JPH0467399A - Semiconductor memory - Google Patents

Semiconductor memory

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Publication number
JPH0467399A
JPH0467399A JP2177004A JP17700490A JPH0467399A JP H0467399 A JPH0467399 A JP H0467399A JP 2177004 A JP2177004 A JP 2177004A JP 17700490 A JP17700490 A JP 17700490A JP H0467399 A JPH0467399 A JP H0467399A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
data
latch circuit
memory cell
bit line
test
Prior art date
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Pending
Application number
JP2177004A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tsukasa Oishi
司 大石
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
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Publication of JPH0467399A publication Critical patent/JPH0467399A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To perform high-speed memory cell test without controlled by writing and reading timing by providing input terminal and input buffer, or output terminal and output buffer in a latch circuit string and directly inputting data from outside. CONSTITUTION:Input terminal 30 and input buffer 31 to which the data can be directly inputted from the outside or output terminal 33 and output buffer 32 from which the data can be outputted to the outside, are provided with a latch circuit group 24 equipped with a shift function connecting to the bit line. The data is directly inputted from the outside to the latch circuit string equipped with the shift function connecting to the bit line. Thus, the high-speed memory cell test can be performed without controlled by the timing such as a conventional DRAM, and the efficiency can be realized at the time of the test of the memory cell.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、半導体記憶装置に関するものである0 〔従来の技術〕 第3図は従来のラインモードテスト機能を附加し几ダイ
ナミック型半導体記憶装置のメモリセル付近の構成を示
す回路図である。ここに示し几うインモードテストハ、
外部から入力されたテストデータをランチに一度蓄積し
、そのデータを用いてメモリセルのテスト’tワード線
に接続する全ての・、メモリセルで一括して行2・うと
するものである。
[Detailed Description of the Invention] [Field of Industrial Application] The present invention relates to a semiconductor memory device. [Prior Art] Fig. 3 shows a dynamic semiconductor memory device with a conventional line mode test function. FIG. 2 is a circuit diagram showing a configuration near a memory cell. The in-mode test shown here is
The test data inputted from the outside is stored once in the lunch, and the test data is used to test all the memory cells connected to the word line of the memory cells in row 2 at once.

上記のラインモードテスト[,1989年、IEEEI
nternational  5olid−5tate
 C1rcuitsConferenceのDiges
t of TechnicalPapera、  p2
44〜p245  に報告、されてお9%選択され几ワ
ード線に接続され几メモリセルから読み出される複数も
しくはすべての情報に対して一括しt試験を行なうもの
であるo C84図はI!3図におけるメモリセルアレ
イ付近の構成を示す回路図、第5図は第4図に。示すラ
ッチ回路と比較回路付近の構成を示す回路図である。図
において、C1)はワード線、(2)はビット線、(3
)i4ビット線ペア、(4)t11!I10線、(5)
はIlo、線、(6)はラッチ回路、+73゜(8)、
 (1G、 02. Qi、 Q6〜1211. 万d
Nfヤ*ルト5yジスタ、19)riセンスアンプ、a
υは比較回路、α4゜1119riFチヤネルトランジ
スタ、■0ロ、鴎はスイッチ、c12は入出力線、圀は
検出線、(2)はメモリセルである。
The above line mode test [, 1989, IEEE
international 5solid-5tate
Diges of C1rcuitsConference
to of Technical Paper, p2
44 to p245, 9% selected, connected to the word line, and read out from the memory cells. The circuit diagram showing the configuration near the memory cell array in FIG. 3, and FIG. 5 are shown in FIG. 4. FIG. 2 is a circuit diagram showing a configuration near a latch circuit and a comparison circuit shown in FIG. In the figure, C1) is a word line, (2) is a bit line, and (3) is a word line.
) i4 bit line pair, (4) t11! I10 line, (5)
is Ilo, line, (6) is latch circuit, +73° (8),
(1G, 02.Qi, Q6~1211. million d
Nf Ya*lt 5y register, 19) ri sense amplifier, a
υ is a comparison circuit, α4°1119riF channel transistor, ■0ro, seagull is a switch, c12 is an input/output line, square is a detection line, and (2) is a memory cell.

第3図においてメモリセルc18はビット線+21とワ
ード線(1)の交点に存在する。人出力線■とビット@
 (2)の間にはスイッチ0.及び、スイッチので分離
されており、上記分離されt部分には、ラッチ回路(6
)と比較回路oI)が設置されている。また、比較回路
Oルの比較鞘果は、検出線翰に出力される。
In FIG. 3, memory cell c18 exists at the intersection of bit line +21 and word line (1). Human output line ■ and bit @
Between (2), there is a switch 0. and a switch, and a latch circuit (6
) and a comparison circuit oI) are installed. Further, the comparison result of the comparison circuit O is outputted to the detection line.

次に第4図についてライ/モードテストの動作を述べる
Next, the operation of the lie/mode test will be described with reference to FIG.

