JPH04205879A - Semiconductor storage device - Google Patents

Semiconductor storage device

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JPH04205879A
JPH04205879A JP2336221A JP33622190A JPH04205879A JP H04205879 A JPH04205879 A JP H04205879A JP 2336221 A JP2336221 A JP 2336221A JP 33622190 A JP33622190 A JP 33622190A JP H04205879 A JPH04205879 A JP H04205879A
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JP
Japan
Prior art keywords
data
written
word line
latch
memory cell
Prior art date
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Application number
JP2336221A
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Japanese (ja)
Inventor
Tsukasa Oishi
司 大石
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
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Abstract

PURPOSE:To easily write certain data and another data having a fixed relation with the data by shifting the data written by means of a latch data shifting means in the direction of a word line and writing the shifted data in a memory cell connected with a word line which is different from the above-mentioned word line. CONSTITUTION:A data latch circuits row 24 is formed by connecting latch circuits 6 with each other in the direction of a word line WL. The data written by means of a data writing means are written in a memory cell MC connected with a desired word line WL through a data latching means. The data are then shifted in the direction of the word line WL and written in another memory cell connected with a word line which is different from the above-mentioned word line. Accordingly, the original data and their shifted data are not written separately, but written in a memory cell array. Therefore, the original data and the data having a fixed relation with the original data can be easily written.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野] この発明は半導体記憶装置に関するもので、特にあるデ
ータとそのデータと一定の関係を有するデータを容易に
書込むことができる半導体記憶装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to a semiconductor memory device in which certain data and data having a certain relationship with the data can be easily written.

[従来の技術] 第5図は、従来のラインモードテスト機能を付加したダ
イナミック型半導体記憶装置のメモリセル付近の構成を
示す機能ブロック図である。ここに示したラインモード
テストは、外部から入力されたテストデータをラッチ回
路に一度蓄積し、そのデータを用いてメモリセルのテス
トをワード線に接続するすべてのメモリセルで一括して
行なおうとするものである。従来のラインモードテスト
は、たとえばrA  60ns3.3V  16MbD
RAMJ  1989年、IEEE  Interna
tional  5olid−StateCircui
ts  ConferenceのDigest  of
  Technical  Papers、p244〜
245に報告されており、選択されたワード線に接続さ
れたメモリセルから読み出される複数もしくはすべての
情報に対して一括した試験を行なうものである。
[Prior Art] FIG. 5 is a functional block diagram showing a configuration near a memory cell of a dynamic semiconductor memory device with a conventional line mode test function. The line mode test shown here stores test data input from the outside in a latch circuit, and then uses that data to test the memory cells on all memory cells connected to the word line. It is something to do. Traditional line mode testing is for example rA 60ns 3.3V 16MbD
RAMJ 1989, IEEE International
tional 5solid-StateCircui
Digest of ts Conference
Technical Papers, p244~
It is reported in 245 that a plurality or all pieces of information read from memory cells connected to a selected word line are tested at once.

第5図を参照して、メモリセルMCはビット線BLとワ
ード線WLの交点に存在する。入出力線22とビット線
BLの間はスイッチ21、およびスイッチ23で分離さ
れている。分離された部分には、ラッチ回路6と比較回
路11が設けられている。また比較回路11とラッチ回
路6との間にはスイッチ25が設けられている。比較回
路11の比較結果は、検出線26に出力される。なおこ
の図ではセンスアンプは省略されている。
Referring to FIG. 5, memory cell MC exists at the intersection of bit line BL and word line WL. The input/output line 22 and the bit line BL are separated by a switch 21 and a switch 23. A latch circuit 6 and a comparison circuit 11 are provided in the separated portion. Further, a switch 25 is provided between the comparison circuit 11 and the latch circuit 6. The comparison result of the comparison circuit 11 is output to the detection line 26. Note that the sense amplifier is omitted in this figure.

第6図は第5図の機能ブロック図において略して書かれ
たビット線対BL、入出力線22の対を含めるとともに
実際の配線構成に従ってラッチ回路6および比較回路1
1の結線状態を示したものである。第7図はラッチ回路
6、比較回路11周辺の結線をトランジスタレベルで表
現した回路図である。
FIG. 6 includes a bit line pair BL and a pair of input/output lines 22 which are abbreviated in the functional block diagram of FIG. 5, and also includes a latch circuit 6 and a comparison circuit 1 according to the actual wiring configuration.
1 shows the connection state of No. 1. FIG. 7 is a circuit diagram expressing the connections around the latch circuit 6 and comparison circuit 11 at a transistor level.

