JPH0448211B2 - - Google Patents

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Publication number
JPH0448211B2
JPH0448211B2 JP2073984A JP2073984A JPH0448211B2 JP H0448211 B2 JPH0448211 B2 JP H0448211B2 JP 2073984 A JP2073984 A JP 2073984A JP 2073984 A JP2073984 A JP 2073984A JP H0448211 B2 JPH0448211 B2 JP H0448211B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
photosensitive
acid
forming material
polyester resin
image forming
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP2073984A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS60165646A (en
Inventor
Chiaki Nakamura
Koji Oe
Tomonobu Muta
Toshiki Sasaki
Yoshihiro Nishio
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DIC Corp
Original Assignee
Dainippon Ink and Chemicals Co Ltd
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Publication date
Application filed by Dainippon Ink and Chemicals Co Ltd filed Critical Dainippon Ink and Chemicals Co Ltd
Priority to JP2073984A priority Critical patent/JPS60165646A/en
Priority to US06/699,547 priority patent/US4640887A/en
Publication of JPS60165646A publication Critical patent/JPS60165646A/en
Publication of JPH0448211B2 publication Critical patent/JPH0448211B2/ja
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/038Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G63/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carboxylic ester link in the main chain of the macromolecule
    • C08G63/02Polyesters derived from hydroxycarboxylic acids or from polycarboxylic acids and polyhydroxy compounds
    • C08G63/12Polyesters derived from hydroxycarboxylic acids or from polycarboxylic acids and polyhydroxy compounds derived from polycarboxylic acids and polyhydroxy compounds
    • C08G63/52Polycarboxylic acids or polyhydroxy compounds in which at least one of the two components contains aliphatic unsaturation

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  • Polyesters Or Polycarbonates (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

本発明は、感光性画像形成材料に関するもので
あり、詳しくは水性アルカリ性現像液で現像可能
で、且つ、充分な光感度を有し、印刷版として使
用した場合に優れた耐刷性および感脂性を有する
感光性画像形成材料に関するものである。
The present invention relates to a photosensitive image forming material, and more specifically, it is developable with an aqueous alkaline developer, has sufficient photosensitivity, and has excellent printing durability and oil sensitivity when used as a printing plate. The present invention relates to a photosensitive image forming material having the following properties.

【式】骨格(以下、桂皮酸 骨格と称する。)は、特異な光二重化反応をする
ため、従来より桂皮酸骨格を分子の側鎖ないし主
鎖に導入した種々の感光性樹脂の検討が行なわれ
ている。例えば、側鎖に桂皮酸骨格を有するポリ
ビニルアルコール、ポリエピクロルヒドリン、ポ
リスチレン、アクリル樹脂、エポキシ樹脂及び主
鎖に桂皮酸骨格を有するポリエステル、ポリアミ
ドなどがあり、そのいくつかは実用化されてい
る。例えば、ポリビニルアルコールと、桂皮酸ク
ロライドの反応により製造されるポリ桂皮酸ビニ
ルエステル、フエニレンジアクリル酸ジエチル
と、1,4−ジ−β−ヒドロキシエトキシシクロ
ヘキサンとの縮合により製造されるポリエステル
があり、これらは印刷板、LSI素子などの画像形
成材料として利用されている。 前記の如き光二重化型感光性樹脂の中で、フエ
ニレンジアクリル酸もしくはそのアルキルエステ
ルとグリコールとの縮合により製造された分子主
鎖中に桂皮酸骨格を有する感光性ポリエステル樹
脂は、比較的高い光感度を有すると言われてい
る。 しかしながら、これらの感光性樹脂は、有機溶
剤に対してのみ溶解性を示すため、これらの樹脂
から作られた感光層を現像する際には、現像液と
して有機溶剤が使用されている。現像液として有
機溶剤を使用する場合には、現像作業性、作業環
境の安全衛生性、経済性、大気汚染等の公害防止
などにおいて問題が多く、また、水性現像液に比
べて高価であるため水性現像液で現像可能な感光
性樹脂の開発が望まれている。 近年、このような樹脂として、主鎖中にフエニ
レンジアクリレート基又はシンナモイルオキシ基
および芳香核に隣接したスルホネート塩の基を有
