JPH0467278B2 - - Google Patents

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JPH0467278B2
JPH0467278B2 JP57684A JP57684A JPH0467278B2 JP H0467278 B2 JPH0467278 B2 JP H0467278B2 JP 57684 A JP57684 A JP 57684A JP 57684 A JP57684 A JP 57684A JP H0467278 B2 JPH0467278 B2 JP H0467278B2
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transistor
memory cell
load transistor
load
drain
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JP57684A
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Shinji Saito
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Toshiba Corp
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Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/34Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明はセンス回路、特に半導体メモリに用い
られるセンス回路に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Technical Field of the Invention] The present invention relates to a sense circuit, and particularly to a sense circuit used in a semiconductor memory.

〔発明の技術的背景〕[Technical background of the invention]

半導体メモリの大容量化、高速化は年々盛んに
なり、その方式も種々考案されている。この半導
体メモリの大容量化に伴ない、ワード線、ビツト
線、センス線の寄生容量によるメモリセル部の遅
延が深刻な問題となつてきている。これを改善す
るため、ビツト線やセンス線の論理振幅を小さく
することが一般に行なわれている。しかし論理振
幅を小さくするためには、感度の良いセンス回路
が必要となり、そのようなセンス回路として一般
に差動増幅器が用いられている。
BACKGROUND ART The capacity and speed of semiconductor memories have been increasing year by year, and various methods have been devised. As the capacity of semiconductor memories increases, delays in memory cell sections due to parasitic capacitance of word lines, bit lines, and sense lines have become a serious problem. To improve this, it is common practice to reduce the logic amplitude of the bit lines and sense lines. However, in order to reduce the logic amplitude, a highly sensitive sense circuit is required, and a differential amplifier is generally used as such a sense circuit.

第1図に従来技術に係るEPROMのセンス回路
の回路図を示す。20は1ビツトのメモリセル
で、実際にはいくつかのセルが並列接続されてい
るが、ここでは説明の適宜上1ビツト分のみを示
す。30は参照用のダミーセルである。メモリセ
ルトランジスタ1は浮遊ゲート型のnチヤンネル
MOSトランジスタであつて、ビツト線B.L.、お
よびワード線W.L.を有する。このトランジスタ
1は、データが書込まれていないときは、ゲート
に電圧が加わるとオンとなり、データが書込まれ
ているときは、しきい値が高くなるためオフとな
るかあるいは流れる電流量が小さくなる。ダミー
セル30のダミートランジスタ13はメモリセル
トランジスタ1と同一のトランジスタであつて、
データは常に書込まれていない状態となつてい
る。なおここではデータが書込まれていない状態
の論理を“1”、書込まれている状態の論理を
“0”と表わすことにする。トランジスタ2は列
デコード信号CDによりスイツチされるトランス
フアトランジスタであり、トランジスタ12はこ
れに対応するダミートランジスタである。トラン
ジスタ3はゲートが定電位VBBにクランプされた
トランスフアトランジスタで、ビツト線に高電位
が印加されてメモリセル20が誤つて書込まれる
のを防止する役割を果たす。トランジスタ11は
これに対応するダミートランジスタである。トラ
ンジスタ2,3,11,12はともにnチヤンネ
ルトランジスタが用いられている。pチヤンネル
MOSトランジスタであるトランジスタ4および
10はそれぞれメモリセル20およびダミーセル
30についての負荷トランジスタで、トランジス
タ10の相互コンダクタンスgmはトランジスタ
4の相互コンダクタンスgmより大きい。40は
従来からよく知られているカレントミラー型の差
動増幅回路で、nチヤンネルMOSトランジスタ
5,6,7およびpチヤンネルMOSトランジス
タ8,9から成る。
FIG. 1 shows a circuit diagram of a conventional EPROM sense circuit. Reference numeral 20 indicates a 1-bit memory cell, and although several cells are actually connected in parallel, only one bit is shown here for convenience of explanation. 30 is a dummy cell for reference. Memory cell transistor 1 is a floating gate type n-channel
It is a MOS transistor and has a bit line BL and a word line WL. This transistor 1 is turned on when a voltage is applied to the gate when no data is written, and when data is written, the threshold value becomes high and the transistor 1 is turned off or the amount of current flowing is reduced. becomes smaller. The dummy transistor 13 of the dummy cell 30 is the same transistor as the memory cell transistor 1, and
Data is always in an unwritten state. Here, the logic in the state where no data is written is expressed as "1", and the logic in the state in which data is written is expressed as "0". Transistor 2 is a transfer transistor switched by column decode signal CD, and transistor 12 is a corresponding dummy transistor. Transistor 3 is a transfer transistor whose gate is clamped to constant potential VBB , and serves to prevent erroneous writing to memory cell 20 due to application of a high potential to the bit line. Transistor 11 is a dummy transistor corresponding to this. N-channel transistors are used for transistors 2, 3, 11, and 12. p channel
Transistors 4 and 10, which are MOS transistors, are load transistors for memory cell 20 and dummy cell 30, respectively, and transconductance gm of transistor 10 is larger than transconductance gm of transistor 4. Reference numeral 40 denotes a conventionally well-known current mirror type differential amplifier circuit, which is composed of n-channel MOS transistors 5, 6, and 7 and p-channel MOS transistors 8 and 9.

