JPH0476882B2 - - Google Patents

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JPH0476882B2
JPH0476882B2 JP60104299A JP10429985A JPH0476882B2 JP H0476882 B2 JPH0476882 B2 JP H0476882B2 JP 60104299 A JP60104299 A JP 60104299A JP 10429985 A JP10429985 A JP 10429985A JP H0476882 B2 JPH0476882 B2 JP H0476882B2
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JP
Japan
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storage
gas
discharge pipe
section
cassette
Prior art date
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JP60104299A
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Japanese (ja)
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JPS61263502A (en
Inventor
Hiromi Kumagai
Tamio Endo
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Tokyo Electron Ltd
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Tokyo Electron Ltd
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Publication date
Application filed by Tokyo Electron Ltd filed Critical Tokyo Electron Ltd
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Publication of JPS61263502A publication Critical patent/JPS61263502A/en
Publication of JPH0476882B2 publication Critical patent/JPH0476882B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、半導体ウエーハなどの被収納物を
清浄状態で保管する場合などに用いる清浄化装置
に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a cleaning device used for storing objects such as semiconductor wafers in a clean state.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

半導体ウエーハは、半導体装置の精度を高める
ため、極めて塵埃の少ない場所に保管する必要が
あるが、従来、半導体ウエーハを塵埃から保護す
るため、それを取り扱う場所全体を清浄化する方
法が取られている。
Semiconductor wafers need to be stored in extremely dust-free locations to improve the precision of semiconductor devices, but conventionally, to protect semiconductor wafers from dust, the entire area where they are handled has been cleaned. There is.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

半導体ウエーハを取り扱う場所について、半導
体ウエーハを保管する倉庫や処理室の全体を清浄
化する場合、その清浄化には限度があり、設備が
大型化し、不経済である。
When cleaning the entire warehouse or processing room where semiconductor wafers are handled, there is a limit to how much cleaning can be done and the equipment becomes large, which is uneconomical.

そこで、この発明は、半導体ウエーハなどの被
収納物の保管場所を清浄化する清浄化装置を提供
することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to provide a cleaning device that cleans a storage area for objects such as semiconductor wafers.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

すなわち、この発明の清浄化装置は、気体を圧
送する圧送手段(フアン40)と、清浄化すべき
空間(収納部4)内の中心部に上下方向に立設さ
れるとともに、前記圧送手段との間に連結された
パイプを通して前記気体が圧送され、その気体を
前記空間内に放射状に吐出させる吐出管16と、
この吐出管を中央にしてその高さ方向に被収納物
(カセツト9、半導体ウエーハなど)を収納可能
な高さ以上の間隔を以て設置された複数段の収納
棚10と、各収納棚の収納空間と前記吐出管との
間に前記吐出管を包囲する形態で設置され、前記
吐出管から吐出する前記気体を通過させながら、
清浄化気体を形成するフイルタ14と、前記収納
棚を包囲して設置されて前記収納棚間を経た前記
清浄化気体が通過可能な囲壁(パンチングメタル
21)と、この囲壁の周面側に設置されて前記清
浄化気体を受ける吸気部18,20と、この吸気
部を通して前記収納棚毎に放射状の層流を成す前
記清浄化気体を吸気する吸気手段(フアン40,
44)とを備えたことを特徴とする。
That is, the cleaning device of the present invention includes a pressure-feeding means (fan 40) for pumping gas, which is vertically installed in the center of the space to be cleaned (accommodation section 4), and a space between the pressure-feeding means and the fan 40. a discharge pipe 16 through which the gas is fed under pressure through a pipe connected therebetween, and the gas is discharged radially into the space;
A plurality of storage shelves 10 are installed in the height direction with this discharge pipe in the center at intervals greater than the height that can store items to be stored (cassettes 9, semiconductor wafers, etc.), and a storage space of each storage shelf. and the discharge pipe so as to surround the discharge pipe, and while passing the gas discharged from the discharge pipe,
A filter 14 that forms clean gas, a surrounding wall (punched metal 21) that is installed to surround the storage shelves and through which the clean gas that has passed between the storage shelves can pass, and installed on the peripheral surface side of this surrounding wall. suction portions 18 and 20 for receiving the clean gas, and suction means (fans 40,
44).

〔作用〕[Effect]

この発明の清浄化装置では、清浄化すべき空間
の中心部には吐出管がその高さ方向に立設されて
おり、この吐出管にはパイプを通して気体を圧送
する圧送手段が連結され、圧送された気体が吐出
管から放射状に吐出される。そして、吐出管に
は、その高さ方向に被収納物を収納可能な高さ以
上の間隔を以て複数段の収納棚が形成され、各収
納棚の収納空間と吐出管との間に吐出管を包囲す
る形態でフイルタが設置されている。したがつ
て、吐出管から吐出する気体はフイルタを通して
清浄化され、清浄化気体として吐出管側から各収
納棚の間隔内に独立して供給される。
In the cleaning device of the present invention, a discharge pipe is installed vertically in the center of the space to be cleaned, and a pressure-feeding means for pressure-feeding gas through the pipe is connected to the discharge pipe. The gas is discharged radially from the discharge pipe. A plurality of storage shelves are formed in the discharge pipe at intervals greater than the height that can store the stored items in the height direction, and the discharge pipe is placed between the storage space of each storage shelf and the discharge pipe. A filter is installed in a surrounding manner. Therefore, the gas discharged from the discharge pipe is purified through the filter, and is supplied as purified gas from the discharge pipe side to the space between each storage shelf independently.

