JPH0461643A - Production of optical master disk - Google Patents

Production of optical master disk

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JPH0461643A
JPH0461643A JP17061590A JP17061590A JPH0461643A JP H0461643 A JPH0461643 A JP H0461643A JP 17061590 A JP17061590 A JP 17061590A JP 17061590 A JP17061590 A JP 17061590A JP H0461643 A JPH0461643 A JP H0461643A
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JP
Japan
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grooves
substrate
disk
transferred
master
Prior art date
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Pending
Application number
JP17061590A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Riichi Kozono
利一 小園
Mitsuo Fujiwara
藤原 三男
Hiroyuki Ogawa
裕之 小川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To obtain less defect errors, higher quality and lower cost by using the optical master disk which is formed by transferring the grooves on a substrate to a metallic material layer and forming ruggedness on the transferred grooves as a stamper for molding optical disks. CONSTITUTION:The V grooves of high accuracy are formed on the surface of the disk substrate 1 and the metallic material layer 8 is formed on the disk substrate 1 subjected to the V grooving; thereafter, this layer is peeled from the substrate 1, by which the V grooves of the substrate 1 are transferred to the metallic material layer 8. A positive type resist 3 is then applied on the surface of the metallic material 8 transferred with the V grooves. The positive type resist 3 on the slopes of the V grooves is partly exposed to provide exposed pats 4 corresponding to recording signals. The ruggedness is formed after the exposed parts 4 are removed. The positive type resist 3 remaining on the surface of the disk substrate 1 is thereafter removed to obtain the master disk. This master disk is used as the stamper for molding the disks. The less defect errors, the higher quality and the lower cost are obtd. in this way.

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は コンパクトディス久 ビデオディスク等の光
ディスク原盤の製造方法に関すム従来の技術 近鍛 光ディスクは 大容量の記録媒体としてコンパク
トディス久 ビデオディスク等として市販されており、
ディスク原盤の製造方法については精密工学会誌(光デ
ィスクの材料と製作技術=54/12/7〜10/19
88)などに述べられていも ま?=  V字状の溝(
以下、■溝という)の斜面に凹凸を形成して記録密度を
向上させる高密度記録方式(特開昭57−105828
号公報参照)や、エラーレートを低くするためのディス
ク原盤の製造方法が提案されている(特開昭61−23
6049号公報参照)。
[Detailed Description of the Invention] Industrial Field of Application The present invention relates to a method of manufacturing a master disc of an optical disc such as a compact disc or a video disc. It is commercially available,
For information on the manufacturing method of disc masters, please refer to the Journal of the Japan Society for Precision Engineering (Materials and manufacturing technology of optical discs = 54/12/7 - 10/19
Even if it is stated in 88) etc. = V-shaped groove (
A high-density recording method (Japanese Patent Laid-Open No. 105828/1983) that improves recording density by forming unevenness on the slope of the groove (hereinafter referred to as ``groove'').
(see Japanese Patent Laid-Open No. 61-23), and a manufacturing method for disc masters to lower the error rate has been proposed.
(See Publication No. 6049).

