JPH04500563A - レーザにより放射された光線又は光ビームを光ファイバに移送するための装置、及びこのような装置を備えた特に組織、結石症、又は結石を目標物として破壊するための衝撃波発生装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、レーザにより放射された光線又は光ビームを光ファイバに移送するた めの装置、及び七のような輩１を備えた特に組織、結石症、又は結石を目標物ど して破壊するだめの衝撃波を発生する装置に関する。

砕石術の分野では、組織、結石症又は結石を破壊して人体内から取り除くために 各種の装置が現在利用されている。

例えばＲＩＥＩｉＥＲの米国特許第２．５５９，２２７号は、先端を切った長円 体の瓦射Ｒ（８０）を備える高周波衝撃波発生器を開示し。

でいる。この装置は衝撃波を楕円体の第一の焦点で発生させ、この衝撃波は楕円 体により楕円体の第二の焦点に集光され、その第二の焦点に破壊される目標物が 付方している。この２１は、医療分野、特に組織の破壊に使用され、結石症メは 結石を破壊するためにも使用できる。

超音波により発生される衝撃波により結石症又は結石を破壊することも知られて いる（ＤＥ−３１１９２９５及び同一・のｔｌｓ−Ａ−４５２６２６８参照）。

１紡的には１．・−ザ放射に基づいて目標物３、特に結、５症又は結石のための 衝撃波を発生する装置も知られている。例えば文献−〇−Ａ−８６１０６２６９ では、結石症又は結石を他の材木１と問様に人体から取り除くように破壊するた めのレーザの使用？１：ついて述べられている。レーザ放射は、光ファイバを経 由しで破壊される結石に運ばれる。使用するレーザは、隣接する他の組織に損傷 を与えないような強さのエネルギで、結石を破壊するような波長、エネルギ、強 度及びパルス長を有するパルスを供給する。この文献は、ＰＲ−Ａ−２５８０９ ２２にも対応する。。

そこではレーザは、最小パルス幅１０ナノ秒（０，０５マイクロ秒と５マイクロ 秒の間が好ましい、）で、パルスエネルギが０．２００ジユールを越えないパル ス色素レーザが望ましいと明記されている。ファイバは柔軟で、コア径は１００ ０ｍを越えてはならず、６０ｍと６００趨の間が望ましく、より特定的には２０ ０−が望ましい。レーザパルスは短い爆発のように加えられ、ｌＯヘルツ以上の 周期で加えられることが望ましく、残りの破片は単一パルスで破砕される。

使用される波長は、尿結石の場合で３５０ナノメートルと５５０ナノメートルの 間が望ましい。特に好ましい波長は、２５１　、５０４から４５０ナノメートル である（ＰＲ−Ａ−２５８０９２２，２ページ、１行から２０行参照）。

レーザ（２２）より放出された放射（２０）を運ぶための装置（１６、１８）は 、光線又は光ビーム（２０）を焦点に集光するための集光手段を形成する集光レ ンズ（１８）を使う手段と一緒に、光放射を受けられるようにした光ファイバ（ １２）を保持するための装置も備えている。ファイバ（１２）は通常子宮検査器 （１４）に入れられ、結石症又は結石のような破壊されるものに近づけ・−れる （３ペー・ジ、６行力・ら２８行目を参照）１、引用できる他の従来技術の文Ｉ ８ニはｒＬａｓｅｒｓ　ｉｌＩＳｕｒｇｃｒｙａｎｄ　Ｍｐｄｉｃｉｎ＜、＋　 、５巻、２号、１９８５年、　１６０ページ、［［’８２．１７８ベー・ヅ、概 要１３３、及び１８９ベー・ニラ、概要１６３が含まれる１、 他の文献Ｏこは、Ｒｏｎａｌｄ　ｌ７．　Ｃａｒｒｏ　１１著の’Ｔｈｅ　Ｄｙ ｅ　ｔ、、、、ａｓｅｒ’ｓＳｕｒｇｉｃａｌ　５ｕｃｃｅｓｓｅｓ　Ｊという 題名で１９８６年９月のＰｈｏｔｏｎｉｃｓＳｐｅｃｔｒａに出たものや、又は 雑Ｊ、　ｒ　１−ａｓｅｒｓ　ａｎｄ　ＡｐｐｌｉＣａｔｉｏｎｓ　２の１９８ ７年４月１．６９ページから７０ページに示されたものもある。