また、この収納棚の周囲部には包囲する形態で
清浄化気体を通過可能な囲壁が設けられ、この囲
壁の周面側には吸気部が設けられ、この吸気部に
は収納棚毎に放射状の層流を成す清浄化気体を強
制的に吸い込む吸気手段が連結されている。した
がつて、圧送される清浄化気体は、収納棚の間隔
内を通過した後、囲壁の背面側の吸気部側に吸気
手段を通して強制的に吸い込まれ、収納棚の間隔
内には滞留することなく、収納棚の間隔毎に吐出
管から囲壁に至る放射状を成す一定の層流を成す
清浄化気体流が形成され、収納空間の清浄化が図
られる。
In addition, an enclosing wall is provided around the storage shelf through which clean gas can pass, and an intake section is provided on the peripheral surface of this enclosing wall. A suction means for forcibly sucking in a laminar flow of cleaning gas is connected to the suction means. Therefore, after passing through the space between the storage shelves, the purified gas being pumped is forcibly drawn into the intake section on the back side of the enclosure wall through the intake means, and remains within the space between the storage shelves. Instead, a constant laminar cleaning gas flow is formed radially from the discharge pipe to the surrounding wall at every interval between the storage shelves, thereby cleaning the storage space.

〔実施例〕〔Example〕

以下、この発明の実施例を図面を参照して詳細
に説明する。
Embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.

(第1実施例) 第1図ないし第6図はこの発明の清浄化装置の
第1実施例を示している。
(First Embodiment) FIGS. 1 to 6 show a first embodiment of the cleaning device of the present invention.

第1図において、外装体2には、半導体ウエー
ハなどの被収納物を収納すべき収納空間を成す収
納部4と、この収納部4に被収納物の搬入、搬出
を行う搬送部6とが分離して設置されている。
In FIG. 1, the exterior body 2 includes a storage section 4 that forms a storage space for storing objects such as semiconductor wafers, and a transport section 6 that carries the objects into and out of the storage section 4. It is installed separately.

収納部4の中心部には、円筒で形成された支柱
8が回転可能に設置され、この支柱8の周壁部に
は、被収納物としての複数枚の半導体ウエーハを
収納したカセツト9を設置するための円板状の収
納棚10が複数段に亘つて取り付けられていると
ともに、清浄気体通流機構として、収納棚10間
の収納間隔内に空気を吐出する吐出部12が設け
られ、この吐出部12には吐出空気を清浄化する
フイルタ14が取り付けられている。したがつ
て、複数段に亘つて取り付けられた収納棚10間
に設けられた吐出部12からフイルタ14を介し
て清浄化された空気を収納部4に放出させること
ができる。支柱8の中心部には、吐出部12に均
等に清浄空気を圧送する吐出管16が設置されて
いる。また、収納部4および搬送部6には、支柱
8からの空気を吸い込む吸気部18,20が設け
られ、各吸気部18,20の吸気側には収納棚1
0を包囲する形態でパンチングメタル21が配設
されている。
A cylindrical support 8 is rotatably installed in the center of the storage section 4, and a cassette 9 containing a plurality of semiconductor wafers as objects to be stored is installed on the peripheral wall of the support 8. A plurality of disc-shaped storage shelves 10 are installed in a plurality of stages, and a discharge section 12 is provided as a clean gas flow mechanism for discharging air within the storage space between the storage shelves 10. A filter 14 is attached to the section 12 to purify the discharged air. Therefore, purified air can be discharged into the storage section 4 via the filter 14 from the discharge section 12 provided between the storage shelves 10 installed in multiple stages. A discharge pipe 16 is installed in the center of the support column 8 to uniformly force clean air to the discharge section 12. In addition, the storage section 4 and the conveyance section 6 are provided with intake sections 18 and 20 that suck air from the support column 8, and storage shelves 1 and 2 are provided on the intake side of each intake section 18 and 20.
A punching metal 21 is arranged to surround 0.

したがつて、フイルタ14を介して清浄化され
て収納部4に放出された空気は、支柱8の周壁部
に設置された各収納棚10間を通つた後、収納部
4及び搬送部6に設けられた吸気部18,20に
吸い込まれることになる。
Therefore, the air that has been purified through the filter 14 and released into the storage section 4 passes between the storage shelves 10 installed on the peripheral wall of the support column 8, and then is sent to the storage section 4 and the transport section 6. The air is sucked into the air intake portions 18 and 20 provided.

