JPH0451849Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0451849Y2 JPH0451849Y2 JP1987123512U JP12351287U JPH0451849Y2 JP H0451849 Y2 JPH0451849 Y2 JP H0451849Y2 JP 1987123512 U JP1987123512 U JP 1987123512U JP 12351287 U JP12351287 U JP 12351287U JP H0451849 Y2 JPH0451849 Y2 JP H0451849Y2
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- JP
- Japan
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- reactor
- catalyst layer
- flow
- gas
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 20
- 239000000428 dust Substances 0.000 claims description 18
- 239000000567 combustion gas Substances 0.000 claims description 10
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 26
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N nitrogen oxide Inorganic materials O=[N] MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本考案は燃焼ガスの脱硝に係り、特に多量のダ
ストを含有する燃焼ガスを処理するに好適な脱硝
反応器に関する。
ストを含有する燃焼ガスを処理するに好適な脱硝
反応器に関する。
燃焼ガスの脱硝処理を行なう脱硝装置において
は、一般に反応器内におけるガス流が垂直に下方
向に向つていないと、触媒層上面で流速が極端に
遅い部分が発生したり、渦が発生したりすること
がある。特に多量のダストを含有するガスを処理
する場合、前記触媒層にダストが堆積してデツド
スペースが生じるため、性能が低下したり圧力損
失が増加するという問題があつた。
は、一般に反応器内におけるガス流が垂直に下方
向に向つていないと、触媒層上面で流速が極端に
遅い部分が発生したり、渦が発生したりすること
がある。特に多量のダストを含有するガスを処理
する場合、前記触媒層にダストが堆積してデツド
スペースが生じるため、性能が低下したり圧力損
失が増加するという問題があつた。
第5図及び第6図に脱硝装置などに用いられる
従来の反応器の概略構造を示す。図において、反
応器1の上部には複数枚の長方形の薄板よりなる
スクリーンプレート2がほぼ水平に設けられてお
り、このスクリーンプレート2の下部には触媒層
3がほぼ水平に設けられている。そして前記薄板
は等間隔に互いに平行にほぼ垂直方向に配設され
ている。前記反応器1の上部には縮径された入口
ダクト4が取付けられており、この入口ダクト4
は反応器1の軸方向に対しほぼ直角方向に延設さ
れている。また反応器1の下部には出口ダクト5
が取付けられている。
従来の反応器の概略構造を示す。図において、反
応器1の上部には複数枚の長方形の薄板よりなる
スクリーンプレート2がほぼ水平に設けられてお
り、このスクリーンプレート2の下部には触媒層
3がほぼ水平に設けられている。そして前記薄板
は等間隔に互いに平行にほぼ垂直方向に配設され
ている。前記反応器1の上部には縮径された入口
ダクト4が取付けられており、この入口ダクト4
は反応器1の軸方向に対しほぼ直角方向に延設さ
れている。また反応器1の下部には出口ダクト5
が取付けられている。
上記のように構成された従来の反応器1による
と、反応器1の上部で流入ガスは90°方向が変わ
るため、第7図に示されるように入口ダクト4か
ら流入したガスは、反応器1の外側に偏流し、内
側には渦が発生する。このため従来の反応器では
第8図に示されるように、反応器1の天井部に案
内板6を設置してガスを内側にも分配し、かつガ
スの流れを垂直方向に下向きに矯正していた。さ