以下、従来のディスク原盤の製造方法の一例について第
3図および第4図を参照しながら説明すも 第3図(a
)〜(e)において、1はディスク基板 2は刃物 3
はポジ型レジスト、 4はポジ型レジスト3の露光部で
あム 第3図(a)に示すように電解銅メツキ法により
形成した銅板であるディスク基板1の表面を刃物2で加
工し ディスク基板1の表面に同図(b)に示すように
■溝を形成LV溝を形成したディスク基板1の表面に同
図(C)に示すようにポジ型レジスト3を塗布り、V溝
斜面上のポジ型レジスト3の一部を記録すべき信号に対
応した光ビームの照射により露光し ポジ型レジスト3
の露光部4を溶液により除去した抵 不活性ガスによる
イオンミリング法により露光部4を除去して露出したV
溝斜面をエツチングして同図(d)に示すように凹凸す
なわち信号ビットを形成すも その後酸素等を用いたア
ッシングによって、あるいは溶液を用いてディスク基板
lの表面に残留したポジ型レジスト3を除去し 同図(
e)に示すようなディスク原盤を得も このよにして得
られた光ディスク原盤から電解ニッケルメッキ法により
スタンバを製作しそのスタンパの表面の形状を用いてア
クリルやポリカーボネート等の樹脂円盤(以下、ディス
クという)に転写するインジェクション成形工法や紫外
線硬化樹脂工法により光ディスクが製造されていも また エラーレートを低くするためのディスク原盤の従
来の製造方法の一例について説明すると、その製造工程
を示した第4図(a)〜(e)において、 5はガラス
基板、 6はネガ型レジスト、 7はネガ型レジスト6
の露光部であム 第4図(a)に示すようにガラス基板5の表面にネガ型
レジスト6を塗布し ネガ型レジスト6の一部を同図(
b)に示すように記憶すべき信号に対応した光ビームの
照射により露光し 同図(c)に示すようにネガ型レジ
スト6の露光部7以外のネガ型レジスト6を溶液により
除去して記録信号に対応するレジスト層の凹凸を形成し
 アルゴン等の不活性ガスまたはCHF5、CFJ、C
Cl4等の反応性ガスを用いたスパッタエツチング法に
より、ガラス基板5上にネガ型レジスト6と同一パター
ンの凹凸を同図(d)のように形成する。その後酸素等
を用いたアッシング、または溶液を用いてガラス基板5
の表面に残留したネガ型レジスト6の露光部7を除去し
 同図(e)に示すようにガラス基板5の表面に直接記
録信号に対応した凹凸を形成したディスク原盤をディス
ク成形用スタンパ(以下、スタンバという)として用い
も発明が解決しようとする課題 しかしなか仮 従来技術の問題点としてifにζよ 凹
凸をディスク原盤からスタンベ さらにそのスタンパか
らディスクに転写するた数 凹凸の欠落 形状変形等に
よりディフェクトエラーが増加し ディスクの信号品質
を低下させる原因となってい九 すなわち転写回数の増
加に伴いディフェクトエラーも増加よ 特に高品位テレ
ビジョン信号を再生する光ディスクで慰 信号品質の低
下は大きな問題となる。
Hereinafter, an example of a conventional disk master manufacturing method will be explained with reference to FIGS. 3 and 4.
) to (e), 1 is a disk substrate 2 is a cutter 3
4 is a positive resist, and 4 is an exposed part of a positive resist 3.As shown in FIG. 3(a), the surface of a disk substrate 1, which is a copper plate formed by electrolytic copper plating, is processed with a knife 2. A positive resist 3 is applied to the surface of the disk substrate 1 on which the LV grooves have been formed, as shown in FIG. 1(C). A part of the positive resist 3 is exposed by irradiation with a light beam corresponding to the signal to be recorded.Positive resist 3
The exposed portion 4 of the resistor was removed using a solution.
The slopes of the grooves are etched to form unevenness, that is, signal bits, as shown in FIG. Remove the same figure (
To obtain a disc master as shown in e), a stamper is manufactured from the optical disc master obtained in this way by electrolytic nickel plating, and the surface shape of the stamper is used to make a resin disc (hereinafter referred to as a disc) of acrylic or polycarbonate. Even if optical discs are manufactured using injection molding method or ultraviolet curable resin method, which transfers the image onto a disk (called ``transfer''), an example of a conventional method for manufacturing a disk master to reduce the error rate is shown in Figure 4, which shows the manufacturing process. In (a) to (e), 5 is a glass substrate, 6 is a negative resist, 7 is a negative resist 6
As shown in FIG. 4(a), a negative resist 6 is applied to the surface of the glass substrate 5 in the exposure area of FIG.
As shown in b), the signal is exposed by irradiation with a light beam corresponding to the signal to be stored, and as shown in the same figure (c), the negative resist 6 other than the exposed area 7 is removed with a solution and recorded Form unevenness on the resist layer corresponding to the signal and use an inert gas such as argon or CHF5, CFJ, C
By a sputter etching method using a reactive gas such as Cl4, an uneven pattern having the same pattern as that of the negative resist 6 is formed on the glass substrate 5 as shown in FIG. 4(d). After that, the glass substrate 5 is ashed using oxygen or the like or a solution is used.