外装体2の上面部には、外気に開放された通気
部23が設けられ、清浄化動作に伴つてこの通気
部23から空気が外装体2内に引き込まれる。
A ventilation section 23 that is open to the outside air is provided on the upper surface of the exterior body 2, and air is drawn into the exterior body 2 through the ventilation section 23 during the cleaning operation.

搬送部6には、カセツト9を収納部4への搬
入、その搬出を行う搬送機構22が設置されてい
る。この搬送機構22にはカセツト9を把持して
前後方向に移送する搬送アーム24が設けられ、
この搬送アーム24の下部には、搬送すべきカセ
ツト9を一時的に載置する移動台26が設置され
ている。これら搬送アーム24および移動台26
は、昇降機構28で自動的に所望の高さに昇降可
能になつている。そして、外装体2の側壁には、
収納部4から搬出されるカセツト9を外部に搬出
するための搬出入口30が設けられている。
The transport section 6 is equipped with a transport mechanism 22 that carries the cassettes 9 into and out of the storage section 4. This transport mechanism 22 is provided with a transport arm 24 that grips the cassette 9 and transports it in the front-rear direction.
A moving table 26 is installed at the bottom of the transport arm 24 on which the cassette 9 to be transported is temporarily placed. These transfer arm 24 and moving table 26
can be automatically raised and lowered to a desired height by a lifting mechanism 28. And on the side wall of the exterior body 2,
A carry-in/out port 30 is provided for carrying out the cassette 9 carried out from the storage section 4 to the outside.

第2図ないし第4図は、第1図に示した清浄化
装置における清浄空気通流機構を示している。
2 to 4 show a clean air circulation mechanism in the cleaning device shown in FIG. 1. FIG.

第2図において、外装体2の内部には、基台部
32が設けられ、この基台部32に取り付けられ
た軸受部34と、外装体2の天井部に取り付けら
れた軸受部36との間に支柱8が回転可能に設置
され、基台部32の内部には、吐出管16と空気
を圧送する配管部38が配設されている。
In FIG. 2, a base part 32 is provided inside the exterior body 2, and a bearing part 34 attached to this base part 32 and a bearing part 36 attached to the ceiling part of the exterior body 2 are connected to each other. A support column 8 is rotatably installed in between, and a discharge pipe 16 and a piping section 38 for pressure-feeding air are arranged inside the base section 32.

この配管部38は、第3図に示すように、吐出
管16と吸気部18,20とを連係するものであ
り、第4図に示すように、空気の圧送手段として
のフアン40から吐出管16に対してその吐出力
で空気を圧送し、吐出部12から矢印A,Bで示
すように噴射した清浄空気は、吸気手段を成すフ
アン40の吸引力で吸気部18,20に吸気さ
れ、フイルタ42を介して再び吐出空気として吐
出管16に供給されるとともに、その一部の余剰
空気はフアン44を介して矢印Cで示すように外
部に排出される。
As shown in FIG. 3, this piping section 38 connects the discharge pipe 16 and the intake sections 18, 20, and as shown in FIG. 16, the clean air is injected from the discharge part 12 as indicated by arrows A and B, and is sucked into the suction parts 18 and 20 by the suction force of the fan 40, which constitutes the suction means. The discharge air is again supplied to the discharge pipe 16 via the filter 42, and a portion of the surplus air is discharged to the outside as shown by arrow C via the fan 44.

第5図および第6図は、搬送機構22の具体的
な構造を示している。
5 and 6 show the specific structure of the transport mechanism 22. FIG.

第5図において、搬送機構22は昇降機構28
で昇降可能に構成され、その搬送アーム24に
は、カセツト9を把持する一対の把持片46が取
り付けられている。搬送アーム24はその前後方
向に移動し、把持片46は搬送アーム24の移動
方向に対して直交方向に間隔が制御されるように
なつている。
In FIG. 5, the transport mechanism 22 is a lifting mechanism 28.
A pair of gripping pieces 46 for gripping the cassette 9 are attached to the transport arm 24. The transport arm 24 moves in its front-rear direction, and the interval between the gripping pieces 46 is controlled in a direction perpendicular to the direction of movement of the transport arm 24.

昇降機構28は、外装体2の天井側に設置され
たワイヤプーリ48と外装体2の基台部32側に
設置されたワイヤプーリ50との間にワイヤ52
を懸け廻したものであり、ワイヤ52に前記搬送
機構22が固定されている。
The lifting mechanism 28 includes a wire 52 between a wire pulley 48 installed on the ceiling side of the exterior body 2 and a wire pulley 50 installed on the base portion 32 side of the exterior body 2.
The transport mechanism 22 is fixed to a wire 52.

また、移動台26は、第6図に二点鎖線で示す
ように、搬送アーム24の移動方向とは直交方向
に移動可能に構成されている。
Further, the moving table 26 is configured to be movable in a direction orthogonal to the moving direction of the transfer arm 24, as shown by the two-dot chain line in FIG.