らに前記案内板6などに堆積付着した前記ガス中
のにダストが成長し、下側の触媒層3に落下する
ことや、前記案内板6により流れが妨げられた部
分に渦が発生することを防止するために、案内板
6と触媒層3との間に前記スクリーンプレート2
を設けて、大塊となつて落下するダストを破砕
し、かつ発生した渦を細分化していた。
と、反応器1の上部で流入ガスは90°方向が変わ
るため、第7図に示されるように入口ダクト4か
ら流入したガスは、反応器1の外側に偏流し、内
側には渦が発生する。このため従来の反応器では
第8図に示されるように、反応器1の天井部に案
内板6を設置してガスを内側にも分配し、かつガ
スの流れを垂直方向に下向きに矯正していた。さ
らに前記案内板6などに堆積付着した前記ガス中
のにダストが成長し、下側の触媒層3に落下する
ことや、前記案内板6により流れが妨げられた部
分に渦が発生することを防止するために、案内板
6と触媒層3との間に前記スクリーンプレート2
を設けて、大塊となつて落下するダストを破砕
し、かつ発生した渦を細分化していた。
一方、第6図に示される正面図においては、入
口ダクト4から反応器1にガスが流入する部分は
下方に向つて拡大されているので、ガスの中央部
への偏流を防ぐために下方に向つて間隔が拡がる
案内板7を設けていた。
口ダクト4から反応器1にガスが流入する部分は
下方に向つて拡大されているので、ガスの中央部
への偏流を防ぐために下方に向つて間隔が拡がる
案内板7を設けていた。
しかしながら前記従来技術では、第5図及び第
6図に示されるようにスクリーンプレート2は1
層しか設けられていないため、スクリーンプレー
ト2の薄板に対し平行方向についてつまり側面方
向は整流効果があるが、薄板に直角な方向つまり
正面方向の整流については配慮されていなかつ
た。この結果第9図に示されるように前記薄板に
平行な方向では案内板7に流入してきたガスの流
れは両壁面方向に向きを変えられるため、触媒層
3の上面では中央部の流速が極端に低くなつた
り、または渦が発生するという問題があつた。
6図に示されるようにスクリーンプレート2は1
層しか設けられていないため、スクリーンプレー
ト2の薄板に対し平行方向についてつまり側面方
向は整流効果があるが、薄板に直角な方向つまり
正面方向の整流については配慮されていなかつ
た。この結果第9図に示されるように前記薄板に
平行な方向では案内板7に流入してきたガスの流
れは両壁面方向に向きを変えられるため、触媒層
3の上面では中央部の流速が極端に低くなつた
り、または渦が発生するという問題があつた。
この問題を解決するための手段としては、実開
昭61−25927号公報によつて開示された提案が公
知である。この提案はスクリーンプレート2の薄
板を格子状に形成して、ガス流を直角二方向につ
いて整流するようにしたものである。しかしなが
らこの提案によると、格子の各コーナ部でガス流
の流速が遅くなり、かつこれらのコーナ部にダス
トが付着するという問題があつた。しかもスクリ
ーンプレート2の薄板を格子状に交叉して製作す
るためにはコストが上昇するという欠点もあつ
た。
昭61−25927号公報によつて開示された提案が公
知である。この提案はスクリーンプレート2の薄
板を格子状に形成して、ガス流を直角二方向につ
いて整流するようにしたものである。しかしなが
らこの提案によると、格子の各コーナ部でガス流
の流速が遅くなり、かつこれらのコーナ部にダス
トが付着するという問題があつた。しかもスクリ
ーンプレート2の薄板を格子状に交叉して製作す
るためにはコストが上昇するという欠点もあつ
た。
本考案は上記事情に鑑みてなされたものであ
り、簡単な構造のスクリーンプレートにより反応
器に流入するガス流を各方向について確実に整流
することができ、かつダストの堆積による反応器
の性能の低下を防止することのできる脱硝反応器
を提供することを目的とする。
り、簡単な構造のスクリーンプレートにより反応
器に流入するガス流を各方向について確実に整流
することができ、かつダストの堆積による反応器
の性能の低下を防止することのできる脱硝反応器
を提供することを目的とする。
本考案は前記目的を達成するために、ダストを
含有した燃焼ガスを入口ダストを介して触媒層に
導入し、この触媒層により燃焼ガスを脱硝処理す
る脱硝反応器において、相互に平行に、かつほぼ
等間隔に並べられ、燃焼ガスの流れに対してほぼ
平行に設けられた複数枚の薄板よりなるスクリー
ンプレートを、触媒層の上流側に触媒層に対して