The exposed portion 7 of the negative resist 6 remaining on the surface of the glass substrate 5 is removed, and as shown in FIG. However, problems with the prior art include the number of irregularities transferred from the disc master to the stamper, and the number of times the irregularities are transferred from the stamper to the disc. The number of defect errors increases, causing a decline in the signal quality of the disc.In other words, as the number of transfers increases, the number of defect errors also increases.Deterioration in signal quality is a major problem, especially for optical discs that reproduce high-definition television signals. .

第2にζヨ臥  アルミニウベ ニッケル等の反射率の
高い基板の表面に塗布したレジストを、光ビームの照射
により露光する時、基板表面からの戻り光との工法によ
り部分的な露光不足を生ずるという問題があり、戻り光
の影響を極力少なくするためGQ  レジストの膜厚精
度を0.01μm程度に制御することが必要である力(
ディスク基板全体にわたりこの精度を満足させることは
困難であっ九 第3にζ友 ガラス基板の表面に直接記録信号に対応し
た凹凸を形成するた敦 ガラス基板の再使用においては
基板表面の研磨が必要であり、またV溝を用いたディス
ク基板において番よ その都度精密なV溝加工が必要と
な4 このことは少l多品種のディスク製造において、
ディスク原盤の製造コスト増大の要因となっていた 本発明は上記課題を解決するもので、ディフェクトエラ
ーの少ない高品質の光ディスク原盤を低コストで製造す
る方法を提供することを目的としている 課題を解決するための手段 本発明は上記目的を達成するためへ 溝を加工したディ
スク基板の表面に金属材層を形成させた後分離すること
によりディスク基板の溝を金属材層側に転写し この金
属材層に転写した溝に凹凸を形成してディスク原盤とす
るものであり、さらに転写性を向上させるたム ディス
ク基板の表面に剥離材を形成し その剥離材の表面に金
属材層を形成させるようにしたものであり、また剥離材
の表面に高粘度で低融点のガラス材を置き、そのガラス
材を剥離材に一定の力で押し当てガラス材に転写したデ
ィスク基板の溝に凹凸を形成してディスク原盤を製造す
るようにしたものである。
Second, when a resist coated on the surface of a highly reflective substrate such as aluminum or nickel is exposed by light beam irradiation, partial underexposure may occur due to the return light from the substrate surface. However, in order to minimize the influence of returned light, it is necessary to control the thickness accuracy of the GQ resist to about 0.01 μm.
It is difficult to satisfy this accuracy over the entire disk substrate.Thirdly, it is necessary to form unevenness directly on the surface of the glass substrate that corresponds to the recorded signal.When reusing the glass substrate, polishing of the substrate surface is necessary. This is especially true for disk substrates using V-grooves, which requires precise V-groove machining each time.
The present invention solves the above-mentioned problem, which has been a factor in the increase in the manufacturing cost of disc masters.It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing high-quality optical disc masters with few defect errors at a low cost. Means for achieving the above object The present invention forms a metal layer on the surface of a grooved disk substrate and then separates the disk substrate to transfer the grooves of the disk substrate to the metal layer side. The grooves transferred to the layer are used as a disc master by forming irregularities on the grooves, and in order to further improve the transferability, a release material is formed on the surface of the disc substrate, and a metal layer is formed on the surface of the release material. In addition, a glass material with high viscosity and a low melting point is placed on the surface of the release material, and the glass material is pressed against the release material with a constant force to form irregularities in the grooves of the disk substrate transferred to the glass material. The disc master is manufactured using the same method.