第6図を参照してラインモードテストの動作を以下に述
べる。まずテストデータのメモリセル〜ICへの書込に
ついて説明する。
The operation of the line mode test will be described below with reference to FIG. First, writing of test data to a memory cell to an IC will be explained.

ダイナミック型半導体記憶装置のメモリセル〜ICのテ
ストは、基本的にはメモリセル〜ICに蓄積された情報
と期待値との比較で行なわれる。第6図の場合、外部よ
り入力されたテストデータは、I10線4とI/’O線
5(第5図の入出力線22に相当する)をとおしてコラ
ムデコーダからの信号Yi、Yi÷l、Yi+2.  
・・・によりトランスファゲートを形成するNチャネル
トランジスタ8をオン状態にすることにより、選択され
たラッチノードNA、NBに伝達される。この伝達され
た情報は、ラッチ回路6に一度蓄積される。ラッチ回路
6に一度蓄積された情報が、テスト時の期待値となる。
Testing of memory cells to ICs of a dynamic semiconductor memory device is basically performed by comparing information stored in the memory cells to ICs with expected values. In the case of FIG. 6, the test data input from the outside is transmitted through the I10 line 4 and the I/'O line 5 (corresponding to the input/output line 22 in FIG. 5) to the signals Yi, Yi÷÷ from the column decoder. l, Yi+2.
By turning on the N-channel transistor 8 forming the transfer gate, the signal is transmitted to the selected latch nodes NA and NB. This transmitted information is once stored in the latch circuit 6. The information once stored in the latch circuit 6 becomes the expected value during testing.

また、このとき信号TRは“L”レベルであり、トラン
スファゲートを形成するNチャネルトランジスタ7は、
オフ状態のため情報はメモリセル側に伝達されない。
Further, at this time, the signal TR is at "L" level, and the N-channel transistor 7 forming the transfer gate is
Since it is in the off state, information is not transmitted to the memory cell side.

ラッチ回路6に情報を蓄積する過程は、図示されないコ
ラムデコーダにより、選択するラッチノードNA、NB
を順次変更して繰返される。こうしてすべてのビット線
対に接続するラッチ回路6にテストデータが蓄積される
In the process of accumulating information in the latch circuit 6, a column decoder (not shown) selects latch nodes NA and NB.
is changed sequentially and repeated. In this way, test data is accumulated in the latch circuit 6 connected to all bit line pairs.

次に信号TRをt+ Hn レベルに立ち上げることに
より、トランスファゲートを形成するNチャネルトラン
ジスタ7をオン状態にするとともに、全ワード線の中で
図示されないローレコーダとワードドライバにより選択
された任意のワード線か“H”レベルに立ち上げられる
。その結果選択された任意のワード線に接続するすべて
のメモリセルMCに対してラッチ回路6に蓄積された情
報が一斉に書込まれる。
Next, by raising the signal TR to the t+Hn level, the N-channel transistor 7 forming the transfer gate is turned on, and any word selected by the row recorder and word driver (not shown) among all the word lines is activated. The line is raised to the “H” level. As a result, the information stored in the latch circuit 6 is simultaneously written to all memory cells MC connected to the selected arbitrary word line.

ラッチ回路6よりメモリセルMCに情報を書込む過程は
、図示されないローレコーダとワードトライバにより、
選択するワード線を順に変更して繰返される。こうして
すべてのビット線対に接続するメモリセルMCにテスト
データが書込まれる。
The process of writing information from the latch circuit 6 to the memory cell MC is performed by a row recorder and a word driver (not shown).
The process is repeated by changing the selected word line in order. In this way, test data is written into memory cells MC connected to all bit line pairs.

次にメモリセルMCに蓄積されたテストデータの読出と
期待値との比較について説明する。
Next, a description will be given of reading the test data stored in the memory cell MC and comparing it with the expected value.

図示されないローレコーダとワードドライバにより選択
された任意のワード線を“H” レベルに立ち上げるこ
とにより、選択された任意のワード線に接続するすべて
のメモリセルに対してラッチ回路6に蓄積された情報が
一斉に書込まれる。
By raising an arbitrary word line selected by a row recorder and a word driver (not shown) to the "H" level, the data accumulated in the latch circuit 6 for all memory cells connected to the selected arbitrary word line is Information is written all at once.