する感光性樹脂(特開昭58−18625、特開昭52−
130897等)が提案されているが、このような従来
の樹脂は、印刷物の感光材料として使用した場
合、水性現像液で現像可能であるが、空気中の湿
気により版に粘着性が生じる、印刷時に感脂性及
び耐刷性に劣る等の点で未だ充分でなく、その改
良が望まれている。 従つて、本発明の目的は、水性アルカリ性現像
液で現像可能な画像形成材料を提供することにあ
る。 また、本発明の他の目的としては印刷版の感光
材料として使用した場合に充分な光感度、耐刷
性、感脂性を有する感光性画像形成材料を提供す
ることである。 本発明者らは、このような目的を達成する方法
として、一般式 (式中、Aは芳香核に隣接した感光性不飽和二重
結合を主鎖中に含有する線状ポリエステル構造単
位を表わし、R1は4価の有機基を表わす。)で表
わされる繰り返し単位を有する感光性ポリエステ
ル樹脂を感光層中に含有することを特徴とする水
性アルカリ現像液で現像可能な感光性画像形成材
料を提供する。 本発明で使用する感光性ポリエステル樹脂は芳
香核に隣接した感光性不飽和二重結合を有するジ
カルボン酸(以下感光性不飽和ジカルボン酸とい
う。)単位とグリコール単位を有すると共に末端
に水酸基を有する線状ポリエステル(以下、線状
ポリエステルと言う。)を製造し、次いで該樹脂
に酸無水物を反応させる方法(以下、この方法を
酸無水物法と言う。)で製造することができる。 上記した酸無水物法で使用する感光性不飽和ジ
カルボン酸単位としては、例えば下記一般式(1)〜
(7)で表わされるジカルボン酸又はその誘導体から
誘導することができ、これらジカルボン酸の誘導
体としては、これらジカルボン酸のジメチルエス
テル、ジエチルエステルの如きジアルキルエステ
ル、ジ(エチレングリコール)エステル、ジ(プ
ロピレングリコール)エステルの如きジ(アルキ
レングリコール)エステルやジカルボン酸クロラ
イドの如きジカルボン酸ハライド等を挙げること
ができる。 (上記一般式(1)〜(7)中、R2及びR2′はそれぞれ水
素原子、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜
4のアルコキシル基、ハロゲン原子又はニトロ基
を表わし、R3は炭素数2〜4のアルキレン基を
表わし、lは1〜5の整数を表わし、nは1〜4
の整数を表わしmは1〜5の整数を表わす。) 上記のジカルボン酸又はその誘導体の好適例と
してp−フエニレンジアクリル酸、m−フエニレ
ンジアクリル酸、2,5−ジメトキシ−p−フエ
ニレンジアクリル酸、2−ニトロ−p−フエニレ
ンジアクリル酸、p−カルボキシ桂皮酸、シンナ
ミリデンマロン酸、ビス(p−桂皮酸)ジエチレ
ングリコールエーテル、ビス(p−カルボキシベ
ンザル)シクロヘキサノン、ビス(p−カルボキ
シベンザル)シクロペンタノン、P,P′−カルコ
ンジカルボン酸等のジカルボン酸又はその誘導体
を挙げることができる。 線状ポリエステル樹脂の製造に際して上記の感
光性不飽和ジカルボン酸又はその誘導体と共に他
の多価カルボン酸又はその誘導体を併用すること
ができ、このような化合物として、コハク酸、ア
ジピン酸、アゼライン酸、セバチン酸、フタル
酸、イソフタル酸、テレフタル酸、テトラヒドロ
フタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、テトラブロム
フタル酸、テトラクロルフタル酸、1,4−シク
ロヘキサンジカルボン酸、マレイン酸、フマル
酸、イタコン酸、5−ナトリウムスルホイソフタ
ル酸等のジカルボン酸、又はその無水物又はその
エステル誘導体等を使用できる。 しかしながら、これら他のジカルボン酸又はそ
の誘導体の多量の使用は樹脂の光感度の低下を惹
起するから避けるべきであり、充分に高い光感度
を得るためには、感光性不飽和ジカルボン酸単位
の含有量を線状ポリエステル樹脂中のジカルボン
酸単位全体の30〜100モル%とすることが望まし
い。 一方、グリコール単位としては、特に制限なく
各種のものから誘導でき、例えばエチレングリコ
ール、ジエチレングリコール、トリエチレングリ
コール、プロピレングリコール、ジプロピレング
リコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピ
レングリコール、ネオペンチルグリコール、1,
3−ブチレングリコール、1,6−ヘキサンジオ
ール、2−ブテン−1,4−ジオール、2,2,
4−トリメチル−1,3−ペンタンジオール、
1,4−ビス−β−ヒドロキシエトキシシクロヘ
キサン、シクロヘキサンジメタノール、トリシク
ロデカンジメタノール、水添ビスフエノールA、
水添ビスフエノールF、ビスフエノールAのエチ
レンオキサイド付加体、ビスフエノールAのプロ
ピレンオキサイド付加体、ビスフエノールFのエ
チレンオキサイド付加体、ビスフエノールFのプ
ロピレンオキサイド付加体、水添ビスフエノール
Aのエチレンオキサイド付加体、水添ビスフエノ
ールAのプロピレンオキサイド付加体等が使用で
きる。 感光性不飽和ジカルボン酸から誘導される単位
を含むジカルボン酸単位とグリコール単位とから
なる水酸基を有する線状ポリエステル樹脂の合成
に際しては、分子の両末端に水酸基を有する線状
ポリエステル樹脂が得られるように反応に使用す
る酸のカルボキシル基又はエステル基などカルボ
ン酸から誘導される基1当量に対してグリコール
の水酸基を1当量以上好適には1.1〜2.0当量とな
るように配合比を選ぶことが望ましい。 線状ポリエステル樹脂は、通常のポリエステル
樹脂合成の分野で知られている手段により容易に
製造できる。すなわち、上記ジカルボン酸成分と
グリコール成分を所定の配合比で仕込み、必要に
応じて加えられる触媒および禁止剤の存在下で反
応(エステル化反応またはエステル交換)させる
ことにより製造でき、反応温度としては、150〜
250℃が好ましい。また、合成に際し、比較的低
分子量のグリコールを用いた場合には、所定量よ
り過剰にグリコール成分を配合して前記反応を行
なわせ、反応終了後、徐々に反応器内の圧力を減
じて過剰のグリコールを溜出させることにより製
造できる。反応温度としては150〜250℃が好まし
く、減圧は3mmHg以下が好ましい。 線状ポリエステル樹脂を製造する際に用いられ
る触媒としては、例えば、テトライソプロピルチ
タネート、テトライソプロピルチタネート、テト
ラブトキシチタネート、ジブチル錫オキサイド、
ジブチル錫ラウレート、リチウムエトキシド、酢
酸亜鉛、酢酸マンガン、酢酸カルシウムの如き有
機金属化合物;二酸化チタン、三酸化アンチモ
ン、酸化カルシウム、塩化亜鉛の如き無機金属化
合物等を使用できる。使用量は、金属成分とし
て、50〜10000ppmが好ましい。 禁止剤は重縮合反応時に併発して起こりやすい
エチレン性不飽和基の架橋、枝分れをできるだけ
少なく抑えるために使用するものであり、例えば
フエノチアジン、ハイドロキノン、ハイドロキノ
ンモノメチルエーテル、2,6−ジtert−ブチル
−p−クレゾール、p−ベンゾキノン等を使用で
きる。その使用量は、50〜2000ppmが好ましい。 以上のようにして製造される線状ポリエステル
樹脂は、水酸基価が15〜360のものが好適で、水
酸基価が15未満の場合、本発明の画像形成材料の
水溶液で現像しにくくなり、水酸基価が360以上