作用 本発明によれは 溝加工を施したディスク基板から金属
材層またはガラス材に溝を転写し ディスク基板から転
写した金属材層の溝に記録信号に対応する凹凸を形成し
 これを直ちに転写して光ディスクとしており、基板の
溝に形成した凹凸を−Hニッケル層などに転写してから
さらにディスクに転写するのではなく直接転写している
た数凹凸の転写が1回で済みディフェクトエラーの少な
い高品質のディスクを提供できも また透過率の極めて
高いガラス材を用いることにより、光ビームの照射によ
るレジスト露光時の基板表面からの戻り光を少なくでき
、干渉による露光不足を改善できるものであム さらに
本発明によれば 精密な溝加工を施したディスク基板を
マスターとして多数回転写可能なので、製造コストの安
いディスク原盤を提供することができも 実施例 以下、本発明の実施例について第1図および第2図を参
照しながら説明すも (実施例1) 第1図において、 1はディスク基板、 2は刃惧3は
ポジ型レジスト、 4はポジ型レジスト3の露光へ 8
は金属材層を示す。電解銅メツキ法により形成されたデ
ィスク基板1を一定の回転数で回転させ、第1図(a)
に示すようにディスク基板1の表面に尖端角度が165
°程度の刃物2を一定の切込み量で切り込んだ状態で、
ディスク基板1の半径方向に一定の速度で移動して、同
図(b)に示すようにディスク基板1の表面に溝ピッチ
2μm程度の高精度なV溝を形成すム V溝加工が施さ
れたディスク基板1を電極とし 電解溶液中でニッケノ
k クロA!  銀等の材料よりなる金属材層8を同図
(c)に示すようにディスク基板1の表面に形成した後
 基板1より剥離することによって金属材層8に基板1
のV溝を転写すもついでV溝を転写した金属材8の表面
にポジ型レジスト3を塗布LV溝斜面のポジ型レジスト
3の一部を光ビームの照射により露光し 同図(d)に
示すように記録信号に対応する露光部4を設けも 溶液
により露光部4を除去した後、アルゴン等の不活性ガス
によるイオンミリング法によりV溝斜面の一部をエツチ
ングし 同図(e)に示すように凹凸を形成すも その
抵 ディスク基板1の表面に残留したポジ型レジスト3
を酸素によるアッシング法で除去して同図(f)に示す
ようなディスク原盤を得も このディスク原盤をディス
ク成形用スタンバとして使用する。
According to the present invention, grooves are transferred from a grooved disk substrate to a metal material layer or a glass material, and unevenness corresponding to a recording signal is formed in the grooves of the metal material layer transferred from the disk substrate, and this is immediately transferred. The unevenness formed in the grooves of the substrate is transferred directly to the -H nickel layer, etc., and then transferred to the disk.The unevenness is transferred only once, reducing defect errors. In addition, by using a glass material with extremely high transmittance, it is possible to reduce the amount of light returned from the substrate surface during resist exposure by irradiating a light beam, and it is possible to improve the problem of underexposure due to interference. Further, according to the present invention, since it is possible to transfer a disk substrate with precise grooves many times as a master, it is possible to provide a disk master disk with low manufacturing cost. This will be explained with reference to the drawings and FIG. 2 (Example 1) In FIG. 1, 1 is a disk substrate, 2 is a blade end 3 is a positive resist, and 4 is for exposure of the positive resist 3. 8
indicates a metal material layer. The disk substrate 1 formed by the electrolytic copper plating method is rotated at a constant rotation speed, and as shown in FIG. 1(a).
As shown in the figure, the surface of the disk substrate 1 has a tip angle of 165
With the blade 2 of about
V-groove processing is performed by moving at a constant speed in the radial direction of the disk substrate 1 to form highly accurate V-grooves with a groove pitch of about 2 μm on the surface of the disk substrate 1, as shown in FIG. Using the disc substrate 1 as an electrode, place it in an electrolytic solution. After forming a metal layer 8 made of a material such as silver on the surface of the disk substrate 1 as shown in FIG.
After transferring the V-groove, a positive-type resist 3 is applied to the surface of the metal material 8 onto which the V-groove has been transferred, and a part of the positive-type resist 3 on the slope of the LV groove is exposed by irradiation with a light beam, as shown in FIG. As shown in the figure, an exposed area 4 corresponding to the recording signal is provided. After removing the exposed area 4 with a solution, a part of the V-groove slope is etched by an ion milling method using an inert gas such as argon, as shown in FIG. As shown in the figure, although unevenness is formed, the positive resist 3 remaining on the surface of the disk substrate 1
This disk master is removed by an ashing method using oxygen to obtain a disk master as shown in FIG.