ラッチ回路6よりメモリセルMCに情報を書込む過程は
、図示されないローレコーダとワードドライバにより、
選択するワード線を順次変更して繰返される。こうして
すべてのビット線対に接続するメモリセルMCにテスト
データが書込まれる。
The process of writing information from the latch circuit 6 to the memory cell MC is performed by a row recorder and a word driver (not shown).
This process is repeated by sequentially changing the word line to be selected. In this way, test data is written into memory cells MC connected to all bit line pairs.

次にメモリセルMCに蓄積されたテストデータの読出と
期待値との比較について説明する。
Next, a description will be given of reading the test data stored in the memory cell MC and comparing it with the expected value.

図示されないローレコー?とワードドライバにより選択
された任意のワード線が“H”レベルに立ち上げられる
ことにより、選択された任意のワード線を接続するすべ
てのメモリセルMCよりメモリセルMCに接続するビッ
ト線対にメモリセルMCに蓄積されたテストデータが読
出される。この情報は、センスアンプ9により増幅され
る。
Low record not shown? By raising an arbitrary word line selected by the word driver to the "H" level, all memory cells MC connected to the selected arbitrary word line are connected to the bit line pair connected to the memory cell MC. Test data stored in cell MC is read out. This information is amplified by the sense amplifier 9.

次に信号TRは、“L″レベルままで信号LTEを“H
”レベルに立ち上げるとトランスファゲートを形成する
Nチャネルトランジスタ10かオン状態になる。したか
ってメモリセルMCより読出された情報は、それぞれの
ヒツト線対に設けられた比較回路11に伝達される。比
較回路11には、ラッチ回路6に蓄積された情報かノー
ドNA1ノードNBを介して伝達されている。
Next, the signal TR remains at the “L” level and the signal LTE is set to the “H” level.
When raised to the ``level'', the N-channel transistor 10 forming the transfer gate is turned on. Therefore, the information read from the memory cell MC is transmitted to the comparison circuit 11 provided for each human line pair. The information stored in the latch circuit 6 is transmitted to the comparison circuit 11 via the node NA1 and the node NB.

比較回路11においてメモリセルMCより読出された情
報とラッチ回路6に蓄積された情報とが比較され、比較
結果か信号LTSとして検出される。
In the comparison circuit 11, the information read from the memory cell MC and the information stored in the latch circuit 6 are compared, and the comparison result is detected as a signal LTS.

コラムデコーダにより出力されるコラムデコード信号Y
iがトランスファゲートを形成するNチャネルトランジ
スタ8をオン状態にする。外部より入力されたテストデ
ータが、I10線4とI10線5をとおして選択された
ラッチノードNA。
Column decode signal Y output by column decoder
i turns on the N-channel transistor 8 forming the transfer gate. Latch node NA where test data input from the outside is selected through I10 line 4 and I10 line 5.

NBに伝達される。そしてNチャネルトランジスタ12
.13とPチャネルトランジスタ14.15により構成
されるラッチ回路6に蓄積される。
It is transmitted to NB. and N-channel transistor 12
.. 13 and P channel transistors 14 and 15.

また、テスト時には、信号TRは“L”のレベルのまま
で信号LTEが“H”レベルに立ち上げられる。すると
トランスファゲートを形成するNチャネルトランジスタ
10かオン状態になるため、メモリセルMCより読出さ
れた情報は、それぞれのビット線対に設けられた比較回
路11に伝達される。たとえばノードNGか“H”レベ
ル、ノードNHか“L”レベルであれば、Nチャネルト
ランジスタ33はオン状態、Nチャネルトランジスタ3
4はオフ状態となっている。また、ノートNCの電位は
、信号LTRを入力し、Nチャネルトランジスタ35を
オン状態にすることにより予め“L”レベルに設定され
、エラー検畠ラインLTSは予め“H”レベルに設定さ
れている。
Further, during the test, the signal LTE is raised to the "H" level while the signal TR remains at the "L" level. Then, since the N-channel transistor 10 forming the transfer gate is turned on, the information read from the memory cell MC is transmitted to the comparison circuit 11 provided for each bit line pair. For example, if the node NG is at the "H" level and the node NH is at the "L" level, the N-channel transistor 33 is in the on state;
4 is in the off state. Further, the potential of the note NC is set to the "L" level in advance by inputting the signal LTR and turning on the N-channel transistor 35, and the error detection line LTS is set to the "H" level in advance. .