レーザは更に血管腫の治療にも使用されてきた（国際特許出願−０８６１０６４ ２からＥＰ−Ａ−２２５９ｉ３参照）９既知の装置ではレーザから光ファイバ士 へ光放射を運ぶのは不正確で、放出されるエネルギの減少及びそれによる目標物 破壊の効率の低下を生じることが認められている。

従って本発明の目的は、光線又は光ビームを光ファイバとに最適条件で移送する ことを保証するように、光ファイバの配置を再現性良く高い信頼性で行なえるよ うな解決方法を提供して新し７い技術上の問題を解決することである。

本発明の他の目的は、標準の光ファイバの使用を許容する、光線又は光ビームの 光ファイバへの移送を可能にする解決方法を提供して新しい技術上の問題を解決 することである。

更に本発明の他の目的は、焦点として知られる光ビーム又は光線の移送点に光フ ァイバを非常に正確に位置決めすることで、光ビーム又は光線を非常に正確に光 フアイバ上に移送することが可能な解決方法を提供して、新しい技術上の問題を 解決することである。

本発明の目的は、光ファイバの広い初期位置範囲内でも光ファイバの端を正確な 移送位置にするように、光軸に垂直な面内での変位を許容する光ビーム又は光線 の光ファイバへの移送を可能にする解決方法を提供して新しい技術上の問題を解 決することである。

これらのすべての技術上の問題は、本発明により充分に同時に解決され、工業的 に利用可能である。

従って本発明の第一の態様では、特に光軸として定義された経路に沿って進んで 来たレーザである光線又は光ビームを、使用する側に移送するために光フアイバ 上に移送するための装置が備えられ、この装置は光線又は光ビームを光軸上にあ る焦点に集光するための手段、及び実質的に焦点で光線又は光ビームを受けるよ うに光ファイバの自由端を位置決めするための手段を備え、位置決め手段は光線 又は光ビームを受けるようにされた光ファイバの自由端を、実質的に光軸に垂直 な平面内で変位させるための手段を含むことを特徴としている。

有効な実施例によれば、この変位手段は二個の交差する板の組を含み、マイクロ メータ型のものであることが好ましく、それぞれ垂直な二方向に変位可能である 。

本発明の有効な実施例によれば９．この位置決め手段は光ファイバを支持するた めの要素を含み、その要素はこの変位手段と一緒に素早く変位する受け要素に挿 入される。

本発明の特に有効な実施例によれば、この支持手段は実質的に光ファイバが遊び 無しに通る経路を形成する適切な直径を有する軸方向の狭くなった部分に中央貫 通穴を有する実質的に円筒形のさやを含んでおり、狭ばまった部分は光線又は光 ビームを受ける側に位置するようにされたさやの端に実質的に近接している。

本発明に基づく装置の他の有効な実施例によれば、停止ブロックを形成する要素 はこの実質的に円筒形のさやの中央の穴に、暫定的に挿入されて、光ファイバの 端の挿入を停止するように働き、さや内の光ファイバの端の正確な位置決めを行 なう、光ファイバは、適当な手段、例えば適当な接着手段を使用して接着するこ とで支持要素と一体化される。

本発明に基づく装置の他の特別な特徴によれば、この集光手段は集光レンズを備 えている。

本発明に基づく装置の他の好適な特徴によれば、この集光手段はこの集光レンズ を含む光学レンズシステムに取り付けられており、焦点位置を光軸上に移すよう にしている。レンズシステムは、この集光手段を支持する内部要素をできれば回 転自由に変位させられる外部制御装置を含むことが望ましい。

本発明の第二の態様も、目標物、特に組織、結石症又は結石の破壊のための衝撃 波を発生させるための装置に関し、光線又は光ビームを発生させる装置、できれ ばレーザ型の装置を含み、それがこれまで説明した光線又は光ビームを移送する ための装置を含むことが特徴である。

この衝撃波の発生装置の特別の実施例によれば、この光線又は光ビームの発生装 置はできればパルス型である色素レーザを少なくとも含むことが特徴である。

この衝撃波発生装置の他の特別な実施例によれば、この装置が色素レーザを有す る閉じた系に接続された固定染料タンクを含むことが特徴である。

本発明に基づく衝撃波発生装置の他の特別な特徴によれば、この装置は閉じた系 からできれば移動可能な排水タンクへ染料をはき出させるためのはき出し手段、 及び染料をはき出し後の閉じた系に再注入する手段を含み、可動排水タンクの位 置に置かれた可動タンクを使用することも望ましい。

