JPH0475063A - Aligner - Google Patents

Aligner

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JPH0475063A
JPH0475063A JP2187900A JP18790090A JPH0475063A JP H0475063 A JPH0475063 A JP H0475063A JP 2187900 A JP2187900 A JP 2187900A JP 18790090 A JP18790090 A JP 18790090A JP H0475063 A JPH0475063 A JP H0475063A
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JP
Japan
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reticle
cassette
stage
alignment
reticle cassette
Prior art date
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Pending
Application number
JP2187900A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Teruya Sato
光弥 佐藤
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP2187900A priority Critical patent/JPH0475063A/en
Publication of JPH0475063A publication Critical patent/JPH0475063A/en
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70733Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
    • G03F7/70741Handling masks outside exposure position, e.g. reticle libraries

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Library & Information Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

PURPOSE:To minimize the sticking of dust on a reticle in the exposure device by providing a means for pre-alignment and a means which takes a reticle out of a reticle cassette and carried it into a reticle stage after the pre- alignment. CONSTITUTION:Reticle conveyance in a wafer stepper is carried out by reticle cassettes 2 and the reticle 1 is taken out of the reticle cassette 2 only on the reticle stage 3 or right before or nearby the reticle stage 3. Further, processes a read of the number of the reticle in the wafer stepper and the pre-alignment are performed from outside the reticle cassette 2 while the reticle 1 is put in the reticle cassette 2. Consequently, the reticle 1 is stored in the reticle cassette 2 on the nearly whole reticle conveyance path, so the sticking of dust on the reticle 1 in the exposure device is minimized.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野コ 本発明は、露光装置に関し、例えばウェハステッパ装置
の内部においてレチクルに対するゴミの付着を最小にす
ることが可能なレチクル搬送系を備えた露光装置に関す
るものである [従来の技術] 従来、例えばクエハステッパにおけるレチクル搬送系で
は、まずレチクルストッカ内部のレチクルカセットから
レチクルを取り出し、この後このレチクルに表示されて
いるレチクルナンバの読み出しあるいはレチクルのプリ
アライメントを実施し、この後搬入ハントなどによりレ
チクルをレチクルステージ上に移動させるようになって
いた。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to an exposure apparatus, for example, an exposure apparatus equipped with a reticle transport system that can minimize the adhesion of dust to a reticle inside a wafer stepper apparatus. [Prior Art] Conventionally, for example, in a reticle transport system in a wafer stepper, a reticle is first taken out from a reticle cassette inside a reticle stocker, and then the reticle number displayed on the reticle is read out or the reticle is pre-aligned. After this, the reticle was moved onto the reticle stage by a carry-in hunt.

[発明が解決しようとする課題] このため、従来のウニハスチッパてはレチクルをレチク
ルカセットから取り出し、レチクルステージ上に移動さ
せる間に、レチクルにゴミか付着する可能性が少なから
ずあった。
[Problems to be Solved by the Invention] Therefore, in the conventional sea urchin chipper, there is a considerable possibility that dust or dirt may adhere to the reticle while the reticle is taken out from the reticle cassette and moved onto the reticle stage.

本発明は、上述の従来例における問題点に鑑み、露光装
置内部におけるレチクルへのゴミの付着を最小限に抑え
ることのできる露光装置を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION In view of the problems in the conventional example described above, it is an object of the present invention to provide an exposure apparatus that can minimize the adhesion of dust to a reticle inside the exposure apparatus.

[課題を解決するための手段および作用]上記の目的を
達成するため、本発明に係る露光装置は、露光装置例え
はウェハステッパ内部におけるレチクル搬送は、すべて
レチクルカセットごと行ない、レチクルをレチクルカセ
ットから取り出すのはレチクルステージ上もしくはレチ
クルステージ直前または近傍の位置とすることを特徴と
する。
[Means and Effects for Solving the Problem] In order to achieve the above object, the exposure apparatus according to the present invention transports the reticle together with the reticle cassette within the exposure apparatus, for example, a wafer stepper, and transports the reticle from the reticle cassette. It is characterized in that the reticle is taken out at a position on the reticle stage or immediately before or in the vicinity of the reticle stage.