メモリセルMCより正しいデータか読出された場合、ノ
ードNEは“H″レベルノードNFは“L” レベルと
なっている。トランスファゲート10をとおして伝達さ
れた情報により、ノードNCはL”レベルのままでNチ
ャネルトランジスタ36はオフ状態であり、エラー検出
ラインLTSのノードNDは“H” レベルのままであ
る。
When correct data is read from memory cell MC, node NE is at "H" level and node NF is at "L" level. Due to the information transmitted through the transfer gate 10, the node NC remains at the "L" level, the N-channel transistor 36 is turned off, and the node ND of the error detection line LTS remains at the "H" level.

メモリセルMCにより誤ったデータか読出された場合、
ノードNEは“L”レベル、ノードNFは“H”レベル
となっている。トランスファゲート10をとおして伝達
された情報により、ノードNCは“H”レベルになり、
Nチャネルトランジスタ36はオン状態となるため、エ
ラー検出ラインLTSのノードNDは“L”レベルまで
降下する。これにより、メモリセルMCのエラーを検出
することができる。
If incorrect data is read by memory cell MC,
Node NE is at "L" level and node NF is at "H" level. Due to the information transmitted through the transfer gate 10, the node NC becomes "H" level,
Since the N-channel transistor 36 is turned on, the node ND of the error detection line LTS falls to the "L" level. Thereby, errors in memory cells MC can be detected.

第7図においてはビット線対1組について説明したが、
上記比較動作はすべてのビット線対で一括して行なわれ
るため、1個でもメモリセルから誤ったデータを読出さ
れた場合、エラー検出ラインLTSのノードNDはL”
レベルまで降下する。
In FIG. 7, one bit line pair was explained, but
The above comparison operation is performed on all bit line pairs at once, so if even one memory cell reads incorrect data, the node ND of the error detection line LTS goes low.
descend to the level.

たとえば、半導体記憶装置のメモリセル試験に用いられ
る第8図に示すようなチエッカ−ボードパターンがメモ
リセルアレイに書込まれる場合について説明する。まず
、外部より第6図に示すラッチ回路6の列に対して1.
0.1.0、・・・のデータが書込まれる。ラッチ回路
6の列に対して書込が終了した後、アドレスが奇数であ
るワード線は順次アドレスをインクリメントしながら活
性化し、活性化したワード線に接続するメモリセルMC
に対して一斉にラッチ回路6のデータを書込む。
For example, a case will be described in which a checker board pattern as shown in FIG. 8 used for memory cell testing of a semiconductor memory device is written into a memory cell array. First, 1.
Data of 0.1.0, . . . is written. After writing to the column of the latch circuit 6 is completed, word lines with odd addresses are activated while sequentially incrementing the addresses, and memory cells MC connected to the activated word lines are activated.
The data of the latch circuit 6 is written all at once.

次に外部より第6図に示すラッチ回路6の列に対して0
.1.0.1、・・・のデータを書込む。ラッチ回路6
の列に対して書込が終了した後アドレスか偶数であるワ
ード線を順次アドレスをインクリメントしながら活性化
し、活性化したワード線に接続するメモリセルMCに対
して一斉にラッチ回路6のデータを書込む。
Next, from the outside, 0 is applied to the row of latch circuits 6 shown in FIG.
.. 1. Write the data of 0.1, . Latch circuit 6
After writing to the column is completed, the word lines with addresses or even numbers are activated while incrementing the address sequentially, and the data in the latch circuit 6 is transferred all at once to the memory cells MC connected to the activated word lines. Write.

上記のような動作を行なうことにより、メモリセルアレ
イに対して第8図に示すようなチエッカ−ボードパター
ンを書込むことができる。
By performing the above operations, a checker board pattern as shown in FIG. 8 can be written into the memory cell array.

[発明が解決しようとする課題] 従来の半導体記憶装置は以上のように構成されていたの
で、たとえば第8図に示すようなチエッカ−ホードパタ
ーンをメモリセルに書込む場合は、ワード線のアドレス
が偶数の列と奇数の列でラッチ回路のデータを書き替え
る必要かあった。
[Problem to be Solved by the Invention] Since the conventional semiconductor memory device is configured as described above, for example, when writing a checker-hold pattern as shown in FIG. However, it was necessary to rewrite the data in the latch circuits for even and odd columns.