本発明に基づく衝撃波発生装置の他の特別な実施例によれば、この衝撃波発生装 置は染料を再処理するための内部ループを含むことが特徴であり、フィルタ、特 に活性炭素だけでできたフィルタを介することが有効である。

本発明に基づく衝撃波発生装置の更なる他の特に有効な実施例によれば、この装 置はレーザにより放出された光線又は光ビームの検出強度でレーザ出力のフィー ドバック制御をするための手段を含んでいることが特徴である。

前述の技術上の問題点を解決することにより前述の重要な技術的利点がすべて実 現されることが理解できる。

特に「標準」光ファイバを使用できることは、従来技術による装置に比べて非常 に利点がある。

同様に再現性があり、信転性が高く、非常に正確である光ファイバの位置決めを 行なうことが可能であるが、これは光軸に垂直な平面内での変位により光軸に光 ファイバが持ってくることが可能になったことと、光軸に沿って移すことで焦点 に配置することが可能になったこの両方によるもので、特に上記の形式のレンズ システムを用いることによる。

本発明の他の目的、特徴及び利点は、付属の図面を参照した以下の説明により更 に良く理解できるようになる。この図面は本発明に基づいた光線又は光ビームを 光フアイバ上に移送するための装置を一緒に示した図であり、目標物、特に組織 、結石症又は結石を破壊するための衝撃波発生装置の最近の望ましい実施例を表 わしている。

第２図は、第１図に示される色素レーザのための閉じた染料回路の概略ブロック 図である。

第３図は、ここではレーザより始まる光線又は光ビームを光ファイバに移送する ための装置の光軸を含む面の軸断面を示している。

最初に第１図を参照するが、これは参照番号１で表わされる衝撃波発生装置を示 している。

この装置は、光線又は光ビーム（１２）を発生するための装置（ｌＯ）を含む。

本発明では、この光線はレーザから放射されるのが望ましく、それも色素レーザ 型で衝撃を出すのが望ましい、このようなパルス色素レーザは良く知られており 、特に説明の初めの部分で引用した文献に示されており、商業的に利用可能であ る。

通常このような色素レーザは、染料で満たされた染料室（１４）（ｄｙｅ　ｃｅ ｌｌ）を含んでおり、第２図に細部が示される閉じた系（１８）を回るようにな っており、この槽（１４）には染料入口（１６）と出口（１７）がある、更にこ のレーザは、既に知られているように直線状フラッシュランプ（２２）によりフ ラッシュを発生するフラッシュランプ囲い（２０）を含んでいる。冷却系（２４ ）が、直線状フラッシュランプ（２２）を冷却するために備わっている。他のレ ーザの特徴は、前述の従来技術の文献に示されている。

比較的長いパルスを出すパルス型色素レーザを使用することが望ましく、パルス は少なくとも１０ナノ秒続き、できれば０．０５マイクロ秒と５マイクロ秒の開 が望ましい。パルスの波長は、３５０ナノメートルから５５０ナノメートルの範 囲が望ましく、パルスエネルギは０．５ジユールを越えず、０．０５ジユールか ら０．５ジユールの範囲が望ましい。

レーザパルスは、短い爆発の形で加えられ、１ヘルツから２０ヘルツの範囲であ ることが望ましい。

レーザに供給する染料は、５１０ｎ＋ｅ付近のものを使用することが望ましい。

本発明での好ましい染料は、クマリンである。

第１図に示すように、光線又は光ビーム（１２）を発生させる装置の前には、光 線又は光ビーム（１２）全体を出力装置（１０）に反射するためのほぼ全反射す る空洞ミラー（２６）　ｆ）＜備わっている。

この場合はレーザである出力装置（１０）には、光線又は光ビームを制御して遮 断するための可動シャッタ（２８）が備わっており、同時にレーザの分野では良 く知られている３０％から３５％程度の反射率を有する第二の空洞型反射ミラー （３０）も備わっている。次には光線又は光ビーム（１２）の一部をほんのわず かの光線又は光ビーム（１２ａ）に分離するための分離装置（３２）を少なくと も暫定的に介在させることができる。