そして、収納部4と搬送部6とを仕切る仕切壁
54には、カセツト9の搬入、搬出のための搬送
口56が開口され、この搬送口56には、カセツ
ト9の搬入、搬出時に、シリンダ装置58で自動
的に開閉操作される開閉ドア60が設置されてい
る。
A transport port 56 for loading and unloading the cassettes 9 is opened in the partition wall 54 that partitions the storage section 4 and the transport section 6. An opening/closing door 60 that is automatically opened and closed by a device 58 is installed.

以上の構成において、その動作を説明する。 The operation of the above configuration will be explained.

フアン40から吐出管16に空気を圧送する
と、その空気は吐出管16から支柱8の内部に噴
射され、フイルタ14で清浄化されて吐出部12
から吐出される。
When air is force-fed from the fan 40 to the discharge pipe 16, the air is injected from the discharge pipe 16 into the support column 8, purified by the filter 14, and sent to the discharge part 12.
It is discharged from.

この吐出空気は、棚10の間の空間を通流し、
複数枚の半導体ウエーハを格納したカセツト9の
間を抜けて吸気部18,20に至る。吸気部1
8,20にはフアン40,44によつて負圧が作
用しており、吐出空気はその吐出圧と吸気圧との
相互作用によつて一定の送流が得られ、カセツト
9はその送流の中に置かれる。
This discharged air flows through the space between the shelves 10,
It passes between the cassettes 9 storing a plurality of semiconductor wafers and reaches the air intake sections 18 and 20. Intake part 1
Negative pressure is applied to 8 and 20 by fans 40 and 44, and a constant flow of discharged air is obtained by the interaction between the discharge pressure and the intake pressure, and the cassette 9 is placed inside.

この結果、カセツト9やその内部に格納されて
いる半導体ウエーハに対する塵埃の付着が効果的
に防止される。
As a result, dust is effectively prevented from adhering to the cassette 9 and the semiconductor wafers stored therein.

この場合、清浄気体としての清浄空気は、カセ
ツト9を載置する棚10の中心から放射方向に吐
出するため、その滞留が無く、塵埃の付着が防止
されている。
In this case, since the clean air as a clean gas is discharged in the radial direction from the center of the shelf 10 on which the cassettes 9 are placed, there is no accumulation of clean air and the adhesion of dust is prevented.

特に、外装体2の内部を収納部4と搬送部6と
に分離し、搬送部6が吐出空気の下流側に設置さ
れていることから、搬送部6で生じた摩擦粉など
の塵埃が収納部4に流れ込むことが無く、収納部
4の清浄化が高度に維持される。
In particular, since the interior of the exterior body 2 is separated into the storage section 4 and the conveyance section 6, and the conveyance section 6 is installed on the downstream side of the discharged air, dust such as friction powder generated in the conveyance section 6 is stored. There is no flow into the storage section 4, and the cleanliness of the storage section 4 is maintained at a high level.

次に、カセツト9の収納および搬出について説
明する。
Next, storage and removal of the cassette 9 will be explained.

第6図の二点鎖線で示すように、搬送機構22
の移動台26を外装体2の側面部に設けられた搬
出入口30から外部に矢印Dで示す方向に突出さ
せ、その上に保管すべきカセツト9を載置する。
このカセツト9を載置した状態で移動台26を搬
送部6の内部に移動させて所定の位置に停止させ
る。この場合、移動台26を内方に移動させた
際、その後部は矢印E方向に突出する。
As shown by the two-dot chain line in FIG.
A moving table 26 is made to protrude outside in the direction shown by arrow D from a loading/unloading port 30 provided on the side surface of the exterior body 2, and the cassettes 9 to be stored are placed thereon.
With the cassette 9 placed thereon, the moving table 26 is moved into the transport section 6 and stopped at a predetermined position. In this case, when the movable table 26 is moved inward, its rear portion protrudes in the direction of arrow E.

ここで、搬送アーム24を後方に移動させると
ともに、把持片46を拡開し、さらに、搬送アー
ム24を昇降機構28で下方に下げ、カセツト9
の側面部に把持片46を臨ませた後、把持片46
の間隔を狭め、カセツト9を把持片46で把持す
る。
Here, the transport arm 24 is moved rearward, the gripping pieces 46 are expanded, and the transport arm 24 is lowered by the lifting mechanism 28, and the cassette 9
After the gripping piece 46 faces the side surface of the gripping piece 46,
The cassette 9 is gripped by the gripping pieces 46.

この状態で、搬送アーム24を昇降機構28で
上方に移動させ、搬送口56の位置に停止させる
とともに、開閉ドア60を開き、搬送アーム24
を搬送口56から特定の棚10の特定の位置に臨
ませる。この場合、棚10は、支柱8の回転で載
置すべき空白部分を搬送口56の部分に臨ませ
る。
In this state, the transport arm 24 is moved upward by the lifting mechanism 28 and stopped at the position of the transport port 56, and the opening/closing door 60 is opened.
from the transport port 56 to a specific position on a specific shelf 10. In this case, the blank portion of the shelf 10 to be placed on the shelf 10 faces the transport port 56 by rotation of the support 8.