次に上述の回路の動作について説明する。第2
図は電源電圧VCC=5Vのときメモリセルトランジ
スタ1、負荷トランジスタ4および10の特性を
示すグラフである。横軸はセンス軸S.L.の電位
VSioまたは参照線R.L.の電位VRを示し、縦軸は各
トランジスタを流れる電流を示す。実線はメモリ
セルトランジスタ1の特性を示し、“1”と示さ
れた実線はデータが書込まれていない状態での特
性、“0”と示された実線はデータが書込まれて
いる状態での特性を表わす。また破線は負荷トラ
ンジスタ4の特性、一点鎖線は負荷トランジスタ
10の特性で、両負荷トランジスタの相互コンダ
クタンスgmが相違しているため、両特性は一致
しない。この負荷トランジスタの特性は、VSio
VCC−VTH以下に減少すると電源が増加する特性
となる。ここでVTHはしきい値電圧である。
Next, the operation of the above circuit will be explained. Second
The figure is a graph showing the characteristics of memory cell transistor 1 and load transistors 4 and 10 when power supply voltage V CC =5V. The horizontal axis is the potential of the sense axis SL
V Sio or the potential V R of the reference line RL is shown, and the vertical axis shows the current flowing through each transistor. The solid line shows the characteristics of memory cell transistor 1, the solid line marked "1" shows the characteristics when no data is written, and the solid line marked "0" shows the properties when data is written. represents the characteristics of Further, the broken line shows the characteristics of the load transistor 4, and the dashed line shows the characteristics of the load transistor 10. Since the mutual conductance gm of both load transistors is different, the two characteristics do not match. The characteristics of this load transistor are that V Sio is
When the voltage decreases below V CC −V TH , the power supply increases. Here, V TH is the threshold voltage.

負荷トランジスタ4を流れる電流は、メモリセ
ルトランジスタ1を流れる電流と等しいため、
VSioの値は、メモリセルが“1”の状態では実線
“1”と破線との交点Aの横座標に相当する電圧
VAとなり、メモリセルが“0”の状態では実線
“0”と破線との交点Bの横座標に相当する電圧
VBとなる。従つてVSioの値はメモリセルの論理状
態によつてVAまたはVBをとる。
Since the current flowing through the load transistor 4 is equal to the current flowing through the memory cell transistor 1,
The value of V Sio is the voltage corresponding to the abscissa of the intersection A of the solid line “1” and the broken line when the memory cell is “1”.
V A , and when the memory cell is “0”, the voltage corresponds to the abscissa of the intersection B of the solid line “0” and the broken line.
It becomes V B. Therefore, the value of V Sio takes V A or V B depending on the logic state of the memory cell.