の場合は充分な感度が得にくくなる。 上記した酸無水物法で使用できる酸無水物とし
ては、例えば、ピロメリツト酸二無水物、3,
3′,4,4′−ベンゾフエノンテトラカルボン酸二
無水物、3,3′,4,4′−ジフエニルテトラカル
ボン酸二無水物、2,3,6,7−ナフタレンテ
トラカルボン酸二無水物、1,4,5,8−ナフ
タレンテトラカルボン酸二無水物、4,4′−スル
ホニルジフタル酸二無水物、2,2−ビス(3,
4−ジカルボキシフエニル)プロパン二無水物、
ビス(3,4−ジカルボキシフエニル)エーテル
二無水物、4,4′−〔3,3′−(アルキルホスホリ
ルジフエニレン)−ビス(イミノカルボニル)〕ジ
フタル酸二無水物、ヒドロキノンジアセテートと
トリメリツト酸無水物の付加体、ジアセチルジア
ミンとトリメリツト酸無水物の付加体などの芳香
族テトラカルボン酸二無水物;5−(2,5−ジ
オキソテトラヒドロフリル)−3−メチル−3−
シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸無水物
(大日本インキ化学工業KK製、エピクロンB−
4400)、1,2,3,4−シクロペンタンテトラ
カルボン酸二無水物、1,2,4,5−シクロヘ
キサンテトラカルボン酸二無水物、テトラヒドロ
フランテトラカルボン酸二無水物などの脂環族テ
トラカルボン酸二無水物;1,2,3,4−ブタ
ンテトラカルボン酸二無水物、1,2,4,5−
ペンタンテトラカルボン酸二無水物などの脂肪族
テトラカルボン酸二無水物等が使用できる。 感光性ポリエステル樹脂の製造において、酸無
水物の使用量は、線状ポリエステル樹脂の水酸基
1当量に対して、酸無水物の酸無水物基が0.5〜
1.5当量、好ましくは0.7〜1.2当量の範囲を選ぶこ
とが好ましい。線状ポリエステル樹脂の水酸基1
当量に対して、酸無水物基の当量数が0.5に満た
ない場合、又は、1.5当量以上の場合は、生成し
た感光性樹脂が充分な光感度を得にくい傾向があ
る。 線状ポリエステル樹脂と酸無水物との反応は、
○イ溶融した線状ポリエステル樹脂に酸無水物の所
定量を添加した反応系、または○ロ線状ポリエステ
ル樹脂を有機溶媒に溶解し、酸無水物の所定量を
添加した反応系のもとで行うことができる。好ま
しい反応条件は使用する酸無水物の反応性、触媒
の有無などにより当然に異なるが、一般的に言え
ば、反応温度は、常温から250℃が好ましい。こ
の反応は通常の反応器中で溶融下又は溶液下、両
者を混合撹拌反応させる方法はもちろんのこと、
○イの場合は例えば、エクストルーダー中で両者を
混合することにより反応せしめることもできる。 上記反応に使用される有機溶媒としては、塩化
メチレン、クロロホルム、トリクロロエタン、ト
リクロロエチレン、クロルベンゼン、ジクロルベ
ンゼン、四塩化炭素等の塩素系溶媒;テトラヒド
ロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒;グリ
コールメチルエーテルアセテート、グリコールエ
チルエーテルアセテート、酢酸エチル等のエステ
ル系溶媒;メチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン、シクロヘキサノン、4−メチル−4−
メトキシ−2−ペンタノン等のケトン系溶媒;ジ
メチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N
−メチルピロリドン、ニトロベンゼン等の含窒素
系溶媒;ジメチルスルホキシド等があり、上記の
溶媒は単独、または2種以上混合して使用でき
る。 例えば、上記のような方法によつて で示される繰り返し単位を有し、且つ、酸価が15
〜215の感光性ポリエステル樹脂を得ることがで
き、このような範囲の酸価をもつ感光性ポリエス
テル樹脂は水性アルカリ現像液で現像可能であ
る。 本発明の感光性画像形成材料の製造にはこのよ
うな範囲の酸価をもつ感光性ポリエステル樹脂の
使用が望ましい。 本発明に係る画像形成材料の製造は、前記の感
光性ポリエステル樹脂を、適当な溶媒に溶解した
組成物、或は更に必要に応じて増感剤、顔料、染
料、充填剤、安定剤、架橋剤、可塑剤等の添加剤
を添加した組成物を支持体上に塗装することによ
り行うことができる。好適な溶媒は樹脂の組成お
よび分子量により異なるが、普通、上記線状ポリ
エステル樹脂と酸無水物の反応に使われる有機溶
媒;テトラヒドロフルフリルアルコール、ベンジ
ルアルコール等のアルコール系溶媒;グリコール
モノメチルエーテル、グリコールモノエチルエー
テル等のグリコールモノアルキルエーテル系溶
媒;等があり、上記の溶媒は単独、または2種以
上混合して使用できる。 増感剤としては、この分野で使用できるもの
が、いずれも使用でき、ベンゾフエノン誘導体、
ベンズアンスロン誘導体、キノン類、芳香族ニト
ロ化合物、ナフトチアゾリン誘導体、ベンゾチア
ゾリン誘導体、ケトクマリン化合物、あるいは、
ピリリウム塩、チアピリリウム塩類等が使用でき
る。このような増感剤として例えば、ミヒラーケ
トン、ジエチルアミノエチルベンゾフエノン、ベ
ンズアンスロン、(3−メチル−1,3−ジアザ
−1,9−ベンズ)アンスロンピクラミド、6,
11−ジクロロベンズアンスロン、6−フエニル−
ベンズアンスロン、1,8−ジメトキシアントラ
キノン、1,2−ベンズアントラキノン、5−ニ
トロアセナフテン、2−ニトロフルオレン、2,
7−ジニトロフルオレン、1−ニトロナフタレ
ン、1,5−ジニトロナフタレン、P−ニトロジ
フエニル、2−ジベンゾイルメチレン−3−メチ
ルナフトチアゾリン、2−ベンゾイルメチレン−
1−メチルナフトチアゾリン、2−ビス(フロイ
ル)メチレン−3−メチルベンゾチアゾリン、2
−ベンゾイルメチレン−3−メチルベンゾチアゾ
リン、3,3−カルボニル−ビス(7−ジエチル
アミノクマリン)、2,4,6−トリフエニルチ
アピリリウムパークロレート、2,6−ビス(p
−エトキシフエニル)−4−(p−n−アミロキシ
フエニル)−チアピリリウムパークロレート等が
ある。 上記の感光性樹脂組成物は従来一般に行なわれ
ている塗布技術に適用されるように適度の粘度に
調合され、デイツプ塗布、カーテン塗布、ロール
塗布、スプレー塗布、エアナイフ塗布、ドクター
ナイフ塗布、スピナー塗布等、周知の塗布方法に
よつて支持体に塗布される。 支持体の具体例としては、アルミニウム板、亜
鉛板、銅板、ステンレス鋼板、その他の金属板;
ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネー
ト、セスロース誘導体等の合成樹脂のシート状物
や板状物;合成樹脂を溶融塗布あるいは合成樹脂
溶液を塗布した紙、合成樹脂に金属層を真空蒸
着、ラミネートなどの技術により設けた複合材
料;シリコンウエハー等が挙げられる。 本発明の画像形成材料は印刷版の用途に特に適
しており、印刷版として用いる場合の支持体とし
ては、機械的、化学的、あるいは電気化学的に粗
面化したアルミニウム、銅、亜鉛等の金属板等が
使用され、この上に通常0.1〜2.5μの厚さをもつ
感光層が形成される。 本発明の画像形成材料の感光層にネガ画像によ
る像露光を行なつて感光層の露光部分を硬化させ
不溶化せしめた後、現像して未露光部分を溶解除
去すれば、支持体上に対応する画像を形成させる