棚10の上面に位置させた搬送アーム24は、
カセツト9とともに下方に移動させ、カセツト9
を棚10の上面に接触させて把持片46を開き、
その把持を解除する。そして、搬送アーム24を
昇降機構28で上方に移動させるとともに、搬送
アーム24を後退させ、このとき、把持片46
は、所定位置に戻す。
The transport arm 24 located on the top surface of the shelf 10 is
Move the cassette 9 downward together with the cassette 9.
is brought into contact with the top surface of the shelf 10 to open the gripping piece 46,
Release the grip. Then, the transport arm 24 is moved upward by the elevating mechanism 28, and at the same time, the transport arm 24 is moved backward, and at this time, the gripping piece 46
return it to the specified position.

そして、カセツト9の搬入が終了し、搬送アー
ム24を後退させた後、開閉ドア60を閉じる。
After the loading of the cassette 9 is completed and the transport arm 24 is moved back, the opening/closing door 60 is closed.

また、棚10に載置されているカセツト9を搬
出する場合には、搬入とは逆の動作によつて移動
台26に搬出すべきカセツト9を移動させ、その
カセツト9を移動台26の移動で搬出入口30か
ら搬出させるものとする。
In addition, when carrying out the cassette 9 placed on the shelf 10, the cassette 9 to be carried out is moved to the moving table 26 by an operation opposite to the carrying-in operation, and the cassette 9 is moved to the moving table 26. It shall be carried out from the carrying-out entrance 30.

このようなカセツト9の搬入、搬出時、支柱8
から空気が圧送され、収納部4の清浄化が保たれ
る。
When loading and unloading such a cassette 9, the support 8
Air is pumped in from the container to keep the storage section 4 clean.

(第2実施例) 第7図ないし第10図はこの発明の清浄化装置
の第2実施例を示し、第1実施例と同一部分には
同一符号を付してある。
(Second Embodiment) FIGS. 7 to 10 show a second embodiment of the cleaning device of the present invention, in which the same parts as in the first embodiment are given the same reference numerals.

すなわち、この実施例の清浄化装置は、第7図
に示すように円筒状の外装体2の内部に、収納部
4と搬送部6とを非分離の状態で構成したもので
あり、収納部4の周囲に搬送機構22が設置され
ている。
That is, as shown in FIG. 7, the cleaning device of this embodiment has a storage section 4 and a conveyance section 6 configured in a non-separated state inside a cylindrical exterior body 2. A transport mechanism 22 is installed around 4.

この実施例では、外装体2の内壁に沿つて搬送
部6の昇降機構28のねじ軸59,62,64が
一定の角度だけ変位した位置に垂直に立設され、
各ねじ軸59,62,64にはそれぞれ支持アー
ム66が移動可能に取り付けられ、各支持アーム
66には棚10と同心円状に支持フレーム68が
固定され、この支持フレーム68には、その内側
に環状の移動台70が支持され、その外側に移動
可能に搬送アーム24が設置されている。
In this embodiment, the screw shafts 59, 62, 64 of the elevating mechanism 28 of the conveying section 6 are vertically disposed along the inner wall of the exterior body 2 at positions displaced by a certain angle,
A support arm 66 is movably attached to each screw shaft 59, 62, 64, and a support frame 68 is fixed to each support arm 66 concentrically with the shelf 10. An annular moving table 70 is supported, and a transfer arm 24 is movably installed on the outside thereof.

そして、第8図に示すように、収納部4の支柱
8には、その下方に設置された圧送手段から矢印
Fで示す空気が圧送され、その周壁部の吐出部1
2のフイルタ14を介して矢印Fで示す圧送空気
が、支柱8の周面方向に吐出するようになつてい
る。
As shown in FIG. 8, the air indicated by the arrow F is force-fed from the pressure-feeding means installed below to the support 8 of the storage part 4, and the air is forced into the support 8 of the storage part 4, and the air is forced into the support 8 of the storage part 4, as shown by the arrow F.
The pressurized air shown by the arrow F is discharged through the second filter 14 in the circumferential direction of the support column 8.

第9図および第10図は、搬送機構22および
昇降機構28の具体的な構造を示している。
9 and 10 show specific structures of the transport mechanism 22 and the lifting mechanism 28. FIG.

第9図および第10図において、ねじ軸59,
62,64に取り付けられた支持アーム66の先
端部には、環状の支持フレーム68が一体的に固
定され、この支持フレーム68の内壁面および外
壁面には、それぞれレール72,74が設けられ
ている。
9 and 10, the screw shaft 59,
An annular support frame 68 is integrally fixed to the tip of the support arm 66 attached to the support arms 62 and 64, and rails 72 and 74 are provided on the inner and outer wall surfaces of the support frame 68, respectively. There is.