分離された光線又は光ビーム（１２ａ）は、後で説明するようにレーザ（１０） より放射される光ビーム（１２）の強度を計算するために使用される。

この分離装置は、屈折率ｎが約１８５である単純なガラスブロックを、光線又は 光ビーム（１２）で示される光軸に対しである角度、例えば４５″で配置するこ とで作ることができる。

本発明によれば、更に後方には分離装２　（３２）で分離されない光線又は光ビ ーム（１２）の部分を光ファイバ（４２）に移送するための参照番号４０で示さ れる装置が示されている。光ファイバの反対側の部分は、子宮検査器と一体心こ でき、例えば組織、結石症又は腎臓結石のような結石である破壊する目標物（４ ４）に近接して置かれる。

本発明の他の有効な特徴によれば、光軸はレーザ（５０）を使用して連続して示 されており、このレーザはＨｅｒｅ型が望ましく、商業的に利用可能である。こ のレーザは連続的に光放射（５２）を出しており、これは染料室（１４）を通過 して後方へ至るように方向変換ミラー（５４、５６）を使用して適切に方向変換 される。この場合においては、空洞ミラー（２６）は、色素レーザが出す波長は すべて反射するが、）ｌｅＮｅビームは部分的に透過する。この放射は、後に説 明するように移送装置（４０）の調整を可能にする。

第２図には、閉じた色素レーザ系（１８）が示されている。

二の閉じた系（１８）は、色素レーザ（１０）の染料室（１４）の出口（１７） で終了するのと同様に、装置内部に装置と一体に固定される染料タンク（６０） で終了する導管（１８ａ）を備えている。最後には、導管（１８ｂ）は固定タン ク（６０）をポンプのような循環手段（６２）により染料室（１４）の入口（１ ６）に接続している。これにへびのように曲がりくねった冷却装置（６４）を介 しても良く、この経路内に存在する空気泡のような不純物を除くように垂直に配 置されたフィルタ（６８）を有する浄化装置（６４）を介しても良い０例として は、フィルタ（６８）はメラミン型であり、染料室（１４）内に非常に高純度の 気泡（又は微小な泡）のない染料を送るようにできる。

このようにこのフィルタは微小な泡も除くのに必要な多孔性も備わっている。

本発明によれば、閉じた系（１８）から排水タンク（７２）に染料をはき出すた めの染料はき出し手段（７０）が備わっており、この排水タンクは可動であるこ とが望ましい、はき出しは、閉じた系（１８）のいかなる部分においても行なわ れる。

さてはき出しとしては二個の部分が示されており、第一は系統（７０ａ）を経由 する固定タンク（６０）と循環ポンプ（６２）の間であり、第二はバルブ又は逆 流防止バルブ（７４）を備えた系統（７０ｂ）によるフィルタ装置の基部にある 。そこにははき出しポンプ（７６）も備えることができる。そこには更に、染料 を排水の閉じた系（１８）に再注入するための手段（７８）も備えることができ る。これらの再導入手段は、可動排水タンク（７２）の位置に入れられた可動タ ンクから再導入できるように設計するのが望ましい。この場合には、後者の再注 入するための手段（７８）は一体化されており、再導入は例えばポンプ手段（８ ０）を使用することで容易になっている。

本発明によれば非常に簡単な方法で染料系を完全に排水できることがわかる。そ のために装置の外部にある可動の補助染料タンクを使用し、この装置は排水を実 行するため装置の外部と簡単な接続手段で接続することができる。この方法は、 染料系を新しい染料で満すのにも使用できる。

更に内部系統（９０ａ　、　９０ｂ　）を備えることもでき、これは閉じた系（ １８）から分かれ、第２図に示すように染料をフィルタ（９２）を経由して循環 させる。そしてこのフィルタはバルブ（９４）に付属した活性炭素型であること が望ましく、これにより染料の寿命を非常に向上させることができる。

第３図には、光線又は光ビーム（１２）を光ファイバ（４２）上に移送するため の装置が詳細に示されている。

この移送装置（４０）は、光線又は光ビーム（１２）（ここでは１２ｂ）を、補 助レーザ（５０）からの放射（５２）により有効に実質的に定義される光軸（１ ０４）上に焦点がくるようにする集光手段（１００）を含んでいる。

この移送装置は、実質的に焦点（１０２）で光線又は光ビーム（１２ｂ）を受け るように光ファイバ（４２）の自由端（４２ａ）を位置決めするための手段（１ ０６）も含んでいる。