一方ダミーセルの論理状態は常に“1”である
ので、参照線R.L.の電位VRは、実線“1”と一
点鎖線との交点Cの横座標に相当する電圧VC
なる。
On the other hand, since the logic state of the dummy cell is always "1", the potential V R of the reference line RL becomes a voltage V C corresponding to the abscissa of the intersection C between the solid line "1" and the dashed-dotted line.

差動増幅回路40はVSioをVRと比較し、メモリ
セルの論理状態が“1”であるか“0”であるか
を判断し、その結果をVSputとして出力する。
The differential amplifier circuit 40 compares V Sio with VR , determines whether the logic state of the memory cell is "1" or "0", and outputs the result as V Sput .

〔背景技術の問題点〕[Problems with background technology]

以上の従来技術に係るセンス回路では、電源電
圧VCCを上げてゆくと、メモリセルが“0”の状
態でのVSioの値、即ちVBが小さくなり、VA〜VB
の振幅が小さくなる。このため動作余裕が低下
し、安定性に欠けるという欠点があつた。
In the sense circuit according to the conventional technology described above, as the power supply voltage V CC is increased, the value of V Sio when the memory cell is in the "0" state, that is, V B becomes smaller, and V A to V B
amplitude becomes smaller. This resulted in a disadvantage that the operating margin was reduced and stability was lacking.

また、更に電源電圧VCCを上げた場合、VBが参
照電圧VCより小さくなり、VBとVCとの関係が逆
転して動作不能になることがある。この例を第3
図に示す。第3図は電源電圧VCC=7Vのときのメ
モリセルトランジスタ1、負荷トランジスタ4お
よび10の特性を示すグラフで、各特性曲線およ
び各点については第2図と同様であるため、同一
符号を付し説明を省略する。電源電圧VCCを上げ
たためにVBとVCとの関係が逆転し、動作不能で
ある。
Further, if the power supply voltage V CC is further increased, V B becomes smaller than the reference voltage V C , and the relationship between V B and V C may be reversed, causing the device to become inoperable. This example is the third
As shown in the figure. FIG. 3 is a graph showing the characteristics of memory cell transistor 1 and load transistors 4 and 10 when the power supply voltage V CC =7V. Each characteristic curve and each point are the same as in FIG. 2, so the same symbols are used. The attached explanation will be omitted. Since the power supply voltage V CC has been increased, the relationship between V B and V C has been reversed, making it inoperable.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

そこで本発明は最大動作電源電圧を向上させ、
しかも電源電圧が高くなつても動作余裕を低下さ
せることのないセンス回路を提供することを目的
とする。
Therefore, the present invention improves the maximum operating power supply voltage,
Moreover, it is an object of the present invention to provide a sense circuit that does not reduce its operating margin even when the power supply voltage becomes high.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

本発明の特徴は、メモリセルと同一構成のダミ
ーセルを有するセンス回路において、 ソースが電源に、ドレインがメモリセルに、ゲ
ートが第2の負荷トランジスタのゲートに、それ
ぞれ接続された第1の負荷トランジスタと、 ソースが電源に、ドレインがダミーセルに、ゲ
ートが第1の負荷トランジスタのゲートに、それ
ぞれ接続され、かつゲートとドレインが接続され
ている第2の負荷トランジスタと、 を設け、第1の負荷トランジスタと第2の負荷ト
ランジスタとでカレントミラーを構成させるよう
にしたため、 第1の負荷トランジスタのドレインと第2の負
荷トランジスタのドレインとを入力とする差動増
幅回路に、動作余裕を十分とらせることができ、
しかも最大電源電圧を向上させるようにした点に
ある。
A feature of the present invention is that in a sense circuit having a dummy cell having the same configuration as a memory cell, a first load transistor has a source connected to a power supply, a drain connected to a memory cell, and a gate connected to a gate of a second load transistor. and a second load transistor whose source is connected to the power supply, whose drain is connected to the dummy cell, and whose gate is connected to the gate of the first load transistor, and whose gate and drain are connected, and the first load transistor is connected to the first load transistor. Since the transistor and the second load transistor constitute a current mirror, the differential amplifier circuit that receives the drain of the first load transistor and the drain of the second load transistor as inputs has sufficient operating margin. It is possible,
Moreover, the maximum power supply voltage is improved.