ほぼ平行に、かつ同一平面内で重複することなく
2層設けるとともに、2層のスクリーンプレート
のそれぞれの層の薄板が相互に直交している構成
である。
含有した燃焼ガスを入口ダストを介して触媒層に
導入し、この触媒層により燃焼ガスを脱硝処理す
る脱硝反応器において、相互に平行に、かつほぼ
等間隔に並べられ、燃焼ガスの流れに対してほぼ
平行に設けられた複数枚の薄板よりなるスクリー
ンプレートを、触媒層の上流側に触媒層に対して
ほぼ平行に、かつ同一平面内で重複することなく
2層設けるとともに、2層のスクリーンプレート
のそれぞれの層の薄板が相互に直交している構成
である。
前記の構造によると、2層のスクリーンプレー
トに設けられた薄板は相互に直交しているので、
これらのスクリーンプレートを通過するガス流は
直交する2方向について整流され、反応器内にお
けるガスの偏流や流れの不均一の発生を防止する
ことができる。しかも従来の格子状のスクリーン
プレートに比較してコーナ部が少ない、つまり各
層のスクリーンプレートは所定高さを有する薄板
でそれぞれ長方形に仕切られて形成され、同一平
面内で重複して格子状に形成されていないため、
各層を通過するガス流が接するコーナ部が少なく
なり、各コーナ部でガス流の互いに直交する2つ
の渦の重なりがなくなつて流動抵抗が減少し、こ
のコーナ部へのダストの付着が減少する。
トに設けられた薄板は相互に直交しているので、
これらのスクリーンプレートを通過するガス流は
直交する2方向について整流され、反応器内にお
けるガスの偏流や流れの不均一の発生を防止する
ことができる。しかも従来の格子状のスクリーン
プレートに比較してコーナ部が少ない、つまり各
層のスクリーンプレートは所定高さを有する薄板
でそれぞれ長方形に仕切られて形成され、同一平
面内で重複して格子状に形成されていないため、
各層を通過するガス流が接するコーナ部が少なく
なり、各コーナ部でガス流の互いに直交する2つ
の渦の重なりがなくなつて流動抵抗が減少し、こ
のコーナ部へのダストの付着が減少する。
以下、本考案に係る脱硝反応器の一実施例を図
面を参照して説明する。
面を参照して説明する。
第1図乃至第4図に本考案の一実施例が示され
る。図において、第5図及び第6図に示す従来例
と同一または同等部分には同一符号を付して示
し、説明を省略する。本実施例の特徴はスクリー
ンプレート2の構造にあり、他の部分は従来例と
同様である。スクリーンプレート2は2層の2
a,2bからなり、それぞれのスクリーンプレー
ト2a,2bに設けられた薄板8a,8bは燃焼
ガスの流れに対してほぼ平行にかつ相互に直交し
て取付けられている。
る。図において、第5図及び第6図に示す従来例
と同一または同等部分には同一符号を付して示
し、説明を省略する。本実施例の特徴はスクリー
ンプレート2の構造にあり、他の部分は従来例と
同様である。スクリーンプレート2は2層の2
a,2bからなり、それぞれのスクリーンプレー
ト2a,2bに設けられた薄板8a,8bは燃焼
ガスの流れに対してほぼ平行にかつ相互に直交し
て取付けられている。
次に本実施例の作用を説明する。図示せぬボイ
ラやその他の燃焼設備より発生した窒素酸化物を
含む燃焼ガスは、排熱を回収して所定の温度にし
た後、反応器1の入口ダクト4より流入し、案内
板6により垂直下方向に流れ方向が矯正される。
さらに案内板7により反応器1の正面方向に均一
に整流され、反応器1内全体に分配される。この
とき案内板6の背面部付近及びその下側はガスが
流れないため渦が発生するが、下流側に設けられ
たスクリーンプレート2によりこの渦は小さく細
分化される。またガス中のダストが前記案内板
6,7などに堆積付着し、これらのダストはある
程度成長するとその自重により落下するが、この
ダストはスクリーンプレート2によつて破砕され
るので、下部にある触媒層3上を広範囲に覆うこ
とはない。またガスは第2図の正面図に示される
ように、案内板7に沿つて流れるため流れ方向は
斜めになるが、下方に設置されたスクリーンプレ
ート2によつてこの流れの方向は垂直下方向に整
流される。
ラやその他の燃焼設備より発生した窒素酸化物を
含む燃焼ガスは、排熱を回収して所定の温度にし
た後、反応器1の入口ダクト4より流入し、案内
板6により垂直下方向に流れ方向が矯正される。
さらに案内板7により反応器1の正面方向に均一
に整流され、反応器1内全体に分配される。この
とき案内板6の背面部付近及びその下側はガスが