レール72には、移動台70がその側面部に取
り付けた複数のローラ76,78を介して回動可
能に支持されている。また、移動台70の側部に
は、移動台70と同心円状の歯車80が取り付け
られ、この歯車80には、支持フレーム68の下
面部に固定されたモータ82で駆動される歯車8
4が噛み合わされている。すなわち、モータ82
の回転によつて、移動台70は収納棚10の周囲
を回転する。
A moving table 70 is rotatably supported on the rail 72 via a plurality of rollers 76 and 78 attached to the side surface thereof. Further, a gear 80 concentric with the movable base 70 is attached to the side of the movable base 70, and the gear 80 is driven by a motor 82 fixed to the lower surface of the support frame 68.
4 are engaged. That is, the motor 82
As a result of the rotation, the moving table 70 rotates around the storage shelf 10.

レール74には、搬送アーム24を取り付けた
回転フレーム86が複数のローラ88,90を介
して回転可能に支持され、回転フレーム86に取
り付けられた歯車92には、支持フレーム68の
下面部に固定されたモータ94で駆動される歯車
96が噛み合わされている。
A rotating frame 86 to which the transport arm 24 is attached is rotatably supported on the rail 74 via a plurality of rollers 88 and 90, and a gear 92 attached to the rotating frame 86 is fixed to the lower surface of the support frame 68. A gear 96 driven by a motor 94 is engaged.

ねじ軸62,64の下端部には、歯車98,1
00が取り付けられ、これら歯車98,100に
は、図示していないモータなどの回転駆動装置に
よつて駆動される歯車102が噛み合わされ、歯
車102の回転によつてねじ軸62,64が回転
され、支持アーム66とともに支持フレーム68
が矢印Gで示すように、上下方向に移動する。
Gears 98, 1 are provided at the lower ends of the screw shafts 62, 64.
A gear 102 driven by a rotary drive device such as a motor (not shown) is meshed with these gears 98 and 100, and the screw shafts 62 and 64 are rotated by the rotation of the gear 102. , support frame 68 with support arm 66
moves in the vertical direction as shown by arrow G.

また、搬送アーム24はアーム支持フレーム1
04で第9図に矢印Hで示す水平方向に回転およ
び矢印Iで示す前後方向に移動可能に支持されて
いる。なお、106は搬出入口30に設けられた
受台である。
Further, the transfer arm 24 is connected to the arm support frame 1
04, it is supported so as to be rotatable in the horizontal direction as shown by arrow H in FIG. 9 and movable in the front and back direction as shown by arrow I. Note that 106 is a pedestal provided at the loading/unloading entrance 30.

以上の構成に基づき、その動作を説明する。 The operation will be explained based on the above configuration.

フアン40から支柱8の内部に供給された空気
は、フイルタ14で清浄化されて吐出部12から
吐出され、この吐出空気は、収納棚10の間の空
間を通流し、複数枚の半導体ウエーハを格納した
カセツト9の間を抜けて吸気部18,20に至
る。この結果、カセツト9やその内部に格納され
ている半導体ウエーハに対する塵埃の付着が効果
的に防止される。この実施例においても、搬送部
6が吐出空気の下流側に設置されていることか
ら、搬送部6で生じた摩擦粉などの塵埃が外装体
2の周壁部側に押しやられ、収納部4の清浄化が
図られる。
The air supplied from the fan 40 to the inside of the support column 8 is purified by the filter 14 and discharged from the discharge section 12. This discharged air flows through the space between the storage shelves 10, and the plurality of semiconductor wafers are passed through the space between the storage shelves 10. It passes between the stored cassettes 9 and reaches the intake sections 18 and 20. As a result, dust is effectively prevented from adhering to the cassette 9 and the semiconductor wafers stored therein. Also in this embodiment, since the conveyance section 6 is installed on the downstream side of the discharged air, dust such as friction powder generated in the conveyance section 6 is pushed toward the peripheral wall of the exterior body 2, and the dust inside the storage section 4 is Cleanliness will be achieved.

次に、この場合のカセツト9の搬入は、図示し
ていない搬送手段によつてカセツト9を搬出入口
30の近傍に置き、第9図に二点鎖線で示すよう
に吐出させた搬送アーム24の把持片46でカセ
ツト9を把持して外装体2の内部に取り込み、カ
セツト9を把持した状態で搬送アーム24を矢印
Hで示すように回転させ、把持しているカセツト
9を収納棚10に向け、さらに搬送アーム24を
矢印Iで示す前方に移動させる。
Next, in order to carry in the cassette 9 in this case, the cassette 9 is placed in the vicinity of the carry-in/outlet 30 by means of a conveying means (not shown), and then the cassette 9 is placed in the vicinity of the carry-in/out entrance 30, and the cassette 9 is placed in the vicinity of the carry-in/out entrance 30 by a conveying means (not shown), and the conveying arm 24 is moved as shown by the two-dot chain line in FIG. Grip the cassette 9 with the gripping piece 46 and take it into the exterior body 2, rotate the transport arm 24 as shown by arrow H while gripping the cassette 9, and direct the gripped cassette 9 toward the storage shelf 10. , further moves the transport arm 24 forward as indicated by arrow I.