〔発明の実施例〕 本発明の実施例の回路図を第4図に示す。ここ
で第1図と同一要素については同一符号を付し、
説明を省略する。トランジスタ4′および10′は
pチヤンネルMOSトランジスタで、それぞれメ
モリセル20およびダミーセル30についての負
荷トランジスタである。これらの負荷トランジス
タはカレントミラーを構成するよう接続されてい
る。即ち、両トランジスタともにソースが電源に
接続され、それぞれのゲートが互いに接続され、
トランジスタ10′のゲートとドレインとが接続
されている。それぞれのドレイン出力は、差動増
幅器40に入力される。なおトランジスタ10′
の相互コンダクタンスgmはトランジスタ4′の相
互コンダクタンスより大きい。
[Embodiment of the Invention] A circuit diagram of an embodiment of the invention is shown in FIG. Here, the same elements as in Fig. 1 are given the same reference numerals.
The explanation will be omitted. Transistors 4' and 10' are p-channel MOS transistors and are load transistors for memory cell 20 and dummy cell 30, respectively. These load transistors are connected to form a current mirror. That is, the sources of both transistors are connected to the power supply, their gates are connected to each other,
The gate and drain of transistor 10' are connected. Each drain output is input to a differential amplifier 40. Note that the transistor 10'
The transconductance gm of is larger than the transconductance of transistor 4'.

次に上述の回路の動作について説明する。第5
図は電源電圧VCC=7Vのときのメモリセルトラン
ジスタ1、負荷トランジスタ4′および10′の特
性を示すグラフである。横軸はセンス線S.L.の電
位VSioまたは参照線R.L.の電位VRを示し、縦軸は
各トランジスタを流れる電流を示す。実線はメモ
リトランジスタ1の特性を示し、“1”と示され
た実線はデータが書込まれていない状態での特
性、“0”と示された実線はデータが書込まれて
いる状態での特性を表わす。一点鎖線は負荷トラ
ンジスタ10′の特性である。以上の3特性は第
3図のそれぞれ対応する特性曲線と同様の特性と
なる。第5図で破線は負荷トランジスタ4′の特
性であり、第3図に破線で示す負荷トランジスタ
4の特性とは異なつた特性となつている。これは
負荷トランジスタ4′の回路構成を負荷トランジ
スタ10′に対してカレントミラーとなるように
したため、負荷トランジスタ4の特性が2乗特性
であるのに対し、負荷トランジスタ4′の特性は
3極管領域の特性となるためである。
Next, the operation of the above circuit will be explained. Fifth
The figure is a graph showing the characteristics of memory cell transistor 1 and load transistors 4' and 10' when power supply voltage V CC =7V. The horizontal axis indicates the potential V Sio of the sense line SL or the potential VR of the reference line RL, and the vertical axis indicates the current flowing through each transistor. The solid line shows the characteristics of memory transistor 1. The solid line marked "1" shows the characteristics when no data is written, and the solid line marked "0" shows the properties when data is written. represents a characteristic. The dash-dotted line is the characteristic of the load transistor 10'. The above three characteristics are similar to the corresponding characteristic curves in FIG. 3. The broken line in FIG. 5 is the characteristic of the load transistor 4', which is different from the characteristic of the load transistor 4 shown by the broken line in FIG. This is because the circuit configuration of the load transistor 4' is made to be a current mirror with respect to the load transistor 10', so the characteristic of the load transistor 4 is a square characteristic, whereas the characteristic of the load transistor 4' is a triode. This is because it becomes a characteristic of the area.