この発明は上記のような問題点を解消するために成され
たもので、チエッカ−ボードパターンのようにあるデー
タとそのデータと一定の関係を有するデータを容易に書
込むことができる半導体記憶装置を提供することを目的
とする。
This invention was made to solve the above-mentioned problems, and provides a semiconductor memory device in which certain data and data having a certain relationship with that data, such as a checker board pattern, can be easily written. The purpose is to provide

[課題を解決するための手段] この発明にかかる半導体記憶装置は、複数のビット線対
と、複数のビット線対と交わる複数のワード線との交点
に設けられた複数のメモリセルからなるメモリセルのア
レイと、各ビット線対に接続されたデータをラッチする
ためのデータラッチ手段と、データラッチ手段にデータ
を書込むためのデータ書込手段と、ラッチ手段に書込ま
れたデータをラッチ手段に対応するビット線対と、複数
のワード線のうちの選択されたワード線との交点にある
メモリセルに書込むためのデータ書込み手段と、データ
ラッチ手段にラッチされたデータをワード線の方向にシ
フトするラッチデータシフト手段とを含む。
[Means for Solving the Problems] A semiconductor memory device according to the present invention includes a memory including a plurality of memory cells provided at the intersections of a plurality of bit line pairs and a plurality of word lines that intersect with the plurality of bit line pairs. an array of cells, a data latch means for latching data connected to each bit line pair, a data write means for writing data to the data latch means, and a data write means for latching the data written to the latch means. data writing means for writing to a memory cell located at the intersection of a bit line pair corresponding to the word line and a selected word line of the plurality of word lines; latch data shifting means for shifting in the direction.

[作用コ この発明における半導体記憶装置においては、外部から
データ書込手段によって書込まれたデータが、データラ
ッチ手段を通して所望のワード線に接続されたメモリセ
ルに書込まれる。次にラッチデータシフト手段によって
書込まれたデータがワードライン方向にシフトされ、そ
のシフトされたデータが先のワード線と異なる別のワー
ド線に接続されたメモリセルに書込まれる。したかって
、もとのデータとそれをシフトしたデータが別々に書込
まれることなくメモリセルアレイに書込まれる。
[Operations] In the semiconductor memory device according to the present invention, data written externally by the data writing means is written into the memory cell connected to a desired word line through the data latch means. Next, the data written by the latch data shift means is shifted in the word line direction, and the shifted data is written into a memory cell connected to another word line different from the previous word line. Therefore, the original data and the shifted data are written into the memory cell array without being written separately.

[実施例] 以下、この発明の実施例について説明する。[Example] Examples of the present invention will be described below.

第1図はこの発明の詳細な説明するための機能ブロック
図である。第1図を参照してこの発明にかかる半導体記
憶装置においては、外部から与えられたデータをラッチ
するラッチ回路6がワード線の方向に相互に接続され、
それらがデータラッチ回路の列24を形成する。そして
そのデータラッチ回路の列24を構成する各々のラッチ
回路間で双方向にデータのシフトか可能である。
FIG. 1 is a functional block diagram for explaining the invention in detail. Referring to FIG. 1, in the semiconductor memory device according to the present invention, latch circuits 6 for latching externally applied data are interconnected in the direction of word lines, and
They form a column 24 of data latch circuits. Data can be shifted bidirectionally between the respective latch circuits forming the column 24 of data latch circuits.

第2図は第1図に示したデータラッチ回路の応用例を示
す図であり、従来の技術で述べた第5図に対応する。第
3図は第2図の詳細を示す回路図である。以下、第3図
を参照してこの発明か適用された半導体記憶装置につい
て説明する。
FIG. 2 is a diagram showing an application example of the data latch circuit shown in FIG. 1, and corresponds to FIG. 5 described in the related art. FIG. 3 is a circuit diagram showing details of FIG. 2. Hereinafter, a semiconductor memory device to which the present invention is applied will be explained with reference to FIG.

データ入出力線I10線およびI10線を通じて任意の
コラムアドレスを立ち上げ、トランスファゲート8をO
Nすることにより任意のビット線に接続するラッチ回路
にデータが伝達される。立ち上げるコラムアドレスを変
化させることにより、すべてのビット線に接続するラッ
チ回路6にデータの書込が完了する。この後ラッチ回路
6からメモリセルアレイへのデータの書込は、従来例と
同様である。
An arbitrary column address is raised through the data input/output lines I10 line and I10 line, and transfer gate 8 is turned off.
By setting the bit line to N, data is transmitted to a latch circuit connected to an arbitrary bit line. By changing the column address to be raised, writing of data to the latch circuit 6 connected to all bit lines is completed. Thereafter, data is written from the latch circuit 6 to the memory cell array in the same manner as in the conventional example.