まず、テストデータのメモリセル(至)への書!込みに
ついて説明する。
First, write the test data to the memory cell! I will explain about inclusion.

ダイナミック型半導体記憶装置のメモリセル(至)のテ
ストは、基本的にはメモリセル−に蓄積されたデータと
期待値との比較で行われる。外部z、6人力されtテス
トデータに、110線(4)とIlo @(5)を通し
てコラムデコーダからの信号Yl −Yl ” 1 h
Yi+2、・・・・に工りトランスファゲートt−形成
するNチャネルトランジスタ(8)tオン状態にするこ
とにニジ、選択され几ラッチノードNA、 NBに伝達
され几データは、ラッチ回路(6)に−度蓄積される。
Testing of memory cells of a dynamic semiconductor memory device is basically performed by comparing data stored in the memory cells with an expected value. To the external z, 6 inputs t test data, the signal Yl - Yl '' from the column decoder through the 110 line (4) and Ilo @ (5)
Yi+2, . . . are fabricated to form a transfer gate (8), which is selected to turn on the N-channel transistor (8) and transmitted to the latch nodes NA, NB, where the data is transferred to the latch circuit (6). - degrees are accumulated.

ランチ回路(6)に−度蓄積されたデータが。The data accumulated in the launch circuit (6).

テスト時の期待値となる。また、この時、信号TRri
、”L“レベルであり、トランスファゲートt”形成す
るNチャネルトランジスタ(7) ri、オフ状態のた
め、データはメモリセルc!8@に伝達されない。
This is the expected value during testing. Also, at this time, the signal TRri
, is at the "L" level, and the N-channel transistor (7) ri forming the transfer gate t is in the off state, so data is not transmitted to the memory cell c!8@.

ラッチ回路(6)にデータを蓄積する過程に2図示され
ないコラムデコーダにより、選択するラッチノードNA
、NBt−順次に更して繰シ返される。
During the process of accumulating data in the latch circuit (6), a column decoder (not shown) selects the latch node NA.
, NBt - are further repeated in sequence.

こうして全てのビット線ペア(3)に接続するラッチ回
路(6)にテストデータが蓄積される。
In this way, test data is accumulated in the latch circuits (6) connected to all bit line pairs (3).

次に信号TRを″H″レベルに立ち上けることにニジ、
トランスファゲートを形成するNチャネルトランジスタ
(7)をオン状態にするとともに全ワード線f1)のな
かで図示されないロワデコーダとワードドライバにニジ
選択された任意のワードii (11を・H″レベル立
ち上げることにエク1選択された任意のワード線(1)
に接続する全てのメモリセル(至)に対してラッチ回路
(6)に蓄積されたデータが一斉に書き込まれる。
Next, I decided to raise the signal TR to "H" level.
Turn on the N-channel transistor (7) forming the transfer gate, and raise any word ii (11) selected by the lower decoder and word driver (not shown) among all the word lines f1 to the H'' level. Any selected word line (1)
The data accumulated in the latch circuit (6) is simultaneously written to all memory cells (to) connected to the latch circuit (6).

ラッチ回路(6)エフメモリセル−にデータを書き込む
過程に2図示されないロワデコーダとワードドライバに
1夕1選択するワード線t1)を順次変更して繰り返さ
れる。こうして全てのビット線ペア(3)に接続するメ
モリセル(至)にテストデータが書き込まれる。
The process of writing data into the latch circuit (6) F memory cell is repeated by sequentially changing the selected word line t1) in the lower decoder and word driver (not shown). In this way, test data is written into the memory cells (to) connected to all bit line pairs (3).

次にメモリセル−に蓄積され几テストデータの読み出し
と期待値との比較について説明する。
Next, a description will be given of reading out the test data stored in the memory cell and comparing it with the expected value.

図示されなりロワデコーダとワードドライバにニジ選択
され几任意のワード線(1)をafleレベルに立ち上
げることに工91選択され九任意のワード線(1)に接
続する全てのメモリセル−1シメモリセルに接続するビ
ット線ペア(3)にメモリセル(至)に蓄積されtテス
トデータが読み出される0このデータはセンスアンプ(
9)に工り増幅される。
As shown in the figure, the lower decoder and word driver select the desired word line (1) to raise it to the afle level. The test data stored in the memory cell (to) connected to the bit line pair (3) is read out. This data is sent to the sense amplifier (
9) is amplified.

次に信号TRは、″Lルベルのままで信号LTEを#H
“レベルに立ち上げるとトランスファゲートを形成する
Nチャネルトランジスタ員がオン状態になる几めメモリ
セル−ニジ読み出され迄データは、それぞれのピント線
対(3)に設けられた比較回路0ルに伝達される。比較
回路0ηに框、ラッチ回路(6)に蓄積され几データが
ノードNA、ノードNBを介して伝達されている。
Next, the signal TR is set to ``L level, and the signal LTE is set to #H level.
When the data is raised to the level, the N-channel transistor forming the transfer gate turns on. The data stored in the comparator circuit 0η and the latch circuit (6) is transmitted via the nodes NA and NB.