な抵 上記においては金属材層8の形成を電解メツキ法
としたバ スパッタリング法 イオンビーム法で形成す
ることもできも (実施例2) 極めて溝ピッチが狭くなった場合 実施例1の第1図(
b)に示すような溝加工を施したディスク基板10表面
に剥離材を形成する。これによって、さらに溝の転写性
が向上し 加工時のディフェクトエラーの発生を抑制す
る効果のあることを確認し九 (実施例3) 第2図は本発明の他の実施例における光ディスク原盤の
製造工程を示すものであって、基本的には第1図に示し
た光ディスク原盤の製造工程と同じであるので、同一構
成部分には同一番号を付して詳細な説明を省略すも 第2図において、 1はディスク基板、 2は刃懺3は
ポジ型レジスト、 4はポジ型レジストの露光部 9は
剥離材、 10は高粘度で低融点のガラス材、 11は
ガラス基板であa ■溝を形成したディスク基板1の表面にスパッタリング
法やイオンビーム法でニッケノ)、りo、(タングステ
ン等の剥離材9を第2図(b)に示すように形成し 剥
離材9の表面に高粘度で低融点のガラス材10を置き、
同図(c)に示すようにガラス基板11でもって一定の
力でガラス材10を剥離材9に押し当てることによって
ガラス材10にV溝を転写すム その後V溝を転写した
ガラス材10の表面にポジ型レジスト3を塗布LV溝斜
面のポジ型レジスト3の一部を光ビームの照射により露
光し 記録信号に対応する露光部4を同図(d)に示す
ように設けも 溶液により露光部4を除去した檄 アル
ゴン等の不活性ガスまたはCHF3、CFa、CC1a
等の反応性ガスを用いたスパッタエツチング法により、
■溝斜面に同図(e)に示すように凹凸を形成すも そ
の後酸素等を用いたアッシング、あるいは溶液によりガ
ラス材10の表面に残留したポジ型レジスト3を除去し
て同図(f)のような光ディスク原盤を得る。
In the above case, the metal material layer 8 can be formed by electrolytic plating, bus sputtering, or ion beam method (Example 2) In the case where the groove pitch is extremely narrow, FIG. 1 of Example 1 (
A release material is formed on the surface of the disk substrate 10 which has been grooved as shown in b). It was confirmed that this further improved the transferability of the grooves and was effective in suppressing the occurrence of defect errors during processing. The process shown in FIG. 2 is basically the same as the manufacturing process of the optical disk master shown in FIG. 1, so the same components are given the same numbers and detailed explanations are omitted. 1 is a disk substrate, 2 is a blade 3 is a positive resist, 4 is an exposed part of the positive resist, 9 is a release material, 10 is a glass material with high viscosity and a low melting point, 11 is a glass substrate with a ■groove A release material 9 made of nickel, oxide, tungsten, etc. is formed on the surface of the disk substrate 1 on which a high viscosity is formed, as shown in FIG. 2(b), by sputtering or ion beam method. Place the glass material 10 with a low melting point at
As shown in FIG. 6(c), the V-groove is transferred to the glass material 10 by pressing the glass material 10 against the release material 9 with a constant force using the glass substrate 11. Thereafter, the V-groove is transferred to the glass material 10. A positive resist 3 is applied to the surface. A part of the positive resist 3 on the slope of the LV groove is exposed by irradiation with a light beam.An exposure section 4 corresponding to the recording signal is provided as shown in FIG. Inert gas such as argon or CHF3, CFa, CC1a
By sputter etching method using reactive gas such as
■After forming unevenness on the slope of the groove as shown in Figure (e), the positive resist 3 remaining on the surface of the glass material 10 is removed by ashing using oxygen or a solution as shown in Figure (f). Obtain an optical disc master such as .