ことができる。 露光に使用される適当な光源としては、カーボ
ンアーク灯、水銀灯、キセノン灯、メタルハライ
ドランプ、レーザー等が挙げられる。 以上述べた如く、本発明の感光性画像形成材料
は、印刷版の感光層の形成に極めて有効なもので
あるが、本発明の画像形成材料の用途は必ずしも
印刷版の感光層に限定されるものでなく、例えば
各種の微細加工のためのフオトレジストとしても
使用し得るものである。 以下、本発明を実施例により、具体的に説明す
るが、本発明はその要旨を越えない限り、以下の
実施例に限定されるものでない。 実施例 1〜10 (1) 線状ポリエステル単位の製造 A法 第1表に記載した配合組成をもつ各混合物
を、触媒(ジブチル錫オキサイド600mg)、禁止
剤(フエノチアジン60mg)と共に撹拌装置、窒
素ガス導入管、温度計および留出管を備えた反
応器に仕込み、窒素ガス雰囲気下で撹拌しつつ
190℃に加温して反応を開始した。その後3時
間半に亘つて加熱、撹拌を続け、反応により生
成するエタノールを完全に留去させ、第1表に
記載した水酸基価を有する線状ポリエステル樹
脂を得た。 B法 第1表に記載した配合組成をもつ混合物及び
禁止剤(フエノチアジン60mg)をA法と同様の
反応器に仕込み、窒素ガス雰囲気下で撹拌しつ
つ150℃に加温し、触媒(テトライソプロピル
チタネート200mg)を添加して反応を開始した。
その後、1時間かけて220℃に昇温し、更に同
温度で1時間に亘つて加熱、撹拌を続け、反応
により生成するエタノールを完全に留去させ、
第1表に記載した酸産基価を有する線状ポリエ
ステル樹脂を得た。 (2) 感光性ポリエステル樹脂の製造 上記線状ポリエステル樹脂100gを140℃に加
温、撹拌し、第2表に記載したテトラカルボン
酸二無水物を仕込み、窒素雰囲気下、常温で第
2表に示した条件(反応時間)で撹拌を続けた
後、第2表に記載した酸価を有する側鎖カルボ
キシ基含有感光性ポリエステル樹脂を得た。 (3) 感光性画像形成材料の光感度の測定 (3)−1 感光板の作成方法 上記(2)の樹脂の4gを96gのシクロヘキサ
ノンに溶解した溶液を調製し、この溶液に
0.2g(樹脂に対して5重量%)の2−ベン
ゾイルメチレン−1−メチル−β−ナフトチ
アゾリンと0.4g(樹脂に対して10重量%)
のフタロシアニン顔料を加えた感光性組成物
を調製した。この組成物を砂目立て後に陽極
酸化したアルミニウム板にホワラーで塗布
し、これを乾燥して厚さ約1μの感光層を有
する感光板を作製した。 (3)−2 光感度の測定条件 上記(3)−1で得られた感光板に段差0.15の
ステツプウエツジを密着させ、これから1m
隣れた位置に設けた出力1KWのメタルハラ
イドランプ(岩崎電気(株)社製「アイドルフイ
ン1000」)を用いて上記感光板を15秒間露光
した。その後、この感光板を次の組成の現像
液で現像し、不溶化した段差の最高の数をも
つて感光度とした。
[Formula] Skeleton (hereinafter referred to as cinnamic acid skeleton) performs a unique photoduplexing reaction, so various photosensitive resins with a cinnamic acid skeleton introduced into the side chain or main chain of the molecule have been studied. It is. Examples include polyvinyl alcohol, polyepichlorohydrin, polystyrene, acrylic resins, epoxy resins, and polyesters and polyamides having a cinnamic acid skeleton in the main chain, some of which have been put into practical use. For example, there are polyvinyl cinnamic esters produced by the reaction of polyvinyl alcohol and cinnamic acid chloride, and polyesters produced by the condensation of diethyl phenylene diacrylate and 1,4-di-β-hydroxyethoxycyclohexane. , these are used as image forming materials for printing plates, LSI devices, etc. Among the photoduplexing type photosensitive resins mentioned above, photosensitive polyester resins having a cinnamic acid skeleton in the molecular main chain produced by the condensation of phenylene diacrylic acid or its alkyl ester with glycol are relatively expensive. It is said to have photosensitivity. However, since these photosensitive resins exhibit solubility only in organic solvents, organic solvents are used as developing solutions when developing photosensitive layers made from these resins. When using an organic solvent as a developer, there are many problems in terms of development workability, safety and health of the working environment, economic efficiency, and prevention of air pollution and other pollution, and it is also more expensive than an aqueous developer. It is desired to develop a photosensitive resin that can be developed with an aqueous developer. In recent years, as such resins, photosensitive resins having a phenylene diacrylate group or a cinnamoyloxy group in the main chain and a sulfonate salt group adjacent to an aromatic nucleus (JP-A-18625-1862, JP-A-52-1999) have been developed.