比較回路(ロ)においてメモリセル−エフ読み出された
データとラッチ回路(6)に蓄積されtデータが比較さ
れ、比較結果がLTSに検出される。
In the comparison circuit (b), the data read out from the memory cell F is compared with the t data stored in the latch circuit (6), and the comparison result is detected by the LTS.

第5図において、外部よ少入力されたテストデータハ、
Ilom(4) トl1041(5)tjll L テ
:F ラA テ:y−ダに1勺出力されるコラムデコー
ド信号Yid()ランスファゲートを形成するNチャネ
ルトランジスタ(8)をオン状態にすることにエク1選
択され几ラッチノードNA%NBに伝達される。そして
Nチャネルトランジスタ(2)、Q−1とPチャネルト
ランジスタα4.1Miに工り構成されるラッチ回路(
6)に蓄積される。
In Figure 5, the test data input from the outside is
Ilom(4) tl1041(5)tjll L TE:F LAA TE:y-Column decode signal Yid(), which is output once to DA, turns on the N-channel transistor (8) forming the transfer gate. In particular, EX1 is selected and transmitted to the latch node NA%NB. And a latch circuit (
6).

また、テスト時には、信号TiLは、・L″レベルのま
まで信号LTEi″H〜レベルに立ち上げるとトランス
ファゲートを形成するNチャネルトランジスタ(11が
オン状態になるためメモリセル−19読み出されたデー
タに、そnぞれのピント線対(3)に設けられ几比較回
路0υに伝達される。几とえば/ −)’N Aカ=H
″レベル、ノードNBが#L〜レベルであればNチャネ
ルトランジスタ0ariオン状態。
Also, during the test, when the signal TiL is raised to the H~ level while the signal TiL remains at the L'' level, the N-channel transistor (11) that forms the transfer gate is turned on, so the memory cell -19 is read out. The data is provided on each n focus line pair (3) and transmitted to the comparator circuit 0υ. For example, / -)'N A = H
If the node NB is at #L~level, the N-channel transistor 0ari is on.

NチャネルトランジスタQgハオフ状態となっている。N-channel transistor Qg is in an off state.

また、ノードNCの電位は、信号LTRft入力し、N
チャネルトランジスタclnをオン状態にすることにL
シあらかじめ′Lルベルに設定され。
Further, the potential of the node NC is determined by inputting the signal LTRft and N
L is applied to turn on the channel transistor cln.
This is set in advance to 'L level.

エラー検出ラインLTSはあらかじめH・レベルに設定
されている。
The error detection line LTS is set to H level in advance.

メモリセル(至)より正しいデータが読み出された場合
、ノードNEは“H#レベル、ノードNFは#Lルベル
となって−る几め、Nチャネルトランジスタalt−通
して伝達されたデータにニジ、ノードNCは1Lルベル
のままで、Nチャネルトランジスタ万ハオフ状態であ夛
、エラー検出ラインLTSのノードNDri#H#レベ
ルのままである。
When correct data is read from the memory cell (to), the node NE is at the "H# level" and the node NF is at the "L" level. , the node NC remains at the 1L level, and the N-channel transistor remains in the OFF state, and the node NDri#H# of the error detection line LTS remains at the level.

メモリセル17s工り誤ったデータが読み出され几場合
、ノードNEは゛L″レベル、ノードNFij″H“レ
ベルとなっているため、Nチャネルトランジスタα1通
して伝達されたデータにニジ、ノードN C[’H″レ
ベルとな5.Nチャネルトランジスタ勿はオン状態とな
る几め、エラー検出ラインLTSのノードN D ri
’L−レベルまで降下する。
When incorrect data is read out from the memory cell 17s, the node NE is at the "L" level and the node NFij is at the "H" level, so that the data transmitted through the N-channel transistor α1 is different from the node NC. ['H'' level 5. To ensure that the N-channel transistor is turned on, the node N Dri of the error detection line LTS
'Descend to L-level.

これにより、メモリセル(至)のエラーを検出すること
ができる。
This makes it possible to detect errors in memory cells.

115図は、ビット線ベア(3)1個について説明した
が、上記比較動作は、全てのビット線ベア(3)で−括
して行われるため、1個でもメモリセルcaから誤った
データが読み出された場合、エラー検出ラインLTSの
ノードNDは#L“レベルまで降下する。
Although FIG. 115 has been explained for one bit line bear (3), the above comparison operation is performed for all bit line bears (3) at once, so even one bit line bear may contain incorrect data from the memory cell ca. When read, the node ND of the error detection line LTS drops to the #L" level.