流れないため渦が発生するが、下流側に設けられ
たスクリーンプレート2によりこの渦は小さく細
分化される。またガス中のダストが前記案内板
6,7などに堆積付着し、これらのダストはある
程度成長するとその自重により落下するが、この
ダストはスクリーンプレート2によつて破砕され
るので、下部にある触媒層3上を広範囲に覆うこ
とはない。またガスは第2図の正面図に示される
ように、案内板7に沿つて流れるため流れ方向は
斜めになるが、下方に設置されたスクリーンプレ
ート2によつてこの流れの方向は垂直下方向に整
流される。
一方、スクリーンプレート2a,2bにそれぞ
れ設けられた薄板8a,8bは相互に直交してい
るため、まず第1のスクリーンプレート2aによ
つてガス流が反応器1の正面方向について整流さ
れ、次に第2のスクリーンプレート2bによつて
側面方向について整流される。このとき各薄板8
a,8bで仕切られる部分は、各スクリーンプレ
ート2a,2bについては長方形となるため、従
来の格子状のスクリーンプレートに比べてコーナ
部が少くなり、ダストが付着しにくくなる。これ
らのスクリーンプレート2a,2bは同一のもの
を2個製作して90度回転させて配設するのみでよ
い。なおスクリーンプレート2a,2bのそれぞ
れの高さは、スクリーンプレート2a,2bの薄
板間隔の3倍以上であることが望ましい。この高
さは流れを整流するに十分の長さであるため、ス
クリーンプレート2の後流で渦を発生することは
ない。
れ設けられた薄板8a,8bは相互に直交してい
るため、まず第1のスクリーンプレート2aによ
つてガス流が反応器1の正面方向について整流さ
れ、次に第2のスクリーンプレート2bによつて
側面方向について整流される。このとき各薄板8
a,8bで仕切られる部分は、各スクリーンプレ
ート2a,2bについては長方形となるため、従
来の格子状のスクリーンプレートに比べてコーナ
部が少くなり、ダストが付着しにくくなる。これ
らのスクリーンプレート2a,2bは同一のもの
を2個製作して90度回転させて配設するのみでよ
い。なおスクリーンプレート2a,2bのそれぞ
れの高さは、スクリーンプレート2a,2bの薄
板間隔の3倍以上であることが望ましい。この高
さは流れを整流するに十分の長さであるため、ス
クリーンプレート2の後流で渦を発生することは
ない。
上記のようにしてスクリーンプレート2を通過
して整流されたガスは、触媒層3に流入してここ
で所定の脱硝反応を完了し、反応器1の出口ダク
ト5を介して図示せぬ煙突へ流出する。
して整流されたガスは、触媒層3に流入してここ
で所定の脱硝反応を完了し、反応器1の出口ダク
ト5を介して図示せぬ煙突へ流出する。
本実施例によれば、反応器1内におけるガス流
の偏流や流れの不均一の発生を防止することがで
き、また、大型のダスト塊の落下を防止して、ダ
ストの堆積による触媒層3のデツドスペースの発
生や閉塞を防止することができる。しかもスクリ
ーンプレート2にコーナ部が少いためダストの付
着も減少する。さらに格子状のスクリーンプレー
トに比べて製作が容易となり、同一のスクリーン
プレートを2枚製作して90度回転させて配置する
のみでよいので、コストを低減させることができ
る。
の偏流や流れの不均一の発生を防止することがで
き、また、大型のダスト塊の落下を防止して、ダ
ストの堆積による触媒層3のデツドスペースの発
生や閉塞を防止することができる。しかもスクリ
ーンプレート2にコーナ部が少いためダストの付
着も減少する。さらに格子状のスクリーンプレー
トに比べて製作が容易となり、同一のスクリーン
プレートを2枚製作して90度回転させて配置する
のみでよいので、コストを低減させることができ
る。
上述したように本考案によれば、脱硝反応器に
相互に直交する整流方向を有する2層のスクリー
ンプレートを同一平面内で重複することなく設け
たため、コーナ部が少なくなつて流動抵抗が減少
し、直交する2方向のガス流を整流して触媒層に
均一に流入させ、しかもダスト堆積による触媒層
のデツドスペースの発生や閉塞を防止して、反応
器の性能低下や圧力損失をおこすことなく長期の
安定した反応器の運転が可能となつた。
相互に直交する整流方向を有する2層のスクリー
ンプレートを同一平面内で重複することなく設け
たため、コーナ部が少なくなつて流動抵抗が減少
し、直交する2方向のガス流を整流して触媒層に
均一に流入させ、しかもダスト堆積による触媒層
のデツドスペースの発生や閉塞を防止して、反応