この発明におけるラッチ回路6は、信号φ1、φ2を適
当なタイミングで入力することにより、コラムアドレス
Yiに対応するラッチ回路6のそれぞれのノードNAS
NBのデータがコラムアドレスの大きい側にシフトされ
る。また、信号φ3、φ4を適当なタイミングで入力す
ることにより、コラムアドレスの小さい側にラッチ回路
のデータがシフトされる。
The latch circuit 6 according to the present invention inputs the signals φ1 and φ2 at appropriate timing, so that each node NAS of the latch circuit 6 corresponding to the column address Yi is
The data in NB is shifted to the side with a larger column address. Furthermore, by inputting signals φ3 and φ4 at appropriate timings, data in the latch circuit is shifted to the side with a smaller column address.

次にこの内容の詳細について説明する。第4図はデータ
がシフトされる場合の信号φ1、φ2、φ3およびφ4
のタイミングチャートである。コラムアドレスYiから
Yi+lにデータがシフトされるとき第4図の(1)に
示すクロックが用いられる。第4図(1)に示すように
、この場合信号φ3、φ4は“L”に固定されている。
Next, the details of this content will be explained. Figure 4 shows signals φ1, φ2, φ3 and φ4 when data is shifted.
This is a timing chart. When data is shifted from column address Yi to Yi+l, the clock shown in (1) of FIG. 4 is used. As shown in FIG. 4(1), in this case, the signals φ3 and φ4 are fixed at "L".

第4図(1)を参照して、転送ステップの数だけ信号φ
2およびφ1のパルスが入力される。この図においては
、まず最初の信号φ2およびφ1の立ち上がりによって
コラムアドレスYiのデータがY1+1に転送され、次
の立ち上がりでコラムアドレスYi+lからYi−t−
jにデータが転送される。
Referring to FIG. 4 (1), the signal φ is equal to the number of transfer steps.
2 and φ1 pulses are input. In this figure, data at column address Yi is transferred to Y1+1 at the first rising edge of signals φ2 and φ1, and from column address Yi+l to Yi−t− at the next rising edge.
Data is transferred to j.

第4図(2)はデータの転送をコラムアドレスYi+2
からコラムアドレスYi+1の方向へデータを転送する
場合のクロック波形を示す図である。この場合において
は信号φ1およびφ2は“L”に固定されている。この
場合も転送ステップSの数だけ信号φ3およびφ4のパ
ルス人力され、最初の信号の立ち上がりでコラムアドレ
スYl+2からyi+1へデータか転送され、次の信号
の立ち上かりてさらにコラムアドレスYiヘデータが転
送される。
Figure 4 (2) shows data transfer at column address Yi+2.
3 is a diagram showing a clock waveform when data is transferred in the direction from column address Yi+1. FIG. In this case, signals φ1 and φ2 are fixed at "L". In this case as well, the pulses of signals φ3 and φ4 are applied as many times as the number of transfer steps S, and at the rising edge of the first signal, data is transferred from column address Yl+2 to yi+1, and at the rising edge of the next signal, data is further transferred to column address Yi. be done.

このとき、第8図に示したチエッカ−ボードパターンを
メモリセルアレイに書込む場合、従来例においては、ワ
ード線アドレスの奇数列と偶数列とでデータが異なるた
め、奇数列に書込が終わった後偶数列に書込を開始する
前にラッチ回路のデータを書き替える必要があった。し
かし、第3図に示す回路図においては、ワード線アドレ
スをインクリメントさせるにつれ、信号φ1、φ2また
は信号φ3、φ4を入力し、ラッチ回路6のデータをシ
フトさせ、そのデータを用いてメモリセルアレイへの書
込を行なうことができる。この動作をくわしく説明する
。外部よりラッチ回路6の列に書込まれた1、Oll、
0、・・・のデータは、信号TRを活性化させ、ワード
線のアドレスの最下位に相当するワード線を立ち上げる
ことにより、ワード線に接続するメモリセルMCに対し
て一斉に1.0.1.0、・・・のデータか書込まれる
。次に信号TRを非活性とした状態て信号φ2およびφ
1のクロックを交互に1度ずつ入力することによりラッ
チ回路6のデータはビット線アドレスの1だけ大きい側
にシフトされる。その後信号TRを活性化させ、ワード
線のアドレスの最下位より1大きいアドレスに相当する
ワード線を立ち上げることにより、ワード線に接続する
メモリセルMCに対して一斉に0.1.0.1、・・・
のデータが書込まれる。次に信号TRを非活性とした状
態で信号φ4および信号φ3のクロックを交互に1つず
つ入力することにより、ラッチ回路6のデータはビット
線アドレスの1だけ小さい側にシフトされる。後は、上
記説明の繰返しにより第8図に示すチエッカ−ボードパ
ターンを書込むことができる。
At this time, when writing the checker board pattern shown in FIG. 8 to the memory cell array, in the conventional example, the data is different between the odd and even columns of the word line address, so writing is completed in the odd column. It was necessary to rewrite the data in the latch circuit before starting writing to the rear even-numbered columns. However, in the circuit diagram shown in FIG. 3, as the word line address is incremented, the signals φ1 and φ2 or the signals φ3 and φ4 are input, the data in the latch circuit 6 is shifted, and the data is used to transfer the data to the memory cell array. can be written. This operation will be explained in detail. 1, Oll, written externally into the column of the latch circuit 6
Data of 0, . Data of .1.0, . . . is written. Next, with signal TR inactive, signals φ2 and φ
By alternately inputting clocks of 1 once at a time, the data in the latch circuit 6 is shifted to the bit line address larger by 1. After that, by activating the signal TR and raising the word line corresponding to the address that is one higher than the lowest address of the word line, the memory cells MC connected to the word line are simultaneously 0.1.0.1 ,...
data is written. Next, by alternately inputting the clocks of the signals φ4 and φ3 one by one with the signal TR inactive, the data in the latch circuit 6 is shifted to the bit line address smaller by 1. Thereafter, by repeating the above explanation, the checker board pattern shown in FIG. 8 can be written.