130897, etc.), but when used as a photosensitive material for printed matter, such conventional resins can be developed with an aqueous developer, but moisture in the air causes the plate to become sticky. In some cases, these are still unsatisfactory in terms of poor oil sensitivity and printing durability, and improvements are desired. It is therefore an object of the present invention to provide an imaging material that is developable with an aqueous alkaline developer. Another object of the present invention is to provide a photosensitive image forming material that has sufficient photosensitivity, printing durability, and oil sensitivity when used as a photosensitive material for printing plates. The present inventors have developed a general formula as a method to achieve such an objective. (In the formula, A represents a linear polyester structural unit containing a photosensitive unsaturated double bond adjacent to an aromatic nucleus in the main chain, and R 1 represents a tetravalent organic group.) Provided is a photosensitive image forming material that can be developed with an aqueous alkaline developer and is characterized in that the photosensitive layer contains a photosensitive polyester resin having the following properties. The photosensitive polyester resin used in the present invention has a dicarboxylic acid (hereinafter referred to as photosensitive unsaturated dicarboxylic acid) unit having a photosensitive unsaturated double bond adjacent to an aromatic nucleus, a glycol unit, and a line having a hydroxyl group at the terminal. It can be produced by a method of producing a linear polyester (hereinafter referred to as linear polyester) and then reacting the resin with an acid anhydride (hereinafter this method is referred to as the acid anhydride method). Examples of the photosensitive unsaturated dicarboxylic acid unit used in the acid anhydride method described above include the following general formulas (1) to
The derivatives of these dicarboxylic acids include dialkyl esters such as dimethyl ester and diethyl ester, di(ethylene glycol) ester, and di(propylene glycol) ester of these dicarboxylic acids. Examples include di(alkylene glycol) esters such as glycol esters, dicarboxylic acid halides such as dicarboxylic acid chlorides, and the like. (In the above general formulas (1) to (7), R 2 and R 2 ' are each a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and 1 to 4 carbon atoms.
4 represents an alkoxyl group, a halogen atom or a nitro group, R 3 represents an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms, l represents an integer of 1 to 5, and n represents an integer of 1 to 4.
m represents an integer of 1 to 5. ) Preferred examples of the dicarboxylic acids or derivatives thereof include p-phenylene diacrylic acid, m-phenylene diacrylic acid, 2,5-dimethoxy-p-phenylene diacrylic acid, and 2-nitro-p-phenylene diacrylic acid. Diacrylic acid, p-carboxycinnamic acid, cinnamylidenemalonic acid, bis(p-cinnamic acid) diethylene glycol ether, bis(p-carboxybenzal)cyclohexanone, bis(p-carboxybenzal)cyclopentanone, P, Dicarboxylic acids such as P'-chalcone dicarboxylic acid or derivatives thereof can be mentioned. In producing the linear polyester resin, other polyhydric carboxylic acids or derivatives thereof can be used in combination with the above-mentioned photosensitive unsaturated dicarboxylic acids or derivatives thereof, and examples of such compounds include succinic acid, adipic acid, azelaic acid, Sebacic acid, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, tetrahydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid, tetrabromophthalic acid, tetrachlorophthalic acid, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, maleic acid, fumaric acid, itaconic acid, 5- Dicarboxylic acids such as sodium sulfoisophthalic acid, anhydrides thereof, ester derivatives thereof, etc. can be used. However, the use of large amounts of these other dicarboxylic acids or their derivatives should be avoided since it will cause a decrease in the photosensitivity of the resin, and in order to obtain sufficiently high photosensitivity, the content of photosensitive unsaturated dicarboxylic acid units It is desirable that the amount is 30 to 100 mol% of the total dicarboxylic acid units in the linear polyester resin. On the other hand, the glycol unit can be derived from various types without particular limitations, such as ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, polyethylene glycol, polypropylene glycol, neopentyl glycol,
3-butylene glycol, 1,6-hexanediol, 2-butene-1,4-diol, 2,2,
4-trimethyl-1,3-pentanediol,
1,4-bis-β-hydroxyethoxycyclohexane, cyclohexanedimethanol, tricyclodecane dimethanol, hydrogenated bisphenol A,
Hydrogenated bisphenol F, ethylene oxide adduct of bisphenol A, propylene oxide adduct of bisphenol A, ethylene oxide adduct of bisphenol F, propylene oxide adduct of bisphenol F, ethylene oxide of hydrogenated bisphenol A Adducts, propylene oxide adducts of hydrogenated bisphenol A, etc. can be used. When synthesizing a linear polyester resin having a hydroxyl group consisting of a dicarboxylic acid unit containing a unit derived from a photosensitive unsaturated dicarboxylic acid and a glycol unit, it is necessary to obtain a linear polyester resin having a hydroxyl group at both ends of the molecule. It is desirable to select a blending ratio such that the hydroxyl group of the glycol is 1 equivalent or more, preferably 1.1 to 2.0 equivalents, per 1 equivalent of a group derived from a carboxylic acid such as a carboxyl group or an ester group of the acid used in the reaction. . Linear polyester resins can be easily produced by means known in the field of conventional polyester resin synthesis. That is, it can be produced by preparing the above dicarboxylic acid component and glycol component in a predetermined blending ratio and reacting (esterification reaction or transesterification) in the presence of a catalyst and inhibitor added as necessary, and the reaction temperature is , 150~