すなわち、モータ94の回転によつて、回転フ
レーム86を所定の位置に移動するとともに、歯
車102を回転させて支持アーム66とともに支
持フレーム68を昇降させ、その上下方向の位置
を調整する。搬出入口30から搬送アーム24を
回転して突出させ、把持片46にカセツト9を把
持させ、外装体2の内部に搬送アーム24ととも
に外装体2の内部に移動させる。
That is, the rotating frame 86 is moved to a predetermined position by the rotation of the motor 94, and the gear 102 is rotated to raise and lower the support frame 68 together with the support arm 66, thereby adjusting its vertical position. The transport arm 24 is rotated to protrude from the carry-in/out port 30, the gripping piece 46 grips the cassette 9, and the cassette 9 is moved into the exterior body 2 together with the transport arm 24.

このとき、一旦、カセツト9は移動台70に載
置する。
At this time, the cassette 9 is temporarily placed on the moving table 70.

そして、搬送アーム24は、把持片46を第1
0図に二点鎖線で示すように、カセツト9を把持
した状態で移送し、棚10の載置位置に移動させ
る。この状態で昇降機構28を操作し、支持フレ
ーム68とともに搬送アーム24を僅かに下方に
移動させ、棚10にカセツト9を載置した後、把
持片46の把持を解除し、再び搬送アーム24を
僅かに上方に移動した後、把持片46を元の位置
に戻す。
Then, the transport arm 24 moves the gripping piece 46 to the first position.
As shown by the two-dot chain line in FIG. 0, the cassette 9 is transferred while being gripped, and moved to the placement position on the shelf 10. In this state, the lifting mechanism 28 is operated to move the transport arm 24 slightly downward together with the support frame 68, and after placing the cassette 9 on the shelf 10, the gripping piece 46 is released and the transport arm 24 is moved again. After moving slightly upward, the gripping piece 46 is returned to its original position.

この場合、収納棚10の載置位置の選択は、前
記実施例の棚10の回転に対し、棚10を固定し
ておき、移動台70および回転フレーム86を回
転させて行う。
In this case, the placement position of the storage shelf 10 is selected by fixing the shelf 10 and rotating the movable table 70 and the rotating frame 86, unlike the rotation of the shelf 10 in the embodiment described above.