この光ディスク原盤をディスク成形用スタンバとして使
用すム 発明の効果 以上の実施例から明らかなように本発明によれ(瓜 溝
を金属材またはガラス材に転写し 転写した溝に凹凸を
形成した光ディスク原盤を光ディスク成形用スタンバと
して使用するたム 転写時の凹凸の欠落によるディフェ
クトエラーを少なくし高品質の光ディスクを得ることが
できる。また精密溝加工を施した1枚のディスク基板か
ら複数回転写可能であることか収 光ディスク原盤の製
造コストを大きく低減することができも
Effects of the Invention Using this Optical Disc Master as a Standby for Disk Molding As is clear from the above-described embodiments, the present invention provides an optical disc master in which the grooves are transferred to a metal or glass material and unevenness is formed in the transferred grooves. It is possible to obtain high-quality optical discs by reducing defect errors caused by missing unevenness during transfer.Also, it is possible to transfer multiple times from a single disc substrate with precision groove processing. In fact, it may be possible to significantly reduce the manufacturing cost of optical disc masters.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図(a)〜(f)は本発明の一実施例における光デ
ィスク原盤の製造工程@ 第2図(a)〜(f)は本発
明の他の実施例における光ディスク原盤の製造工程図 
第3図(a)〜(e)は従来の光ディスク原盤の一製造
工程医 第4図(a)〜(e)は従来のディスク原盤の
他の製造工程図であム ト・・ディスク基板、 2・・・刃物 3・・・ポジ型
レジスト、 4・・・ポジ型レジストの露光部 8・・
・金属材凰 代理人の氏名 弁理士 粟野重孝 はか1基箱2図 ! テ゛lスク羞」友 第 図 第 図
Figures 1 (a) to (f) are manufacturing process diagrams of an optical disc master according to one embodiment of the present invention @ Figures 2 (a) to (f) are manufacturing process diagrams of an optical disc master according to another embodiment of the present invention
3(a) to 3(e) are diagrams showing one manufacturing process of a conventional optical disk master. FIGS. 4(a) to (e) are diagrams of another manufacturing process of a conventional optical disc master. ...Knife 3...Positive resist, 4...Exposed part of positive resist 8...
・Name of Metal Materials Agent: Patent Attorney Shigetaka Awano 1 box 2 drawings! Friends of the School

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)ディスク基板の表面に形成された溝に金属材層を
形成し、その金属材層のディスク基板から転写した溝に
凹凸を形成してディスク原盤とする光ディスク原盤の製
造方法。
(1) A method for producing an optical disk master by forming a metal layer in a groove formed on the surface of a disk substrate, forming irregularities in the groove transferred from the disk substrate in the metal layer, and using the metal layer as a disk master.
(2)ディスク基板の表面に形成された溝に剥離材の表
面層を形成し、その剥離材の表面層上に金属材層を形成
し、その金属材層のディスク基板から転写した溝に凹凸
を形成してディスク原盤とする光ディスク原盤の製造方
法。
(2) Form a surface layer of release material in the grooves formed on the surface of the disk substrate, form a metal layer on the surface layer of the release material, and form irregularities in the grooves transferred from the disk substrate of the metal layer. A method of manufacturing an optical disc master by forming a disc master.
(3)ディスク基板の表面に形成された溝に剥離材の表
面層を形成し、その剥離材の表面層上に高粘度で低融点
のガラス材を置き、そのガラス材を前記剥離材の表面層
に一定の力で押し当て、前記ガラス材のディスク基板か
ら転写した溝に凹凸を形成してディスク原盤とする光デ
ィスク原盤の製造方法。
(3) Form a surface layer of release material in the grooves formed on the surface of the disk substrate, place a high viscosity, low melting point glass material on the surface layer of the release material, and place the glass material on the surface of the release material. A method for producing an optical disc master by pressing the layer with a constant force to form irregularities in the grooves transferred from the glass disc substrate to obtain a disc master.
JP17061590A 1990-06-28 1990-06-28 Production of optical master disk Pending JPH0461643A (en)

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