例えば、ここで半導体記憶装置のメモリセル(至)試験
に用いられる第8図に示す工うなチエッカ−ボードパタ
ーンをメモリセルアレイに書き込む場合゛について説明
する。まず、外部ニジ第5図に示すラッチ回路(6)の
列に対してt、0.1.0、・・・・・のデータを書き
込む。ラッチ回路(6)の列に対して書き込が終了しt
後、アドレスが奇数であるワード線(1) を順次アド
レスをインクリメントしながら活性化し、活性化しtワ
ード綜目)に接続するメモリセル(至)に対して一斉に
ラッチ回路(6)のデータを書き込む。
For example, a case will now be described in which a checker board pattern such as the one shown in FIG. 8 used for memory cell testing of a semiconductor memory device is written into a memory cell array. First, data of t, 0.1.0, . . . is written to the external column of latch circuits (6) shown in FIG. Writing to the column of latch circuit (6) is completed.
After that, the word lines (1) whose addresses are odd numbers are activated while incrementing the addresses one after another, and the data of the latch circuit (6) is transferred all at once to the memory cells (to) connected to the t-word (th). Write.

次に、外部工す第5図に示すラッチ回路(6)の列に対
して0,1.0.1.  ・・−・・・のデータを書き
込む0ラッチ回路(6)の列に対して書込が終了した後
、アドレスが偶数であるワード線(1)を順次アドレス
をインクリメントしながら活性化し、活性化しtワード
線(1)に接続するメモリセル(至)に対して一斉にラ
ッチ回路(6)のデータを書き込む。
Next, 0, 1.0.1. After writing is completed to the column of 0 latch circuits (6) in which data is written, the word lines (1) whose addresses are even numbers are activated by sequentially incrementing the addresses. The data of the latch circuit (6) is written all at once to the memory cells (to) connected to the t word line (1).

上記の工つな動作を行なうことにニジメモリセル(2)
に対し、第8図に示すようなチエッカ−ボードパターン
を書き込むことができる0 第6図は、改良された従来のメモリセルアレイ付近の構
成を示す概略回路図、117図riIK6図の回路の回
路図である0図において、C1)〜on、o〜ロ、鴎、
ω、(至)は第3図お工び第4図の従来例に示したもの
と同等である。@はラッチ四路列である。第6図お工び
第7図の回路において、第3図ないし、lEs図に示し
た従来例と異なるのは、データランチ回路列(至)がそ
れぞれのラッチ回路(6)間で双方向にデータをシフト
する機能を持つ点である。
Nijimemory cell (2) is used to perform the above-mentioned complicated operations.
6 is a schematic circuit diagram showing the configuration near the improved conventional memory cell array, and a circuit diagram of the circuit shown in FIG. In figure 0, C1) ~on, o~ro, seagull,
ω, (to) is equivalent to that shown in the conventional example shown in FIG. 3 and FIG. 4. @ is a four-way latch sequence. The circuit shown in Figure 6 and Figure 7 differs from the conventional examples shown in Figures 3 and 1Es in that the data launch circuit array (to) is bidirectional between each latch circuit (6). It has the function of shifting data.

データ入出力のI10線〔4)及びI10線(5)を通
じて任意のコラムアドレスを立ち上げ、コラムアドレス
に対応するNチャネルトランジスタ(8)をオンするこ
とにより任意のビット線(2)に接続するラッチ凹M 
(6)Ic伝達される。立ち上げるコラムアドレスを変
化させることに工〕、全てのビット!!+21に接続す
るラッチ回路(6)にデータの書き込みが完了する。
Connect to any bit line (2) by raising an arbitrary column address through the data input/output I10 line [4] and I10 line (5) and turning on the N-channel transistor (8) corresponding to the column address. Latch concave M
(6) Ic is transmitted. I worked on changing the column address to launch], all bits! ! Writing of data to the latch circuit (6) connected to +21 is completed.

この後ラッチ回路(6)からメモリセルアレイへのデー
タの書き込みは、第3図の従来例と同様である。
Thereafter, data is written from the latch circuit (6) to the memory cell array in the same manner as in the conventional example shown in FIG.

第6図の回路におけるラッチ回路(6)は信号ψl。The latch circuit (6) in the circuit of FIG. 6 receives the signal ψl.

φ2を適機なタイミングで入力することに1シコラムア
ドレスYiに対応するラッチ回路(6)のそれぞれのノ
ードNA、NBのデータをコラムアドレスの大きい備に
シフトさせることができる。また。
By inputting φ2 at an appropriate timing, the data at the nodes NA and NB of the latch circuit (6) corresponding to the one column address Yi can be shifted to the column address with the larger address. Also.

信号φ3%φ4を適当なタイミングで入力することに!
5コラムアドレスの小さい個にラッチ回路(6)のデー
タを7フトさせることができる。
I decided to input the signals φ3%φ4 at an appropriate timing!
The data in the latch circuit (6) can be shifted by 7 feet to the smallest 5 column address.