また、ウニハスチッパ内部におけるレチクルナンバの読
み出しやプリアライメントなどの処理は、レチクルをレ
チクルカセットに保持したまま、その外部より行なうよ
うにしている。
Further, processing such as reticle number reading and pre-alignment inside the sea urchin chipper is performed from outside the reticle cassette while the reticle is held in the reticle cassette.

以上のような構成により、レチクル搬送経路の殆とにお
いて、レチクルはレチクルカセットに収納されているの
で、レチクルにゴミが付着することが最小限に抑えられ
る。
With the above configuration, the reticle is housed in the reticle cassette in most of the reticle transport path, so that dust adhesion to the reticle can be minimized.

[実施例コ 以下、図面を用いて本発明の詳細な説明する。[Example code] Hereinafter, the present invention will be explained in detail using the drawings.

第1図は、本発明の一実施例に係る露光装置であるウニ
ハスチッパのレチクル搬送系を示す斜視図である。同図
において、1はレチクル、2はレチクル1を収納するレ
チクルカセットである。レチクルカセット2は、内部に
収納するレチクル1上のレチクルナンバおよびプリアラ
イメントマークが外部から観察可能なように、透明材質
により構成されている。
FIG. 1 is a perspective view showing a reticle conveyance system of a sea urchin chipper which is an exposure apparatus according to an embodiment of the present invention. In the figure, 1 is a reticle, and 2 is a reticle cassette that stores the reticle 1. The reticle cassette 2 is made of a transparent material so that the reticle number and pre-alignment mark on the reticle 1 stored therein can be observed from the outside.

3はウェハステッパ内においてレチクル1を保持するた
めのレチクルステージ、4はレチクル1をレチクルカセ
ット2から引き出してレチクルステージ3に移動させる
ためのレチクルハンド、5はレチクルカセット2の屏を
開くためのレチクルカセット屏開閉ハンドである。また
、6はレチクルカセットストッカ8からレチクルカセッ
ト2を引き出して顕微鏡対物レンズ7の下まで移動させ
かつレチクルカセット2のレチクルステージ3に対する
位置出しまで実行するXYZθ方向に移動可能なレチク
ルカセットハンド、7はレチクル1上のレチクルナンバ
およびプリアライメントマークを観察するための顕微鏡
対物レンズ、8はレチクルカセット2を複数個収納可能
なレチクルカセットストッカである。
3 is a reticle stage for holding the reticle 1 in the wafer stepper, 4 is a reticle hand for pulling out the reticle 1 from the reticle cassette 2 and moving it to the reticle stage 3, and 5 is a reticle for opening the reticle cassette 2. It is a hand that opens and closes the cassette folding. Further, 6 is a reticle cassette hand movable in the XYZθ directions that pulls out the reticle cassette 2 from the reticle cassette stocker 8, moves it to below the microscope objective lens 7, and positions the reticle cassette 2 with respect to the reticle stage 3; A microscope objective lens 8 is used to observe the reticle number and pre-alignment mark on the reticle 1, and a reticle cassette stocker 8 is capable of storing a plurality of reticle cassettes 2.

第2図は、本実施例のウェハステッパのレチクル搬送系
周辺の構成を示すブロック図である。
FIG. 2 is a block diagram showing the configuration around the reticle transport system of the wafer stepper of this embodiment.

