウム化合物、タングステン化
合物及びモリブデン化合物の少なくとも一種、及
びリン化合物を用い、有機溶媒の存在下、二相
系で反応させることを特徴とする一般式 (式中、n、R1、R2、R3およびR4は前記と同じ
意味を有す。) で表わされるエポキシ化物の製造法。 2一般式 (式中、nは2〜20の数であり、R1、R2、R3
よびR4は、同じでも異なつていてもよく、それ
ぞれ水素またはメチル基を意味する。) で表わされるアリルエーテル化物を、酸化剤とし
て過酸化水素を用い、触媒として、4級アンモ
ニウム塩、バナジウム化合物、タングステン化
合物及びモリブデン化合物の少なくとも一種、及
びリン化合物を用い、有機溶媒の存在下、二相
系で反応させ、次いで水洗、分液後、有機相を低
温濃縮して該有機溶媒の大部分を留去した後アル
コール類で洗浄することを特徴とする一般式 (式中、n、R1、R2、R3およびR4は前記と同じ
意味を有す。) で表わされるエポキシ化物の製造法。
[Claims] 1. General formula Allyl represented by _ The etherified product is reacted in a two-phase system in the presence of an organic solvent using hydrogen peroxide as an oxidizing agent and at least one of a quaternary ammonium salt, a vanadium compound, a tungsten compound, a molybdenum compound, and a phosphorus compound as a catalyst. A general formula characterized by (In the formula, n, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 have the same meanings as above.) A method for producing an epoxide compound represented by the following. 2 general formula Allyl represented by _ The etherified product is reacted in a two-phase system in the presence of an organic solvent using hydrogen peroxide as an oxidizing agent and at least one of a quaternary ammonium salt, a vanadium compound, a tungsten compound, a molybdenum compound, and a phosphorus compound as a catalyst. After washing with water and separating the layers, the organic phase is concentrated at a low temperature to remove most of the organic solvent, and then washed with an alcohol. (In the formula, n, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 have the same meanings as above.) A method for producing an epoxide compound represented by the following.
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