この時、第8図に示すチエッカ−ボードパターンをメモ
リセルアレイに書き込む場合、第3図の従来例において
は、ワード線アドレスの奇数列と偶数列とでデータが異
なるため、奇数列に書き込みが終わつ几あと偶数列に書
き込みを開始する前にラッチ回路(6)のデータを書き
換える必要があつ次。
At this time, when writing the checker board pattern shown in FIG. 8 to the memory cell array, in the conventional example shown in FIG. After that, it is necessary to rewrite the data in the latch circuit (6) before starting writing to the even numbered columns.

しかし、第6図および第7図に示す回路図に2いては、
ワード線アドレスをインクリメントさせるにつn、信号
ψ1%ψ2ま72.は、信号φ3.φ4を入力しラッチ
回路(6)のデータをシフトさせ、そのデータを用いて
メモリセルアレイへの書き込みを行うことができる。こ
の動作を詳しく説明する。
However, in the circuit diagrams shown in FIGS. 6 and 7,
When the word line address is incremented, the signal ψ1%ψ2 or 72. is the signal φ3. By inputting φ4, the data in the latch circuit (6) can be shifted, and the data can be used to write to the memory cell array. This operation will be explained in detail.

外部ニジラッチ回路(6)の列に書き込まれた1、0゜
直、0.・・・・・のデータに、TRを活性化させ。
The 1, 0° direct, 0. Activate TR with the data of...

ワード11(1)のアドレスの最下位に相当するワード
線(1) t−立ち上げることによりワード線(1)に
接続するメモリセル−に対して一斉に1.0,1.O。
By raising word line (1) corresponding to the lowest address of word 11 (1), 1.0, 1 . O.

・・・・・のデータが書き込まれる0次にTRY非活性
とし次状態で信号ψ2及び信号φlのクロックを交互に
一度ずつ入力することに工りラッチ回路(6)のデータ
に、ビット線アドレスの1だけ大きい偏にシフトされる
0その後、TRを活性化させ、ワードiyj!illの
アドレスの最下位よりl大きいアドレスに相当するワー
ド線を立ち上げることKよりワード線(1)に接続する
メモリセル(至)に対して一斉に0.1.O,1,・・
・・・のデータが書き込まれる。次に%TRを非活性と
した状態で信号ψ4及び信号ψ3のクロックを交互に一
度ずつ入力することにニジラッチ回路(6)のデータは
、ビット線アドレスの1だけ小さい個にシフトされる0
この後は、上記説明を繰シ返すことによシ、第8図に示
すチエッカ−ボードパターンを書き込むことができる〇 なお、上記の説明はメモリセル(至)へのデータの書き
込みについて説明し几がワード線(1)に接続するメモ
リセル(支)毎の一括並列テスト実行時においてもラン
チ回路(6)に蓄積されたデータを書き換えることなく
テストを実行することができる。
The data of the latch circuit (6) is inputted to the bit line address by making TRY inactive in the 0th order where data is written and inputting the clocks of the signal ψ2 and the signal φl alternately once each in the next state. 0 then activates TR and word iyj! By raising the word line corresponding to an address l greater than the lowest address of ill, all memory cells (to) connected to the word line (1) are 0.1. O, 1,...
... data is written. Next, by inputting the clock signals ψ4 and ψ3 alternately once with %TR inactive, the data in the Niji latch circuit (6) is shifted to 0, which is 1 smaller than the bit line address.
After this, by repeating the above explanation, it is possible to write the checker board pattern shown in FIG. Even when performing a batch parallel test for each memory cell (branch) connected to the word line (1), the test can be performed without rewriting the data stored in the launch circuit (6).

〔発明が解決しょうとする課題〕[Problem that the invention seeks to solve]

従来の半導体記憶装置は以上の工うに構成されている、
ので、メモリセルの並列テストにおいてラッチ回路への
情報の書き込みは、通常のメモリセルへの書き込み同様
の動作が必要であシ、テスト時における効率化に制限が
あった。
A conventional semiconductor memory device is configured as described above.
Therefore, in a parallel test of memory cells, writing information to the latch circuit requires the same operation as writing to a normal memory cell, which limits efficiency during testing.

この発明は上記のような問題点を解決する友めになされ
たもので、メモリセルのテスト時において効率化のはか
れる半導体記憶装置を得ることを目的とする。
The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and an object of the present invention is to provide a semiconductor memory device that can improve efficiency when testing memory cells.

〔課題を解決するための手段] この発明に係る半導体記憶装置はビット[に接続するシ
フト機能を備えたラッチ回路群に外部19直接データを
入力できる入力端子および入力バツファ、または、外部
に直接データを出力できる出力喝子&Lび出力バッファ
を備え比ものである。
[Means for Solving the Problems] A semiconductor memory device according to the present invention has an input terminal and an input buffer that can directly input data from the outside to a group of latch circuits having a shift function connected to bits, or input data directly to the outside. It is equipped with an output buffer and an output buffer that can output .