第5図に示されるように、VSioの値は、メモリ
セルが“1”の状態では実線“1”と破線との交
点Aの横座標値に相当する電圧VAとなり、メモ
リセルが“0”の状態では実線“0”と破線との
交点Bの横座標に相当する電圧VBとなる。従つ
てVSioの値はメモリセルの論理状態によつてVA
たはVBとなる。
As shown in FIG. 5, when the memory cell is "1", the value of V Sio is a voltage V A corresponding to the abscissa value of the intersection point A between the solid line "1" and the broken line, and the memory cell is "1" . In the state of "0", the voltage V B corresponds to the abscissa of the intersection B of the solid line "0" and the broken line. Therefore, the value of V Sio becomes V A or V B depending on the logic state of the memory cell.

一方ダミーセルの論理状態は常に“1”である
ので、残照線R.L.の電圧VRは、実線“1”と一
点鎖線との交点Cの横座標に相当する電圧VC
なる。第5図に示すように本実施例によれば電源
電圧VCC=7Vの場合であつてもVA〜VBの振幅が
十分確保でき、VA<VC<VBであるため動作可能
である。
On the other hand, since the logic state of the dummy cell is always "1", the voltage V R of the afterglow line RL becomes a voltage V C corresponding to the abscissa of the intersection C of the solid line "1" and the dashed-dotted line. As shown in FIG. 5, according to this embodiment, even when the power supply voltage V CC =7V, a sufficient amplitude of V A to V B can be ensured, and operation is possible because V A < V C < V B. It is.

なお負荷トランジスタ4′および10′の相互コ
ンダクタンスgmが互いに等しい場合は、第5図
の点Aと点Cが重なつてしまい動作不能となるの
で、負荷トランジスタ10′の相互コンダクタン
スgmは、負荷トランジスタ4′の相互コンダクタ
ンスより大きくする必要がある。
Note that if the mutual conductances gm of load transistors 4' and 10' are equal to each other, points A and C in FIG. 5 overlap and the operation becomes impossible. 4' transconductance.

第3図に示す従来技術に係る回路の動作では、
両負荷トランジスタ4および10の特性がともに
2乗特性をもつていたために、電源電圧を高くと
ると動作余裕が低下し、ついには動作不能の状態
となる。しかし第5図に示す本発明に係る回路の
動作では、参照電圧VRは2乗特性をもつ負荷ト
ランジスタ10′の特性で定まるが、VSioは3極
管領域の特性をもつ負荷トランジスタ4′の特性
で定まるため、動作余裕が向上し、高い電源電圧
でも動作可能となる。なお、本実施例で負荷トラ
ンジスタ4′および10′にはPチヤンネルのもの
を用いたが、電源の極性を変える等の変更を行な
えばnチヤンネルのものを用いることもできる。
In the operation of the circuit according to the prior art shown in FIG.
Since the characteristics of both load transistors 4 and 10 are square-law characteristics, when the power supply voltage is set high, the operating margin decreases, and eventually the transistor becomes inoperable. However, in the operation of the circuit according to the present invention shown in FIG. 5, the reference voltage V R is determined by the characteristics of the load transistor 10' which has square-law characteristics, but V Sio is determined by the characteristics of the load transistor 4' which has characteristics in the triode region. Since it is determined by the characteristics of Although P-channel transistors are used as the load transistors 4' and 10' in this embodiment, N-channel transistors can also be used by changing the polarity of the power supply.

次に従来技術に係る回路に対して、本発明に係
る回路の動作余裕が向上する原理について定性的
に説明する。従来技術に係る負荷トランジスタ4
を流れる電流をIとすれば、Iは式(1)で表わされ
る。
Next, the principle by which the operating margin of the circuit according to the present invention is improved compared to the circuit according to the prior art will be qualitatively explained. Load transistor 4 according to conventional technology
If the current flowing through is I, I is expressed by equation (1).