同図において、11はウェハステッパ全体をコントロー
ルするCPU (中央処理装置)、12はウェハステッ
パを動作させるプログラムなどを記憶しであるメモリで
ある。また、13はオペレーションパネルに対してデー
タの人出力を行なうオペレーションパネルインターフェ
イス、14はレチクルカセットハント6をXYZθ方向
に動かすためにパルスモータドライバ20に対して駆動
指令を出すレチクルカセットハンドインターフェイス、
15はレチクルカセット屏を開閉させるためにパルスモ
ータドライバ21に対して駆動指令を出すレチクルカセ
ット扉開閉ハントインターフェイスである。
In the figure, 11 is a CPU (central processing unit) that controls the entire wafer stepper, and 12 is a memory that stores programs for operating the wafer stepper. Further, 13 is an operation panel interface for human outputting data to the operation panel; 14 is a reticle cassette hand interface that issues a drive command to the pulse motor driver 20 to move the reticle cassette hunt 6 in the XYZθ directions;
Reference numeral 15 denotes a reticle cassette door opening/closing hunt interface which issues a drive command to the pulse motor driver 21 to open and close the reticle cassette folding.

16はレチクルハンド4をXZ方向に動かすためにパル
スモータトライバ22に対して駆動指令を出すレチクル
ハンドインターフェイス、17はレチクルステージ3を
XYθ方向に移動させるためにパルスモータトライバ2
3に対して駆動指令を出すレチクルステージインターフ
ェイスである。18は顕微鏡9の対物レンズにより観察
される画像をCCDカメラ30または31を通して入力
し、かつ入力された画像から各種の認識および位置計測
などを行なう画像処理装置である。
16 is a reticle hand interface that issues a drive command to the pulse motor driver 22 to move the reticle hand 4 in the XZ directions, and 17 is the pulse motor driver 2 to move the reticle stage 3 in the XYθ directions.
This is a reticle stage interface that issues drive commands to 3. Reference numeral 18 denotes an image processing device that inputs an image observed by the objective lens of the microscope 9 through a CCD camera 30 or 31, and performs various recognition and position measurements from the input image.

また、20〜23は各パルスモータPMのドライバであ
り、26はオペレータか本実施例のウニハスチッパに対
して各種の動作指示を行なうオペレーションパネルであ
る。
Further, 20 to 23 are drivers for each pulse motor PM, and 26 is an operation panel for giving various operation instructions to the operator or the sea urchin chipper of this embodiment.

以上のようなウェハステッパにおいて、まずオペレータ
は、オペレーションパネル26から特定レチクルの設定
指示を出す。これに応じて、CPU11はレチクルカセ
ットハンドインターフェイス14に指令を出し、レチク
ルカセットハンド6をそのレチクルが収納されているレ
チクルカセットストッカ8の位置に移動させる。そして
、レチクルカセットハンド6を、指示されたレチクル1
が入っているレチクルカセット2の高さまで、2方向に
移動させる。この後、このレチクルカセット2を矢印A
のように引き抜かせる。
In the wafer stepper as described above, the operator first issues a setting instruction for a specific reticle from the operation panel 26. In response, the CPU 11 issues a command to the reticle cassette hand interface 14 to move the reticle cassette hand 6 to the position of the reticle cassette stocker 8 where the reticle is stored. Then, move the reticle cassette hand 6 to the designated reticle 1.
Move the reticle cassette 2 in two directions until it reaches the height of the reticle cassette 2 containing it. After this, move this reticle cassette 2 to arrow A.
Pull it out like this.

次に、引き抜いたレチクルカセット2を、顕微鏡対物レ
ンズ7の下にまで、矢印Bのように移動させる。顕微鏡
対物レンズ7は、レチクルステージ3と所定の位置関係
にある顕微鏡9に取り付けられている。顕微鏡対物レン
ズ7は、レチクル1に付されているレチクルナンバおよ
びプリアライメントマーク(図示せず)の像をCCDカ
メラ30.31の撮像面に映し出す。CCDカメラ30
.31により入力したこの画像は、画像処理装置18に
人力する。
Next, the reticle cassette 2 that has been pulled out is moved in the direction of arrow B to below the microscope objective lens 7. A microscope objective lens 7 is attached to a microscope 9 in a predetermined positional relationship with the reticle stage 3. The microscope objective lens 7 projects an image of the reticle number and pre-alignment mark (not shown) attached to the reticle 1 onto the imaging surface of the CCD camera 30.31. CCD camera 30
.. This image input through 31 is manually input to the image processing device 18.