〔作用〕[Effect]

この発明における半導体記憶装置は、ビット線に接続す
るシフト機能を備えたラッチ回路列に外部工す直接デー
タを入力することに工り、従来のDRAMの工うなタイ
ミングに制御されず高速なメモlセルテストが可能であ
る。
The semiconductor memory device of the present invention is designed to directly input externally processed data to a latch circuit array with a shift function connected to a bit line, and is a high-speed memory device that is not controlled by the timing of conventional DRAMs. Cell test is possible.

〔実施例〕 以下、この発明の一実施例を図について説明する。第1
図はダイナミック型半導体記憶装置のメモリセルアレイ
周辺と並列試験における信号系を示したブロック図、第
2図tI′i第1図の装置のメモリセルアレイ付近の構
成を示す回路図である0図において、 it)、 t2
+、仰〜(至)、■は第3図ないし第7図の従来例に示
したものと同等であるので説明を省略する。■はテスト
データ入力端子、((υは入力バツファ、■は出力パノ
ファ、((3dデータ出力端子、【4はテスト系制御信
号発生回路、(ト)はILAS端子、(至)HwE端子
、(転)はテスト制御端子、(至)はCA S @+−
(至)はアドレス端子、−は鼠Asバッファ、岨)はW
Eバッファ、嘔はCASバッファ、−はアドレスバッフ
ァ、 +44riメモリセルアレイ、(4I9はロワデ
コーダ群、−ハセンスアンプ群、@は比較四路群、噛は
コラムデコーダ群である0第1図Vこ示されていないそ
の他の信号系は通常のダイナミック型半導体記憶装置と
同様であり。
[Example] Hereinafter, an example of the present invention will be described with reference to the drawings. 1st
The figure is a block diagram showing the periphery of the memory cell array of a dynamic semiconductor memory device and a signal system in parallel testing. it), t2
+, up to (to), and ■ are the same as those shown in the conventional examples shown in FIGS. 3 to 7, so their explanations will be omitted. ■ is the test data input terminal; ) is the test control terminal, (to) is CA S @+-
(to) is the address terminal, - is the mouse As buffer, and ) is W
E buffer, - is the CAS buffer, - is the address buffer, +44ri memory cell array, (4I9 is the lower decoder group, - Hasens amplifier group, @ is the comparison four-way group, and K is the column decoder group. The other signal systems that are not included are the same as those of a normal dynamic semiconductor memory device.

メモリセルアレイ−周辺の*或は第6図お工び第7WJ
の従来例に示し几ものと同様である0ここで上記TEX
Eはロワアドレスストローブ、CASはコラムアドレス
ストローブ、WEdライトイネーブルな信号に変換され
た後、半導体記憶装置の内部制御を行なうための信号と
なる。また、アドレス信号群はアドレス端子−を通して
外部ニジ与えられ、アドレスバッファーで逼蟲な信号に
変換される0ここで発生されたコラムアドレスはコラム
デコーダ群−に人力し、またロワアドレスはロワデコー
ダ群−に人力し、メモリセルアレイ−中のデータの書き
込み、及び読み出しを行なうべきメモリセルcsを決定
する0そしてメモリセルアレイ−のそれぞれのビット線
対にはセンスアンプ群−のそれぞれのセンスアンプと比
較回路群−のそれぞnの比較回路$?=びラッチ回路列
弼のそれぞれのラッチ回路が接続されている0 @1図に・おいてランチ回路列c!4は第6図および第
7図の従来例と同様、データをシフトする機能を有して
いる0また、ランチ回路列閾には、データを入力するた
めのテストデータ入力端子田から入力バッファ(111
t−通して半導体記憶装置外部Lシ直接データを書き込
むことができ、出力バッファ(至)およびデータを出力
するためのデータ出力端子8Iを通して半導体記憶装置
外部にデータを出力することができる。
Memory cell array - Peripheral * or Fig. 6 Work No. 7 WJ
0 where the above TEX
E is a lower address strobe, CAS is a column address strobe, and WEd is converted into a write enable signal and becomes a signal for internal control of the semiconductor memory device. In addition, the address signal group is applied externally through the address terminal and converted into a detailed signal in the address buffer.The column address generated here is input to the column decoder group, and the lower address is input to the lower decoder group. 0 and each bit line pair of the memory cell array is connected to a sense amplifier group and a comparison circuit group. − each n comparison circuit $? = Each latch circuit in the latch circuit array \ is connected to the latch circuit array c! 4 has the function of shifting data as in the conventional example shown in FIGS. 111
Data can be directly written to the external L of the semiconductor memory device through the output buffer (to) and the data output terminal 8I for outputting data, and data can be output to the outside of the semiconductor memory device.