I=β(VCC−VTH−VDS2 ……(1) ここでVCCは電源電圧、VTHはしきい値電圧、
VDSは負荷トランジスタ4のドレイン−ソース間
電圧、βは定数である。式(1)は第3図の破線に示
す特性の方程式に相当する。従つてVB−VAの値
はこの特性曲線の微係数(第3図の直線PP′の傾
き)にほぼ比例する。そこで式(1)をVDSで偏微分
すると式(2)が得られる。
I=β(V CC −V TH −V DS ) 2 …(1) Here, V CC is the power supply voltage, V TH is the threshold voltage,
V DS is the drain-source voltage of the load transistor 4, and β is a constant. Equation (1) corresponds to the characteristic equation shown by the broken line in FIG. Therefore, the value of V B -V A is approximately proportional to the differential coefficient of this characteristic curve (the slope of straight line PP' in FIG. 3). Therefore, by partially differentiating equation (1) with respect to V DS , equation (2) is obtained.

∂I/∂VDS=−2β(VCC−VDS−VTH) ……(2) 一方本発明に係る負荷トランジスタ4′を流れ
る電流をI′とすれば、負荷トランジスタ4′は3
極管領域で動作しているため、I′は式(3)で表わさ
れる。
∂I/∂V DS = −2β(V CC −V DS −V TH ) ...(2) On the other hand, if the current flowing through the load transistor 4' according to the present invention is I', then the load transistor 4' is 3
Since the operation is in the polar tube region, I' is expressed by equation (3).

I′=β{2(VGS−VTH)VDS−VDS 2} ……(3) ここでVTHはしきい値電圧、VGS,VDSはそれぞ
れ負荷トランジスタ4′のゲート−ソース間電圧、
ドレイン−ソース間電圧である。これをVDSで偏
微分すると式(4)が得られる。
I′=β{2(V GS −V TH )V DS −V DS 2 } …(3) Here, V TH is the threshold voltage, and V GS and V DS are the gate-source of the load transistor 4′, respectively. voltage between
It is the drain-source voltage. Equation (4) is obtained by partially differentiating this with respect to V DS .

∂I′/∂VDS =β{2(VGS−VTH)−2VDS} ……(4) トランジスタ4′のゲートはドレインに接続さ
れているため、トランジスタ4′についてVGS
VDSとなる。よつて式(4)は式(5)のようになる。
∂I′/∂V DS = β{2(V GS −V TH )−2V DS } ...(4) Since the gate of transistor 4' is connected to the drain, V GS =
It becomes V DS . Therefore, equation (4) becomes equation (5).

∂I′/∂VDS=−2βVTH ……(5) 式(2)で表わされる∂I/∂VDSおよび式(5)で表わ
される∂I′/∂VDSは、前述のようにそれぞれ従来
技術および本発明に係るセンス回路のVB−VA
値に比例した量、即ち、直線PP′およびQQ′の傾
きである。これらの大小関係を調べるために式(5)
から式(2)を減じると、 ∂I′/∂VDS−∂I/∂VDS =2β{(VCC−2VTH)−VDS} ……(6) ここでVCC−2VTH>VDSとすれば、式(6)右辺は
常に正、即ち∂I′/∂VDS>∂I/∂VDSとなる。実際
には各トランジスタはVCC−2VTH>VDSなる領域
で動作している。従つて直線PP′の傾きより直線
QQ′の傾きの方が常に緩やかになり、本発明に係
るセンス回路のVB−VAの値は、従来技術に係る
センス回路に比べて大きくなる。
∂I′/∂V DS = −2βV TH ...(5) ∂I/∂V DS expressed by equation (2) and ∂I′/∂V DS expressed by equation (5) are These are quantities proportional to the value of V B −V A of the sense circuits according to the prior art and the present invention, ie, the slopes of the straight lines PP' and QQ'. To examine these magnitude relationships, use equation (5)
Subtracting equation (2) from ∂I′/∂V DS −∂I/∂V DS =2β{(V CC −2V TH )−V DS } ...(6) Here, V CC −2V TH > If V DS , the right side of equation (6) is always positive, that is, ∂I′/∂V DS > ∂I/∂V DS . In reality, each transistor operates in a region where V CC -2V TH > V DS . Therefore, from the slope of the straight line PP′, the straight line
The slope of QQ' is always gentler, and the value of V B −V A of the sense circuit according to the present invention is larger than that of the sense circuit according to the prior art.