この位置において、CPUIIは、まずレチクル1上の
プリアライメントマークが顕微鏡対物レンズ7の下に来
るようレチクルカセットハントインターフェイス14に
指令を比す。
In this position, the CPU II first commands the reticle cassette hunt interface 14 so that the pre-alignment marks on the reticle 1 are below the microscope objective 7.

すなわち、まずレチクルカセット2を顕微鏡対物レンズ
7の下まで移動させた後、CPUIIは画像処理装置1
8に2つのCCDカメラ30131からの画像人力およ
びプリアライメントマークの位置計測指令を出す。この
指令に応じて画像処理装置18は、プリアライメントマ
ークの位置計測を実行し、位置計測結果を出力する。も
し、この位置計測結果が、目標位置に対して許容トレラ
ンス量以上であった場合には、レチクルカセットハンド
インターフェイス14にXYθ方向の補正駆動指令を出
す。以上の処理を繰り返し、レチクルカセット2内のレ
チクル1の位置が、許容トレランス以内になるようにさ
せる。
That is, after first moving the reticle cassette 2 to below the microscope objective lens 7, the CPU II moves the image processing device 1
8, a command to measure the position of the image and pre-alignment marks from the two CCD cameras 30131 is issued. In response to this command, the image processing device 18 executes position measurement of the pre-alignment mark and outputs the position measurement result. If the position measurement result is greater than or equal to the allowable tolerance amount with respect to the target position, a correction drive command in the XYθ directions is issued to the reticle cassette hand interface 14. The above process is repeated until the position of the reticle 1 within the reticle cassette 2 is within the allowable tolerance.

この後、CPUIIはレチクル1上のレチクルナンバが
顕微鏡対物レンズ7の下にくるように、レチクルカセッ
トハンドインターフェイス14に指令を出す。この指令
に応じて、レチクルカセットハンド6が駆動し、レチク
ル1上のレチクルナンバが顕微鏡対物レンズ7の下に位
置する。
After this, the CPU II issues a command to the reticle cassette hand interface 14 so that the reticle number on the reticle 1 is placed below the microscope objective lens 7. In response to this command, the reticle cassette hand 6 is driven, and the reticle number on the reticle 1 is positioned below the microscope objective lens 7.

この移動後、CPUIIは画像処理装置18にCCDカ
メラ30.31からレチクルナンバの画像人力およびレ
チクルナンバの認識の指令を出す。画像処理装置18は
、この指令に応じて、レチクルナンバを認識し出力する
。もし、この認識されたレチクルナンバがオペレータに
より指示されたレチクルナンバと一致しない場合には、
動作の中断を行なうと同時に、オペレータに対して警報
を発生する。
After this movement, the CPU II issues a command to the image processing device 18 to manually image the reticle number from the CCD camera 30, 31 and to recognize the reticle number. The image processing device 18 recognizes and outputs the reticle number in response to this command. If this recognized reticle number does not match the reticle number instructed by the operator,
At the same time as the operation is interrupted, a warning is generated to the operator.

レチクルナンバがオペレータにより指示されたレチクル
ナンバと一致していた場合には、CPU11はこのレチ
クル1で露光を行なう際に必要な色々なパラメータを算
出する。次に、レチクルカセットハンドインターフェイ
ス14にレチクル1をレチクルステージ3に搬入するの
に必要な所定位置への移動指令を出す。この移動指令に
応じて、レチクルカセットハンド6は、レチクル1をレ
チクルステージ3に搬入するのに必要な所定位置まで移
動する。
If the reticle number matches the reticle number instructed by the operator, the CPU 11 calculates various parameters necessary for performing exposure using this reticle 1. Next, a command is issued to the reticle cassette hand interface 14 to move the reticle 1 to a predetermined position necessary to carry the reticle 1 to the reticle stage 3. In response to this movement command, the reticle cassette hand 6 moves to a predetermined position necessary to carry the reticle 1 into the reticle stage 3.