これらの位置決め手段（１０６）は、光軸に実質的に垂直である平面内にファイ バ（４２）の端（４２ａ）を配置するための手段（１０Ｂ）を含んでいる。

好運には、これらの配置手段（１０Ｂ）は二個の交差する板の紐を含み、それは マイクロメータ型であることが望ましく、それぞれ参照番号１１０と１１２で示 されている。そして実質的に互いに垂直であるように相互に重さなって取り付け られている。

この二個の交差板（１１０，１１２）の組は、衝撃波発生装置のフレーＪ、と一 体である固定支持フレーム（１ｊ４）に変位可能に珈り付りられている。これら 二個の仮（１１０，１１２）のいずれも光ビーＪ、（１２ｂ）が通過！−るため の軸穴（１１６，１１８）を有して、！；す、当りτ、（の軸穴Σ放射（５２） により実現される光軸（１０４）　も通勤する０例えばフし一−Ｊ、（１１４） に取り付けられた仮（１１２３は、光軸（１０４）に垂直な水平方向に変位でき ろようム：取り付番ノられるが、板（１１０）ば光軸（１０４）及び板（１１２ ）の水平変位方向の両方に垂直な縦方向に変位可能なように板（１１２）に取り 付けられる。これにより光軸（１０４）に垂直な平面中を変位でき、この変位は ねしく１２０）のようなマイクロメータねしにより非常に正６′キな方法で行な える６第二〇板（１１０）の上には、光ファイバ（４２）の支持要素（１２４） の受り要素（１２２）が固定されている６受り要素（１２２）は、その中の支持 要素（１２４）を正確に位置決めするように働く円盤（１２Ｂ）型をしフ、：じ 上うご形先喘部を「する支持要素（１２４）を受けるためζ、：、：例えばフグ ｎ的に円筒杖である四部（１２６）を有している。受り要素（１２１１）の先端 部分には、実ｒ的に円筒形であるさや（１３０）が備わっており、このさやは円 筒形の円盤と一体である。そｊ〜で受け要素は、軸方向に扶ばまった部分（１３ ４）を有する中央ｎ退去（１３２）を備えており、狭ばまった部分の直径は実質 的に遊び無しに光ファイバ（４２）が通過できるものである。狭ばまった部分（ ３３４）は、光放射の受け側に位置するようにさや（１３０）の自由端（１３０ ａ）に近接していることが望ましく、これは第３回を見れば明らかである。中央 穴（１３２）は、支持要素（１２４）を涌る中央穴と同軸であり、光ファイバ（ ４２）が自由に：Ａ過できる。光ファイバ（４２）が支持要素（１２４）に届く 後方部分（１２４ａ　）には、１通穴（１３６）の朝顔形を形成する対応凹部（ １４４）の内側に一敗するような軸貫通穴（１４２）を有するノズル（＋４０） を備えている。

光ファイバ（４２）は、接着剤のような固定手段により一度支持要素（１，２４ ）内に正確に位置決めされると、ノズル（１４０）内に保持されることが可能で ある。

例えば２００序の直径である標準型の光ファイバの使用が望ましいが、光ファイ バ（４２）の正確な位置決めのため、光ファイバは支持要素１２４内に案内され る。あらかじめ定められた厚さを有ノーる円盤形の停止ブロックは、さや（１３ ０）の端（１３０ａ）上にある穴（［３２）の中央部分（１３２ｂ）内に案内さ れる。これにより光ファイバ（４２）は、この停止ブロックに当り焦点（１０２ ）に一致する位置に正確に位置決めする。このよ・うに一度光ファイバ（４２） が止められると、光ファイバ（４２）は７′ズル（＋４０）に固定され１、停止 ブロックは取りはずされる。

次に支持要素（１２４）は受（Ｊ要素（１２２）に挿入され、そし７て光ファイ バ（４２）の１（４２ａ）は焦点（１０２）に正確に持って来られる。

本発明によれば、焦点（１０２＞　の位置決めは、集光レンズ（１０１）をイｊ 効に含ｉ、集光手段（１００）がレンズ（１０１）を含むレンズシステム（［６ ０）に取りＩすけられるという事実に基づいてＰ周整する。二とができる。レン ズにより光＠（１０４）にｆＱ、って焦点（１０２）が１Ｆｊｉ廿さ才１．る。