なお、棚10からのカセツト9の搬出は、前記
搬入とは逆の関係で搬送アーム24を駆動して行
うものとする。
It is assumed that the cassettes 9 are carried out from the shelf 10 by driving the transport arm 24 in a manner opposite to the carrying-in process.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したように、この発明によれば、吐出
管を中心にしてその高さ方向に複数段に亘つて収
納棚が形成されているとともに、収納棚の間隔内
には吐出管からの気体を清浄化するフイルタが設
けられ、また、収納棚の周囲部には囲壁を介して
吸気部が設けられているので、圧送手段によつて
圧送された気体は吐出管から吐出してフイルタを
経て清浄化され、清浄化気体として収納棚に供給
されるとともに、収納棚の周囲部には囲壁を介し
て吸気部側に強制的に吸気手段を通して吸い込む
ので、各収納棚上の被収納物にまんべんなく清浄
化気体を流し、しかも、各清浄化気体は、互いに
干渉することなく吸気部側に強制的に吸い込まれ
て収納棚毎の層流を成し、清浄化気体の流れは何
ら妨げられることがなく、かつ、各収納棚間の干
渉を生じることがないので、各収納棚の間隔毎に
独立して清浄化でき、しかも、各収納棚間で再汚
染を生じることはなく、また、各収納棚の清浄度
を均一化して高度な清浄化を実現でき、各収納棚
に収納される被収納物を高度な清浄化状態で保存
することができ、さらに、各収納棚は吐出管を包
囲する環状を成しているので、被収納物の収納効
率及び取出し効率を高めることができ、放射状を
成す清浄化気体流と相俟つて被収納物の高度な清
浄化に寄与することができる。
As explained above, according to the present invention, storage shelves are formed in multiple stages in the height direction around the discharge pipe, and gas from the discharge pipe is disposed within the space between the storage shelves. A cleaning filter is provided, and an intake section is provided around the storage shelf through a surrounding wall, so the gas pumped by the pumping means is discharged from the discharge pipe and purified via the filter. The purified gas is supplied to the storage shelves as a clean gas, and is also forcibly sucked into the surrounding area of the storage shelf through the intake means through the surrounding wall to the intake section, so that the stored items on each storage shelf are evenly cleaned. In addition, each cleaning gas is forcibly sucked into the intake section side without interfering with each other, forming a laminar flow for each storage shelf, and the flow of cleaning gas is not hindered in any way. In addition, since there is no interference between each storage shelf, each storage shelf can be cleaned independently at each interval, and recontamination does not occur between each storage shelf, and each storage shelf can be cleaned independently. It is possible to achieve a high degree of cleaning by making the cleanliness level of the storage uniform, and the items stored in each storage shelf can be stored in a highly clean state. Therefore, it is possible to improve the storage efficiency and the removal efficiency of the stored items, and together with the radial cleaning gas flow, it is possible to contribute to high-level cleaning of the stored items.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図はこの発明の清浄化装置の第1実施例を
示す一部を切欠いた斜視図、第2図は第1図に示
した清浄化装置の収納部の構成を示す断面図、第
3図は第2図に示した収納部の−線に沿う断
面図、第4図は第1図に示した清浄化装置におけ
る清浄気体通流機構を示す説明図、第5図は第1
図に示した清浄化装置における収納部および搬送
部の構成を示す縦断面図、第6図は第5図に示し
た収納部および搬送部の−線に沿う断面図、
第7図はこの発明の清浄化装置の第2実施例を示
す一部を切欠いた斜視図、第8図は第7図に示し
た清浄化装置における清浄気体通流系統を示す説
明図、第9図は第7図に示した清浄化装置の水平
断面図、第10図は第7図に示した清浄化装置の
搬送部の構成を示す一部切欠縦断面図である。 4……収納部(収納空間)、9……カセツト
(被収納物)、10……収納棚、12……吐出部、
14……フイルタ、16……吐出管、18,20
……吸気部、21……パンチングメタル(囲壁)、
40……フアン(圧送手段、吸気手段)、44…
…フアン(吸気手段)。
FIG. 1 is a partially cutaway perspective view showing a first embodiment of the cleaning device of the present invention, FIG. 2 is a sectional view showing the structure of the storage section of the cleaning device shown in FIG. 1, and FIG. The figure is a sectional view taken along the - line of the storage section shown in Fig. 2, Fig. 4 is an explanatory view showing the clean gas flow mechanism in the cleaning device shown in Fig.
A vertical sectional view showing the structure of the storage section and the transport section in the cleaning device shown in the figure, FIG. 6 is a sectional view along the - line of the storage section and the transport section shown in FIG. 5,
FIG. 7 is a partially cutaway perspective view showing a second embodiment of the cleaning device of the present invention, FIG. 8 is an explanatory diagram showing a clean gas flow system in the cleaning device shown in FIG. 7, and FIG. 9 is a horizontal cross-sectional view of the cleaning device shown in FIG. 7, and FIG. 10 is a partially cutaway vertical cross-sectional view showing the structure of the conveyance section of the cleaning device shown in FIG. 7. 4...Storage part (storage space), 9...Cassette (stored items), 10...Storage shelf, 12...Discharge part,
14... Filter, 16... Discharge pipe, 18, 20
...Intake part, 21...Punching metal (surrounding wall),
40... Fan (pressure feeding means, suction means), 44...
…Fan (intake means).

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 気体を圧送する圧送手段と、 清浄化すべき空間内の中心部に上下方向に立設
されるとともに、前記圧送手段との間に連結され
たパイプを通して前記気体が圧送され、その気体
を前記空間内に放射状に吐出させる吐出管と、 この吐出管を中央にしてその高さ方向に被収納
物を収納可能な高さ以上の間隔を以て設置された
複数段の収納棚と、 各収納棚の収納空間と前記吐出管との間に前記
吐出管を包囲する形態で設置され、前記吐出管か
ら吐出する前記気体を通過させながら、清浄化気
体を形成するフイルタと、 この収納棚を包囲して設置されて前記収納棚間
を経た前記清浄化気体が通過可能な囲壁と、 この囲壁の周面側に設置されて前記清浄化気体
を受ける吸気部と、 この吸気部を通して前記収納棚毎に放射状の層
流を成す前記清浄化気体を吸気する吸気手段と、 を備えたことを特徴とする清浄化装置。
[Scope of Claims] 1. A pressure-feeding means for force-feeding gas; and a pipe vertically installed in the center of the space to be cleaned, and the gas is force-fed through a pipe connected between the pressure-feeding means and the pressure-feeding means. , a discharge pipe for discharging the gas radially into the space, and a plurality of storage shelves installed in the height direction with the discharge pipe in the center at intervals greater than a height capable of storing stored items. a filter that is installed between the storage space of each storage shelf and the discharge pipe so as to surround the discharge pipe, and forms a cleaning gas while passing the gas discharged from the discharge pipe; an enclosing wall that is installed to surround the shelves and allows the clean gas to pass through between the storage shelves; an intake section that is installed on the circumferential side of the enclosure wall to receive the clean gas; A cleaning device comprising: suction means for sucking in the cleaning gas forming a radial laminar flow for each storage shelf.
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