より詳しくいうと次のようになる。たとえば、コラムア
ドレスYiのデータをY1+1に転送する場合、信号φ
2のクロックを入力した時点でYiのデータはYiのラ
ッチからYiとYi+lの間にあるラッチに転送される
。Yiのラッチデータが“H”の場合、YiとYiの間
にあるラッチデータはインバータによる反転のため、“
L”となる。次に信号φ1のクロックを入力した時点で
YiとY1+1の間にあるラッチデータはYiのラッチ
に転送されるが、これもまたインバータによる反転によ
り、再び“L″となる。このようにしてコラムアドレス
Yiのラッチデータは同しデータでYi+lのラッチに
転送される。
More specifically, it is as follows. For example, when transferring data of column address Yi to Y1+1, signal φ
When the second clock is input, the data of Yi is transferred from the latch of Yi to the latch between Yi and Yi+l. When the latch data of Yi is “H”, the latch data between Yi and Yi is inverted by the inverter, so it becomes “H”.
Next, when the clock signal φ1 is input, the latch data between Yi and Y1+1 is transferred to the latch of Yi, but this is also inverted by the inverter and becomes "L" again. In this way, the latch data of column address Yi is transferred to the latch of Yi+l as the same data.

したがって、外部よりYiのラッチ回路6に“H”、Y
i+lのラッチ回路に“L”、Yi+2のラッチ回路に
“H”・・・と書込んだ場合、まず偶数番目のワード線
に接続するメモリセルに対して上記データが書込まれる
。次に信号φ2、φ1のクロックを入力すれば、Yiの
ラッチ回路にはYi−1のラッチの“L″が、Y i 
+lのラッチは“H”、Yl+2のラッチは“L″・・
・となり、このデータを奇数番目のワード線に接続する
メモリセルに書込むことにより、チエッカ−ボードパタ
ーンが完成する。
Therefore, the latch circuit 6 of Yi is set to “H” from the outside, and Y
When "L" is written to the i+l latch circuit, "H" is written to the Yi+2 latch circuit, the above data is first written to the memory cells connected to the even-numbered word lines. Next, when the clocks of signals φ2 and φ1 are input, the “L” of the latch of Yi-1 is input to the latch circuit of Yi.
+l latch is “H”, Yl+2 latch is “L”...
By writing this data into the memory cells connected to the odd-numbered word lines, the checker board pattern is completed.

以上の説明においては、メモリセルへのデータの書込に
ついて説明したか、ワード線に接続するメモリセル毎の
一括並列テスト実行時においてもラッチ回路に蓄積され
たデータを書き替えることなく、テストを実行すること
ができる。
In the above explanation, writing of data to memory cells has been explained, and even when performing a batch parallel test for each memory cell connected to a word line, the test can be performed without rewriting the data accumulated in the latch circuit. can be executed.

また上記説明においては、第8図に示すチエ・yカーボ
ードパターンについて説明したか、その他のパターンに
対しても適応できる。また、上記実施例はラッチ回路の
列が双方向シフトレジストであったが、片方向のみでも
よい。
Further, in the above description, the CHI/Y card board pattern shown in FIG. 8 has been described, but the present invention can also be applied to other patterns. Further, in the above embodiment, the row of latch circuits is a bidirectional shift resist, but it may be shift resist only in one direction.