、１０月ノン；１ニシステム、は、集光手段（］ｎＯ）を支持する内部要素（１ ６４）のでされば回転しない直ｊｆ！による変位の制御のだめのりｔ部要！？（ ＋６２）を含むことが望まし７い、その手段のため外部１７素（１６０）は、内 部！■素（１６４）内の対応するずじ１１部分（１６Ｂ）と−賭に働くずじ溝部 分（１６Ｇ）を有している。

当然外部要ｆｉ　（１６２）及び内部要素（１６４）は充放１４＋（１２ｂ）と 同様５こ光軸（１０４）が自由に通過できる貫通穴（１７０，１７２）を有して いる。

グ部要ｆｆ１（１６２）が回転される時には、内部要素（１６４）の回転を起さ ずに直進のみを生しることが望ましい、ごれは内部要素（１６４）　ｃ：：、焦 点（１０２）の変位長を固定するあらかじめ定められた長さを有する４溝（１７ ６）を有する内部要素（？６４）を侍えることで実現される。この渭（１７６） は、外部要素（１６２）に固定される二個の指状突起要素（１７８，１８０）と 同様に、フレーＪ、（１１４）上に取り（＝１けられた要素（１８４）の内部に 挿入される放射状のフランジ（１Ｂ２ａ）を有ザ”る環状要素（１８２）の変位 にも、フレーム（１１４）のように固定することにより適用される。このように 外部要素（１６２）が回転する間、この回転は要素（１８２）及び−緒に働くす し部分（１６６、１６８）により案内され、外部要素（１６４）の直進を生じて 、焦点（１０２）の光軸（１０４）に沿う直進を行なう。

従って光ｆＴｈ（１０４）に垂直な平面内、すなわちＸ軸及びＹ軸ｊ、こ沿って 変位する交差板（１１０，１１２）により、光ファイバ（４２）の端を焦点に持 って来ること及び焦点（１０２）の位置決めの両方を行なうことにより、光ファ イバ（４２）の４（４２ａ）を３１”、　！５．　（］　＋０２上に非常に正確 に再現性良く高ず３　ｔｎ性で位置決めイる。二とができる。

更に操作の過程で、光ファイバの交換や再調整を実行する、′″とけ非常に容品 であるや 更に本発明は、第２図に示すように染１１循環を行なう自己排水システムを備え ている。

更に第３図に示される移送製置は、第２図に示した染料循環系と共に本発明の統 合部分を形成している。

同様のことは、第１図に示した系にも適用される。

本発明の他の有効な特徴によれば、ビーム（１２）を付則した部分（１２ａ）の 経路に沿って、レーザにより放射された光線又は光ビームの検出強度（２０４） に応してレーザ出力に作用するフィー１′バツク制御手段（２００）が設けられ ていることが重要である。例えばこれらのフィードバック手段（２００）は、光 パルスがレーザ（１０）により放射される間に測定される強度のピーク（２０４ ）を出力するフォトダイオ・−Ｆ（２０２）を含んでいる。このピーク（２０４ ）の部分は積分され、レーザＷｌ（］０）により放射される放射強度（１２）の 測定値になる。この測定値は参照値と比すされ、測定値が参照値より小さい時に は、４１フイードバツク装置はレーザ（１ｏ）の出力を上げるようにフラッシュ 管（２２）への供給電力を増加させるように働く、このようにし、て実質的に時 間に対して一定である光線又は光ビームの強度を得ることができる。

言い撲えれば、発光放射強度測定装置（２００）は、レーザ出力のフィードバッ ク制御が実質的に時間に対して強度が一定である光線又は光ビームを供給するの を可能にしている。

このことは、以上のように本発明の他の特別な望ましい特徴を成しており、本発 明の統合された一部を形成している。

同様に目標物の連続した観察及び調整のための光軸（４２）を実現する補助レー ザ（５０）の使用も本発明の一部を成している。

Ｃ響 とマ 、Ｏ （へ）　・・　−♀ マ ？　Ｓ　Ｏ ゛　寸１ガ〜 〜　ｒ ′　Ｉ ■　り 卜＼　ま訃　（へ） ←喰 補正書の翻訳文提出書 （特許法第１８４条の８） 平成２年１１月３０日