半導体記憶装置のラインモードテストによるメモリセル
テス)t−1j行する場合、外部工りテスト制御774
子@、RASgll子m、CASgIA子al>zび−
tの他の端子にラインモードテストによるメモリセルテ
ストヲ実行を開始するタイミングである一定の信号が入
力され几場合、半導体記憶装置は外部テスターLり人力
される信号にエリ制御されラインモードテストを開始す
る0 ラインモードテストを開始しt半導体記憶装置において
は、コラムアドレス入力によるコラムデコーダ群@から
の信号による制御はメモリセルアレイ−に対して伝達さ
nなくなる。コラム系の制御は外部テスターから入力さ
れる信号にニジテスト系制御信号発生回路−で発生され
比信号をシフト機能を備え比ラッチ回路列(至)に信号
を入力することに19制御する0 第2図に2いて、ラインモードテスト実行時においては
図示されないコラムデコーダの出力がつねに・L″レベ
ルためデータの入出力Iwのとピッ)[12)とのスイ
ッチI2Dは常にOFFであシ、接続されていない状態
である。この状態で外部エフテストデータ入力端子ωに
データを入力し、入力バッファ13υを通してシフト機
能を備え九うッチ回路列@t@御し、コラムアドレスの
大きい偽にデータをシフトさせながら順次、任意のデー
タを入力することに1シラツチ回路列(至)への書き込
みが完了する。この後、スィッチI23t′ラツチ回路
列□□□に接続し、任意のワード線(1)を活性化する
ことに工す、咳任意のワード線(1)に接続するメモリ
セル(至)にラッチ回路列(至)のデータを一斉に1き
込むことができる0ラッチ回路列例にデータを書き込ん
だ後のメモリセルアレイ−へのデータの書き込み。
When performing a memory cell test (line mode test of a semiconductor memory device) in line t-1j, the external fabrication test control 774
child @, RASgll child m, CASgIA child al>z bi-
When a certain signal is input to the other terminal of t, which is the timing to start executing a memory cell test using a line mode test, the semiconductor memory device is controlled by the signal manually input from an external tester L to perform a line mode test. Start 0 Start line mode test In the semiconductor memory device, control by signals from the column decoder group @ by column address input is no longer transmitted to the memory cell array. Column system control is based on the signal input from the external tester and is generated by the Niji test system control signal generation circuit, which has a function of shifting the ratio signal and inputs the signal to the ratio latch circuit row (to). In Figure 2, when the line mode test is executed, the output of the column decoder (not shown) is always at L'' level, so the switch I2D between the data input/output Iw and the pin (12) is always OFF and not connected. In this state, data is input to the external F test data input terminal ω, the input buffer 13υ is used to control the nine-touch circuit array @t@ with a shift function, and the data is input to the false column address with the larger address. By sequentially inputting arbitrary data while shifting, writing to one latch circuit string (up to) is completed.After this, connect the switch I23t' to the latch circuit string □□□ and write to any word line (1). The data in the latch circuit array can be loaded all at once into the memory cells connected to any word line (1). Write data to the memory cell array after writing.

[Lラインモードテスト実行時のデータの読み出しお工
び比較に第6図′J?工び第7図の従来例と同様である
[See Figure 6'J? for comparison of data readout during L line mode test execution. The construction is similar to the conventional example shown in FIG.

第1図及び第2図における出力バノ7ア■及びデータ出
力褐子帽り上記実施例においてのラッチ回路列(至)の
テストに用いるもので、ランチ回路列(2)にテストデ
ータを入力し、出力バツファs2通して、データ出力端
子C(3ニジテストデータを出力することに19.ラッ
チ回路列(至)のテストを行うものである。なお、この
場合、ランチ回路列(至)は双方向にデータを転送する
事が可能である為テストデータ入力端子ω及び入カバソ
ファ例にデータ出力機trQf:付加させることにLり
、出カバソファ(至)及びデータ出力端子@を除くこと
もできる。
The output vane 7A and the data output cap in Figures 1 and 2 are used to test the latch circuit array (to) in the above embodiment, and test data is input to the launch circuit array (2). 19.The latch circuit array (to) is tested by outputting the data output terminal C (3-digit test data) through the output buffer s2.In this case, the launch circuit array (to) is Since it is possible to transfer data in both directions, it is preferable to add the test data input terminal ω and the data output terminal trQf: to the input cover sofa example, and the output cover sofa (to) and data output terminal @ can also be omitted. .