[発明の効果] 以上のようにこの発明に係る半導体記憶装置によれば、
外部からデータ書込手段によって書込まれたデータがデ
ータラッチ手段を通して所望のワード線に接続されたメ
モリセルに書込まれる。次にラッチシフト手段によって
データがワードライン方向にシフトされ、そのシフトさ
れたデータが先のワード線と異なる別のワード線に接続
されたメモリセルに書込まれる。したがって、もとのデ
ータとそれをシフトしたデータが別々に書込まれること
なくメモリセルアレイに書込まれる。その結果、もとの
データと一定の関係を有するデータを容易に書込むこと
のできる半導体記憶装置が提供できる。
[Effects of the Invention] As described above, according to the semiconductor memory device according to the present invention,
Data written from outside by the data writing means is written into the memory cell connected to a desired word line through the data latch means. Next, data is shifted in the word line direction by the latch shift means, and the shifted data is written into a memory cell connected to another word line different from the previous word line. Therefore, the original data and the shifted data are written into the memory cell array without being written separately. As a result, a semiconductor memory device can be provided in which data having a certain relationship with the original data can be easily written.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図はこの発明に係る半導体記憶装置の要部を示す機
能ブロック図であり、第2図はこの発明に係る半導体記
憶装置に用いた一実施例を示す機能ブロック図であり、
第3図は第2図に示す機能ブロック図の要部を示す回路
図であり、第4図はデータをシフトするためのクロック
信号のタイミングチャートであり、第5図は従来の半導
体記憶装置の機能ブロック図であり、第6図は第5図の
詳細を示す配線図であり、第7図は第6図の詳細を示す
回路図であり、第8図はチエッカ−ボードパターンを示
した図である。 MCはメモリセル、BLビット線、WLはワード線、S
Aはセンスアンプ、4はI10線、5はI/’O線、6
はラッチ回路、11は比較回路である。 なお図中、同一符号は同一、または相当部分を示す。
FIG. 1 is a functional block diagram showing essential parts of a semiconductor memory device according to the present invention, and FIG. 2 is a functional block diagram showing an embodiment used in the semiconductor memory device according to the present invention.
FIG. 3 is a circuit diagram showing the main part of the functional block diagram shown in FIG. 2, FIG. 4 is a timing chart of clock signals for shifting data, and FIG. 5 is a diagram of a conventional semiconductor memory device. 6 is a wiring diagram showing details of FIG. 5, FIG. 7 is a circuit diagram showing details of FIG. 6, and FIG. 8 is a diagram showing a checker board pattern. It is. MC is a memory cell, BL bit line, WL is a word line, S
A is the sense amplifier, 4 is the I10 line, 5 is the I/'O line, 6
1 is a latch circuit, and 11 is a comparison circuit. In the drawings, the same reference numerals indicate the same or corresponding parts.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 複数のビット線対と、前記複数のビット線対と交わる複
数のワード線との交点に設けられた複数のメモリセルか
らなるメモリセルのアレイと、前記各ビット線対に接続
され、データをラッチするためのデータラッチ手段と、 前記データラッチ手段にデータを書込むためのデータ書
込手段と、 前記データラッチ手段に書込まれた前記データを、前記
データラッチ手段に対応する前記ビット線対と前記複数
のワード線のうちの選択されたワード線との交点にある
前記メモリセルに書込むためのラッチデータ書込手段と
、一 前記データラッチ手段にラッチされた前記データを前記
ワード線の方向にシフトするラッチデータシフト手段と
を含む、半導体記憶装置。
[Scope of Claims] A memory cell array including a plurality of memory cells provided at the intersections of a plurality of bit line pairs and a plurality of word lines intersecting the plurality of bit line pairs, and data latch means for latching data; data writing means for writing data to the data latch means; latch data writing means for writing into the memory cell located at the intersection of the bit line pair and a word line selected from the plurality of word lines; latch data shifting means for shifting the data in the direction of the word line.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6158028A (en) * 1997-08-06 2000-12-05 Nec Corporation Semiconductor integrated circuit
JP2008165887A (en) * 2006-12-27 2008-07-17 Rohm Co Ltd Memory read circuit and memory device using the same

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6158028A (en) * 1997-08-06 2000-12-05 Nec Corporation Semiconductor integrated circuit
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