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．特にレーザ（１０）から出てくる、光軸として定義される経路に沿って進む 光線又は光ビーム（１２）を、光ファイバ（４２）上に移送して、該光線又は光 ビーム（１２）を使用側に伝達するための装置であって、 該光線又は光ビーム（１２）を光軸上にある焦点（１０２）に集光するための手 段（１００）、及び 該ファイバ（４２）の自由端（４２ａ）を、実質的に焦点において該光線又は光 ビームを受けるように位置決めするための手段（１０６）を備えた装置において 、該位置決め手段（１０６）は、実質的に該光軸に垂直である平面内で、該光線 又は光ビーム（１２）を受けるように該光ファイバ（４２）の端（４２ａ）を変 位させるための手段（１０８）を含むことを特徴とする装置。 ２．該変位手段（１０８）は、好ましくはマイクロメータ型で、相互にそれぞれ 直交する方向に変位可能である二個の交差板（１１０，１１２）の組を含むこと を特徴とする請求項の１に記載の装置。 ３．該位置決め手段（１０６）は、光ファイバを支持し、支持要素（１２４）の 受け要素（１２２）に嵌り込み、変位時には該変位手段（１１０，１１２）と一 体である要素（１１４）を含むことを特徴とする請求項の１又は２のいずれかに 記載の装置。 ４．該支持装置（１２４）は、実質的に遊びなしで光ファイバが通ることができ る適当な直径である軸方向の狭ばまった部分（１３４）を有する中央貫通穴（１ ３２）を備えた実質的に円筒形であるさや（１３０）を含んでおり、該狭ばまっ た部分（１３４）は光線又は光ビーム（１２）の受け側に位置するように、さや （１３０）の端（１３０ａ）に近接して配置されていることが望ましいことを特 徴とする請求項の３に記載の装置。 ５．該実質的に円筒形のさやの中央穴（１３２）には、さや（１３０）内に光フ ァイバ（４２）の端（４２ａ）を位置決めする停止ブロックを形成する要素が暫 定的に備えられ、例えば適当な接着剤による接着のような適当な手段により光フ ァイバは支持要素（１２４）に固定されることを特徴とする請求項の４に記載の 装置。 ６．該集光手段（１００）は、集光レンズ（１０１）を含むことを特徴とする請 求項の１から５に記載の装置。 ７．該集光手段（１００）は、該集光レンズ（１０１）を含む光レンズシステム （１６０）に取り付けられ、光軸上の焦点（１０２）の直進を可能にしたことを 特徴とする請求項の１又は６のいずれかに記載の装置。 ８．該光システム（１１０）は、該集光手段（１００）を支持する内部要素（１ ６４）のできれば回転せずに直進により、変位を制御するための外部要素（１６ ２）を含むことを特徴とする請求項の７に記載の装置。 ９．できればレーザ型である光放射又は光ビームを発生するための装置を含む、 特に組織、結石症又は結石の目標物を破壊するための衝撃波発生装置において、 請求項の１から８のいずれかに記載の光放射又は光ビーム移送装置を含むことを 特徴とする衝撃波発生装置。 １０．該光線又は光ビーム発生装置は、できればパルス型である少なくとも一個 の色素レーザを含むことを特徴とする請求項の９に記載の衝撃波発生装置。 １１．色素レーザ（１０）に付属した閉じた系（１８）に接続された固定染料タ ンク（６０）を含むことを特徴とする請求項の１０に記載の衝撃波発生装置。 １２．できれば可動である閉じた系（１８）から排水タンク（７２）に染料を排 水するための染料排水手段（７０）、及び染料を該排水される閉じた系（１８） に再注入するための手段（７８）を含み、可動排水タンク（７２）の替りに可動 タンクを使用することも適当である請求項の１１に記載の衝撃波発生装置。 １３．特に活性炭素フィルタのフィルタ（９２）を経由する、染料を再処理する ための内部循環系（９０ａ，９０ｂ）を含むことが特徴である請求項の１１又は １２に記載の衝撃波発生装置。 １４．該レーザ（１０）により放射された光放射又は光ビームの出力強度（２０ ４）に応じて、該レーザ（１０）の出力に作用するフィードバック制御手段（２ ００，２０２）を含むことを特徴とする請求項の９から１３のいずれかに記載の 衝撃波発生装置。 １５．該光ファイバ（４２）が、「標準」光ファイバであるにとを特徴とする請 求項の９から１４のいずれかに記載の装置。 １６．該目標物（４４）の連続した観察及び調整のための光軸（４２）を実現す るための補助レーザ（５０）を含むことを特徴とする請求項の９から１５のいず れかに記載の装置。