250°C is preferred. In addition, when a relatively low molecular weight glycol is used during synthesis, the reaction may be carried out by adding an excess amount of the glycol component to the predetermined amount, and after the reaction is completed, the pressure in the reactor is gradually reduced to remove the excess amount. It can be produced by distilling glycol. The reaction temperature is preferably 150 to 250°C, and the reduced pressure is preferably 3 mmHg or less. Examples of catalysts used in producing linear polyester resins include tetraisopropyl titanate, tetraisopropyl titanate, tetrabutoxytitanate, dibutyltin oxide,
Organic metal compounds such as dibutyltin laurate, lithium ethoxide, zinc acetate, manganese acetate, and calcium acetate; inorganic metal compounds such as titanium dioxide, antimony trioxide, calcium oxide, and zinc chloride can be used. The amount used is preferably 50 to 10,000 ppm as a metal component. Inhibitors are used to minimize crosslinking and branching of ethylenically unsaturated groups that tend to occur during polycondensation reactions, and include, for example, phenothiazine, hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, 2,6-ditert -Butyl-p-cresol, p-benzoquinone, etc. can be used. The amount used is preferably 50 to 2000 ppm. The linear polyester resin produced as described above preferably has a hydroxyl value of 15 to 360. If the hydroxyl value is less than 15, it becomes difficult to develop with an aqueous solution of the image forming material of the present invention, and the hydroxyl value When is 360 or more, it becomes difficult to obtain sufficient sensitivity. Examples of acid anhydrides that can be used in the acid anhydride method described above include pyromellitic dianhydride, 3,
3',4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 3,3',4,4'-diphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride anhydride, 1,4,5,8-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 4,4'-sulfonyldiphthalic dianhydride, 2,2-bis(3,
4-dicarboxyphenyl)propane dianhydride,
Bis(3,4-dicarboxyphenyl)ether dianhydride, 4,4'-[3,3'-(alkylphosphoryldiphenylene)-bis(iminocarbonyl)]diphthalic dianhydride, hydroquinone diacetate Aromatic tetracarboxylic dianhydrides such as adducts of diacetyldiamine and trimellitic anhydride, and adducts of diacetyldiamine and trimellitic anhydride; 5-(2,5-dioxotetrahydrofuryl)-3-methyl-3-
Cyclohexene-1,2-dicarboxylic anhydride (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals KK, Epiclon B-
4400), 1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride, tetrahydrofuran tetracarboxylic dianhydride, and other alicyclic tetracarboxylic dianhydrides. Acid dianhydride; 1,2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,4,5-
Aliphatic tetracarboxylic dianhydrides such as pentane tetracarboxylic dianhydride can be used. In the production of photosensitive polyester resin, the amount of acid anhydride used is 0.5 to 1 equivalent of hydroxyl group in linear polyester resin.
It is preferable to choose a range of 1.5 equivalents, preferably 0.7 to 1.2 equivalents. Hydroxyl group of linear polyester resin 1
When the number of equivalents of acid anhydride groups is less than 0.5 or more than 1.5 equivalents, the resulting photosensitive resin tends to have difficulty in obtaining sufficient photosensitivity. The reaction between linear polyester resin and acid anhydride is
○B A reaction system in which a predetermined amount of acid anhydride is added to a molten linear polyester resin, or ○B A reaction system in which a linear polyester resin is dissolved in an organic solvent and a predetermined amount of acid anhydride is added. It can be carried out. Preferred reaction conditions naturally vary depending on the reactivity of the acid anhydride used, the presence or absence of a catalyst, etc., but generally speaking, the reaction temperature is preferably from room temperature to 250°C. This reaction can be carried out by mixing and stirring the two in a melt or solution in a normal reactor, as well as
In the case of ○a, for example, the reaction can be caused by mixing both in an extruder. The organic solvents used in the above reaction include chlorinated solvents such as methylene chloride, chloroform, trichloroethane, trichloroethylene, chlorobenzene, dichlorobenzene, and carbon tetrachloride; ether solvents such as tetrahydrofuran and dioxane; glycol methyl ether acetate, Ester solvents such as glycol ethyl ether acetate and ethyl acetate; methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, 4-methyl-4-
Ketone solvents such as methoxy-2-pentanone; dimethylformamide, dimethylacetamide, N
- Nitrogen-containing solvents such as methylpyrrolidone and nitrobenzene; dimethyl sulfoxide and the like; the above solvents can be used alone or in a mixture of two or more. For example, by the method described above It has a repeating unit represented by , and has an acid value of 15
A photosensitive polyester resin having an acid value of ~215 can be obtained, and a photosensitive polyester resin having an acid value in this range can be developed with an aqueous alkaline developer. It is desirable to use a photosensitive polyester resin having an acid value within this range for producing the photosensitive image forming material of the present invention. The image forming material according to the present invention is produced by preparing a composition in which the photosensitive polyester resin described above is dissolved in a suitable solvent, or if necessary, a sensitizer, a pigment, a dye, a filler, a stabilizer, and a crosslinking agent. This can be carried out by coating a composition containing additives such as a plasticizer and a plasticizer on a support. Suitable solvents vary depending on the composition and molecular weight of the resin, but are usually organic solvents used in the reaction of the linear polyester resin and acid anhydride; alcoholic solvents such as tetrahydrofurfuryl alcohol and benzyl alcohol; glycol monomethyl ether and glycols. Glycol monoalkyl ether solvents such as monoethyl ether; etc., and the above solvents can be used alone or in combination of two or more. Any sensitizer that can be used in this field can be used, including benzophenone derivatives,