器の性能低下や圧力損失をおこすことなく長期の
安定した反応器の運転が可能となつた。
第1図及び第2図は本考案に係る脱硝反応器の
一実施例を示すそれぞれ側面 断面図及び正面断面図、第3図及び第4図はそれ
ぞれ第1図及び第2図のスクリーンプレートを示
す部分拡大図、第5図及び第6図は従来の脱硝反
応器を示すそれぞれ側面断面図及び正面断面図、
第7図は案内板及びスクリーンプレートを設置し
ない場合の脱硝反応器内のガスのフローパターン
を示す側面断面図、第8図及び第9図はそれぞれ
第5図及び第6図に示す従来の脱硝反応器内のガ
スのプローパターンを示す側面断面図及び正面断
面図である。 1……脱硝反応器、2a,2b……スクリーン
プレート、3……触媒層、4……入口ダクト、8
a,8b……薄板。
一実施例を示すそれぞれ側面 断面図及び正面断面図、第3図及び第4図はそれ
ぞれ第1図及び第2図のスクリーンプレートを示
す部分拡大図、第5図及び第6図は従来の脱硝反
応器を示すそれぞれ側面断面図及び正面断面図、
第7図は案内板及びスクリーンプレートを設置し
ない場合の脱硝反応器内のガスのフローパターン
を示す側面断面図、第8図及び第9図はそれぞれ
第5図及び第6図に示す従来の脱硝反応器内のガ
スのプローパターンを示す側面断面図及び正面断
面図である。 1……脱硝反応器、2a,2b……スクリーン
プレート、3……触媒層、4……入口ダクト、8
a,8b……薄板。
Claims (1)
- ダストを含有した燃焼ガスを入口ダクトを介し
て触媒層に導入し、該触媒層により前記燃焼ガス
を脱硝処理する脱硝反応器において、相互に平行
に、かつほぼ等間隔に並べられ、燃焼ガスの流れ
に対してほぼ平行に設けられた複数枚の薄板より
なるスクリーンプレートを、前記触媒層の上流側
に該触媒層に対してほぼ平行に、かつ同一平面内
で重複することなく2層設けるとともに、前記2
層のスクリーンプレートのそれぞれの層の前記薄
板が相互に直交していることを特徴とする脱硝反
応器。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1987123512U JPH0451849Y2 (ja) | 1987-08-12 | 1987-08-12 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1987123512U JPH0451849Y2 (ja) | 1987-08-12 | 1987-08-12 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6428936U JPS6428936U (ja) | 1989-02-21 |
JPH0451849Y2 true JPH0451849Y2 (ja) | 1992-12-07 |
Family
ID=31372437
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1987123512U Expired JPH0451849Y2 (ja) | 1987-08-12 | 1987-08-12 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0451849Y2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2662750B2 (ja) * | 1991-12-11 | 1997-10-15 | 日立造船株式会社 | 調温塔 |
JP5743054B2 (ja) * | 2010-11-29 | 2015-07-01 | 三菱日立パワーシステムズ株式会社 | 排ガス処理装置 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60119921U (ja) * | 1984-01-23 | 1985-08-13 | 石川島播磨重工業株式会社 | 脱硝反応器のダスト除去装置 |
-
1987
- 1987-08-12 JP JP1987123512U patent/JPH0451849Y2/ja not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6428936U (ja) | 1989-02-21 |
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