〔発明の効果〕 以上のとおり本発明によれば、センス回路にお
いて、負荷トランジスタの一方を3極管領域で動
作させるようにしたため、最大動作電源電圧を向
上させることができるとともに動作余裕も向上さ
せることができる。
[Effects of the Invention] As described above, according to the present invention, in the sense circuit, one of the load transistors is operated in the triode region, so that the maximum operating power supply voltage can be improved and the operating margin can also be improved. be able to.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は従来技術に係るセンス回路の回路図、
第2図は第1図に示す回路において電源電圧が
5Vのときの各トランジスタの特性を示すグラフ、
第3図は第1図に示す回路において電源電圧が
7Vのときの各トランジスタの特性を示すグラフ、
第4図は本発明に係るセンス回路の実施例の回路
図、第5図は第4図に示す回路において電源電圧
が7Vのときの各トランジスタの特性を示すグラ
フ。 1……メモリセルトランジスタ、2,3……ト
ランスフアトランジスタ、4,4′……負荷トラ
ンジスタ、5,6,7,8,9……差動増幅回路
用トランジスタ、10,10′……負荷トランジ
スタ、11,12……トランスフアトランジス
タ、13……ダミートランジスタ、20……メモ
リセル、30……ダミーセル、40……差動増幅
回路。
FIG. 1 is a circuit diagram of a sense circuit according to the prior art.
Figure 2 shows the power supply voltage in the circuit shown in Figure 1.
A graph showing the characteristics of each transistor at 5V,
Figure 3 shows the power supply voltage in the circuit shown in Figure 1.
A graph showing the characteristics of each transistor at 7V,
FIG. 4 is a circuit diagram of an embodiment of the sense circuit according to the present invention, and FIG. 5 is a graph showing the characteristics of each transistor in the circuit shown in FIG. 4 when the power supply voltage is 7V. 1... Memory cell transistor, 2, 3... Transfer transistor, 4, 4'... Load transistor, 5, 6, 7, 8, 9... Differential amplifier circuit transistor, 10, 10'... Load Transistor, 11, 12...transfer transistor, 13...dummy transistor, 20...memory cell, 30...dummy cell, 40...differential amplifier circuit.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 メモリセルの論理状態を検出する半導体メモ
リ用センス回路であつて、 前記メモリセルを構成するメモリセルトランジ
スタと同一特性のトランジスタをダミートランジ
スタとして有するダミーセルと、 ソースが、電源に、ドレインが前記メモリセル
に、ゲートが第2の負荷トランジスタのゲート
に、それぞれ接続された第1の負荷トランジスタ
と、 ソースが電源に、ドレインが前記ダミーセル
に、ゲートが前記第1の負荷トランジスタのゲー
トに、それぞれ接続され、かつゲートとドレイン
が接続されている第2の負荷トランジスタと、 前記第1の負荷トランジスタのドレインと、前
記第2の負荷トランジスタのドレインと、を入力
とする差動増幅回路と、 をそなえてなることを特徴とする半導体メモリ用
センス回路。
[Scope of Claims] 1. A sense circuit for a semiconductor memory that detects a logic state of a memory cell, comprising: a dummy cell having a dummy transistor having the same characteristics as a memory cell transistor constituting the memory cell; a first load transistor having a drain connected to the memory cell, a gate connected to the gate of the second load transistor; a source connected to the power supply, a drain connected to the dummy cell, and a gate connected to the first load transistor; a second load transistor whose gate and drain are connected to each other, and whose inputs are the drain of the first load transistor and the drain of the second load transistor. A sense circuit for semiconductor memory characterized by comprising an amplifier circuit and the following.
JP59000576A 1984-01-06 1984-01-06 Sensor circuit for semiconductor memory Granted JPS60145593A (en)

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