benzanthrone derivatives, quinones, aromatic nitro compounds, naphthothiazoline derivatives, benzothiazoline derivatives, ketocoumarin compounds, or
Pyrylium salts, thiapyrylium salts, etc. can be used. Examples of such sensitizers include Michler's ketone, diethylaminoethylbenzophenone, benzanthrone, (3-methyl-1,3-diaza-1,9-benz)anthrone picramide, 6,
11-dichlorobenzanthrone, 6-phenyl-
Benzanthrone, 1,8-dimethoxyanthraquinone, 1,2-benzanthraquinone, 5-nitroacenaphthene, 2-nitrofluorene, 2,
7-dinitrofluorene, 1-nitronaphthalene, 1,5-dinitronaphthalene, P-nitrodiphenyl, 2-dibenzoylmethylene-3-methylnaphthothiazoline, 2-benzoylmethylene-
1-Methylnaphthothiazoline, 2-bis(furoyl)methylene-3-methylbenzothiazoline, 2
-benzoylmethylene-3-methylbenzothiazoline, 3,3-carbonyl-bis(7-diethylaminocoumarin), 2,4,6-triphenylthiapyrylium perchlorate, 2,6-bis(p
-ethoxyphenyl)-4-(p-n-amyloxyphenyl)-thiapyrylium perchlorate and the like. The above photosensitive resin composition is formulated to have an appropriate viscosity so that it can be applied to commonly used coating techniques such as dip coating, curtain coating, roll coating, spray coating, air knife coating, doctor knife coating, and spinner coating. It is applied to the support by a well-known coating method such as. Specific examples of the support include aluminum plates, zinc plates, copper plates, stainless steel plates, and other metal plates;
Sheets and plates made of synthetic resins such as polyethylene terephthalate, polycarbonate, and cellulose derivatives; paper coated with synthetic resin by melt coating or synthetic resin solution, and metal layers applied to synthetic resin using techniques such as vacuum deposition and lamination. Composite materials; examples include silicon wafers. The image-forming material of the present invention is particularly suitable for use as a printing plate, and when used as a printing plate, the support may be made of mechanically, chemically or electrochemically roughened aluminum, copper, zinc or the like. A metal plate or the like is used, on which a photosensitive layer usually having a thickness of 0.1 to 2.5 microns is formed. The photosensitive layer of the image forming material of the present invention is subjected to imagewise exposure using a negative image to harden and insolubilize the exposed areas of the photosensitive layer, and then developed to dissolve and remove the unexposed areas, thereby forming a corresponding image on the support. An image can be formed. Suitable light sources used for exposure include carbon arc lamps, mercury lamps, xenon lamps, metal halide lamps, lasers, and the like. As described above, the photosensitive image forming material of the present invention is extremely effective for forming a photosensitive layer of a printing plate, but the use of the image forming material of the present invention is not necessarily limited to the photosensitive layer of a printing plate. For example, it can also be used as a photoresist for various types of microfabrication. EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically explained with reference to examples, but the present invention is not limited to the following examples unless it exceeds the gist thereof. Examples 1 to 10 (1) Manufacturing method A of linear polyester units Each mixture having the composition listed in Table 1 was mixed with a catalyst (600 mg of dibutyltin oxide) and an inhibitor (60 mg of phenothiazine) in a stirring device and nitrogen gas. Pour into a reactor equipped with an inlet tube, a thermometer, and a distillation tube, and while stirring under a nitrogen gas atmosphere.
The reaction was started by heating to 190°C. Heating and stirring were then continued for 3 and a half hours to completely distill off the ethanol produced by the reaction, yielding a linear polyester resin having the hydroxyl value shown in Table 1. Method B A mixture having the formulation shown in Table 1 and an inhibitor (60 mg of phenothiazine) were placed in the same reactor as in Method A, heated to 150°C with stirring under a nitrogen gas atmosphere, and the catalyst (tetraisopropyl The reaction was started by adding 200 mg of titanate.
Thereafter, the temperature was raised to 220°C over 1 hour, and heating and stirring were continued at the same temperature for 1 hour to completely distill off the ethanol produced by the reaction.
A linear polyester resin having the acid production group values listed in Table 1 was obtained. (2) Production of photosensitive polyester resin 100 g of the above linear polyester resin was heated to 140°C, stirred, and the tetracarboxylic dianhydride listed in Table 2 was charged, and the tetracarboxylic dianhydride listed in Table 2 was heated under a nitrogen atmosphere at room temperature. After continuing stirring under the conditions (reaction time) shown, a side chain carboxy group-containing photosensitive polyester resin having the acid value listed in Table 2 was obtained. (3) Measurement of photosensitivity of photosensitive image forming materials (3)-1 Method for making photosensitive plate Prepare a solution by dissolving 4 g of the resin from (2) above in 96 g of cyclohexanone, and add to this solution.