ま几、上記実施例におけるラッチ回路列(至)は双方向
にデータを転送することが可能であるが、転送方向を一
方向に限定しても工い。
Although the latch circuit array (to) in the above embodiment can transfer data in both directions, it is also possible to limit the transfer direction to one direction.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上の工うにこの発明に工れば、ビット線に接続するシ
フト機能を備えたラッチ回路列は外部工り直接データを
入力できる入力端子お工び入力バッファ、または、外部
に直接データを出力できる出力端子お工び出力バッファ
を備え几のでビット線に接続するシフト機能を備えたラ
ッチ回路列に外部ニジ直接データを入力することに19
、従来のDRAMのような書き込み、読み出しタイミン
グに制御されず高速なメモリセルテストが可能な半導体
記憶装置を得ることができる効果がある。
According to the above method, if this invention is implemented, the latch circuit array with a shift function connected to the bit line can be used as an input terminal that can input data directly from the outside, or as an input buffer, or can output data directly to the outside. Since the output terminal is equipped with an output buffer, it is possible to directly input external data to a latch circuit array with a shift function that connects to the bit line.
This has the advantage that it is possible to obtain a semiconductor memory device that is not controlled by write and read timings like conventional DRAMs and is capable of high-speed memory cell testing.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第区図はこの発明に係る半導体記憶装置の一実施例にL
るダイナミック型半導体記憶装置のメモリセルアレイ周
辺と並列試験における信号系を示したブロック図、第2
図は纂盈図の装置のメモリセルアレイ付近の構成を示す
回路図、第3図は従来のダイナミック型半導体記憶装置
のメモリセルアレイ付近の構成を示す回路図、第4図は
第3図におけるメモリセルアレイ付近の構成を示す回路
図、#!5図は第4図に示すラッチ回路と比較回路付近
の構成を示す回路図%第6図は改良され几従来例による
メモリセルアレイ付近の構成を示す概略回路図、第7図
は第6図の回路の回路図、第8図は半導体記憶装置の試
験に用いられるチエッカ−ボードパターンを示しt図で
ある0 図において、C1)はワード線、(2)はビット線、■
。 の、鴎は入出力線、@はラッチ回路列、@は検出線、 
csrzメモリセル、ωはテストデータ入力端子。 ((Iは人力バッファ、@は出カバソファ、(至)はデ
ータ出力端子、@はテスト系制御信号発生回路、(イ)
はRAS端子、(至)はWE端子、−はテスト制御端子
も(至)はCAS喝子、CIIはアドレス端子、噛は鼠
ASバッファ%騙υriWEバッファ&&gaはCAS
バッファ。 −はアドレスバッファ、−ハメモリセルアレイ、−はロ
ワデコーダ群、−はセンスアンプ群、Ia)は比較回路
群、@はコラムデコーダ群である。 なお、図中、同一符号は同一 または相当部分を示す。
Figure 1 shows an embodiment of the semiconductor memory device according to the present invention.
Block diagram showing the periphery of the memory cell array of a dynamic semiconductor memory device and the signal system in parallel testing, Part 2
The figure is a circuit diagram showing the configuration near the memory cell array of the device shown in the exploded view, FIG. 3 is a circuit diagram showing the configuration near the memory cell array of a conventional dynamic semiconductor memory device, and FIG. 4 is the memory cell array in FIG. 3. Circuit diagram showing nearby configuration, #! Figure 5 is a circuit diagram showing the configuration near the latch circuit and comparison circuit shown in Figure 4. Figure 6 is a schematic circuit diagram showing the configuration around the memory cell array according to an improved conventional example. The circuit diagram of the circuit, FIG. 8, is a diagram showing a checker board pattern used for testing semiconductor memory devices. In the figure, C1) is a word line, (2) is a bit line,
. , the gull is the input/output line, @ is the latch circuit row, @ is the detection line,
csrz memory cell, ω is a test data input terminal. ((I is a manual buffer, @ is an output sofa, (To) is a data output terminal, @ is a test system control signal generation circuit, (A)
is the RAS terminal, (to) is the WE terminal, - is the test control terminal, (to) is the CAS control terminal, CII is the address terminal, and is the AS buffer % cheat υriWE buffer &&ga is the CAS
buffer. - is an address buffer, - is a memory cell array, - is a lower decoder group, - is a sense amplifier group, Ia) is a comparison circuit group, and @ is a column decoder group. In addition, the same symbols in the figures indicate the same or equivalent parts.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)複数のワード線と複数のビット線対及び複数のメ
モリセルを含む構成、及び、該ビット線対もしくは、複
数の該ビット線対のそれぞれがセンスアンプ以外にデー
タを蓄積できるラッチ回路を備え、該ラッチ回路が隣接
するラッチ回路との間でデータを転送できることを特徴
とする半導体記憶装置において、該ビット線に接続する
該ラッチ回路が該半導体記憶装置外から入力端子より直
接データを伝達されること、または、該ビット線に接続
する該ラッチ回路が該半導体記憶装置外に出力端子より
直接データを伝達できること、または、上記前者、後者
の両方ができることを特徴とする半導体記憶装置。
(1) A configuration including a plurality of word lines, a plurality of bit line pairs, and a plurality of memory cells, and each of the bit line pairs or the plurality of bit line pairs includes a latch circuit capable of storing data other than a sense amplifier. In a semiconductor memory device, the latch circuit is capable of transferring data between adjacent latch circuits, wherein the latch circuit connected to the bit line directly transfers data from an input terminal from outside the semiconductor memory device. A semiconductor memory device characterized in that the latch circuit connected to the bit line can directly transmit data from an output terminal to the outside of the semiconductor memory device, or that both the former and the latter are possible.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8934245B2 (en) 2009-09-29 2015-01-13 Nec Corporation Heat conveying structure for electronic device

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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