レチクルカセットハンド6の移動後、CPU11はレチ
クルカセット扉開閉ハンドインターフェイス15にレチ
クルカセット2の左側面の扉を開くように指令を出す。
After the reticle cassette hand 6 moves, the CPU 11 issues a command to the reticle cassette door opening/closing hand interface 15 to open the door on the left side of the reticle cassette 2.

この指令に応じて、レチクルカセット屏開閉ハンドが動
作し、レチクルカセット2の左側面の扉を開く。
In response to this command, the reticle cassette folding/closing hand operates to open the door on the left side of the reticle cassette 2.

この動作完了後、cpuiiはレチクルハントインター
フェイス16にレチクルカセット2内のレチクル1をレ
チクルステージ3上に搬入させる指令を出す。この指令
に応じて、レチクルハンドインターフェイス16はパル
スモータトライバ22に駆動指令を出す。
After this operation is completed, the CPU II issues a command to the reticle hunt interface 16 to carry the reticle 1 in the reticle cassette 2 onto the reticle stage 3. In response to this command, the reticle hand interface 16 issues a drive command to the pulse motor driver 22.

この駆動指令に応して、レチクルハント4のパルスモー
タが動作し、レチクルハント4はレチクルカセット2の
内部にその先端部を挿入する。この後、レチクルハンド
4は僅かに上昇する。これにより、レチクル1を持ち上
げ、この後矢印Cのようにレチクルステージ3側に戻り
下降する。このようにして、レチクルカセット2の内部
にあるレチクル1をレチクルステージ3に搬入する。
In response to this drive command, the pulse motor of the reticle hunt 4 operates, and the reticle hunt 4 inserts its tip into the inside of the reticle cassette 2. After this, the reticle hand 4 rises slightly. As a result, the reticle 1 is lifted up and then returned to the reticle stage 3 side as shown by arrow C and lowered. In this way, the reticle 1 inside the reticle cassette 2 is carried into the reticle stage 3.

以上のようにして、レチクル1はレチクルステージ3に
搬入される直前までレチクルカセット2内部に保持され
る。したがって、装置内部においてのゴミの付着を最小
にすることが可能となる。
In the manner described above, the reticle 1 is held inside the reticle cassette 2 until just before it is transferred to the reticle stage 3. Therefore, it is possible to minimize the adhesion of dust inside the device.

[他の実施例] 第1図のレチクルカセット2を上下分離タイプとしても
よい。この場合、レチクルステージ3の直前でレチクル
カセット2の下カバーのみ分離し、レチクル1をレチク
ルカセット2の上カバーごとレチクルステージ上に搬入
すればよい。このようにすれば、レチクルステージ3の
直前位置からレチクルステージ3上にレチクル1を移動
させる間における上方からのゴミの落下を妨げるという
利点がある。
[Other Embodiments] The reticle cassette 2 shown in FIG. 1 may be of a vertically separated type. In this case, it is sufficient to separate only the lower cover of the reticle cassette 2 immediately before the reticle stage 3 and carry the reticle 1 together with the upper cover of the reticle cassette 2 onto the reticle stage. This has the advantage of preventing dust from falling from above while the reticle 1 is being moved from the position immediately before the reticle stage 3 onto the reticle stage 3.

[発明の効果] 以上説明したように、本発明によれば、レチクルナンバ
の読み出しやプリアライメントなどの処理をレチクルを
レチクルカセットに保持したままで実施し、かつレチク
ルをレチクルカセットごとレチクルステージ上またはレ
チクルステージ直前または近傍の位置まで移動させるよ
うにしているので、レチクルに対する露光装置内部での
ゴミの付着を最小限に抑えることか可能となる。
[Effects of the Invention] As described above, according to the present invention, processes such as reticle number reading and pre-alignment can be performed while the reticle is held in the reticle cassette, and the reticle can be moved together with the reticle cassette on the reticle stage or Since the reticle is moved to a position immediately before or near the reticle stage, it is possible to minimize the adhesion of dust to the reticle inside the exposure apparatus.