0.2 g (5% by weight based on resin) of 2-benzoylmethylene-1-methyl-β-naphthothiazoline and 0.4 g (10% by weight based on resin)
A photosensitive composition containing a phthalocyanine pigment was prepared. This composition was coated with a flourer on a grained and anodized aluminum plate, and dried to produce a photosensitive plate having a photosensitive layer with a thickness of about 1 μm. (3)-2 Conditions for measuring photosensitivity A step wedge with a step height of 0.15 is brought into close contact with the photosensitive plate obtained in (3)-1 above, and a 1 m
The photosensitive plate was exposed for 15 seconds using a metal halide lamp (Idolfin 1000, manufactured by Iwasaki Electric Co., Ltd.) with an output of 1 KW installed in an adjacent position. Thereafter, this photosensitive plate was developed with a developer having the following composition, and the maximum number of insolubilized steps was defined as the photosensitivity.

【表】 (4) 感光性画像形成材料を印刷版として使用した
場合のその耐刷性および感脂性(インキ着肉
性)の評価 上記(3)と同様の方法で作成した感光板にテス
トパターンのネガフイルムを密着させ、これか
ら1m離れた位置に設けた出力1KWのメタル
ハライドランプ(岩崎電気(株)社製「アイドルフ
イン1000」)を用いて、感光度が6となり露光
時間で露光し、次いで、上記(3)と同様の現像液
で現像して印刷版を製作した。このようにして
製作された印刷版を4色平版印刷機に取り付
け、平版印刷用標準インキを用いて実際の平版
印刷と同様の条件下で印刷を行い、5万枚印刷
した時点で耐刷性及び感脂性の評価を行つた。
耐刷性は、網点太り、版とび等が発生せずに原
画に忠実な印刷物が得られるか否かをもつて評
価し、感脂性は印刷物にかすれやインキの着肉
不良等がなく鮮明な画像が得られるか否かをも
つて評価した。 以上の各例の内容および結果を第2表にまとめ
て記載した。
[Table] (4) Evaluation of printing durability and oil sensitivity (ink receptivity) when a photosensitive image forming material is used as a printing plate A test pattern is printed on a photosensitive plate prepared in the same manner as in (3) above. A negative film was placed in close contact with the negative film, and a metal halide lamp with an output of 1KW (Idolfin 1000, manufactured by Iwasaki Electric Co., Ltd.) was placed 1 meter away from the film, and the exposure time was set to a sensitivity of 6. A printing plate was produced by developing with the same developer as in (3) above. The printing plate produced in this way was attached to a four-color lithographic printing machine, and printed using standard ink for lithographic printing under conditions similar to actual lithographic printing. and liposensitivity was evaluated.
Printing durability is evaluated by whether a print that is faithful to the original image can be obtained without thickening of halftone dots or plate skipping, etc., and oil sensitivity is evaluated by whether the print is clear and has no blurring or poor ink adhesion. The evaluation was made based on whether or not a clear image could be obtained. The contents and results of each of the above examples are summarized in Table 2.

【表】【table】

【表】【table】

【表】【table】

【表】 無水物基の当量数を表わす。
[Table] Represents the number of equivalents of anhydride groups.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 一般式 (式中、Aは芳香核に隣接した感光性不飽和二重
結合を主鎖中に含有する線状ポリエステル構造単
位を表わし、R1は4価の有機基を表わす。)で表
わされる繰り返し単位を有する感光性ポリエステ
ル樹脂を感光層中に含有することを特徴とする水
性アルカリ現像液で現像可能な感光性画像形成材
料。 2 感光性ポリエステル樹脂の酸価が15以上であ
る特許請求の範囲第1項記載の画像形成材料。 3 芳香核に隣接した感光性不飽和二重結合を有
するジカルボン酸単位が下記一般式(1)〜(7)で表わ
される単位である特許請求の範囲第1項または第
2項記載の画像形成材料。 (上記一般式(1)〜(7)中、R2及びR2′はそれぞれ独
立的に水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、炭
素数1〜4のアルコキシル基、ハロゲン原子又は
ニトロ基を表わし、R3は炭素数2〜4のアルキ
レン基を表わし、lは1〜5の整数を表わし、n
は1〜4の整数を表わし、mは1〜5の整数を表
わす。) 4 芳香核に隣接した感光性不飽和二重結合を有
するジカルボン酸単位の含有量が請求の範囲第1
項の一般式のAで表わされる線状ポリエステル構
造単位中のジカルボン酸単位全体の30〜100モル
%である特許請求の範囲第1項、第2項または第
3項記載の画像形成材料。 5 感光層が粗面化された金属表面をもつ支持体
上に塗設され、印刷板としての用途をもつ特許請
求の範囲第1項、第2項、第3項または第4項記
載の画像形成材料。
[Claims] 1. General formula (In the formula, A represents a linear polyester structural unit containing a photosensitive unsaturated double bond adjacent to an aromatic nucleus in the main chain, and R 1 represents a tetravalent organic group.) 1. A photosensitive image forming material developable with an aqueous alkaline developer, characterized in that the photosensitive layer contains a photosensitive polyester resin having the following properties. 2. The image forming material according to claim 1, wherein the photosensitive polyester resin has an acid value of 15 or more. 3. Image formation according to claim 1 or 2, wherein the dicarboxylic acid unit having a photosensitive unsaturated double bond adjacent to the aromatic nucleus is a unit represented by the following general formulas (1) to (7). material. (In the above general formulas (1) to (7), R 2 and R 2 ' each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxyl group having 1 to 4 carbon atoms, a halogen atom, or a nitro group. , R 3 represents an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms, l represents an integer of 1 to 5, and n
represents an integer of 1 to 4, and m represents an integer of 1 to 5. ) 4 The content of dicarboxylic acid units having a photosensitive unsaturated double bond adjacent to the aromatic nucleus is within the scope of claim 1.
The image forming material according to claim 1, 2 or 3, wherein the amount is 30 to 100 mol% of the total dicarboxylic acid units in the linear polyester structural unit represented by A in the general formula of claim 1. 5. The image according to claim 1, 2, 3, or 4, wherein the photosensitive layer is coated on a support having a roughened metal surface and is used as a printing plate. Forming material.
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