このことは、近年増々微細化要求のためにより小さな(
0,4μm程度)ゴミを検出することを要求されている
大型高価なゴミ検査装置を、各々の露光装置に持たせる
必要性をかなり軽減させるものであり、露光装置の小型
化、低コスト化に大きな効果がある。
This is due to the increasing demand for miniaturization in recent years.
This greatly reduces the need for each exposure device to have a large, expensive dust inspection device that is required to detect dust (about 0.4 μm), and contributes to the miniaturization and cost reduction of exposure devices. It has a big effect.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は、本発明の一実施例に係るウェハステッパのレ
チクル搬送系を示す斜視図、 第2図は、上記実施例のウェハステッパのレチクル搬送
系周辺の構成を示すブロック図である。 1ニレチクル、 2、レチクルカセット、 3ニレチクルステージ、 4ニレチクルハント、 5ニレチクルカセツト扉開閉ハンド、 6・レチクルカセットハンド、 7:顕微鏡対物レンズ、 8ニレチクルカセツトストツカ、 9:顕微鏡、 11:CPU。 12:メモリ、 13〜17:各ユニットのインターフェイス、18:画
像処理装置、 20〜23:パルスモータドライバ、 26:オペレーションパネル。
FIG. 1 is a perspective view showing a reticle transport system of a wafer stepper according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a block diagram showing the configuration around the reticle transport system of the wafer stepper of the above embodiment. 1. Reticle cassette, 2. Reticle cassette, 3. Reticle stage, 4. Reticle hunt, 5. Reticle cassette door opening/closing hand, 6. Reticle cassette hand, 7. Microscope objective lens, 8. Reticle cassette stocker, 9. Microscope, 11. :CPU. 12: Memory, 13-17: Interface of each unit, 18: Image processing device, 20-23: Pulse motor driver, 26: Operation panel.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)レチクルカセットにレチクルを保持したまま、ま
たはレチクルカセットの上側カバーでレチクルを覆った
まま、レチクルステージ直前または近傍位置まで搬入す
る手段と、該レチクルカセットの外部から、内部のレチ
クルのプリアライメントマークを検出して、プリアライ
メントを実行する手段と、 プリアライメント実行後、該レチクルカセット内のレチ
クルを取出し、レチクルステージに搬入する手段と を備えたことを特徴とする露光装置。
(1) A means for transporting the reticle while it is held in the reticle cassette or while it is covered by the upper cover of the reticle cassette to a position directly in front of or near the reticle stage, and pre-alignment of the reticle inside the reticle cassette from the outside. An exposure apparatus comprising: means for detecting marks and performing pre-alignment; and means for taking out a reticle from the reticle cassette and carrying it into a reticle stage after performing the pre-alignment.
(2)レチクルカセットにレチクルを保持したまま、ま
たはレチクルカセットの上側カバーでレチクルを覆った
まま、レチクルステージ上に搬入する手段と、 該レチクルカセットの外部から、内部のレチクルのプリ
アライメントマークを検出して、プリアライメントを実
行する手段と、 プリアライメント実行後、該レチクルカセット内のレチ
クルを取出し、レチクルステージに載置する手段と を備えたことを特徴とする露光装置。
(2) A means for carrying the reticle onto the reticle stage while holding the reticle in the reticle cassette or covering the reticle with the upper cover of the reticle cassette, and detecting the pre-alignment mark of the reticle inside the reticle cassette from the outside. An exposure apparatus comprising: means for performing pre-alignment; and means for taking out a reticle from the reticle cassette and placing it on a reticle stage after performing the pre-alignment.
(3)さらに、前記レチクルカセット外部より内部のレ
チクルのレチクルナンバを読み取り、レチクルナンバの
確認および/またはレチクルナンバによって決定される
種々のパラメータの設定を自動的に行なう手段を備えた
請求項1または2に記載の露光装置。
(3) The reticle cassette further comprises means for reading a reticle number of an internal reticle from outside the reticle cassette, and automatically confirming the reticle number and/or setting various parameters determined by the reticle number. 2. The exposure apparatus according to 2.
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